JP2003207469A - 電子プローブマイクロアナライザ - Google Patents
電子プローブマイクロアナライザInfo
- Publication number
- JP2003207469A JP2003207469A JP2002005915A JP2002005915A JP2003207469A JP 2003207469 A JP2003207469 A JP 2003207469A JP 2002005915 A JP2002005915 A JP 2002005915A JP 2002005915 A JP2002005915 A JP 2002005915A JP 2003207469 A JP2003207469 A JP 2003207469A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- optical
- image
- magnification
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料に電子線を照射して、試料より発生した
Ｘ線の分析装置において、試料を真上より視た高倍光学
像と低倍光学像を同時に観察できる試料観察装置を備え
た電子プローブマイクロアナライザを提供すること。 【解決手段】 試料に電子ビームを照射し、電子ビーム
の照射によって発生したＸ線の分析を行う電子プローブ
マイクロアナライザであって、試料に光を照射する手段
と、試料からの反射光を導入して試料像を得る光学顕微
鏡を備えた電子プローブマイクロアナライザにおいて、
前記光学顕微鏡の光路に配置される光路分岐手段と、該
分岐手段によって分岐された光路に配置される前記顕微
鏡と異なる倍率の第２の光学顕微鏡手段と、夫々の光学
顕微鏡の夫々の光学像撮像する手段を備えことを特徴と
する。
Ｘ線の分析装置において、試料を真上より視た高倍光学
像と低倍光学像を同時に観察できる試料観察装置を備え
た電子プローブマイクロアナライザを提供すること。 【解決手段】 試料に電子ビームを照射し、電子ビーム
の照射によって発生したＸ線の分析を行う電子プローブ
マイクロアナライザであって、試料に光を照射する手段
と、試料からの反射光を導入して試料像を得る光学顕微
鏡を備えた電子プローブマイクロアナライザにおいて、
前記光学顕微鏡の光路に配置される光路分岐手段と、該
分岐手段によって分岐された光路に配置される前記顕微
鏡と異なる倍率の第２の光学顕微鏡手段と、夫々の光学
顕微鏡の夫々の光学像撮像する手段を備えことを特徴と
する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分析試料に電子ビ
ームを照射して、試料より発生したＸ線の分析を行う電
子プローブマイクロアナライザに関し、特に試料の光学
像の観察装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰ
ＭＡ）においては、試料への電子ビームを照射によって
発生したＸ線を波長分散形Ｘ線分光器で検出するが、こ
のＸ線検出信号の強度は、試料の高さ方向の位置によっ
て大きく変動し、試料のある高さ位置において最もＸ線
信号強度が大きくなる。この最も良い高さに試料をセッ
トするため、その高さにフォーカスを合わせた焦点深度
の浅い光学顕微鏡を用いることが行われている。そし
て、試料の分析箇所を変更したり、試料の交換をした場
合は、電子ビームの照射に先立って、光学顕微鏡によっ
て分析箇所にフォーカスが合うように試料の高さを調整
し、フォーカスが最も合った位置で試料の高さ位置を決
定する。その後、電子ビームを試料に照射すれば、Ｘ線
の最大信号強度が得られる状態でＸ線分析を行うことが
できる。 【０００３】この光学顕微鏡は、焦点合わせ以外にも、
試料の光学像を観察し、電子ビームでの観察場所や分析
箇所を選定するのに使用されている。光学像は、２次電
子像に比べて試料の形態と同時に組成等の色情報が含ま
れたカラー像として観察できる利点がある。例えば、最
近の集積度が増した半導体関連の試料では、同じような
パターンの中から目的とする分析位置を見つけ出すの
に、この色情報が有効な手段となる。光学顕微鏡として
は、フォーカス合わせの高倍率と、試料の出来るだけ広
い観察視野より分析部を見つけ出すための低倍率の要望
がある。そのため、光学顕微鏡としては、倍率の可変範
囲に有る程度の制約を受けるがズーム機能を持たせたも
のや、高倍率光学顕微鏡の他に、別途、低倍率光学顕微
鏡を試料に対して斜めより視る角度で組み込んだものが
用いられている。通常、これらの光学像は、光学顕微鏡
の接眼レンズにＴＶカメラを接続して撮像し、その映像
信号をカラー表示装置上でカラー像として表示、観察さ
れる。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記に
述べたようなズーム機能を持った光学顕微鏡では、高倍
と低倍の光学像を同時に観察することができない。ま
た、電子プローブマイクロアナライザの分析過程におい
て、試料の分析位置を特定するために出来るだけ広い観
察視野の低倍像と試料の高さ位置調整としてフォーカス
合わせの高倍像とを頻繁に倍率を変更することが必要で
あり、それに伴うズーム機構の倍率変更に費やす時間
や、ズーム機構の機械的な摩耗等による信頼性（寿命）
に難がある。一方、高倍率光学顕微鏡の他に、別途、低
倍率光学顕微鏡を設ける場合では、試料を斜めから観察
することにより光学像が歪んで、正確な分析位置の特定
ができない問題が生じる。また、２つの光学顕微鏡を設
置するために狭い試料室の試料ステージ回りはますます
狭くなり、試料室に配置される他の機器に対して制約を
与えることになる。 【０００５】本発明は、これらの点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、試料を真上より視た高倍と低倍の光
学像を同時に表示観察することができる試料観察装置を
提供する。 【０００６】 【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の試料観察装置は、試料に電子ビームを照射
し、電子ビームの照射によって発生したＸ線の分析を行
う電子プローブマイクロアナライザであって、試料に光
を照射する手段と、試料からの反射光を導入して試料像
を得る光学顕微鏡を備えた電子プローブマイクロアナラ
イザにおいて、前記光学顕微鏡の光路に配置される光路
分岐手段と、該分岐手段によって分岐された光路に配置
される前記顕微鏡と異なる倍率の第２の光学顕微鏡手段
と、夫々の光学顕微鏡の夫々の光学像撮像する手段を備
えことを特徴とする。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明に係わる電子
プローブマイクロアナライザ用の光学像観察装置の一実
施例を示している。図中１は電子銃であり、電子銃１か
ら発生し加速された電子ビームＥｂは集束レンズ２，対
物レンズ３によって試料４上に細く集束され、走査コイ
ル５によって試料４上の所望領域で２次元的に走査され
る。試料４への電子ビームＥｂの照射によって発生した
２次電子は、２次電子検出器６によって検出され、増幅
器７を介して画像処理装置８に入力され２次電子の画像
信号として信号処理される。２次電子画像信号は制御装
置２０に入力され、所定の制御指令に基づいて表示装置
２１に２次電子像として表示される。また、この試料４
の上部には、図示していないＸ線分光器が配置されてお
り、試料４への電子ビームＥｂの照射によって発生した
特性Ｘ線を検出し、得られたＸ線スペクトルにより分析
を行う。 【０００８】試料４はＸ，Ｙ２次元方向に移動できる水
平移動機構とＺ方向に移動できる垂直移動機構を備えた
試料ステージ９に試料ホルダ２２を介して載せられてい
る。この試料ステージ９は駆動制御回路１０を介して制
御装置２０によって制御される。 【０００９】１１は光源であり、光源１１からの光は、
レンズ１２を通して，半透明鏡１３によって反射され
る。半透明鏡１３によって反射された光は、電子ビーム
Ｅｂの光軸上に配置され電子ビーム通過孔を有した反射
鏡１４によって反射された後、反射対物レンズ１５によ
って試料４上に集束される。試料４から反射した光は、
反射対物レンズ１５によって拡大され、反射鏡１４によ
って反射され、半透明鏡１６を通過し、半透明鏡１６に
よって２つの光束に分離される。半透明鏡１６を透過し
た光は、低倍率の光学顕微鏡としての接眼レンズ系１７
によってＴＶカメラ１８ａ上に低倍の光学像として結像
される。一方、半透明鏡１６によって反射された光は、
高倍率の光学顕微鏡としての接眼レンズ系１９によって
ＴＶカメラ１８ｂ上に高倍の光学像として結像される。
ＴＶカメラ１８ａ、１８ｂは、低倍の光学像と高倍の光
学像を撮像し、その結果得られた低倍と高倍の映像信号
は制御装置２０に入力され、所定の制御指令に基づいて
表示装置２１に低倍光学像と高倍光学像として図２に示
すように同時に表示される。このような構成の動作を図
３のフローチャートのステップＳの符号を用いて次に説
明する。 【００１０】まず始めに、試料４を試料ホルダ２２に取
り付け試料ステージ９に載せて、図示してない真空装置
により排気する（ステップＳ１）。電子プローブマイク
ロアナライザとしての通常のＸ線分析は、電子銃１から
の電子ビームＥｂを試料４上に細く集束し、試料から発
生した特性Ｘ線を図示しないＸ線分光器で分光し、得ら
れたＸ線スペクトルにより行う。この電子ビームＥｂの
照射の前に、光源１１からの光を前述した光学系を通し
て試料４に照射し、試料からの反射光を前述した光学系
を通して２つに分岐しＴＶカメラ１８ａにより試料の低
倍光学像を、また、ＴＶカメラ１８ｂにより高倍光学像
を撮像する。これら撮像された光学像の映像信号は、制
御装置２０を通して、所定の制御指示に基づいて表示装
置２１上に送られ、その結果低倍光学像と高倍光学像が
図２に示すように同時に表示される。この低倍光学像を
モニターしながら、像のフォーカスが合うように試料ス
テージ９の垂直移動機構をステージ制御装置１０を介し
て制御装置２０によって試料の高さ（Ｚ）位置の調整を
行う（ステップＳ２）。 【００１１】次に、表示装置２１上に表示された低倍光
学像を観察して分析位置を確認し、その分析位置のほぼ
中心部が低倍光学像の表示エリアの中央に配置されるよ
うにステージ９の水平移動機構を操作する。この場合、
ステージ制御装置１０を介して制御装置２０によって試
料のＸ軸方向，Ｙ軸方向の位置の調整を行う（ステップ
Ｓ３）。この状態において、高倍光学像の表示エリアに
は分析位置の像がフォーカスが若干ずれた状態で表示さ
れている。 【００１２】次に、表示装置２１上に表示された高倍光
学像中の分析位置の中心点が高倍光学像の表示エリアの
中央にくるように試料ステージ９の水平移動機構を操作
する。この場合、ステージ制御装置１０を介して制御装
置２０によって試料のＸ軸方向，Ｙ軸方向の位置の調整
を行う。引き続き、この高倍光学像をモニターしなが
ら、像のフォーカスが合うように試料ステージ９の垂直
移動機構を操作する。この場合、ステージ制御装置１０
を介して制御装置２０によって試料の高さ（Ｚ）位置の
調整を行う（ステップ４）。 【００１３】先に述べたように、高倍光学顕微鏡により
フォーカスが合った位置がＸ線信号が最大になるように
Ｘ線分光器の機械的位置が事前調整されており、従って
高倍光学像によるフォーカス合わせが行われると、高倍
光学像中でフォーカスが合った分析箇所がＸ線分光器に
とって最適な位置となる。また、高倍光学像の表示エリ
アの中心（光軸）と電子ビームＥｂの光軸との位置関係
は、機械的に調整されており、高倍光学像の表示エリア
の中心（光軸）に分析位置の中心点を合わせると、分析
位置の中心点は電子ビームＥｂの光軸と一致する。 【００１４】前記までの工程によって、分析位置の中心
点は電子ビームＥｂの光軸にセットされ、電子銃１を起
動させて電子ビームＥｂを試料４に照射して、目的とす
る分析に合うように電子プローブマイクロアナライザの
諸条件を設定して目的の分析、例えば、点分析、ライン
分析、面分析等を行う（ステップ５）。選定した分析位
置について分析が終了したかを判定し、他の箇所に移動
する場合には、前記ステップＳ２にもどって、ステップ
Ｓ３、ステップＳ４の工程を繰り返す（ステップ６）。 【００１５】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、低倍光学像および高倍光学像の個々の倍率
は光学レンズを交換することにより可変できる。また、
表示装置の２つの表示エリアには一方の表示エリアに光
学像を、もう一方の表示エリアには電子ビームによって
得られた２次電子像や反射電子像、Ｘ線分析像等を同時
に表示する機能を備えるのが好ましい。また、一つの表
示装置を用いて高倍光学像と低倍光学像を表示したが２
つ以上の表示装置で同時に表示してもよい。また、自動
フォーカス制御機能を用いてステージの垂直移動機構を
制御することにより、光学像のフォーカスを自動的に合
わせるようにしても良い。 【００１６】 【発明の効果】以上の説明から明らかのように、本発明
の試料の光学像の観察装置では、試料を真上からみた像
歪みの少ない低倍光学像と高倍光学像を同時に観察がで
き、低倍光学像より試料の広い視野を観察しながら分析
箇所を選定ができ、また同時に、高倍光学像により分析
部の詳細な構造を観察できるとともに、高倍光学像のフ
ォーカスを合わせることによりＸ線分光器の最大信号強
度が得られる状態でＸ線分析を行うことができる。 【００１７】
ームを照射して、試料より発生したＸ線の分析を行う電
子プローブマイクロアナライザに関し、特に試料の光学
像の観察装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰ
ＭＡ）においては、試料への電子ビームを照射によって
発生したＸ線を波長分散形Ｘ線分光器で検出するが、こ
のＸ線検出信号の強度は、試料の高さ方向の位置によっ
て大きく変動し、試料のある高さ位置において最もＸ線
信号強度が大きくなる。この最も良い高さに試料をセッ
トするため、その高さにフォーカスを合わせた焦点深度
の浅い光学顕微鏡を用いることが行われている。そし
て、試料の分析箇所を変更したり、試料の交換をした場
合は、電子ビームの照射に先立って、光学顕微鏡によっ
て分析箇所にフォーカスが合うように試料の高さを調整
し、フォーカスが最も合った位置で試料の高さ位置を決
定する。その後、電子ビームを試料に照射すれば、Ｘ線
の最大信号強度が得られる状態でＸ線分析を行うことが
できる。 【０００３】この光学顕微鏡は、焦点合わせ以外にも、
試料の光学像を観察し、電子ビームでの観察場所や分析
箇所を選定するのに使用されている。光学像は、２次電
子像に比べて試料の形態と同時に組成等の色情報が含ま
れたカラー像として観察できる利点がある。例えば、最
近の集積度が増した半導体関連の試料では、同じような
パターンの中から目的とする分析位置を見つけ出すの
に、この色情報が有効な手段となる。光学顕微鏡として
は、フォーカス合わせの高倍率と、試料の出来るだけ広
い観察視野より分析部を見つけ出すための低倍率の要望
がある。そのため、光学顕微鏡としては、倍率の可変範
囲に有る程度の制約を受けるがズーム機能を持たせたも
のや、高倍率光学顕微鏡の他に、別途、低倍率光学顕微
鏡を試料に対して斜めより視る角度で組み込んだものが
用いられている。通常、これらの光学像は、光学顕微鏡
の接眼レンズにＴＶカメラを接続して撮像し、その映像
信号をカラー表示装置上でカラー像として表示、観察さ
れる。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記に
述べたようなズーム機能を持った光学顕微鏡では、高倍
と低倍の光学像を同時に観察することができない。ま
た、電子プローブマイクロアナライザの分析過程におい
て、試料の分析位置を特定するために出来るだけ広い観
察視野の低倍像と試料の高さ位置調整としてフォーカス
合わせの高倍像とを頻繁に倍率を変更することが必要で
あり、それに伴うズーム機構の倍率変更に費やす時間
や、ズーム機構の機械的な摩耗等による信頼性（寿命）
に難がある。一方、高倍率光学顕微鏡の他に、別途、低
倍率光学顕微鏡を設ける場合では、試料を斜めから観察
することにより光学像が歪んで、正確な分析位置の特定
ができない問題が生じる。また、２つの光学顕微鏡を設
置するために狭い試料室の試料ステージ回りはますます
狭くなり、試料室に配置される他の機器に対して制約を
与えることになる。 【０００５】本発明は、これらの点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、試料を真上より視た高倍と低倍の光
学像を同時に表示観察することができる試料観察装置を
提供する。 【０００６】 【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の試料観察装置は、試料に電子ビームを照射
し、電子ビームの照射によって発生したＸ線の分析を行
う電子プローブマイクロアナライザであって、試料に光
を照射する手段と、試料からの反射光を導入して試料像
を得る光学顕微鏡を備えた電子プローブマイクロアナラ
イザにおいて、前記光学顕微鏡の光路に配置される光路
分岐手段と、該分岐手段によって分岐された光路に配置
される前記顕微鏡と異なる倍率の第２の光学顕微鏡手段
と、夫々の光学顕微鏡の夫々の光学像撮像する手段を備
えことを特徴とする。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明に係わる電子
プローブマイクロアナライザ用の光学像観察装置の一実
施例を示している。図中１は電子銃であり、電子銃１か
ら発生し加速された電子ビームＥｂは集束レンズ２，対
物レンズ３によって試料４上に細く集束され、走査コイ
ル５によって試料４上の所望領域で２次元的に走査され
る。試料４への電子ビームＥｂの照射によって発生した
２次電子は、２次電子検出器６によって検出され、増幅
器７を介して画像処理装置８に入力され２次電子の画像
信号として信号処理される。２次電子画像信号は制御装
置２０に入力され、所定の制御指令に基づいて表示装置
２１に２次電子像として表示される。また、この試料４
の上部には、図示していないＸ線分光器が配置されてお
り、試料４への電子ビームＥｂの照射によって発生した
特性Ｘ線を検出し、得られたＸ線スペクトルにより分析
を行う。 【０００８】試料４はＸ，Ｙ２次元方向に移動できる水
平移動機構とＺ方向に移動できる垂直移動機構を備えた
試料ステージ９に試料ホルダ２２を介して載せられてい
る。この試料ステージ９は駆動制御回路１０を介して制
御装置２０によって制御される。 【０００９】１１は光源であり、光源１１からの光は、
レンズ１２を通して，半透明鏡１３によって反射され
る。半透明鏡１３によって反射された光は、電子ビーム
Ｅｂの光軸上に配置され電子ビーム通過孔を有した反射
鏡１４によって反射された後、反射対物レンズ１５によ
って試料４上に集束される。試料４から反射した光は、
反射対物レンズ１５によって拡大され、反射鏡１４によ
って反射され、半透明鏡１６を通過し、半透明鏡１６に
よって２つの光束に分離される。半透明鏡１６を透過し
た光は、低倍率の光学顕微鏡としての接眼レンズ系１７
によってＴＶカメラ１８ａ上に低倍の光学像として結像
される。一方、半透明鏡１６によって反射された光は、
高倍率の光学顕微鏡としての接眼レンズ系１９によって
ＴＶカメラ１８ｂ上に高倍の光学像として結像される。
ＴＶカメラ１８ａ、１８ｂは、低倍の光学像と高倍の光
学像を撮像し、その結果得られた低倍と高倍の映像信号
は制御装置２０に入力され、所定の制御指令に基づいて
表示装置２１に低倍光学像と高倍光学像として図２に示
すように同時に表示される。このような構成の動作を図
３のフローチャートのステップＳの符号を用いて次に説
明する。 【００１０】まず始めに、試料４を試料ホルダ２２に取
り付け試料ステージ９に載せて、図示してない真空装置
により排気する（ステップＳ１）。電子プローブマイク
ロアナライザとしての通常のＸ線分析は、電子銃１から
の電子ビームＥｂを試料４上に細く集束し、試料から発
生した特性Ｘ線を図示しないＸ線分光器で分光し、得ら
れたＸ線スペクトルにより行う。この電子ビームＥｂの
照射の前に、光源１１からの光を前述した光学系を通し
て試料４に照射し、試料からの反射光を前述した光学系
を通して２つに分岐しＴＶカメラ１８ａにより試料の低
倍光学像を、また、ＴＶカメラ１８ｂにより高倍光学像
を撮像する。これら撮像された光学像の映像信号は、制
御装置２０を通して、所定の制御指示に基づいて表示装
置２１上に送られ、その結果低倍光学像と高倍光学像が
図２に示すように同時に表示される。この低倍光学像を
モニターしながら、像のフォーカスが合うように試料ス
テージ９の垂直移動機構をステージ制御装置１０を介し
て制御装置２０によって試料の高さ（Ｚ）位置の調整を
行う（ステップＳ２）。 【００１１】次に、表示装置２１上に表示された低倍光
学像を観察して分析位置を確認し、その分析位置のほぼ
中心部が低倍光学像の表示エリアの中央に配置されるよ
うにステージ９の水平移動機構を操作する。この場合、
ステージ制御装置１０を介して制御装置２０によって試
料のＸ軸方向，Ｙ軸方向の位置の調整を行う（ステップ
Ｓ３）。この状態において、高倍光学像の表示エリアに
は分析位置の像がフォーカスが若干ずれた状態で表示さ
れている。 【００１２】次に、表示装置２１上に表示された高倍光
学像中の分析位置の中心点が高倍光学像の表示エリアの
中央にくるように試料ステージ９の水平移動機構を操作
する。この場合、ステージ制御装置１０を介して制御装
置２０によって試料のＸ軸方向，Ｙ軸方向の位置の調整
を行う。引き続き、この高倍光学像をモニターしなが
ら、像のフォーカスが合うように試料ステージ９の垂直
移動機構を操作する。この場合、ステージ制御装置１０
を介して制御装置２０によって試料の高さ（Ｚ）位置の
調整を行う（ステップ４）。 【００１３】先に述べたように、高倍光学顕微鏡により
フォーカスが合った位置がＸ線信号が最大になるように
Ｘ線分光器の機械的位置が事前調整されており、従って
高倍光学像によるフォーカス合わせが行われると、高倍
光学像中でフォーカスが合った分析箇所がＸ線分光器に
とって最適な位置となる。また、高倍光学像の表示エリ
アの中心（光軸）と電子ビームＥｂの光軸との位置関係
は、機械的に調整されており、高倍光学像の表示エリア
の中心（光軸）に分析位置の中心点を合わせると、分析
位置の中心点は電子ビームＥｂの光軸と一致する。 【００１４】前記までの工程によって、分析位置の中心
点は電子ビームＥｂの光軸にセットされ、電子銃１を起
動させて電子ビームＥｂを試料４に照射して、目的とす
る分析に合うように電子プローブマイクロアナライザの
諸条件を設定して目的の分析、例えば、点分析、ライン
分析、面分析等を行う（ステップ５）。選定した分析位
置について分析が終了したかを判定し、他の箇所に移動
する場合には、前記ステップＳ２にもどって、ステップ
Ｓ３、ステップＳ４の工程を繰り返す（ステップ６）。 【００１５】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明は上記実施形態に限定されるものではな
い。例えば、低倍光学像および高倍光学像の個々の倍率
は光学レンズを交換することにより可変できる。また、
表示装置の２つの表示エリアには一方の表示エリアに光
学像を、もう一方の表示エリアには電子ビームによって
得られた２次電子像や反射電子像、Ｘ線分析像等を同時
に表示する機能を備えるのが好ましい。また、一つの表
示装置を用いて高倍光学像と低倍光学像を表示したが２
つ以上の表示装置で同時に表示してもよい。また、自動
フォーカス制御機能を用いてステージの垂直移動機構を
制御することにより、光学像のフォーカスを自動的に合
わせるようにしても良い。 【００１６】 【発明の効果】以上の説明から明らかのように、本発明
の試料の光学像の観察装置では、試料を真上からみた像
歪みの少ない低倍光学像と高倍光学像を同時に観察がで
き、低倍光学像より試料の広い視野を観察しながら分析
箇所を選定ができ、また同時に、高倍光学像により分析
部の詳細な構造を観察できるとともに、高倍光学像のフ
ォーカスを合わせることによりＸ線分光器の最大信号強
度が得られる状態でＸ線分析を行うことができる。 【００１７】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる電子プローブマイクロアナライ
ザ用の光学像観察装置の一実施例を示す図である。 【図２】本発明の表示装置の表示例を示す図である。 【図３】本発明の一実施例の作用を説明するためのフロ
ーチャートである。 【符号の説明】 １…電子銃、２…集束レンズ、３…対物レンズ、４…試
料、５…走査コイル、６…２次電子検出器、７…増幅
器、８…画像処理装置、９…試料ステージ、１０…駆動
制御装置、１１…光源、１２…レンズ、１３…半透明
鏡、１４…反射鏡、１５…反射対物レンズ、１６…半透
明鏡、１７、１９…接眼レンズ、１８ａ、１８ｂ…ＴＶ
カメラ、２０…制御装置、２１…表示装置。
ザ用の光学像観察装置の一実施例を示す図である。 【図２】本発明の表示装置の表示例を示す図である。 【図３】本発明の一実施例の作用を説明するためのフロ
ーチャートである。 【符号の説明】 １…電子銃、２…集束レンズ、３…対物レンズ、４…試
料、５…走査コイル、６…２次電子検出器、７…増幅
器、８…画像処理装置、９…試料ステージ、１０…駆動
制御装置、１１…光源、１２…レンズ、１３…半透明
鏡、１４…反射鏡、１５…反射対物レンズ、１６…半透
明鏡、１７、１９…接眼レンズ、１８ａ、１８ｂ…ＴＶ
カメラ、２０…制御装置、２１…表示装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】試料に電子ビームを照射し、電子ビームの
照射によって発生したＸ線の分析を行う電子プローブマ
イクロアナライザであって、試料に光を照射する手段
と、試料からの反射光を導入して試料像を得る光学顕微
鏡を備えた電子プローブマイクロアナライザにおいて、
前記光学顕微鏡の光路に配置される光路分岐手段と、該
分岐手段によって分岐された光路に配置される前記顕微
鏡と異なる倍率の第２の光学顕微鏡手段と、夫々の光学
顕微鏡の夫々の光学像撮像する手段を備えことを特徴と
する電子プローブマイクロアナライザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002005915A JP2003207469A (ja) | 2002-01-15 | 2002-01-15 | 電子プローブマイクロアナライザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002005915A JP2003207469A (ja) | 2002-01-15 | 2002-01-15 | 電子プローブマイクロアナライザ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003207469A true JP2003207469A (ja) | 2003-07-25 |
Family
ID=27644824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002005915A Withdrawn JP2003207469A (ja) | 2002-01-15 | 2002-01-15 | 電子プローブマイクロアナライザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003207469A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285797A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザ |
| JP2015148499A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 日本電子株式会社 | 粒子解析装置、およびプログラム |
| WO2017033591A1 (ja) * | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法 |
-
2002
- 2002-01-15 JP JP2002005915A patent/JP2003207469A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285797A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザ |
| JP2015148499A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 日本電子株式会社 | 粒子解析装置、およびプログラム |
| WO2017033591A1 (ja) * | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法 |
| US10720303B2 (en) | 2015-08-21 | 2020-07-21 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam apparatus and alignment adjustment method of sample stage |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4610798B2 (ja) | レーザ欠陥検出機能を備えた走査型電子顕微鏡とそのオートフォーカス方法 | |
| US6570156B1 (en) | Autoadjusting electron microscope | |
| JP4650330B2 (ja) | 光学顕微鏡とｘ線分析装置の複合装置 | |
| US5220169A (en) | Surface analyzing method and apparatus | |
| JP2005114578A (ja) | 試料作製方法および試料作製装置ならびに試料観察装置 | |
| JP3231516B2 (ja) | 電子線マイクロアナライザ | |
| JP2010080144A (ja) | 複合型顕微鏡装置及び試料観察方法 | |
| US6800853B2 (en) | Electron microscope and method of photographing TEM images | |
| JP2003207469A (ja) | 電子プローブマイクロアナライザ | |
| JP2007250220A (ja) | 試料観察方法，画像処理装置、及び荷電粒子線装置 | |
| JP4129088B2 (ja) | 走査透過電子顕微鏡 | |
| JP2000251823A (ja) | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料傾斜観察方法 | |
| JP2010244740A (ja) | レビュー装置、及びレビュー方法 | |
| JPH04106853A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP3270627B2 (ja) | 電子ビームマイクロアナライザーにおける試料の高さ表示方法 | |
| JP2007242514A (ja) | 透過型電子顕微鏡及びその制御方法 | |
| EP3379557A1 (en) | Scanning transmission electron microscope and method for high throughput acquisition of electron scattering angle distribution images | |
| JP5502794B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JP4111778B2 (ja) | 集束イオンビーム装置により一部が薄膜状に加工された試料の電子顕微鏡による観察方法 | |
| JP2010049972A (ja) | 環状暗視野走査像検出器に対する散乱電子ビームの入射軸調整方法及び走査透過電子顕微鏡 | |
| JP4512514B2 (ja) | 電子線分光器を備えた透過型電子顕微鏡 | |
| JP6977681B2 (ja) | 集束イオンビーム装置および半導体装置の製造方法 | |
| JP4041386B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置におけるステージ移動制御方法並びに荷電粒子ビームを用いた観察方法及び装置 | |
| JP2023517273A (ja) | サンプル上に複数の荷電粒子ビームレットのアレイを投影するための装置及び方法 | |
| JPH057822B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050405 |