JP3200099B2 - パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法 - Google Patents
パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 claims description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- FDIOSTIIZGWENY-UHFFFAOYSA-N n-[bis(diethylamino)phosphanyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)P(N(CC)CC)N(CC)CC FDIOSTIIZGWENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N bromotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Br RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- -1 ketone compound Chemical class 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MWKJTNBSKNUMFN-UHFFFAOYSA-N trifluoromethyltrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)F MWKJTNBSKNUMFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USYVEDJTMCGMKN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)Br USYVEDJTMCGMKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYGVMXZJBFEMB-UHFFFAOYSA-N 4-(trifluoromethyl)phenol Chemical compound OC1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 BAYGVMXZJBFEMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005514 Flazasulfuron Substances 0.000 description 1
- HWATZEJQIXKWQS-UHFFFAOYSA-N Flazasulfuron Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(NC(=O)NS(=O)(=O)C=2C(=CC=CN=2)C(F)(F)F)=N1 HWATZEJQIXKWQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002246 antineoplastic agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 238000011090 industrial biotechnology method and process Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001766 physiological effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- ZHSKFONQCREGOG-UHFFFAOYSA-N triethyl(trifluoromethyl)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)C(F)(F)F ZHSKFONQCREGOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- VSQQQLOSPVPRAZ-RRKCRQDMSA-N trifluridine Chemical compound C1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C(=O)NC(=O)C(C(F)(F)F)=C1 VSQQQLOSPVPRAZ-RRKCRQDMSA-N 0.000 description 1
- 229960003962 trifluridine Drugs 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
トリメチルシランの製造方法に関するものである。
は、化学的又は生理的性質等の面で重要な含フッ素化合
物の合成原料として、特にパーフルオロアルキル化剤と
して有用な化合物である。例えば、「ジャーナル オブ
オーガニックケミストリー」(Journal of
Organic Chemistry)56,984
(1991)に記載のごとき、アルデヒド、ケトン化合
物をテトラブチルアンモニウムフルオライドの存在下パ
ーフルオロアルキルトリメチルシランと反応することに
より、α−パーフルオロアルキルアルコールが得られ
る。又、「ジャーナル オブ オーガニックケミストリ
ー」(Journal of Organic Che
mistry)54,2873(1989)に記載のご
とき、ベンゾキノンを塩基の存在下トリフルオロメチル
トリエチルシランと反応させた後、還元によりp−トリ
フルオロメチルフェノールが得られる。このようなトリ
フルオロメチル基を有する化合物は、たとえば制癌剤と
して知られているトリフルオロチミジンや除草剤として
上市されているFlazasulfuronなどの医農
薬品の原料として、また透過性ポリイミドなどの高機能
性物質の材料などとして広く利用されている。
従来の合成法は、パーフルオロアルキルハライドとクロ
ロトリメチルシランをヘキサエチルホスフォラストリア
ミドの存在下反応させる方法が知られている。例えば
「テトラヘドロン レター」(Tetrahedron
Letters)25,2195(1984)あるい
は、「ジャーナル オブ オーガニックケミストリー」
(Journal ofOrganic Chemis
try)56,984(1991)に記載のごとき、ベ
ンゾニトリルを溶媒とする方法、Ger.Offen.
DE3805534に記載のごときブチロニトリルを溶
媒とする方法が知られている。
技術として満足のいくものとは言い難い。つまり、ベン
ゾニトリルを溶媒とした場合、反応が−40℃と低温を
必要とするのに対しベンゾニトリルの凝固点が−12.
75℃と高いため反応液がスラリー状となり攪拌が困難
であり収率も65〜70%と低い。すなわち反応を円滑
に進行させることが困難である。更に、ブチロニトリル
(BP117.5℃)を溶媒とした場合入手がほとんど
不可能であり、工業的にブチロニトリルを溶媒として使
用することは実際には不可能である。たとえ試薬として
少量入手が出来たとしても溶媒の値段が高く、蒸留によ
り回収が必要なため沸点の近いシラン化合物の合成、た
とえばC3 F7 SiMe3 :BP87℃の合成には適さ
ない。
かつ安価な溶媒を用い、高収率で簡単な方法により目的
とするパーフルオロアルキルトリメチルシランを合成す
ることができれば、工業的価値は大きい。
ごとき状況に鑑みパーフルオロ脂肪族ハロゲン化物にヘ
キサエチルホスフォラストリアミド存在下クロロトリメ
チルシランを反応させることによりパーフルオロアルキ
ルトリメチルシランを合成する反応について、様々な溶
媒を用いて反応した結果、アセトニトリルを溶媒とする
ことにより単蒸留と水洗を組み合わせるだけで純度の高
い目的とするパーフルオロアルキルトリメチルシランを
収率良く容易に取得することができ本発明に到った。
般式RfX(但、式中Rfは炭素数1〜3のパーフルオ
ロ脂肪族基、Xは臭素、沃素原子のいずれかを示す。)
で表されるパーフルオロ脂肪族ハロゲン化物をヘキサア
ルキルホスフォラストリアミドの存在下、クロロトリメ
チルシランと反応し、一般式RfSiMe3 (但、Rf
は前記したものに同じ)で表されるパーフルオロアルキ
ルトリメチルシランを生成する方法において、アセトニ
トリルを溶媒とすることを特徴とするパーフルオロアル
キルトリメチルシランの製造方法に係わるものである。
ロゲン化物(RfX)としては種々のものが用いられ
る。ただし、反応の収率を考えた場合ハロゲン原子
(X)は臭素あるいは沃素であることが望ましい。ま
た、原料の価格を考慮に入れるとハロゲン原子は、臭素
であることが推奨される。
来るが、通常は−50℃〜−30℃で行なうことが望ま
しい。
ホスフォラストリアミドを用いるが、他のヘキサアルキ
ルホスフォラストリアミドを用いることもできる。
少過剰の上記したパーフルオロ脂肪族ハロゲン化物を、
本発明において重要であるアセトニトリルに溶解し、所
定の温度で当量のヘキサエチルホスフォラストリアミド
を滴下する。反応終了後、生成物を単蒸留で留出せし
め、流出部を水洗するだけで目的とするパーフルオロア
ルキルトリメチルシランを得ることができる。アセトニ
トリルは蒸留により洗浄水から回収することができる。
副生成物を生じることなく、パーフルオロハロゲン化物
をほぼ定量的に目的とするパーフルオロアルキルトリメ
チルシランに変換する事ができる。しかしながら、生成
物の単離に際し、従来法(Ger.Offen.DE3
805534)に従いアセトニトリルを溶剤として反応
し、蒸留で生成したパーフルオロアルキルトリメチルシ
ラン、たとえばトリフルオロメチルトリメチルシランと
アセトニトリルを分離することを試みたが、沸点が近い
ために分離不可能であった。そこで、生成物を単蒸留で
留出せしめ、同伴したアセトニトリルを水洗したとこ
ろ、ほとんど純粋なパーフルオロアルキルトリメチルシ
ランを得ることができた。その結果、従来法では、溶媒
と目的物を分離するために精密蒸留が必要であるが、こ
れを省くことができ、精製に要する時間ならびに手間を
削減することが出来た。又、溶媒であるアセトニトリル
は入手し易く、従来法のベンゾニトリルやブチロニトリ
ルに比べ非常に安価である。
便なパーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法を
提供するものである。
に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
り付けた3Lフラスコに、アセトニトリル1L,クロロ
トリメチルシラン320mLを加え、−40℃に冷却し
ながら、ブロモトリフルオロメタン380gを導入し
た。−40℃でヘキサエチルホスフォラストリアミド6
24gを1時間かけて敵下した後、冷却を止め徐々に室
温まで昇温して反応を終了した。単蒸留装置をフラスコ
に取り付け、生成物を蒸留したところ、アセトニトリル
を含む生成物が得られた。この粗生成物を飽和食塩水で
四回洗浄することにより、324.4gのトリフルオロ
メチルトリメチルシラン(CF3 SiMe3 )を得ら
れ、ガスクロマト分析により98.8%の純度であっ
た。
より純度の高いCF3 SiMe3 は、モレキュラーシー
ブ4A(商品名:和光純薬社製)で乾燥後、精密蒸留す
ることによって純度99%以上のものが得られ、生成物
の沸点は55℃であった。
メタン36g、ヘキサエチルホスフォラストリアミド5
0gを用いプロピオニトリル100mL中で、他の条件
は実施例1と全く同じ条件で反応した。飽和食塩水によ
る洗浄により22gのCF3 SiMe3 が得られ、ガス
クロマト分析の結果、純度が97%であった。また、収
率は77%であった。
く同じ条件で反応し、飽和食塩水による洗浄により24
gのCF3 SiMe3 が得られた。このCF3SiMe3
は、洗浄を二十回行ったにもかかわらず、ガスクロマ
ト分析の結果、純度が95%のものしか得られなかっ
た。又、収率は84%であった。
反応し、生成物を単蒸留した後に精密蒸留により22g
のCF3 SiMe3 が得られた。収率は77%であっ
た。
ロエタン128g、ヘキサエチルホスフォラストリアミ
ド132gを用いアセトニトリル220mL中で、他の
条件は実施例1と全く同じ条件で反応した。飽和食塩水
による洗浄により92.7gのペンタフルオロエチルト
リメチルシラン(C2 F5 SiMe3 )が得られ、ガス
クロマト分析の結果、純度が98.0%であった。
度の高いC2 F5 SiMe3 は、モレキュラーシーブ4
A(前出)で乾燥後、精密蒸留することによって純度9
9%以上のものが得られ、生成物の沸点は69℃であっ
た。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式RfX(但、式中Rfは炭素数1
〜3のパーフルオロ脂肪族基、Xは臭素、沃素原子のい
ずれかを示す)で表されるフルオロ脂肪族ハロゲン化物
をヘキサアルキルホスフォラストリアミドの存在下、ク
ロロトリメチルシランと反応し、一般式RfSiMe3
(但、Rfは前記したものに同じ)で表されるパーフル
オロアルキルトリメチルシランを生成する方法におい
て、アセトニトリルを溶媒とし、反応液を単蒸留した後
に、水洗いすることを特徴とするパーフルオロアルキル
トリメチルシランの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20697291A JP3200099B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20697291A JP3200099B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06340675A JPH06340675A (ja) | 1994-12-13 |
JP3200099B2 true JP3200099B2 (ja) | 2001-08-20 |
Family
ID=16532054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20697291A Expired - Fee Related JP3200099B2 (ja) | 1991-08-19 | 1991-08-19 | パーフルオロアルキルトリメチルシランの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3200099B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6083006B1 (ja) * | 2016-02-17 | 2017-02-22 | 株式会社シーティーアイ | 容器の製造方法およびレーザー加工システム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003048033A2 (en) * | 2001-11-29 | 2003-06-12 | University Of Southern California | Magnesium mediated preparation of fluorinated alkylsilanes |
KR100673554B1 (ko) * | 2005-10-24 | 2007-01-24 | 한국과학기술연구원 | 트리플루오로메틸트리알킬실란의 제조방법 |
CN107880069B (zh) * | 2017-11-28 | 2021-02-19 | 湖南有色郴州氟化学有限公司 | 一种三氟甲基(三甲基)硅烷的制备方法 |
JP7126088B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-08-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | ハロシラン類を原料に用いる有機ケイ素化合物の製造方法 |
CN113105492B (zh) * | 2021-04-15 | 2023-01-24 | 上海立科化学科技有限公司 | 三氟甲基三甲基硅烷的制备方法 |
-
1991
- 1991-08-19 JP JP20697291A patent/JP3200099B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6083006B1 (ja) * | 2016-02-17 | 2017-02-22 | 株式会社シーティーアイ | 容器の製造方法およびレーザー加工システム |
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---|---|
JPH06340675A (ja) | 1994-12-13 |
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