JPH05121686A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPH05121686A
JPH05121686A JP3279707A JP27970791A JPH05121686A JP H05121686 A JPH05121686 A JP H05121686A JP 3279707 A JP3279707 A JP 3279707A JP 27970791 A JP27970791 A JP 27970791A JP H05121686 A JPH05121686 A JP H05121686A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
channel transistor
gate
channel
circuit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3279707A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Iwahashi
弘 岩橋
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】微細加工技術が進歩し、MOSトランジスタの
ゲート絶縁膜が薄くなっても、入力端子に静電気などの
高電圧が印加された時に入力初段のトランジスタのゲー
ト閾値電圧が変化することのないICを提供する。 【構成】外部から信号を入力するための入力端子11の
電位が各ゲートに導かれる実質的にCMOSインバータ
回路として働くNチャネルトランジスタT2 およびPチ
ャネルトランジスタT3 を少なくとも有する入力回路と
を具備するICにおいて、ICに電源が供給されていな
い時に、少なくとも前記Nチャネルトランジスタに対し
て、ゲート電位に応じてドレイン、ソース、チャネルの
各電位をゲート・ドレイン間、ゲート・ソース間、ゲー
ト・チャネル間の容量結合により変化させ、そのゲート
閾値電圧の変化を抑制するように制御する回路T6 、T
7 を具備することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路(I
C)に係り、特に外部からの信号入力が供給される入力
回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は、ICのCMOS(相補型金属−
酸化物−半導体)入力回路の従来例を示す。ここで、1
1は入力端子、12は入力保護回路、31は入力初段回
路、14は次段回路である。
【0003】上記入力保護回路12は、前記入力端子1
1と入力初段回路31の入力ノードとの間に接続されて
いる抵抗Rと、この抵抗Rの一端側と接地電位ノードと
の間に接続されているゲート・ソース相互が接続された
NチャネルトランジスタT1とからなる。
【0004】前記入力初段回路31は、各ゲートが共通
に接続され、実質的にCMOSインバータ回路として働
くNチャネルトランジスタT2 およびPチャネルトラン
ジスタT3 と、電源電位(VC)ノードと上記Pチャネ
ルトランジスタT3 のソースとの間に接続されたPチャ
ネルトランジスタT4 と、上記Pチャネルトランジスタ
T3 およびNチャネルトランジスタT2 のドレイン相互
接続ノードと接地電位ノードとの間に接続されたNチャ
ネルトランジスタT5 とからなる。上記Pチャネルトラ
ンジスタT4 およびNチャネルトランジスタT5 の各ゲ
ートにはチップイネーブル信号/CEが与えられる。前
記次段回路14は、PチャネルトランジスタおよびNチ
ャネルトランジスタからなるCMOSインバータ回路が
用いられている。
【0005】上記入力回路において、入力端子11に外
部からの入力信号が抵抗Rを介して入力初段回路31の
NチャネルトランジスタT2 およびPチャネルトランジ
スタT3 の各ゲートに供給される。ICの動作時には、
信号/CEの論理レベルが“0”になり、Pチャネルト
ランジスタT4 およびNチャネルトランジスタT5 が対
応してオン/オフ状態になり、入力初段回路31は動作
可能状態になっている。これに対して、ICが動作待機
状態の時には、信号/CEの論理レベルが“1”にな
り、PチャネルトランジスタT4およびNチャネルトラ
ンジスタT5 が対応してオフ/オン状態になるので、入
力初段回路31の電流消費は入力端子11の電位に関係
なく零になる。
【0006】なお、前記入力保護回路12は、入力端子
11に静電気などの高電圧が印加された時、入力初段の
トランジスタT2 およびT3 の各ゲート絶縁膜を破壊か
ら守るために設けられている。
【0007】ところで、ICは、微細加工技術の進歩と
共にMOSトランジスタのゲート絶縁膜がますます薄く
なってきている。そうなると、入力端子に静電気などの
高電圧が印加された時、入力初段のトランジスタは、そ
のゲート絶縁膜は入力保護回路によって破壊から守られ
るが、そのゲート電位が高くなってチャネルからゲート
へ向ってゲート絶縁膜を介して電子あるいは正孔の移動
が起こるようになる。これは、ファウラ・ノルドハイム
のトンネル効果としてよく知られているが、このゲート
絶縁膜を通して移動する電子あるいは正孔の一部がゲー
ト絶縁膜中にトラップされ、このトラップされた電子あ
るいは正孔の影響により入力初段のトランジスタのゲー
ト閾値電圧が変化するという現象が起ってきた。
【0008】この現象を図3の入力回路について説明す
ると、入力端子11に与えられる信号の論理レベルを判
定する大きな要素の一つとして入力初段のNチャネルト
ランジスタT2 の閾値電圧が設計されているが、このト
ランジスタT2 のゲート絶縁膜中にトラップされた電子
あるいは正孔の影響によりその閾値電圧が変化すると、
入力端子11に与えられる信号の判定レベルが変化して
しまうという問題が発生するようになる。通常、入力信
号が0.8V以下なら論理“0”、入力信号が2.2V
以上なら論理“1”と決められており、1.5V程度を
論理“0”と“1”との境界として入力回路が設計され
ている。
【0009】しかし、前記したように入力初段のトラン
ジスタT2 およびT3 の閾値電圧が変化すると、入力信
号の論理“0”、“1”を判定する境界のレベルが変化
してしまい、入力信号の論理レベルを正しく判定できな
いという問題が起こってきた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
ICは、MOSトランジスタのゲート絶縁膜が薄くなる
ことに伴って、入力端子に静電気などの高電圧が印加さ
れた時に入力初段のトランジスタの閾値電圧が変化し、
論理“0”、“1”を判定する境界のレベルが変化して
しまい、入力信号の論理レベルを正しく判定できないと
いう問題があった。
【0011】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、MOSトランジスタのゲート絶縁膜が薄くな
っても、入力端子に静電気などの高電圧が印加された時
に入力初段のトランジスタの閾値電圧が変化することを
抑制し、入力信号の論理“0”、“1”を判定する境界
の電圧レベルが変化することを抑制し、入力信号の論理
レベルを正しく判定し得る半導体集積回路を提供するこ
とを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、外部から信号
を入力するための入力端子と、この入力端子の電位が各
ゲートに導かれる実質的にインバータ回路として働くP
チャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタを
有する入力回路とを具備する半導体集積回路において、
半導体集積回路に電源が供給されていない時に、少なく
とも前記Nチャネルトランジスタに対して、ゲート電位
に応じてドレイン、ソース、チャネルの各電位をゲート
・ドレイン間、ゲート・ソース間、ゲート・チャネル間
の容量結合により変化させ、上記Nチャネルトランジス
タの閾値電圧の変化を抑制するように制御する閾値電圧
変化抑制手段とを具備することを特徴とする。
【0013】上記閾値電圧変化抑制手段の一例として
は、前記Nチャネルトランジスタのドレイン、ソース、
チャネルをそれぞれ電気的に浮遊状態にする回路が挙げ
られる。
【0014】
【作用】ICに電源が供給されていない時に、入力端子
に静電気などの高電圧が印加されて入力初段のトランジ
スタのゲート電位が変化しても、入力初段の少なくとも
Nチャネルトランジスタのドレイン、ソース、チャネル
の各電位をそのゲート電位に応じて変化させることが可
能になる。
【0015】従って、微細加工技術が進歩し、MOSト
ランジスタのゲート絶縁膜が薄くなっても、入力端子に
静電気などの高電圧が印加された時に入力初段の少なく
ともNチャネルトランジスタの閾値電圧が変化すること
を抑制し、入力信号の論理“0”、“1”を判定する境
界の電圧レベルが変化することを抑制し、入力信号の論
理レベルを正しく判定することが可能になる。
【0016】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
【0017】図1は、本発明の第1実施例に係るICの
入力回路を示している。この入力回路は、本例ではP型
半導体基板およびこの半導体基板内に設けられたN型ウ
ェル領域を用いたCMOS回路により形成されている
が、これに限らず、N型半導体基板およびこの半導体基
板内に設けられたP型ウェル領域を用いて形成される場
合もある。なお、上記P型半導体基板には接地電位が与
えられ、上記N型ウェル領域には電源電位VCが与えら
れる。
【0018】図1において、11は入力端子、12は入
力保護回路、13は入力初段回路、14は次段回路であ
る。ここで、入力保護回路12は、従来例と同様に、抵
抗Rと、ゲート・ソース相互が接続されたNチャネルト
ランジスタT1とからなる。また、次段回路14は、従
来例と同様にCMOSインバータからなる。
【0019】入力初段回路13は、各ゲートが共通に接
続され、実質的にインバータ回路として働くNチャネル
トランジスタT2 およびPチャネルトランジスタT3
と、このNチャネルトランジスタT2 およびPチャネル
トランジスタT3 のドレイン相互間に接続されたNチャ
ネルトランジスタT6 と、前記Nチャネルトランジスタ
T2 のソースと接地電位ノードとの間に接続されたNチ
ャネルトランジスタT7と、VCノードと前記Pチャネ
ルトランジスタT3 のドレインとの間に接続されたPチ
ャネルトランジスタT8 とからなる。上記Nチャネルト
ランジスタ(T6,T7 )およびPチャネルトランジス
タT8 の各ゲートにはチップイネーブル信号CEが与え
られる。この信号CEは、通常、チップ外部から入力さ
れるチップイネーブル信号に基ずいてチップ内部で生成
される。
【0020】上記入力回路において、入力端子11に外
部からの入力信号が抵抗Rを介して入力初段回路13の
NチャネルトランジスタT2 およびPチャネルトランジ
スタT3 の各ゲートに供給される。ICの動作時には、
信号CEが論理“1”になり、Pチャネルトランジスタ
T8 がオフ状態、Nチャネルトランジスタ(T6 ,T7
)がオン状態になり、入力初段回路13は動作可能状
態になっている。これに対して、ICが動作待機状態の
時には、信号CEが論理“0”になり、Pチャネルトラ
ンジスタT8 がオン状態、Nチャネルトランジスタ(T
6 ,T7 )がオフ状態になり、入力初段回路13の電流
消費は入力端子の電位に関係なく零になる。
【0021】なお、入力保護回路12の動作は従来と同
様であり、入力端子11に高電圧が印加された時、入力
初段のトランジスタT2 およびT3 の各ゲート絶縁膜を
破壊から守る。
【0022】また、上記入力回路を有するICに電源が
供給されていない時には、前記信号CEは半導体基板と
同じ接地電位であり、PチャネルトランジスタT8 およ
びNチャネルトランジスタ(T6 ,T7 )はオフ状態で
あり、NチャネルトランジスタT2 のドレイン、ソー
ス、チャネルは電気的に浮遊状態になっている。この
時、入力端子11に静電気などの高電圧が印加されてN
チャネルトランジスタT2のゲートに正の高電圧が入力
したとしても、そのゲート電位に応じてドレイン、ソー
ス、チャネルの各電位がそのゲート・ドレイン間、ゲー
ト・ソース間、ゲート・チャネル間の容量結合により変
化(上昇)し、そのゲート・ドレイン間電位差、ゲート
・ソース間電位差、ゲート・チャネル間電位差はそれぞ
れ従来よりも小さくなる。これにより、上記Nチャネル
トランジスタT2 のチャネルからゲートへ向ってゲート
絶縁膜を介して電子あるいは正孔の移動が起こらなくな
り、そのゲート閾値電圧の変化は起らなくなる。
【0023】また、上記したようにNチャネルトランジ
スタT2 のドレイン、ソース、チャネルは電気的に浮遊
状態になっている時に、入力端子11に静電気などの負
の高電圧が印加された時は、入力保護回路12のトラン
ジスタT1 により半導体基板自体が負電位方向に引かれ
るので、前記NチャネルトランジスタT2 のゲート・ド
レイン間電位差、ゲート・ソース間電位差、ゲート・チ
ャネル間電位差は大きくならず、そのゲート閾値電圧の
変化は起らない。
【0024】従って、微細加工技術が進歩し、MOSト
ランジスタのゲート絶縁膜が薄くなっても、入力端子1
1に静電気などの高電圧が印加された時に入力初段のN
チャネルトランジスタT2 の閾値電圧が変化することを
抑制し、入力信号の論理“0”、“1”を判定する境界
の電圧レベルが変化することを抑制し、入力信号の論理
レベルを正しく判定することが可能になる。
【0025】図2は、本発明の第2実施例に係るICの
入力回路を示している。この入力回路は、入力初段回路
21における実質的にCMOSインバータ回路として働
くNチャネルトランジスタT2 およびPチャネルトラン
ジスタT3 の両方に対して、閾値電圧変化抑制手段を設
けたものである。
【0026】図2において、11は入力端子、12は入
力保護回路、21は入力初段回路、22は次段回路であ
る。ここで、入力保護回路12は、従来例と同様に、抵
抗Rと、ゲート・ソース相互が接続されたNチャネルト
ランジスタT1とからなり、入力端子11に高電圧が印
加された時、入力初段のトランジスタT2 およびT3の
各ゲート絶縁膜を破壊から守る。
【0027】入力初段回路21は、各ゲートが共通に接
続され、実質的にインバータ回路として働くPチャネル
トランジスタT2 およびPチャネルトランジスタT3
と、このNチャネルトランジスタT2 のソースと接地電
位ノードとの間に接続されたNチャネルトランジスタT
7 と、VCノードと上記PチャネルトランジスタT3 の
ソースとの間に接続され、ドレイン・ゲート相互が接続
されたNチャネルトランジスタT9 とからなる。上記P
チャネルトランジスタT3 は、ソース・基板(N型ウェ
ル領域)相互が接続されている。上記Nチャネルトラン
ジスタT7 のゲートにはチップイネーブル信号CEが与
えられる。
【0028】次段回路22は、各ゲートが共通に接続さ
れ、実質的にインバータ回路として働くPチャネルトラ
ンジスタT10およびNチャネルトランジスタT11と、こ
のNチャネルトランジスタT11のソースと接地電位ノー
ドとの間に接続されたNチャネルトランジスタT12と、
VCノードと上記PチャネルトランジスタT10およびN
チャネルトランジスタT11のドレイン相互接続ノードと
の間に接続されたPチャネルトランジスタT13とからな
る。上記NチャネルトランジスタT12およびPチャネル
トランジスタT13の各ゲートにはチップイネーブル信号
CEが与えられる。
【0029】上記入力回路において、入力端子11に外
部からの入力信号が抵抗Rを介して入力初段回路21の
NチャネルトランジスタT2 およびPチャネルトランジ
スタT3 の各ゲートに供給される。ICの動作時には、
信号CEが論理“1”になり、Nチャネルトランジスタ
(T7 ,T12)がオン状態、PチャネルトランジスタT
13がオフ状態になり、NチャネルトランジスタT9 はド
レイン・ゲート相互が接続されているのでオン状態にな
り、入力初段回路21および次段回路22はそれぞれ動
作可能状態になっている。これに対して、ICが動作待
機状態の時には、信号CEが論理“0”になり、Nチャ
ネルトランジスタ(T7 ,T12)がオフ状態、Pチャネ
ルトランジスタT13がオン状態になり、入力初段回路2
1および次段回路22の電流消費は入力端子の電位に関
係なく零になる。
【0030】また、上記入力回路を有するICに電源が
供給されていない時には、前記信号CEは半導体基板と
同じ接地電位であり、NチャネルトランジスタT7 はオ
フ状態であり、NチャネルトランジスタT2 のドレイ
ン、ソース、チャネルおよびPチャネルトランジスタT
3 のドレイン、ソース、チャネルはそれぞれ電気的に浮
遊状態になっている。この時、入力端子11に静電気な
どの高電圧が印加されて上記NチャネルトランジスタT
2 およびPチャネルトランジスタT3 の各ゲートに正の
高電圧が入力したとする。すると、上記Nチャネルトラ
ンジスタT2 およびPチャネルトランジスタT3 は、そ
のゲート電位に応じてそれぞれのドレイン、ソース、チ
ャネル及び上記N型ウェル領域の各電位がそれぞれのゲ
ート・ドレイン間、ゲート・ソース間、ゲート・チャネ
ル間の容量結合により上昇し、それぞれのゲート・ドレ
イン間電位差、ゲート・ソース間電位差、ゲート・チャ
ネル間電位差はそれぞれ従来よりも小さくなる。これに
より、上記NチャネルトランジスタT2 およびPチャネ
ルトランジスタT3 は、そのチャネルからゲートへ向っ
てゲート絶縁膜を介して電子あるいは正孔の移動が起こ
らなくなり、そのゲート閾値電圧の変化は起らなくな
る。
【0031】なお、上記したようにNチャネルトランジ
スタT2 およびPチャネルトランジスタT3 のそれぞれ
のドレイン、ソース、チャネルの各電位が上昇しても、
NチャネルトランジスタT9 はドレイン・ゲート相互が
接続されているのでオフ状態のままである。
【0032】また、上記したようにNチャネルトランジ
スタT2 およびPチャネルトランジスタT3 のドレイ
ン、ソース、チャネルが電気的に浮遊状態になっている
時に、入力端子11に静電気などの負の高電圧が印加さ
れた時は、入力保護回路12のトランジスタT1 により
半導体基板自体が負電位方向に引かれるので、前記Nチ
ャネルトランジスタT2 およびPチャネルトランジスタ
T3 のゲート・ドレイン間電位差、ゲート・ソース間電
位差、ゲート・チャネル間電位差は大きくならず、その
ゲート閾値電圧の変化は起らない。
【0033】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、微細加
工技術が進歩し、MOSトランジスタのゲート絶縁膜が
薄くなっても、入力端子に静電気などの高電圧が印加さ
れた時に入力初段のトランジスタのゲート閾値電圧が変
化することを抑制し、入力信号の論理“0”、“1”を
判定する境界のレベルが変化することを抑制し、入力信
号の論理レベルを正しく判定し得るICを実現すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るICの入力回路を示
す回路図。
【図2】本発明の第2実施例に係るICの入力回路を示
す回路図。
【図3】従来のICの入力回路を示す回路図。
【符号の説明】
11…入力端子、12…入力保護回路、13、21…入
力初段回路、T1 〜T31、T6 〜T9 …MOSトランジ
スタ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部から信号を入力するための入力端子
    と、この入力端子の電位が各ゲートに導かれる実質的に
    CMOSインバータ回路として働くPチャネルトランジ
    スタおよびNチャネルトランジスタを少なくとも有する
    入力回路とを具備する半導体集積回路において、 半導体集積回路に電源が供給されていない時に、少なく
    とも前記Nチャネルトランジスタに対して、ゲート電位
    に応じてドレイン、ソース、チャネルの各電位をゲート
    ・ドレイン間、ゲート・ソース間、ゲート・チャネル間
    の容量結合により変化させるように制御する閾値電圧変
    化抑制手段を具備することを特徴とする半導体集積回
    路。
JP3279707A 1991-10-25 1991-10-25 半導体集積回路 Withdrawn JPH05121686A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000035735A (ko) * 1998-11-27 2000-06-26 아끼구사 나오유끼 기동 회로 및 반도체 집적 회로 장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990107