JP3231516B2 - 電子線マイクロアナライザ - Google Patents
電子線マイクロアナライザInfo
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- JP3231516B2 JP3231516B2 JP25448393A JP25448393A JP3231516B2 JP 3231516 B2 JP3231516 B2 JP 3231516B2 JP 25448393 A JP25448393 A JP 25448393A JP 25448393 A JP25448393 A JP 25448393A JP 3231516 B2 JP3231516 B2 JP 3231516B2
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- optical
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 38
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/226—Optical arrangements for illuminating the object; optical arrangements for collecting light from the object
- H01J37/228—Optical arrangements for illuminating the object; optical arrangements for collecting light from the object whereby illumination and light collection take place in the same area of the discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本特許は、分析性能向上及び装置
簡便を図った電子線マイクロアナライザに関する。
簡便を図った電子線マイクロアナライザに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図２（イ）に示すように垂直に立
てられた電子線照射系に設けられた対物レンズ１１内
に、光学反射ミラ−２１２と光学対物レンズ２１３が配
置され、その中心には電子線によるガラスへの帯電を防
止するキャピラリ２１４が設けられている。光源から発
っせられた入射光２１５は、ハ−フミラ−２１６を透過
し光学反射ミラ−２１２にて９０°曲げられ光学対物レ
ンズ２１３を経て被測定物面２１７を照射する。同時に
電子線照射系より発っせられた電子ビ−ム軸２１８が光
学像中心になるよう光学系の機械的調整を行う。この例
の場合、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせは機械的調
整を行う為面倒。光学レンズ中心に穴があいているため
輝度が取れず分解能が悪い。そして明るさムラ、視野欠
け等が低倍率で発生する。また、構成が複雑、取付が面
倒、かつコスト高になる。
てられた電子線照射系に設けられた対物レンズ１１内
に、光学反射ミラ−２１２と光学対物レンズ２１３が配
置され、その中心には電子線によるガラスへの帯電を防
止するキャピラリ２１４が設けられている。光源から発
っせられた入射光２１５は、ハ−フミラ−２１６を透過
し光学反射ミラ−２１２にて９０°曲げられ光学対物レ
ンズ２１３を経て被測定物面２１７を照射する。同時に
電子線照射系より発っせられた電子ビ−ム軸２１８が光
学像中心になるよう光学系の機械的調整を行う。この例
の場合、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせは機械的調
整を行う為面倒。光学レンズ中心に穴があいているため
輝度が取れず分解能が悪い。そして明るさムラ、視野欠
け等が低倍率で発生する。また、構成が複雑、取付が面
倒、かつコスト高になる。
【０００３】従来、図２１（ロ）に示すように電子線照
射系と光学顕微鏡が間隔を持って垂直に立てられている
場合、電子ビ−ム軸と光学軸の同時観察が不可能であ
り、従って位置合わせの確認が難しい。また試料室内で
被測定物を搭載して移動出きるステ−ジの移動分解能が
要求され、更に光学顕微鏡像の画像メモリ−機能が有さ
れていなければならない。そのためコスト高になってし
まう。
射系と光学顕微鏡が間隔を持って垂直に立てられている
場合、電子ビ−ム軸と光学軸の同時観察が不可能であ
り、従って位置合わせの確認が難しい。また試料室内で
被測定物を搭載して移動出きるステ−ジの移動分解能が
要求され、更に光学顕微鏡像の画像メモリ−機能が有さ
れていなければならない。そのためコスト高になってし
まう。
【０００４】従来、図１（ハ）に示すように電子線照射
系と光学顕微鏡のどちらかが単に斜め入射をしている場
合において、被測定物に凸凹があったり、作動距離が変
化した場合には、電子ビ−ム軸と光学軸は一致しない。
このため被測定物の形状・寸法が制限され装置の汎用性
が失われる。
系と光学顕微鏡のどちらかが単に斜め入射をしている場
合において、被測定物に凸凹があったり、作動距離が変
化した場合には、電子ビ−ム軸と光学軸は一致しない。
このため被測定物の形状・寸法が制限され装置の汎用性
が失われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の電子
線マイクロアナライザでは、前記に述べた機構の複雑、
分解能の低下、視野欠け、コスト高という課題があっ
た。そこで、本発明の目的は、従来のこのような課題を
解決するため、垂直に立てられた光学顕微鏡の光学軸と
斜入射の電子ビ−ム軸の位置合わせに電子線偏向コイル
を用い、分析性能を向上させ装置の単純化を可能とした
電子線マイクロアナライザを提供することを目的とす
る。
線マイクロアナライザでは、前記に述べた機構の複雑、
分解能の低下、視野欠け、コスト高という課題があっ
た。そこで、本発明の目的は、従来のこのような課題を
解決するため、垂直に立てられた光学顕微鏡の光学軸と
斜入射の電子ビ−ム軸の位置合わせに電子線偏向コイル
を用い、分析性能を向上させ装置の単純化を可能とした
電子線マイクロアナライザを提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は電子ビ−ムを照射する電子線照射系と真空
試料室内の被測定物を観察できる光学顕微鏡を有する、
電子線マイクロアナライザにおいて、前記電子線照射位
置を、電子線偏向コイルを用いることで、光学軸と電子
線軸の位置合わせを行う調整手段が設けられ、この調整
手段は、前記試料室に垂直にもうけられて被測定物を観
察する光学顕微鏡と、前記試料室に斜めに設けられて電
子ビ−ムを照射する電子線照射系と、前記試料室内に設
けられて電子線ビ−ム軸を偏向する偏向コイル、とを有
することを特徴としている。
に、本発明は電子ビ−ムを照射する電子線照射系と真空
試料室内の被測定物を観察できる光学顕微鏡を有する、
電子線マイクロアナライザにおいて、前記電子線照射位
置を、電子線偏向コイルを用いることで、光学軸と電子
線軸の位置合わせを行う調整手段が設けられ、この調整
手段は、前記試料室に垂直にもうけられて被測定物を観
察する光学顕微鏡と、前記試料室に斜めに設けられて電
子ビ−ムを照射する電子線照射系と、前記試料室内に設
けられて電子線ビ−ム軸を偏向する偏向コイル、とを有
することを特徴としている。
【０００７】
【作用】上記のように構成された電子線マイクロアナラ
イザにおいては、電子線照射系および光学顕微鏡をそれ
ぞれ単独に組み立てられ、かつ電子ビ−ム軸と光学軸の
同時観察を行いながら電子線偏向コイルを調整すること
によって電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせを行うこと
ができる。従って、電子線照射系に設けられた対物レン
ズ内に余計な光学レンズ等が無いため、構造が単純で分
解能を妨げない。また偏向コイルに流す電流量を可変す
る電気調整のため、位置合わせが簡単で確実である。
イザにおいては、電子線照射系および光学顕微鏡をそれ
ぞれ単独に組み立てられ、かつ電子ビ−ム軸と光学軸の
同時観察を行いながら電子線偏向コイルを調整すること
によって電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせを行うこと
ができる。従って、電子線照射系に設けられた対物レン
ズ内に余計な光学レンズ等が無いため、構造が単純で分
解能を妨げない。また偏向コイルに流す電流量を可変す
る電気調整のため、位置合わせが簡単で確実である。
【０００８】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図に基づいて説明
する。図１において、本発明の一実施例に係る電子線マ
イクロアナライザ装置の概略構成である。光学顕微鏡
は、ＣＣＤカメラ１、ズ−ムレンズ２、コンバ−ジョン
レンズ３からなる。電子線照射系は、電子銃４、電子レ
ンズ５、軸合わせコイル６からなる。光学顕微鏡、電子
線照射系は真空試料室７に組み込まれ、真空試料室内に
は、Ｘ，Ｙ、Ｚ三軸方向に移動可能なステ−ジ８が設け
られ、この上に被測定物９が載置される。電子ビ−ム軸
と光学軸の位置合わせを行う為の偏向コイル１０が被測
定物９の真上に設けられている。真空試料室の側面に
は、エネルギ−分散Ｘ線型検出ユニット１１、ステ−ジ
駆動装置１２、真空排気系１３が設けられている。制御
・駆動回路１４はシステム全体を制御・駆動するもので
あり、ＣＰＵ１５はシステムの操作を行う。ＣＲＴ１６
は、光学像・分析結果等を表示するものである。
する。図１において、本発明の一実施例に係る電子線マ
イクロアナライザ装置の概略構成である。光学顕微鏡
は、ＣＣＤカメラ１、ズ−ムレンズ２、コンバ−ジョン
レンズ３からなる。電子線照射系は、電子銃４、電子レ
ンズ５、軸合わせコイル６からなる。光学顕微鏡、電子
線照射系は真空試料室７に組み込まれ、真空試料室内に
は、Ｘ，Ｙ、Ｚ三軸方向に移動可能なステ−ジ８が設け
られ、この上に被測定物９が載置される。電子ビ−ム軸
と光学軸の位置合わせを行う為の偏向コイル１０が被測
定物９の真上に設けられている。真空試料室の側面に
は、エネルギ−分散Ｘ線型検出ユニット１１、ステ−ジ
駆動装置１２、真空排気系１３が設けられている。制御
・駆動回路１４はシステム全体を制御・駆動するもので
あり、ＣＰＵ１５はシステムの操作を行う。ＣＲＴ１６
は、光学像・分析結果等を表示するものである。
【０００９】図３は、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わ
せを行う為の調整手段のステ−ジ上の部分と、電子線照
射系Ａや光学顕微鏡Ｂ、偏向コイル１０との関係を示し
ている。電子線電流をステ−ジ８上に設けられたファラ
ディカップ１７で測定しながら、電流値が最大になるよ
う軸合わせコイル６で合わせる。ズ−ムレンズ２を操作
して最低倍率にして、電磁レンズ５の電流を変化させ電
子線照射点径が最も小さくなるように合わせる。偏向コ
イル１０に電流を流し、ＣＲＴ１６の中心に電子線照射
点を近ずける。偏向コイル１０電流を初期設定電流値
（設計値）にする。ＣＲＴ１６の中心より電子線照射点
が逃げるようであれば、光学顕微鏡Ｂを移動させる。こ
れらの動作を繰り返しながら、最高倍率まで行う。最高
倍率で電子線照射点がＣＲＴ１６からはずれるようであ
れば、偏向コイル１０の電流を変化させ中心に合わせ
る。さらにステ−ジ８を上下方向に微小に動かし、ＣＲ
Ｔ１６上の電子線照射点が同心円かつ移動しないように
偏向コイル１０電流を合わせる。最後に光学顕微鏡Ｂ全
体が微小移動させ電子線照射点に一致させる。これによ
り、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせができる。
せを行う為の調整手段のステ−ジ上の部分と、電子線照
射系Ａや光学顕微鏡Ｂ、偏向コイル１０との関係を示し
ている。電子線電流をステ−ジ８上に設けられたファラ
ディカップ１７で測定しながら、電流値が最大になるよ
う軸合わせコイル６で合わせる。ズ−ムレンズ２を操作
して最低倍率にして、電磁レンズ５の電流を変化させ電
子線照射点径が最も小さくなるように合わせる。偏向コ
イル１０に電流を流し、ＣＲＴ１６の中心に電子線照射
点を近ずける。偏向コイル１０電流を初期設定電流値
（設計値）にする。ＣＲＴ１６の中心より電子線照射点
が逃げるようであれば、光学顕微鏡Ｂを移動させる。こ
れらの動作を繰り返しながら、最高倍率まで行う。最高
倍率で電子線照射点がＣＲＴ１６からはずれるようであ
れば、偏向コイル１０の電流を変化させ中心に合わせ
る。さらにステ−ジ８を上下方向に微小に動かし、ＣＲ
Ｔ１６上の電子線照射点が同心円かつ移動しないように
偏向コイル１０電流を合わせる。最後に光学顕微鏡Ｂ全
体が微小移動させ電子線照射点に一致させる。これによ
り、電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせができる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように、電子線照射系およ
び光学顕微鏡をそれぞれ単独に組み立てられ、かつ電子
ビ−ム軸と光学軸の同時観察を行いながら電子線偏向コ
イルを調整することによって電子ビ−ム軸と光学軸の位
置合わせを行うことを可能とし、もって分析位置精度が
高くかつ装置の単純化を可能とした電子線マイクロアナ
ライザを提供することができる。
び光学顕微鏡をそれぞれ単独に組み立てられ、かつ電子
ビ−ム軸と光学軸の同時観察を行いながら電子線偏向コ
イルを調整することによって電子ビ−ム軸と光学軸の位
置合わせを行うことを可能とし、もって分析位置精度が
高くかつ装置の単純化を可能とした電子線マイクロアナ
ライザを提供することができる。
【図１】本発明の一実施例に係る電子線マイクロアナラ
イザの概略構成を示す図である。
イザの概略構成を示す図である。
【図２】電子線マイクロアナライザ装置の従来方法の説
明図である。
明図である。
【図３】同実施例の電子ビ−ム軸と光学軸の位置合わせ
方を説明するための図である。
方を説明するための図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/225 H01J 37/22 502 H01J 37/256
Claims (1)
- 【請求項１】 電子線を発する電子銃と前記電子線を絞
る為の電子レンズとからなり前記電子線を被測定物に照
射する電子線照射装置と、真空試料室内の被測定物を観
察できる光学顕微鏡と、前記電子線を前記被測定物に照
射したことにより発生するＸ線を分析するエネルギー分
散型Ｘ線分析器とを有する電子線マイクロアナライザに
おいて、前記光学顕微鏡の光軸に対し斜めに入射した前
記電子線軸を前記光軸に一致させるための電子線偏向器
を設けたことを特徴とする電子線マイクロアナライザ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25448393A JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
| US08/321,676 US5483065A (en) | 1993-10-12 | 1994-10-12 | Electron beam microanalyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25448393A JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07110310A JPH07110310A (ja) | 1995-04-25 |
| JP3231516B2 true JP3231516B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=17265685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25448393A Expired - Fee Related JP3231516B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 電子線マイクロアナライザ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5483065A (ja) |
| JP (1) | JP3231516B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3216474B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | 走査型電子顕微鏡 |
| US6184526B1 (en) * | 1997-01-08 | 2001-02-06 | Nikon Corporation | Apparatus and method for inspecting predetermined region on surface of specimen using electron beam |
| JP3500264B2 (ja) * | 1997-01-29 | 2004-02-23 | 株式会社日立製作所 | 試料分析装置 |
| US5920073A (en) * | 1997-04-22 | 1999-07-06 | Schlumberger Technologies, Inc. | Optical system |
| AU8746998A (en) | 1997-08-19 | 1999-03-08 | Nikon Corporation | Object observation device and object observation method |
| EP0917177A1 (de) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Korpuskularstrahlgerät |
| FR2792077B1 (fr) * | 1999-04-09 | 2001-06-29 | Centre Nat Etd Spatiales | Installation et procede d'observation microscopique d'un circuit electronique a semi-conducteur |
| DE10301579A1 (de) * | 2003-01-16 | 2004-07-29 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Elektronenstrahlgerät und Detektoranordnung |
| CN100341260C (zh) * | 2003-11-12 | 2007-10-03 | 大连理工大学 | 一种用于激光波带板准直***的激光接收装置 |
| DE102009041993B4 (de) * | 2009-09-18 | 2020-02-13 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Beobachtungs- und Analysegerät |
| NL1039512C2 (en) * | 2012-04-02 | 2013-10-03 | Univ Delft Tech | Integrated optical and charged particle inspection apparatus. |
| WO2014042538A1 (en) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | Delmic B.V. | Integrated optical and charged particle inspection apparatus |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3209146A (en) * | 1961-12-09 | 1965-09-28 | Akashi Seisakusho Kk | Apparatus for adjusting position of a sample for electron probe x-ray microanalyzer |
| FR2498767A1 (fr) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Cameca | Micro-analyseur a sonde electronique comportant un systeme d'observation a double grandissement |
| DE3904032A1 (de) * | 1989-02-10 | 1990-08-16 | Max Planck Gesellschaft | Elektronenmikroskop zur untersuchung von festkoerperoberflaechen |
| JPH0487148A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-19 | Shimadzu Corp | 試料移動経路指定自動分析装置 |
-
1993
- 1993-10-12 JP JP25448393A patent/JP3231516B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-10-12 US US08/321,676 patent/US5483065A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07110310A (ja) | 1995-04-25 |
| US5483065A (en) | 1996-01-09 |
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Legal Events
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