JP3112467B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JP3112467B2 JP3112467B2 JP02155377A JP15537790A JP3112467B2 JP 3112467 B2 JP3112467 B2 JP 3112467B2 JP 02155377 A JP02155377 A JP 02155377A JP 15537790 A JP15537790 A JP 15537790A JP 3112467 B2 JP3112467 B2 JP 3112467B2
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
本発明は、例えば光ディスクカートリッジなどに用い
る光情報記録媒体に係り、特にそれのハードコート層に
関するものである。
る光情報記録媒体に係り、特にそれのハードコート層に
関するものである。
【０００２】
一般に光情報記録媒体は、透明基板の片面に形成され
た記録層上に透明基板側から光ビームを照射し、その反
射光を情報として読み取る方式が採用されている。その
ため、透明基板の表面にすり傷などの損傷を生じると、
記録層に到達する光ビームの光量、ならびに記録層から
の反射光量が減少して記録／再生エラーが生じ易くな
る。このような不都合を解消するため、従来より、透明
基板、特に表面硬度が比較的低い合成樹脂で成形された
透明基板の光ビーム入射面に、透明なハードコート層を
形成した光情報記録媒体が提案されている。
た記録層上に透明基板側から光ビームを照射し、その反
射光を情報として読み取る方式が採用されている。その
ため、透明基板の表面にすり傷などの損傷を生じると、
記録層に到達する光ビームの光量、ならびに記録層から
の反射光量が減少して記録／再生エラーが生じ易くな
る。このような不都合を解消するため、従来より、透明
基板、特に表面硬度が比較的低い合成樹脂で成形された
透明基板の光ビーム入射面に、透明なハードコート層を
形成した光情報記録媒体が提案されている。
【０００３】 また、透明基板の片面に形成された薄膜層（記録層、
反射層、保護層などを含む）が大気に露出していたり大
気と連通していると、大気中の水分などによって薄膜層
が腐食したり、さらに大気を露出している場合は異物と
衝突して薄膜層が破壊される。このような不都合を解消
するため、薄膜層の表面に硬質でかつ透湿度の低い材料
からなるハードコート層で保護した光情報記録媒体も知
られている。
反射層、保護層などを含む）が大気に露出していたり大
気と連通していると、大気中の水分などによって薄膜層
が腐食したり、さらに大気を露出している場合は異物と
衝突して薄膜層が破壊される。このような不都合を解消
するため、薄膜層の表面に硬質でかつ透湿度の低い材料
からなるハードコート層で保護した光情報記録媒体も知
られている。
【０００４】 ところでこのようなハードコート層は、一般に紫外線
硬化樹脂や酸化ケイ素などの誘導体によって構成されて
いるため、例えば光ディスク（光情報記録媒体）を回転
することによる大気との接触でハードコート層が帯電し
た場合、大気中の塵埃などを吸着する。このようにハー
ドコート層に塵埃などが付着すると、記録層に到達する
光ビームの光量、ならびに記録層からの反射光量が減少
して、記録／再生エラーが生じる。
硬化樹脂や酸化ケイ素などの誘導体によって構成されて
いるため、例えば光ディスク（光情報記録媒体）を回転
することによる大気との接触でハードコート層が帯電し
た場合、大気中の塵埃などを吸着する。このようにハー
ドコート層に塵埃などが付着すると、記録層に到達する
光ビームの光量、ならびに記録層からの反射光量が減少
して、記録／再生エラーが生じる。
【０００５】 また帯電した光情報記録媒体を記録／再生装置に挿入
すると放電を生じ、記録／再生装置の信号処理回路など
にダメージを与えるなどの問題もある。
すると放電を生じ、記録／再生装置の信号処理回路など
にダメージを与えるなどの問題もある。
【０００６】
前記ハードコート層の帯電を防止する方法としては、
ハードコート層の表面に界面活性剤を塗布する方法、あ
るいはハードコート層を構成する樹脂に界面活性剤を添
加してハードコート層を形成する方法などがある。
ハードコート層の表面に界面活性剤を塗布する方法、あ
るいはハードコート層を構成する樹脂に界面活性剤を添
加してハードコート層を形成する方法などがある。
【０００７】 しかし、ハードコート層の表面に大気中の水分が付着
したり、あるいはその他の原因でハードコート層の表面
が濡れた場合、界面活性剤単独であると分子量が小さい
ため、界面活性剤がハードコート層の表面に付着した水
に溶出する。そしてその水が蒸発するときに界面活性剤
も一緒に揮散してしまい、そのため帯電防止効果が低減
するという欠点を有している。
したり、あるいはその他の原因でハードコート層の表面
が濡れた場合、界面活性剤単独であると分子量が小さい
ため、界面活性剤がハードコート層の表面に付着した水
に溶出する。そしてその水が蒸発するときに界面活性剤
も一緒に揮散してしまい、そのため帯電防止効果が低減
するという欠点を有している。
【０００８】 本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消
し、信頼性の高い光情報記録媒体を提供することにあ
る。
し、信頼性の高い光情報記録媒体を提供することにあ
る。
【０００９】
前記目的を達成するため、本発明は、少なくとも１枚
の透明基板と、その透明基板の表面に形成された薄膜層
と、その透明基板または薄膜層の表面に形成されたハー
ドコート層とを備えた光情報記録媒体を対象とするもの
である。
の透明基板と、その透明基板の表面に形成された薄膜層
と、その透明基板または薄膜層の表面に形成されたハー
ドコート層とを備えた光情報記録媒体を対象とするもの
である。
【００１０】 そして前記ハードコート層が、例えばN,N−ジメチル
アミノエチルアクリレートなどのアクリロイル基を有す
る界面活性剤と、例えばメチルメタアクリレートなどの
アクリレートとの共重合体からなる高分子電解質と、例
えばトリメチロールプロパントリアクリレートなどのア
クリル系樹脂のコート剤との混合物を硬化させたコート
層であることを特徴とするものである。
アミノエチルアクリレートなどのアクリロイル基を有す
る界面活性剤と、例えばメチルメタアクリレートなどの
アクリレートとの共重合体からなる高分子電解質と、例
えばトリメチロールプロパントリアクリレートなどのア
クリル系樹脂のコート剤との混合物を硬化させたコート
層であることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明は前述のように、アクリロイル基を有する界面
活性剤とアクリレートとの共重合体からなる高分子電解
質と、アクリル系樹脂のコート剤との混合物を硬化させ
てハードコート層を構成している。そのためハードコー
ト層での界面活性剤の固定が確実で安定しており、帯電
防止効果を長期間維持して、信頼性の高い光情報記録媒
体を提供することができる。
活性剤とアクリレートとの共重合体からなる高分子電解
質と、アクリル系樹脂のコート剤との混合物を硬化させ
てハードコート層を構成している。そのためハードコー
ト層での界面活性剤の固定が確実で安定しており、帯電
防止効果を長期間維持して、信頼性の高い光情報記録媒
体を提供することができる。
【００１２】 次に本発明の実施例を図面とともに説明する。図１
は、第１実施例に係る光情報記録媒体の断面図である。 図面に示すように透明基板１の信号面に、少なくとも
記録層または反射層を含む薄膜層３が形成されている。
このようにして構成された２枚の光ディスク単板4,5
が、前記薄膜層３を互いに内側にして、かつ薄膜層３の
間に所定の空隙６を形成するようにして、内周スペーサ
７および外周スペーサ８を介して貼り合わせる。また前
記透明基板１の外面（光ビーム入射面）には、後述する
ような方法で界面活性剤を含有したハードコート層９が
形成されている。
は、第１実施例に係る光情報記録媒体の断面図である。 図面に示すように透明基板１の信号面に、少なくとも
記録層または反射層を含む薄膜層３が形成されている。
このようにして構成された２枚の光ディスク単板4,5
が、前記薄膜層３を互いに内側にして、かつ薄膜層３の
間に所定の空隙６を形成するようにして、内周スペーサ
７および外周スペーサ８を介して貼り合わせる。また前
記透明基板１の外面（光ビーム入射面）には、後述する
ような方法で界面活性剤を含有したハードコート層９が
形成されている。
【００１３】 前記透明基板１は、例えばポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エポキシ、
紫外線硬化樹脂など、透明度が高く、光学的なひずみの
小さい透明樹脂材料で成形されている。透明基板１の成
形方法は、使用する樹脂材料によって適宜選択される。
すなわち、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂の場合
は、射出成形法を適用することができ、エポキシなどの
熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂などの樹脂材料を使用す
る場合は、注型法を適用することができる。
チルメタクリレート、ポリメチルペンテン、エポキシ、
紫外線硬化樹脂など、透明度が高く、光学的なひずみの
小さい透明樹脂材料で成形されている。透明基板１の成
形方法は、使用する樹脂材料によって適宜選択される。
すなわち、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂の場合
は、射出成形法を適用することができ、エポキシなどの
熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂などの樹脂材料を使用す
る場合は、注型法を適用することができる。
【００１４】 前記信号面２には、光ビームを案内するための案内
溝、あるいは信号を表示するプリピット列などのプリフ
ォーマットパターンが微細な凹凸形状で形成されてい
る。
溝、あるいは信号を表示するプリピット列などのプリフ
ォーマットパターンが微細な凹凸形状で形成されてい
る。
【００１５】 前記薄膜層３は、光ディスクの種類に応じて適宜の材
料で形成される。例えば、追記形または書換形の光ディ
スクについては、少なくともヒートモード記録材料から
なる記録層を含んで形成される。また、読み出し専用の
光ディスクの場合には、アルミニウムなどの反射層を含
んで形成される。
料で形成される。例えば、追記形または書換形の光ディ
スクについては、少なくともヒートモード記録材料から
なる記録層を含んで形成される。また、読み出し専用の
光ディスクの場合には、アルミニウムなどの反射層を含
んで形成される。
【００１６】 薄膜層３の膜構造についても、光ディスクの種類に応
じて適宜調整される。例えば、穴あけ形の記録層を有す
る光ディスクの場合は、記録層と、その記録層の記録感
度を向上するためのニトロセルロースなどの下地層とを
有する２層構造とすることができる。また、光−磁気記
録層を有する光ディスクの場合には、透明基板１側から
高屈折率の第１エンハンス層と、光−磁気記録層と、前
記第１エンハンス層と同様の材料からなる第２エンハン
ス層と、反射層と、耐湿性樹脂材料で構成された保護層
とを有する５層構造とすることができる。
じて適宜調整される。例えば、穴あけ形の記録層を有す
る光ディスクの場合は、記録層と、その記録層の記録感
度を向上するためのニトロセルロースなどの下地層とを
有する２層構造とすることができる。また、光−磁気記
録層を有する光ディスクの場合には、透明基板１側から
高屈折率の第１エンハンス層と、光−磁気記録層と、前
記第１エンハンス層と同様の材料からなる第２エンハン
ス層と、反射層と、耐湿性樹脂材料で構成された保護層
とを有する５層構造とすることができる。
【００１７】 本発明においては、界面活性剤を直接ハードコート剤
に混入してハードコート層を形成するのではない。すな
わちまず、アクリロイル基などの反応基を有する界面活
性剤を、例えばアゾビスイソブチロニトリル（AIBN）な
どを重合開始剤として用い、例えばメチルメタアクリレ
ート（MMA）、ｎ−ブチルメタアクリレート（BMA）など
と共重合させた高分子電解質を生成する。そしてこの高
分子電解質とハードコート剤とを適宜の割合で混合し、
その混合物を例えばスピンコート法などの方法で塗布
し、必要な硬化処理を行ってハードコート層とするもの
である。
に混入してハードコート層を形成するのではない。すな
わちまず、アクリロイル基などの反応基を有する界面活
性剤を、例えばアゾビスイソブチロニトリル（AIBN）な
どを重合開始剤として用い、例えばメチルメタアクリレ
ート（MMA）、ｎ−ブチルメタアクリレート（BMA）など
と共重合させた高分子電解質を生成する。そしてこの高
分子電解質とハードコート剤とを適宜の割合で混合し、
その混合物を例えばスピンコート法などの方法で塗布
し、必要な硬化処理を行ってハードコート層とするもの
である。
【００１８】 このハードコート層の具体例について説明する。 （具体例１） N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート（DMAEA）と
メチルアクリレート（MA）とをモル比で1.1:8.9の割合
で混合して、60℃で反応させることにより、コポリマ中
のDMAEAのモル分率が0.3になるコポリマを得る。
メチルアクリレート（MA）とをモル比で1.1:8.9の割合
で混合して、60℃で反応させることにより、コポリマ中
のDMAEAのモル分率が0.3になるコポリマを得る。
【００１９】 このコポリマを塩酸で処理して、アンモニウム塩にし
た高分子電解質を得る。この高分子電解質20重量部とト
リメチロールプロパントリアクリレート（TMPA）80重量
部とを混合して、これをスピンコート法によって所定の
個所に５μｍ塗布し、紫外線を照射してハードコート層
を形成する。
た高分子電解質を得る。この高分子電解質20重量部とト
リメチロールプロパントリアクリレート（TMPA）80重量
部とを混合して、これをスピンコート法によって所定の
個所に５μｍ塗布し、紫外線を照射してハードコート層
を形成する。
【００２０】 このハードコート層の表面抵抗は２×10 10（Ω）以
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
【００２１】 （具体例２） N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート（DMAEA）と
メチルメタアクリレート（MMA）とをモル比で4.4:5.6の
割合で混合して、60℃で反応させることにより、コポリ
マ中のDMAEAのモル分率が0.3になるコポリマを得る。
メチルメタアクリレート（MMA）とをモル比で4.4:5.6の
割合で混合して、60℃で反応させることにより、コポリ
マ中のDMAEAのモル分率が0.3になるコポリマを得る。
【００２２】 このコポリマを塩酸で処理して、アンモニウム塩にし
た高分子電解質を得る。この高分子電解質20重量部とト
リメチロールプロパントリアクリレート（TMPA）80重量
部とを混合して、これをスピンコート法によって所定の
個所に５μｍ塗布し、紫外線を照射してハードコート層
を形成する。
た高分子電解質を得る。この高分子電解質20重量部とト
リメチロールプロパントリアクリレート（TMPA）80重量
部とを混合して、これをスピンコート法によって所定の
個所に５μｍ塗布し、紫外線を照射してハードコート層
を形成する。
【００２３】 このハードコート層の表面抵抗は２×10 10（Ω）以
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
【００２４】 （具体例３） ２−アクリロイルオキシエチルアシドフォスフェート
（PA）とメチルメタクリレート（MMA）とを共重合させ
て、コポリマからなる高分子電解質を生成する（コポリ
マ中におけるPAの割合は20％以上とした）。
（PA）とメチルメタクリレート（MMA）とを共重合させ
て、コポリマからなる高分子電解質を生成する（コポリ
マ中におけるPAの割合は20％以上とした）。
【００２５】 そしてこの高分子電解質20重量部とトリメチロールプ
ロパントリアクリレート（TMPA）80重量部とを混合し
て、これをスピンコート法によって所定の個所に５μｍ
塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成した。
ロパントリアクリレート（TMPA）80重量部とを混合し
て、これをスピンコート法によって所定の個所に５μｍ
塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成した。
【００２６】 このハードコート層の表面抵抗は１×10 11（Ω）以
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
【００２７】 （具体例４） N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート（DMAEA）と
メチルメタクリレート（MMA）とｎ−ブチルメタクリレ
ート（BMA）とを共重合させて、コポリマからなる高分
子電解質を生成する（コポリマ中におけるDMAEAの割合
は15％以上とした）。
メチルメタクリレート（MMA）とｎ−ブチルメタクリレ
ート（BMA）とを共重合させて、コポリマからなる高分
子電解質を生成する（コポリマ中におけるDMAEAの割合
は15％以上とした）。
【００２８】 そしてこの高分子電解質25重量部とトリメチロールプ
ロパントリアクリレート（TMPA）75重量部とを混合し
て、これをスピンコート法によって所定の個所に５μｍ
塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成した。
ロパントリアクリレート（TMPA）75重量部とを混合し
て、これをスピンコート法によって所定の個所に５μｍ
塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成した。
【００２９】 このハードコート層の表面抵抗は１×10 11（Ω）以
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
下であり、ナイロンブラシで２分間ブラッシングした後
の帯電電位は300V以下であった。
【００３０】 図２は、モノマ混合物中のDMAEAのモル分率とコポリ
マ中のDMAEAのモル分率との関係を示す特性図である。
図中の曲線DMAEA−MAはDMAEAとMAのコポリマの場合の特
性曲線、曲線DMAEA−MMAはDMAEAとMMAのコポリマの場合
の特性曲線、曲線DMAEA−AAはDMAEAとアクリル酸（AA）
のコポリマの場合の特性曲線である。
マ中のDMAEAのモル分率との関係を示す特性図である。
図中の曲線DMAEA−MAはDMAEAとMAのコポリマの場合の特
性曲線、曲線DMAEA−MMAはDMAEAとMMAのコポリマの場合
の特性曲線、曲線DMAEA−AAはDMAEAとアクリル酸（AA）
のコポリマの場合の特性曲線である。
【００３１】 前記具体例でも述べたように、例えばDMAEAとMAのコ
ポリマの場合（曲線DMAEA−MA参照）で、コポリマ中のD
MAEAのモル分率を0.3にしたいときには、モノマ混合物
中のDMAEAのモル分率を1.1にすればよいことを示してい
る。曲線DMAEA−MMAならびに曲線DMAEA−AAにおいても
同様である。
ポリマの場合（曲線DMAEA−MA参照）で、コポリマ中のD
MAEAのモル分率を0.3にしたいときには、モノマ混合物
中のDMAEAのモル分率を1.1にすればよいことを示してい
る。曲線DMAEA−MMAならびに曲線DMAEA−AAにおいても
同様である。
【００３２】 界面活性剤を多く含有した高分子電解質の場合は、ハ
ードコート層での高分子電解質の含有率が少なくても帯
電防止効果があり、一方、界面活性剤を少なく含有した
高分子電解質の場合は、ハードコート層での高分子電解
質の含有率を高くすることにより所望の帯電防止効果を
得ることができる。即ち、単位面積（単位体積）当たり
の高分子電解質の量が帯電防止効果の重要なポイントで
ある。
ードコート層での高分子電解質の含有率が少なくても帯
電防止効果があり、一方、界面活性剤を少なく含有した
高分子電解質の場合は、ハードコート層での高分子電解
質の含有率を高くすることにより所望の帯電防止効果を
得ることができる。即ち、単位面積（単位体積）当たり
の高分子電解質の量が帯電防止効果の重要なポイントで
ある。
【００３３】 ハードコート層への塵埃類の吸着を防止するには、ハ
ードコート層の表面固有抵抗値は１×10 11（Ω）以下
にすればよいことが、本発明者らの諸種の実験によって
確認されている。
ードコート層の表面固有抵抗値は１×10 11（Ω）以下
にすればよいことが、本発明者らの諸種の実験によって
確認されている。
【００３４】 図３は、本発明の第２実施例を説明するための光情報
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、透明基板１の光ビーム入射面のみ
ならず、透明基板１の外周面ならびに外周スペーサ８の
外周面にも、前記高分子電解質を含んだハードコート層
９が連続して形成されている。
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、透明基板１の光ビーム入射面のみ
ならず、透明基板１の外周面ならびに外周スペーサ８の
外周面にも、前記高分子電解質を含んだハードコート層
９が連続して形成されている。
【００３５】 図４は、本発明の第３実施例を説明するための光情報
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、光ディスク単板4,5の薄膜層３
を、接着剤層10を介して接着した、所謂、密着貼合わせ
タイプの光情報記録媒体において、透明基板１の光ビー
ム入射面に前記ハードコート層９が形成されている。
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、光ディスク単板4,5の薄膜層３
を、接着剤層10を介して接着した、所謂、密着貼合わせ
タイプの光情報記録媒体において、透明基板１の光ビー
ム入射面に前記ハードコート層９が形成されている。
【００３６】 この実施例においても、前記第２実施例と同様に、透
明基板１の光ビーム入射面のみならず、透明基板１の外
周面にも、前記高分子電解質を含んだハードコート層９
が連続して形成することもできる。
明基板１の光ビーム入射面のみならず、透明基板１の外
周面にも、前記高分子電解質を含んだハードコート層９
が連続して形成することもできる。
【００３７】 図５は、本発明の第４実施例を説明するための光情報
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、光情報記録媒体が１枚の光ディス
ク単板４から構成され、薄膜層３を覆うように保護層11
が形成されている。そして透明基板１の光ビーム入射面
に、前記ハードコート層９が形成されている。
記録媒体の断面図である。 この実施例の場合、光情報記録媒体が１枚の光ディス
ク単板４から構成され、薄膜層３を覆うように保護層11
が形成されている。そして透明基板１の光ビーム入射面
に、前記ハードコート層９が形成されている。
【００３８】 図６は、本発明の第５実施例を説明するための光情報
記録媒体の断面図である。この実施例の場合、単板構造
の光ディスクにおいて、保護層11の上に前記ハードコー
ト層９が形成されている。
記録媒体の断面図である。この実施例の場合、単板構造
の光ディスクにおいて、保護層11の上に前記ハードコー
ト層９が形成されている。
【００３９】 図７は、本発明の第６実施例を説明するための光情報
記録媒体の断面図である。この実施例の場合、単板構造
の光ディスクにおいて、透明基板１の光ビーム入射面、
透明基板１の外周面ならびに保護層11上にかけて連続し
た前記ハードコート層９が形成されている。
記録媒体の断面図である。この実施例の場合、単板構造
の光ディスクにおいて、透明基板１の光ビーム入射面、
透明基板１の外周面ならびに保護層11上にかけて連続し
た前記ハードコート層９が形成されている。
【００４０】
本発明は前述したように、アクリロイル基を有する界
面活性剤とアクリレートとの共重合体からなる高分子電
解質と、アクリル系樹脂のコート剤との混合物でハード
コート層を構成している。そのためハードコート層での
界面活性剤の固定が確実で安定しており、帯電防止効果
を長期間維持して、信頼性の高い光情報記録媒体を提供
することができる。
面活性剤とアクリレートとの共重合体からなる高分子電
解質と、アクリル系樹脂のコート剤との混合物でハード
コート層を構成している。そのためハードコート層での
界面活性剤の固定が確実で安定しており、帯電防止効果
を長期間維持して、信頼性の高い光情報記録媒体を提供
することができる。
【図１】 本発明の第１実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
【図２】 モノマ混合物中のDMAEAのモル分率とコポリマ中のDMAEA
のモル分率との関係を示す特性図である。
のモル分率との関係を示す特性図である。
【図３】 本発明の第２実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
【図４】 本発明の第３実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
【図５】 本発明の第４実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
【図６】 本発明の第５実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
【図７】 本発明の第６実施例を説明するための光情報記録媒体の
断面図である。
断面図である。
１……透明基板 ３……薄膜層 4,5……光ディスク基板 ９……ハードコート層 11……保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/24 G11B 7/26
Claims (7)
- 【請求項１】少なくとも１枚の透明基板と、その透明基
板の表面に形成された薄膜層と、その透明基板または薄
膜層の表面に形成されたハードコート層とを備えた光情
報記録媒体において、 前記ハードコート層が、アクリロイル基を有する界面活
性剤とアクリレートとの共重合体からなる高分子電解質
と、アクリル系樹脂のコート剤との混合物を硬化させた
コート層であることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】請求項１記載において、前記アクリル系樹
脂のコート剤がトリメチロールプロパントリアクリレー
トであることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項３】請求項１記載において、前記界面活性剤が
分子骨格の一部にアクリロイル基を有するリン酸類また
はアミン類であることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項４】請求項３記載において、前記界面活性剤が
２−アクリロイルオキシエチルアシドフォスフェートで
あることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項５】請求項１記載において、前記ハードコート
層が、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレートとメチ
ルアクリレートとの共重合体からなる高分子電界質と、
トリメチロールプロパントリアクリレートとの混合物を
硬化させたコート層であることを特徴とする光情報記録
媒体。 - 【請求項６】請求項１記載において、前記ハードコート
層が、２−アクリロイルオキシエチルアシドフォスフェ
ートとメチルメタクリレートとの共重合体からなる高分
子電解質と、トリメチロールプロパントリアクリレート
との混合物を硬化させたコート層であることを特徴とす
る光情報記録媒体。 - 【請求項７】請求項１記載において、前記ハードコート
層が、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレートとメチ
ルメタクリレートとブチルメタクリレートとの共重合体
からなる高分子電界質と、トリメチロールプロパントリ
アクリレートとの混合物を硬化させたコート層であるこ
とを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02155377A JP3112467B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 光情報記録媒体 |
| JP10339502A JPH11232699A (ja) | 1990-06-15 | 1998-11-30 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02155377A JP3112467B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 光情報記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10339502A Division JPH11232699A (ja) | 1990-06-15 | 1998-11-30 | 光情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0447539A JPH0447539A (ja) | 1992-02-17 |
| JP3112467B2 true JP3112467B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=15604612
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02155377A Expired - Lifetime JP3112467B2 (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 光情報記録媒体 |
| JP10339502A Pending JPH11232699A (ja) | 1990-06-15 | 1998-11-30 | 光情報記録媒体 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10339502A Pending JPH11232699A (ja) | 1990-06-15 | 1998-11-30 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP3112467B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7078084B2 (en) | 2003-03-12 | 2006-07-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium transparent sheet, process for producing the same, and optical information recording medium |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP02155377A patent/JP3112467B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-11-30 JP JP10339502A patent/JPH11232699A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7078084B2 (en) | 2003-03-12 | 2006-07-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium transparent sheet, process for producing the same, and optical information recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0447539A (ja) | 1992-02-17 |
| JPH11232699A (ja) | 1999-08-27 |
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