JP2995179B1 - 浸漬液恒温供給システム - Google Patents
浸漬液恒温供給システムInfo
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
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Abstract
【要約】
【課題】 浸漬液供給槽の浸漬液を恒温に保持する浸漬
液恒温供給システム。 【解決手段】 入口２１３と出口２１１を具えた恒温供
給槽２０と、該恒温供給槽２０内に延伸されて上記脱イ
オン水を利用して該恒温供給槽２０中の該浸漬液を加熱
する熱交換装置２３と、該恒温供給槽２０内に設けられ
て、該恒温供給槽２０内の該浸漬液の温度を検出する温
度センサー２７と、該温度センサー２７の発生する温度
検出データを利用して上記熱交換装置２３の流量をコン
トロールして該恒温供給槽２０中の該浸漬液の温度を一
定の範囲内に維持するコントロールユニット２５、以上
を包括する。
液恒温供給システム。 【解決手段】 入口２１３と出口２１１を具えた恒温供
給槽２０と、該恒温供給槽２０内に延伸されて上記脱イ
オン水を利用して該恒温供給槽２０中の該浸漬液を加熱
する熱交換装置２３と、該恒温供給槽２０内に設けられ
て、該恒温供給槽２０内の該浸漬液の温度を検出する温
度センサー２７と、該温度センサー２７の発生する温度
検出データを利用して上記熱交換装置２３の流量をコン
トロールして該恒温供給槽２０中の該浸漬液の温度を一
定の範囲内に維持するコントロールユニット２５、以上
を包括する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は一種の浸漬液恒温供
給システムに係り、特に一種の半導体工業中のウ エハー
エッチング工程或いそれに類似の工程の浸漬液補充装置
に応用されて、一定温度の浸漬液を供給するのに用いら
れることで半導体工程の浸漬液の加熱時間を節約できる
システムに関する。
給システムに係り、特に一種の半導体工業中のウ エハー
エッチング工程或いそれに類似の工程の浸漬液補充装置
に応用されて、一定温度の浸漬液を供給するのに用いら
れることで半導体工程の浸漬液の加熱時間を節約できる
システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハー製造工程において、化学
反応を応用したエッチングは重要な工程である。周知の
化学エッチング工程の設備は図１に示されるようであ
り、その中、酸槽１はウエハーに対するウェットエッチ
ングを進行するのに用いられ、その内には十分な浸漬液
（例えばエチレングリコール）が入れられ、やや高温で
（通常は７５℃程度）で化学反応を進行する。一定の回
数ウエハーをエッチングした後には、該酸槽１内の浸漬
液は変化しうるため、エッチング工程の効率を維持する
ため、酸槽１内の浸漬液を全て廃棄し新しい浸漬液に入
れ換える必要がある。ゆえに、周知のエッチング設備は
酸槽１の傍らに一つの浸漬液供給槽２を設けてあり、酸
槽１に浸漬液の補充或いは交換が必要な時に、モータ３
或いは流体重力を利用して浸漬液供給槽２内の浸漬液を
酸槽１中に補充している。
反応を応用したエッチングは重要な工程である。周知の
化学エッチング工程の設備は図１に示されるようであ
り、その中、酸槽１はウエハーに対するウェットエッチ
ングを進行するのに用いられ、その内には十分な浸漬液
（例えばエチレングリコール）が入れられ、やや高温で
（通常は７５℃程度）で化学反応を進行する。一定の回
数ウエハーをエッチングした後には、該酸槽１内の浸漬
液は変化しうるため、エッチング工程の効率を維持する
ため、酸槽１内の浸漬液を全て廃棄し新しい浸漬液に入
れ換える必要がある。ゆえに、周知のエッチング設備は
酸槽１の傍らに一つの浸漬液供給槽２を設けてあり、酸
槽１に浸漬液の補充或いは交換が必要な時に、モータ３
或いは流体重力を利用して浸漬液供給槽２内の浸漬液を
酸槽１中に補充している。
【０００３】しかし、周知の設備中、該浸漬液供給槽２
の提供する浸漬液は室温の液体とされ、酸槽１内に注入
された後、その温度が最良の反応温度に達していなけれ
ば、酸槽１内の液体を加熱して酸槽１中の浸漬液の温度
を最良の化学反応を行えるまで加熱する必要がある。図
２に示されるのは、上述の加熱操作の一例であり、該図
に示されるように、酸槽１中の浸漬液が室温（約２５
℃）から８０℃になるまでに７５分間の加熱時間が必要
であった。この時間のロスのために化学エッチング工程
の生産能が損なわれることになった。
の提供する浸漬液は室温の液体とされ、酸槽１内に注入
された後、その温度が最良の反応温度に達していなけれ
ば、酸槽１内の液体を加熱して酸槽１中の浸漬液の温度
を最良の化学反応を行えるまで加熱する必要がある。図
２に示されるのは、上述の加熱操作の一例であり、該図
に示されるように、酸槽１中の浸漬液が室温（約２５
℃）から８０℃になるまでに７５分間の加熱時間が必要
であった。この時間のロスのために化学エッチング工程
の生産能が損なわれることになった。
【０００４】さらに、循環式の高温グリセロール（グリ
セリン）パイプライン加熱システムでは、グリセロール
の加熱は別の一つ槽体中でニクロム線を加熱しなければ
ならず、グリセロールの循環を吸い込みポンプで進行す
る必要があり、設備コストの点から実際には不利なとこ
ろがあり、且つ半導体工程中、グリセロールパイプライ
ンを増設する必要があり、浸漬液が常に易燃性の原料で
ある状況では、工程の 危険性が自ずと増加した。
セリン）パイプライン加熱システムでは、グリセロール
の加熱は別の一つ槽体中でニクロム線を加熱しなければ
ならず、グリセロールの循環を吸い込みポンプで進行す
る必要があり、設備コストの点から実際には不利なとこ
ろがあり、且つ半導体工程中、グリセロールパイプライ
ンを増設する必要があり、浸漬液が常に易燃性の原料で
ある状況では、工程の 危険性が自ずと増加した。
【０００５】上述の加熱に時間がかかるという問題は、
半導体工業のみならず、化学、機械及び食品工業におい
てもよく見られる。このため加熱操作時間の影響を縮減
して浸漬工程が生産のネックの工程となるのを回避する
ためには、周知の設備を改良する努力が必要であった。
半導体工業のみならず、化学、機械及び食品工業におい
てもよく見られる。このため加熱操作時間の影響を縮減
して浸漬工程が生産のネックの工程となるのを回避する
ためには、周知の設備を改良する努力が必要であった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主要な課題
は、一種の浸漬液恒温供給システムを提供することにあ
り、即ちそれは、半導体工業中のウエハーエッチング工
程で使用される浸漬液の補充と交換において、一定温度
の浸漬液を酸槽中に供給して酸槽中の浸漬液の増温時間
を短縮し、エッチング工程の生産能を向上しうるシステ
ムとする。
は、一種の浸漬液恒温供給システムを提供することにあ
り、即ちそれは、半導体工業中のウエハーエッチング工
程で使用される浸漬液の補充と交換において、一定温度
の浸漬液を酸槽中に供給して酸槽中の浸漬液の増温時間
を短縮し、エッチング工程の生産能を向上しうるシステ
ムとする。
【０００７】本発明は一種の浸漬液恒温供給システムを
提供することを課題とし、それはウエハーエッチング工
程或いはそれに類似の工程中の浸漬液或いは交換システ
ムに応用されるもので、一つの恒温供給槽、一つの温度
センサー、一つの熱交換装置及び一つのコントロールユ
ニットを包括するものとする。
提供することを課題とし、それはウエハーエッチング工
程或いはそれに類似の工程中の浸漬液或いは交換システ
ムに応用されるもので、一つの恒温供給槽、一つの温度
センサー、一つの熱交換装置及び一つのコントロールユ
ニットを包括するものとする。
【０００８】上述の恒温供給槽は、入口と出口を有する
保存槽であり、酸槽に補充可能な浸漬液を収容するのに
用いられ、上記出口は酸槽に連接し、入口は浸漬液を該
恒温供給槽に補充するのに用いられる。本発明では該浸
漬液はエチレングリコール、有機溶剤、或いはその他の
類似の化学品とされる。望ましい実施例では、該恒温供
給槽に一つの断熱装置が設けられて、恒温供給槽内の熱
量の散逸を防止するようにしてある。本発明では、該断
熱装置が該恒温供給槽を包覆する保温綿、ポリスチレン
或いはその他の断熱機能を有する装置とされる。
保存槽であり、酸槽に補充可能な浸漬液を収容するのに
用いられ、上記出口は酸槽に連接し、入口は浸漬液を該
恒温供給槽に補充するのに用いられる。本発明では該浸
漬液はエチレングリコール、有機溶剤、或いはその他の
類似の化学品とされる。望ましい実施例では、該恒温供
給槽に一つの断熱装置が設けられて、恒温供給槽内の熱
量の散逸を防止するようにしてある。本発明では、該断
熱装置が該恒温供給槽を包覆する保温綿、ポリスチレン
或いはその他の断熱機能を有する装置とされる。
【０００９】該熱交換装置は、恒温供給槽内に延伸され
たパイプラインシステムとされて、脱イオン水の高温パ
イプラインに応用されて、恒温供給槽中の浸漬液を加熱
するのに用いられる。本発明の望ましい実施例では、該
熱交換装置は高温パイプライ ン装置とされ、そのパイプ
ライン中の一部は恒温供給槽内に設けられて、直接パイ
プ内のエネルギーが浸漬液の加熱操作に応用されるよう
にしてある。該高温パイプライン装置中を流れる流体は
気体或いは液体とされ、望ましくは工場で低コストで容
易に取得可能な高温脱イオン水とされる。
たパイプラインシステムとされて、脱イオン水の高温パ
イプラインに応用されて、恒温供給槽中の浸漬液を加熱
するのに用いられる。本発明の望ましい実施例では、該
熱交換装置は高温パイプライ ン装置とされ、そのパイプ
ライン中の一部は恒温供給槽内に設けられて、直接パイ
プ内のエネルギーが浸漬液の加熱操作に応用されるよう
にしてある。該高温パイプライン装置中を流れる流体は
気体或いは液体とされ、望ましくは工場で低コストで容
易に取得可能な高温脱イオン水とされる。
【００１０】本発明中、該高温パイプライン装置はさら
に流量コントローラーを包括しうる。該流量コントロー
ラーは高温パイプライン中の流体の流量を調節するのに
用いられる。その操作は、恒温供給槽中の浸漬液の温度
が設定温度より低い場合には、パイプライン中の流体流
量を増大し、恒温供給槽中の浸漬液の温度が設定温度よ
り高い場合には、パイプライン中の流体流量を減らす方
式を以てなされる。
に流量コントローラーを包括しうる。該流量コントロー
ラーは高温パイプライン中の流体の流量を調節するのに
用いられる。その操作は、恒温供給槽中の浸漬液の温度
が設定温度より低い場合には、パイプライン中の流体流
量を増大し、恒温供給槽中の浸漬液の温度が設定温度よ
り高い場合には、パイプライン中の流体流量を減らす方
式を以てなされる。
【００１１】該温度センサーは、恒温供給槽中に設けら
れて槽中の浸漬液の温度を監視するのに用いられ、熱電
対、サーモスタット或いはその他の温度検出装置とされ
る。
れて槽中の浸漬液の温度を監視するのに用いられ、熱電
対、サーモスタット或いはその他の温度検出装置とされ
る。
【００１２】該コントロールユニットは、温度センサー
の発生する温度観測データを利用して熱交換装置の流量
をコントロールして、恒温供給槽中の浸漬液の温度を一
定の温度範囲内に維持する。
の発生する温度観測データを利用して熱交換装置の流量
をコントロールして、恒温供給槽中の浸漬液の温度を一
定の温度範囲内に維持する。
【００１３】本発明のもう一つの課題は、一種の電熱装
置を用いず加熱し、安全で且つエネルギー源と設備コス
トを節約できる一種の浸漬液恒温供給システムを提供す
ることにあり、それはウエハーその他の製造工程中の高
温液体パイプラインにおいて、循環して恒温供給槽中に
至る浸漬液を予熱し、それを酸槽の浸漬液に供給し、該
液体の熱エネルギーを利用して、有効に酸槽中の浸漬液
の増温時間を短縮し、増温設備に必要な設備コストを削
減できるものとする。
置を用いず加熱し、安全で且つエネルギー源と設備コス
トを節約できる一種の浸漬液恒温供給システムを提供す
ることにあり、それはウエハーその他の製造工程中の高
温液体パイプラインにおいて、循環して恒温供給槽中に
至る浸漬液を予熱し、それを酸槽の浸漬液に供給し、該
液体の熱エネルギーを利用して、有効に酸槽中の浸漬液
の増温時間を短縮し、増温設備に必要な設備コストを削
減できるものとする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、半導
体ウエハー製造工程に応用可能な酸槽の浸漬液恒温供給
システムであって、その他のウエハー製造工程中の高温
脱イオン水を利用して、酸槽に浸漬液を注入する浸漬液
供給槽中の浸漬液を恒温に保持する上記酸槽の 浸漬液恒
温供給システムにおいて、一つの入口と一つの出口を具
えた保存槽であり浸漬液を収容する一つの恒温供給槽
と、上記恒温供給槽内に延伸されたパイプラインシステ
ムであり上記脱イオン水を利用して該恒温供給槽中の該
浸漬液を加熱する一つの熱交換装置と、上記恒温供給槽
内に設けられて、該恒温供給槽内の該浸漬液の温度を検
出する一つの温度センサーと、上記温度センサーの発生
する温度検出データを利用して上記熱交換装置の流量を
コントロールして該恒温供給槽中の該浸漬液の温度を一
定の範囲内に維持する一つのコントロールユニット、以
上を包括して構成された、酸槽の浸漬液恒温供給システ
ムとしている。請求項２の発明は、半導体ウエハー製造
工程に応用可能な酸槽の浸漬液恒温供給システムにおい
て、一つの入口と一つの出口を具え浸漬液を収容する一
つの恒温供給槽と、上記恒温供給槽内に延伸されたパイ
プラインシステムであり工場中の高温パイプラインを応
用して該恒温供給槽中の該浸漬液を加熱する一つの熱交
換装置であって、該高温パイプラインがその他のウエハ
ー製造工程中の一つの高温脱イオン水パイプラインとさ
れる上記熱交換装置、以上を包括して構成された、酸槽
の浸漬液恒温供給システムとしている。
体ウエハー製造工程に応用可能な酸槽の浸漬液恒温供給
システムであって、その他のウエハー製造工程中の高温
脱イオン水を利用して、酸槽に浸漬液を注入する浸漬液
供給槽中の浸漬液を恒温に保持する上記酸槽の 浸漬液恒
温供給システムにおいて、一つの入口と一つの出口を具
えた保存槽であり浸漬液を収容する一つの恒温供給槽
と、上記恒温供給槽内に延伸されたパイプラインシステ
ムであり上記脱イオン水を利用して該恒温供給槽中の該
浸漬液を加熱する一つの熱交換装置と、上記恒温供給槽
内に設けられて、該恒温供給槽内の該浸漬液の温度を検
出する一つの温度センサーと、上記温度センサーの発生
する温度検出データを利用して上記熱交換装置の流量を
コントロールして該恒温供給槽中の該浸漬液の温度を一
定の範囲内に維持する一つのコントロールユニット、以
上を包括して構成された、酸槽の浸漬液恒温供給システ
ムとしている。請求項２の発明は、半導体ウエハー製造
工程に応用可能な酸槽の浸漬液恒温供給システムにおい
て、一つの入口と一つの出口を具え浸漬液を収容する一
つの恒温供給槽と、上記恒温供給槽内に延伸されたパイ
プラインシステムであり工場中の高温パイプラインを応
用して該恒温供給槽中の該浸漬液を加熱する一つの熱交
換装置であって、該高温パイプラインがその他のウエハ
ー製造工程中の一つの高温脱イオン水パイプラインとさ
れる上記熱交換装置、以上を包括して構成された、酸槽
の浸漬液恒温供給システムとしている。
【００１５】
【発明の実施の形態】図３は本発明の浸漬液恒温供給シ
ステムの望ましい実施例の応用示意図である。本発明の
浸漬液恒温供給システムは、ウエハーエッチング工程或
いは類似の工程中の浸漬液補充と交換システムに応用さ
れ、それは一つの恒温供給槽２０、一つの温度センサー
２７、一つの熱交換装置２３及び一つのコントロールユ
ニット２５を包括する。
ステムの望ましい実施例の応用示意図である。本発明の
浸漬液恒温供給システムは、ウエハーエッチング工程或
いは類似の工程中の浸漬液補充と交換システムに応用さ
れ、それは一つの恒温供給槽２０、一つの温度センサー
２７、一つの熱交換装置２３及び一つのコントロールユ
ニット２５を包括する。
【００１６】該恒温供給槽２０は、酸槽に補充する浸漬
液を収容する保存槽とされて一つの入口２１３と一つの
出口２１１を有し、該出口２１１は酸槽に連接し、該入
口２ １３は浸漬液を該恒温供給槽２０に補充するのに用
いられる。本発明で応用される浸漬液は易燃性化学薬品
とされ、エチレングリコール或いはその他の類似の化学
品とされる。
液を収容する保存槽とされて一つの入口２１３と一つの
出口２１１を有し、該出口２１１は酸槽に連接し、該入
口２ １３は浸漬液を該恒温供給槽２０に補充するのに用
いられる。本発明で応用される浸漬液は易燃性化学薬品
とされ、エチレングリコール或いはその他の類似の化学
品とされる。
【００１７】望ましい実施例では、該恒温供給槽２０に
一つの断熱装置２９が設けられて、恒温供給槽２０内の
熱量の散逸を防止するようにしてあり、該断熱装置２９
は一層の一定の厚さを有し且つ恒温供給槽２０を被覆す
る保温綿、ポリスチレン或いはその他の断熱機能を有す
る装置とされる。
一つの断熱装置２９が設けられて、恒温供給槽２０内の
熱量の散逸を防止するようにしてあり、該断熱装置２９
は一層の一定の厚さを有し且つ恒温供給槽２０を被覆す
る保温綿、ポリスチレン或いはその他の断熱機能を有す
る装置とされる。
【００１８】該熱交換装置２３は、半導体製造工場で、
低コストで簡単に取得できる高温脱イオン水パイプライ
ンとされ、恒温供給槽２０中の浸漬液を加熱して所定の
温度となすのに用いられる。該パイプラインは工場中の
気体或いは液体輸送装置とされるか或いはその他の類似
の装置とされうる。
低コストで簡単に取得できる高温脱イオン水パイプライ
ンとされ、恒温供給槽２０中の浸漬液を加熱して所定の
温度となすのに用いられる。該パイプラインは工場中の
気体或いは液体輸送装置とされるか或いはその他の類似
の装置とされうる。
【００１９】図３の本発明の望ましい実施例において、
該熱交換装置２３は高温パイプライン装置とされ、それ
は引流工程中の一つの高温パイプライン２３１中の一部
が恒温供給槽２０内に至り、恒温供給槽２０内の液体と
管壁を介して熱交換を進行した後、低温パイプライン２
３３中に導出され、これにより直接管内のエネルギーが
浸漬液の加熱操作に応用され、即ち熱交換の操作概念が
運用される。高温パイプライン装置中を流通する流体は
気体或いは液体とされる。半導体工業におけるウエハー
製造工程で常見される比較的高温の流体にクリーニング
用の脱イオン水があり、この脱イオン水は高温パイプラ
イン中で常に一定の温度（約７５℃から７８℃）を有
し、その高温パイプライン装置中への運用は製造コスト
を節約する最良の選択であるといえる。
該熱交換装置２３は高温パイプライン装置とされ、それ
は引流工程中の一つの高温パイプライン２３１中の一部
が恒温供給槽２０内に至り、恒温供給槽２０内の液体と
管壁を介して熱交換を進行した後、低温パイプライン２
３３中に導出され、これにより直接管内のエネルギーが
浸漬液の加熱操作に応用され、即ち熱交換の操作概念が
運用される。高温パイプライン装置中を流通する流体は
気体或いは液体とされる。半導体工業におけるウエハー
製造工程で常見される比較的高温の流体にクリーニング
用の脱イオン水があり、この脱イオン水は高温パイプラ
イン中で常に一定の温度（約７５℃から７８℃）を有
し、その高温パイプライン装置中への運用は製造コスト
を節約する最良の選択であるといえる。
【００２０】高温パイプライン装置の加熱効果に影響を
与える原因にはパイプライン中の流体の温度、流量、そ
の恒温供給槽２０内でのパイプライン配置がある。パイ
プライン中で脱イオン水或いはその他の高温気体或いは
液体を媒介流体として使用するなら、それは工場中で常
見される高温パイプラインより簡単に引き込むことが で
き、尚且つ温度が一定の範囲であって易燃性浸漬液に対
する不当な加熱による危険を発生せず、増温調整の余裕
が余り多くないものとされる。流量の制御については、
本発明では、一つの流量コントローラー２３５が高温パ
イプライン装置に設けられて高温パイプライン中の流体
流量の調節を行えるようにしてある。その操作は以下の
とおりである。恒温供給槽２０中の浸漬液の温度が設定
温度より低い場合には、流量調整弁が大流量の位置とな
り、パイプライン中の流体流量を増大し、恒温供給槽２
０中の浸漬液の温度が設定温度より高い場合には、流体
調整弁が低流量の位置に至り、パイプライン中の流体流
量を減らす。高温パイプラインの恒温供給槽２０内での
配置は、パイプラインと浸漬液の接触面積を増大できる
と共に接触点を平均に分布させられるように、図３に示
される望ましい実施例においては、曲率と節距を具えた
螺旋管或いは平面状に接地されたうず状パイプライン
（直径３５ｃｍ、高さ５０ｃｍの恒温供給槽２０を例に
挙げると、うず状パイプラインは３／８英インチパイプ
を使用し、２．５ｃｍの管距を以て巻かれ、その高温流
体入口がうず状パイプラインの最外側に位置し、うず状
パイプラインの中心が出口とされる）とされる。最良の
管中の流体の流動方向は恒温供給槽２０の上方より進入
し、下方より導出されるものとされて、それにより熱交
換過程で二種の流体の温度差を均一とすることができ
る。
与える原因にはパイプライン中の流体の温度、流量、そ
の恒温供給槽２０内でのパイプライン配置がある。パイ
プライン中で脱イオン水或いはその他の高温気体或いは
液体を媒介流体として使用するなら、それは工場中で常
見される高温パイプラインより簡単に引き込むことが で
き、尚且つ温度が一定の範囲であって易燃性浸漬液に対
する不当な加熱による危険を発生せず、増温調整の余裕
が余り多くないものとされる。流量の制御については、
本発明では、一つの流量コントローラー２３５が高温パ
イプライン装置に設けられて高温パイプライン中の流体
流量の調節を行えるようにしてある。その操作は以下の
とおりである。恒温供給槽２０中の浸漬液の温度が設定
温度より低い場合には、流量調整弁が大流量の位置とな
り、パイプライン中の流体流量を増大し、恒温供給槽２
０中の浸漬液の温度が設定温度より高い場合には、流体
調整弁が低流量の位置に至り、パイプライン中の流体流
量を減らす。高温パイプラインの恒温供給槽２０内での
配置は、パイプラインと浸漬液の接触面積を増大できる
と共に接触点を平均に分布させられるように、図３に示
される望ましい実施例においては、曲率と節距を具えた
螺旋管或いは平面状に接地されたうず状パイプライン
（直径３５ｃｍ、高さ５０ｃｍの恒温供給槽２０を例に
挙げると、うず状パイプラインは３／８英インチパイプ
を使用し、２．５ｃｍの管距を以て巻かれ、その高温流
体入口がうず状パイプラインの最外側に位置し、うず状
パイプラインの中心が出口とされる）とされる。最良の
管中の流体の流動方向は恒温供給槽２０の上方より進入
し、下方より導出されるものとされて、それにより熱交
換過程で二種の流体の温度差を均一とすることができ
る。
【００２１】温度センサー２７は、恒温供給槽２０中に
設けられて槽中の浸漬液の温度を監視するのに用いら
れ、熱電対、サーモスタット或いはその他の温度検出装
置とされる。温度センサー２７の接地位置は、恒温供給
槽２０中の浸漬液の温度が平均となる位置とされ、最も
不適当であるのは熱交換装置２３に近接する位置であ
る。
設けられて槽中の浸漬液の温度を監視するのに用いら
れ、熱電対、サーモスタット或いはその他の温度検出装
置とされる。温度センサー２７の接地位置は、恒温供給
槽２０中の浸漬液の温度が平均となる位置とされ、最も
不適当であるのは熱交換装置２３に近接する位置であ
る。
【００２２】コントロールユニット２５は、温度センサ
ー２７の発生する温度観測データを利用して熱交換装置
２３をコントロールし、それにより恒温供給槽２０中の
浸漬液の温度を一定の温度範囲内に維持する。
ー２７の発生する温度観測データを利用して熱交換装置
２３をコントロールし、それにより恒温供給槽２０中の
浸漬液の温度を一定の温度範囲内に維持する。
【００２３】
【発明の効果】
明らかに、上述の発明は半導体工業にお
けるエッチング工程にのみ運用できるのではなく、化
学、機械、紡織及び食品工業でよく見られる浸漬工程に
運用可能である。その浸漬液は酸液に限られず、アルカ
リ液、染色液（紡織業）或いはその他の液体とされう
る。熱交換装置中のパイプラインの流体も、脱イオン水
に限られず、常見される加熱熱交換媒介流体或いは応用
可能な廃熱回収流体のいずれもが本発明の熱交換装置の
流体として利用可能である。
けるエッチング工程にのみ運用できるのではなく、化
学、機械、紡織及び食品工業でよく見られる浸漬工程に
運用可能である。その浸漬液は酸液に限られず、アルカ
リ液、染色液（紡織業）或いはその他の液体とされう
る。熱交換装置中のパイプラインの流体も、脱イオン水
に限られず、常見される加熱熱交換媒介流体或いは応用
可能な廃熱回収流体のいずれもが本発明の熱交換装置の
流体として利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】周知の酸槽とその浸漬液供給システムの示意図
である。
である。
【図２】周知の酸槽の浸漬液注入後の加熱時間図であ
る。
る。
【図３】本発明の浸漬液恒温供給システムの望ましい実
施例の応用示意図である。
施例の応用示意図である。
【符号の説明】
１ 酸槽
２ 浸漬液供給槽
３ ポンプ
２０ 恒温供給槽
２１ 槽壁
２３ 熱交換装置
２５ コントロールユニット
２７ 温度センサー
２９ 断熱装置
２１１ 出口
２１３ 入口
２３１ 高温パイプライン
２３３ 低温パイプライン
２３５ 流量コントローラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黄 ▲もん▼樺 台湾新竹縣竹北市中山路307巷４號 (72)発明者 ▲とう▼ 繼堯 台湾新竹市北大路54巷16號 (56)参考文献 特開 平５−326488（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−214730（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−14814（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−58657（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−261676（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304,21/306 H01L 21/308 C23F 1/00 - 3/06
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体ウエハー製造工程に応用可能な酸
槽の浸漬液恒温供給システムであって、その他のウエハ
ー製造工程中の高温脱イオン水を利用して、酸槽に浸漬
液を注入する浸漬液供給槽中の浸漬液を恒温に保持する
上記酸槽の浸漬液恒温供給システムにおいて、 一つの入口と一つの出口を具えた保存槽であり浸漬液を
収容する一つの恒温供給槽と、 上記恒温供給槽内に延伸されたパイプラインシステムで
あり上記脱イオン水を利用して該恒温供給槽中の該浸漬
液を加熱する一つの熱交換装置と、 上記恒温供給槽内に設けられて、該恒温供給槽内の該浸
漬液の温度を検出する一つの温度センサーと、 上記温度センサーの発生する温度検出データを利用して
上記熱交換装置の流量をコントロールして該恒温供給槽
中の該浸漬液の温度を一定の範囲内に維持する一つのコ
ントロールユニット、 以上を包括して構成された、酸槽の浸漬液恒温供給シス
テム。 - 【請求項２】 半導体ウエハー製造工程に応用可能な酸
槽の浸漬液恒温供給システムにおいて、 一つの入口と一つの出口を具え浸漬液を収容する一つの
恒温供給槽と、 上記恒温供給槽内に延伸されたパイプラインシステムで
あり工場中の高温パイプラインを応用して該恒温供給槽
中の該浸漬液を加熱する一つの熱交換装置であって、該
高温パイプラインがその他のウエハー製造工程中の一つ
の高温脱イオン水パイプラインとされる上記熱交換装
置、 以上を包括して構成された、酸槽の浸漬液恒温供給シス
テム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10229453A JP2995179B1 (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 浸漬液恒温供給システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10229453A JP2995179B1 (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 浸漬液恒温供給システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2995179B1 true JP2995179B1 (ja) | 1999-12-27 |
| JP2000058503A JP2000058503A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16892449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10229453A Expired - Fee Related JP2995179B1 (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 浸漬液恒温供給システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995179B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101007643B1 (ko) | 2008-11-04 | 2011-01-13 | 금호타이어 주식회사 | 이형제 희석액 제조 장치 |
-
1998
- 1998-07-31 JP JP10229453A patent/JP2995179B1/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000058503A (ja) | 2000-02-25 |
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