JP3144370B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
回路に関し、特に電池で動作するとともにMOSトラン
ジスタを用いたマイクロプロセッサなどの情報処理装置
に関する。
体回路の例としては、昭和62年2月10日培風館より
発行の「超高速MOSデバイス」第259頁乃至第26
1頁(菅野卓雄監修)に述べられているものがある。
の従来例のように、pn接合容量を低減することにより
高速化することを目的としている。一方、基板バイアス
の印加時にはnチャネルMOSFETのしきい値が上昇
して0.6〜1.0V程度の実用的な値になるように設
計されている。この例によれば基板バイアスの値が高い
ほどドレインの空乏層が広がり、pn接合の容量が減少
して高速化をすることができる。
の低消費電力化について対策した例として、特開昭56
−42827 号公報に述べられているように、プログ
ラム命令によりCPU部分および動作しない回路へのク
ロック供給を停止して待機モードに入り、消費電力を抑
えようとするものがある。CMOS型回路ではクロック
を停止して全てのスイッチングを停止すれば、消費電力
はMOSトランジスタのサブスレッショルド電流による
リーク電流のみとなるので、待機モード時の消費電流を
動作時よりも3桁以上低減させることができる。
5V程度)のMOS型トランジスタを用いたマイクロプ
ロセッサでも5Vの電源電圧を用いれば高速で動作させ
ることが可能であり、従来のように基板バイアスの印加
によるpn接合容量の低減により高速化も可能であっ
た。しかし、低消費電力の観点からは、消費電力が電源
電圧の2乗に比例するため電源電圧を5V以下に下げる
必要がある。特に電池動作の場合には1V程度の低電圧
化が必要となる。また、MOSトランジスタの微細化が
進むにつれて素子耐圧も低下するため、電源電圧を下げ
る必要がでてきている。
の電荷をドレイン電流で充放電する時間であり、電源電
圧/(電源電圧−しきい値)2乗に比例する。従って、
しきい値が無視できるような高い電源電圧では遅延時間
は電源電圧に反比例するが、しきい値が無視できなくな
る低電圧では電源電圧の低下に伴って遅延時間が急激に
増加する。このような低電圧の動作時には基板バイアス
を印加するとしきい値が上昇するため、かえって動作速
度が低下してしまう問題がある。従って、低電圧動作時
には基本的に基板バイアスを印加せず、MOSトランジ
スタのしきい値を低く保たなければならない。
MOSトランジスタのサブスレッショルド電流によるリ
ーク電流の増加につながると言う別の問題を生じる。こ
のリーク電流は、室温においてしきい値を0.1V 低
下させるごとに約47倍と指数関数で増加する。たとえ
ば0.5Vから0.3Vまでしきい値を低下させるとリ
ーク電流は約2200倍となる。数十万素子規模のマイ
クロプロセッサの場合、動作時の電流と比較するとこの
リーク電流は1割以下でありあまり消費電力は増加しな
い。しかしながら、従来例のようにクロックのみを停止
する待機モード時の消費電流はまさにこのリーク電流に
よるものなので、0.5Vから0.3Vまでしきい値を
低下させるとリーク電流は直接2200倍になる。従っ
てしきい値電圧を低下した場合は、クロックを止めるだ
けでは消費電流の低減は十分でなく、待機モード時の電
池バックアップ時間が著しく短縮されると言う問題が生
ずる。
結果を基礎としてなされたものであり、その目的とする
ところは動作時は低電源電圧でも高速な動作が可能であ
り、かつ待機モード時にはリーク電流による消費電力が
少ない情報処理装置、特にこれに適したデバイス構造を
提供することである。
チング動作をしない待機モード時にもMOSトランジス
タのしきい値が低いことが原因である。
電源電圧でも高速動作を可能にし、待機モード時にはし
きい値を高くしてリーク電流を低減できれば、低電源電
圧による動作時の高速動作性と待機モード時の低消費電
力性との両立が可能である。そのため、MOSトランジ
スタそのもののしきい値は低く設定し、待機モード時に
は基板バイアスを印加することによりしきい値を上昇さ
せる。
昇によるリーク電流の低減量が基板バイアス回路の消費
電流よりも大きくなるように設定する必要があることは
言うまでもない。
作が可能になり、一方、待機モード時にはしきい値電圧
が高くなるのでリーク電流を大幅に減少させることがで
きる。
に説明する。
の基本的な概念を説明する。まず、低電源電圧での高速
動作を保つために、MOSトランジスタ(MN,MP)
のしきい値は低く設定されている。一方、キーボード入
力が一定時間以上無い場合や、最低消費電力の状態が一
定時間以上続いた場合を判定して、プログラム命令ある
いは外部の制御信号によって待機モードに入る。
MPU(マイクロプロセッサ・ユニット)1に供給する
クロックCkmを停止し、同時に動作モード切替信号A
により基板バイアス回路2−1,2−2を作動させて、
NMOSトランジスタ(MN)には負の基板バイアスV
Bn,PMOSトランジスタ(MP)には電源よりも正
の基板バイアスVBpを印加する。基板バイアスを印加
することによりMOSトランジスタのしきい値は上昇
し、リーク電流はしきい値上昇分の指数関数で減少す
る。すなわち、基板バイアスを印加すると、サブスレッ
ショルド特性が改善されてリーク電流が減少する。素子
数の多いマイクロプロセッサであるほどリーク電流の低
減量は大きく、基板バイアス回路2−1,2−2の消費
電流以上の値となる。以上の作用により、低電圧での高
速動作が可能で待機モード時には低消費電力の少ない情
報処理装置が可能になる。
説明する。図1に示すように、MPU1,基板バイアス
回路2−1,2−2,クロック制御回路3等が1チップ
上に集積化されることにより、マイクロプロセッサが構
成されている。MPU1は同業者に周知のように、命令
フェッチユニット,命令デコーダ,命令実行部等から構
成されている。MPU1はCMOS回路で構成され、N
MOSトランジスタのしきい値は0.3V,PMOSト
ランジスタのしきい値は−0.3Vに設定して、電源電
圧Vccが1Vの低電圧でも高速な動作を可能にしてい
る。尚、マイクロプロセッサのチップの電源電圧Vcc
の供給端子は電池(図示せず)に接続されており、電源
電圧Vccは電池から供給されている。また、基板バイ
アス印加のために、MPU1のNMOSとPMOSの各
基板(またはウェル領域)には端子が出ている。
た動作モード切換信号AがNMOS,PMOS用の基板
バイアス回路2−1,2−2が印加され、基板バイアス
VBp,VBnのレベルを制御する。モードの切替は、
キーボードからの入力の有無や、消費電流の大小などの
条件で行うことが出来る。クロック制御回路3を動作モ
ード切換信号Aと周波数切換信号Bで制御することによ
り、MPU1に供給されるクロックのオン・オフおよび
周波数が制御される。
モードの各動作モードにおけるクロックと基板バイアス
の変化を、図2に示す。
ックが供給され、基板バイアスは印加されない。従って
N,Pの各チャネルMOSトランジスタのしきい値の絶
対値は0.3V のままであるので、1Vの低電源電圧
Vccでも高速動作が可能である。一方、しきい値が低
いのでサブスレッショルド電流による定常的なリーク電
流は流れているが、10万ゲートのマイクロプロセッサ
の場合、定常的なリーク電流による消費電流はスイッチ
ング動作による消費電流の1/10以下なので動作時の
消費電流はあまり変化しない。
消費電力を抑えるため、クロック制御回路3は周波数切
換信号Bに応答して、クロック周波数は2分周の8MH
zに低下する。基板バイアス回路2−1,2−2により
−0.5V のNMOS用基板バイアスVBnと+1.
5V のPMOS用基板バイアスVBpを印加してMO
Sトランジスタのしきい値を絶対値で0.5V 程度ま
で上昇させる。動作速度が遅いのでしきい値を上げても
動作上問題が無い。この低消費電力モードによりスイッ
チング電流は1/2、リーク電流は約1/2200に低
減することができる。
ックを停止させる。クロックを停止すれば、スイッチン
グ動作は一切停止する。また、絶対値で上昇されたしき
い値を得るため、同様に基板バイアスVBn, VBp
を印加する。従って、CMOS回路の消費電流は高いし
きい値に対応する極めて微小のサブスレッショルド電流
によるリーク電流のみになる。基板バイアス印加により
しきい値の絶対値が0.5V程度に上昇しているので、
リーク電流は動作時の約1/2200に抑えることがで
きる。
の実施例を、図3に示す。動作モード切換信号が1にな
ると基板バイアス回路にクロック信号が供給され動作が
開始する。チャージポンピング回路を用いて、NMOS
用に負電圧,PMOS用に電源電圧より高い電圧を発生
させている。電源電圧Vccが1Vの場合NMOS用に
−0.5V程度,PMOS用に+1.5V程度のバイア
ス電圧VBn,VBpが発生できる。このクロック信号
は時計,マイクロプロセッサなどのために常時動作させ
る基本クロックを用いるので、新たな発振回路は不必要
であり、基板バイアス印加のための消費電流は100μ
A程度である。本実施例では、単一電源を基本に考え基
板バイアス回路を設けたが、電池動作の場合には基板バ
イアス専用の電池を設けても良い。
に示す。基本クロック信号は動作モード切換信号Aが0
のときにクロック制御回路3を通してクロック出力CK
mとしてMPU1に供給される。待機モード時には動作
モード切替信号が1となり、クロック出力はMPU1に
供給されない。クロック入力の一方はTフリップフロッ
プによる分周回路に入り、他方は素通りしてクロック周
波数切換回路に入る。クロック周波数切換信号Bが1の
ときには高速のクロックがそのままMPU1に供給さ
れ、クロック周波数切換信号Bが0のときには1/2に
分周された低消費電力モード用の低速クロックが供給さ
れる。
加するための素子構造の実施例を図5に示す。通常のC
MOS構造でも基板を接地せずにバイアスを印加するこ
とは可能であるが、パッケージングが複雑になったり、
ノイズ等を拾いやすい問題がある。P型半導体基板1を
接地した状態でN,P両チャネルMOSトランジスタに
基板バイアスVBn,VBpを加えるために、Nチャネ
ルMOSの基板pウェル3は基板1からPチャネルMO
Sの基板nエピタキシャル層2により絶縁されている。
pウェル3には基板バイアス端子5−1を通してNMO
S基板バイアスVBnとして負の電圧が、nエピタキシ
ャル層2には基板バイアス端子5−2を通してPMOS
基板バイアスVBpとして正の電圧が印加されるが、全
てのバイアス関係はpn接合の逆バイアスなのでお互い
に絶縁される。
圧も低いため、デバイス構造を工夫している。Nチャネ
ルMOSのゲート電極直下のp形高濃度領域7およびP
チャネルMOSのゲート電極直下のn形高濃度領域8は
それぞれチャネル反転層形成時の表面空乏層の厚さより
も深い位置に設けている。従って、基板バイアスが印加
されないときにはしきい値に影響を与えない。基板バイ
アスを印加すると空乏層は高濃度領域7,8に広がり、
実効的な基板濃度が高いためしきい値は基板バイアスに
より大きく変化する。基板バイアスとしきい値の変化量
を図6に示す。p形ウェル3の表面濃度は5×1016
/cm3 ,p形高濃度領域7の濃度は3×1017/
cm3 にしてある。p形高濃度領域7が無い場合は基
板定数が小さいために基板バイアスを印加してもしきい
値の変化は少なく、低電源電圧ではしきい値の制御幅が
小さすぎる。p形高濃度領域7を設けることにより、基
板定数が2倍以上になってしきい値を大きく制御するこ
とができる。基板バイアス0.5V の印加により、し
きい値を約0.2V 上昇させることができる。
周波数により自動的に基板バイアスを切り換える基本構
成を図7に示す。クロック信号の周波数の変化を基板バ
イアス制御回路2−0が検出して基板バイアス回路2−
1,2−2から発生される基板バイアスVBn,VBp
の値を切り換える。これによりクロック信号のみで、基
板バイアスの通常モード,低消費電力モード,待機モー
ドの切換ができる。
8に示す。クロック信号からチャージポンプ回路により
電圧Vc を発生させる。Vc の値はクロックの周波
数に比例し、結合容量Ccおよび負荷抵抗Rbによって
調整することができる。クロック周波数が高周波の時に
はVc の値が高くMOSトランジスタMN1が同通し
てa点の信号はローレベルとなるため、リングオシレー
タは発振せず基板バイアスVBn,VBpは印加されな
い。次にクロック周波数が低周波の時には、Vc 値が
低くMN1が同通しないため、a点はハイレベルにな
り、リングオシレータが発振して基板バイアスVBn,
VBpが印加される。もちろんクロック信号が停止した
ときにはa点がハイになり、基板バイアスVBn,VB
pが印加される。本実施例では基板バイアス発生用にリ
ングオシレータを発振させるため、待機モード時の消費
電力が300μA程度と大きくなるが、リーク電流の低
減量の方が大きいので効果はある。また、クロック周波
数により自動的に基板バイアスVBn,VBpが変化す
るので、特定の命令や制御信号を設ける必要が無い。
流特性のしきい値による変化を示す。リーク電流とはゲ
ート電圧が0Vの時のドレイン電流である。しきい値を
0.3Vから0.5V に上昇させると、リーク電流は
44nAから約2200分の1に低下する。しきい値電
圧が0.3V でリーク電流が44nAのMOSトラン
ジスタでマイクロプロセッサを構成することを考える
と、マイクロプロセッサのゲート数が約10万ゲートの
場合、そのリーク電流はマイクロプロセッサ全体では
4.4mAに達する。基板バイアスを0.5V印加する
と、しきい値は0.5V まで上昇し、リーク電流はも
ともとのしきい値が0.5V のトランジスタとほぼ同
じ20pA程度まで減少する。一方、基板バイアス回路
の消費電流が100μA程度あるので、総合で102μ
Aの消費電流となる。図10は、マイクロプロセッサの
最大動作周波数と消費電流に関して、しきい値0.5V
および0.3Vの従来例と本実施例の比較をまとめて示
したものである。
定できるので低電源電圧でも高速動作が可能であり、低
速動作時や待機モード時には基板バイアスを印加してし
きい値電圧を上昇させるので消費電力を小さく抑えるこ
とができる。
ック図を示す。
の波形変化を示す。
施例を示す。
施例を示す。
を示す。
電圧の関係を示す。
ロック図を示す。
路の実施例を示す。
とリーク電流の関係を示す。
電流に関して、従来と本発明とを比較し、まとめて示し
たものである。
チャネルMOS用基板バイアス、CKm…マイクロプロ
セッサ用クロック信号、CKb…基板バイアス発生用ク
ロック信号。
Claims (6)
- 【請求項1】 第1導電型の第1MOSトランジスタと第
2導電型の第2MOSトランジスタとを含む論理回路
と、 上記論理回路に供給されるクロック信号の周波数を制御
するクロック制御回路と、 上記第1MOSトランジスタおよび上記第2MOSトラ
ンジスタの基板電位を制御するための基板バイアス回路
とを備え、 上記論理回路は、第1導電型の第1半導体領域と、上記
第1半導体領域に形成された第2導電型の第2半導体領
域と、上記第2半導体領域に形成された第1導電型の第
3半導体領域とを有し、 上記第1MOSトランジスタは、上記第2半導体領域に
形成された第1導電型のソース・ドレイン領域を含み、 上記第2MOSトランジスタは、上記第3半導体領域に
形成された第2導電型のソース・ドレイン領域を含み、 上記クロック制御回路は、第1状態においては上記論理
回路に第1の周波数のクロック信号を供給し、第2状態
においては上記論理回路に上記第1の周波数よりも低い
第2の周波数のクロック信号を供給しあるいは上記論理
回路へのクロック信号の供給を停止でき、 上記基板バイアス回路は、上記第2状態における上記第
1MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値が上記第
1状態における上記第1MOSトランジスタのしきい値
電圧の絶対値よりも高くなり、上記第2状態における上
記第2MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値が上
記第1状態における第2MOSトランジスタのしきい値
電圧の絶対値よりも高くなるように、上記第2半導体領
域および上記第3半導体領域に印加する電位を制御でき
る半導体集積回路装置。 - 【請求項2】 上記第1MOSトランジスタのチャネル形
成領域の下に形成されたキャリア濃度が周囲より高い第
2導電型の第1高濃度領域と、 上記第2MOSトランジスタのチャネル形成領域の下に
形成されたキャリア濃度が周囲より高い第1導電型の第
2の高濃度領域とを有する請求項1記載の半導体集積回
路装置。 - 【請求項3】 上記第1MOSトランジスタと上記第2M
OSトランジスタとは直列接続されており、 上記第1MOSトランジスタはPMOSトランジスタ、
上記第2MOSトランジスタはNMOSトランジスタで
あって、 上記基板バイアス回路は、上記第2状態においては上記
第2半導体領域に印加する電位を上記第1MOSトラン
ジスタのソース電位よりも高い電位とし、 上記基板バイアス回路は、上記第2状態においては上記
第3半導体領域に印加する電位を上記第2MOSトラン
ジスタのソース電位よりも低い電位としうる請求項1ま
たは2記載の半導体集積回路装置。 - 【請求項4】 第1導電型の第1MOSトランジスタと第
2導電型の第2MOSトランジスタとを含むマイクロプ
ロセッサと、 上記マイクロプロセッサに供給されるクロック信号の周
波数を制御するクロック制御回路と、 上記第1MOSトランジスタおよび上記第2MOSトラ
ンジスタの基板電位を制御するための基板バイアス回路
とを備え、 上記マイクロプロセッサは、第1導電型の第1半導体領
域と、上記第1半導体領域に形成された第2導電型の第
2半導体領域と、上記第2半導体領域に形成された第1
導電型の第3半導体領域とを有し、 上記第1MOSトランジスタは、上記第2半導体領域に
形成された第1導電型のソース・ドレイン領域を含み、 上記第2MOSトランジスタは、上記第3半導体領域に
形成された第2導電型のソース・ドレイン領域を含み、 上記クロック制御回路は、第1状態においては上記マイ
クロプロセッサに第1の周波数のクロック信号を供給
し、第2状態においては上記マイクロプロセッサに上記
第1の周波数よりも低い第2の周波数のクロック信号を
供給しあるいは上記マイクロプロセッサへのクロック信
号の供給を停止でき、 上記基板バイアス回路は、上記第2状態における上記第
1MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値が上記第
1状態における上記第1MOSトランジスタのしきい値
電圧の絶対値よりも高くなり、上記第2状態における上
記第2MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値が上
記第1状態における第2MOSトランジスタのしきい値
電圧の絶対値よりも高くなるように上記第2半導体領域
および上記第3半導体領域に印加する電位を制御できる
半導体集積回路装置。 - 【請求項5】 上記第1MOSトランジスタのチャネル形
成領域の下に形成されたキャリア濃度が周囲より高い第
2導電型の第1高濃度領域と、 上記第2MOSトランジスタのチャネル形成領域の下に
形成されたキャリア濃度が周囲より高い第1導電型の第
2の高濃度領域とを有する請求項4記載の半導体集積回
路装置。 - 【請求項6】 上記第1MOSトランジスタと上記第2M
OSトランジスタとは直列接続されており、 上記第1MOSトランジスタはPMOSトランジスタ、
上記第2MOSトランジスタはNMOSトランジスタで
あって、 上記基板バイアス制御回路は、上記第2状態においては
上記第2半導体領域に印加する電位を上記第1MOSト
ランジスタのソース電位よりも高い電位とし、 上記基板バイアス制御回路は、上記第2状態においては
上記第3半導体領域に印加する電位を上記第2MOSト
ランジスタのソース電位よりも低い電位としうる請求項
4または5記載の半導体集積回路装置。
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