JP2982925B2

JP2982925B2 - 光記録方法及び再生方法

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Publication number: JP2982925B2
Application number: JP3173447A
Authority: JP
Inventors: 善広小川
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1990-06-19
Filing date: 1991-06-19
Publication date: 1999-11-29
Anticipated expiration: 2014-11-29
Also published as: JPH04348990A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高感度で優れたコント
ラストの記録を行なうことのできる光記録媒体への情報
の記録・再生方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光を用いて記録を行なう方法とし
て、例えば、「オプティカルエンジニアリング（Ｏｐ
ｔｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）、Ｖｏｌ．１５
Ｎｏ．２Ｍａｒｃｈ−Ａｐｒｉｌ１９７６年、ｐ
ｐ９９〜“ＲｅｖｉｅｗａｎｄＡｎａｌｙｓｉｓ
ｏｆＯｐｔｉｃａｌＲｅｃｏｒｄｉｎｇＭｅｄｉ
ａ”」に記載されている様に、光ビーム、例えばレーザ
ー光を光記録媒体の記録層へ照射することにより、記録
層に変形や孔を生じさせるタイプや、バブルを形成させ
るタイプ、および光学特性を変化させるタイプ等が知ら
れている。

【０００３】そして、例えば、記録層に変形を生じさせ
て記録を行なうタイプの光記録媒体としては、基板上に
Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｉｎ等の低融点金属やシアニ
ン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒ
ドロコリン系、ポリメチン系、ナフトキノン系、ベンゼ
ンジチオールニッケル錯体等の染・顔料（有機色素）、
及びこれら有機色素との複合系の薄膜を設けて構成され
ている。

【０００４】これらの薄膜からなる光記録層は光ビーム
の照射を受け、その吸収率に応じて熱エネルギーにか
え、そのヒートモードによって記録層が溶解又は昇華
し、記録ピットが形成される。

【０００５】ところで、近年上記の記録層材料のうち、
有機系色素が安価な光記録媒体を得ることができるため
注目されている。すなわち、色素記録媒体は、溶媒塗布
法により基板上に記録層として形成することができ、真
空蒸着法で形成される低融点金属化合物よりも、量産性
に優れている。

【０００６】有機色素を記録層に用いた光記録媒体の記
録ピット部では、有機色素の熱分解による脱色によって
反射率が低下し、かつ記録ピット部の変形による光学的
散乱の効果によって、記録ピット部における情報再生レ
ーザ光の反射光量が変化するために、記録情報を検知す
ることができる。

【０００７】しかし、一般に記録用光源として用いられ
る、半導体レーザの発振波長である長波長側に吸収特性
をもつ有機色素は、十分なＳ／Ｎ比を有する記録を行な
う為には、例えば８３０ｎｍの波長のレーザーに対して
記録感度が１００ｍＪ／ｃｍ² 以上必要であり、データ
の転送速度を速める為に高速で記録するには、より大出
力のレーザー光線が必要となり、ハードウェアの耐久
性、適合性を考慮すると、併せて記録媒体の感度を高め
る必要がある。

【０００８】また、光記録媒体の中でカード状の外形を
有する光カードはＩＳＯ（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ
ＯｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎｆｏｒＳｔａｎｄａｒ
ｉｚａｔｉｏｎ）の規格から０．７４〜０．７６ｍｍの
厚さが要求されている。一方、光記録媒体の基板表面の
ゴミやキズの影響を少なくするためには、基板の厚みは
できるだけ厚い方が有利であり、通常０．４〜０．６ｍ
ｍ程度の厚みが適している。また、保護基板は０．１５
〜０．４ｍｍ程度の厚みが要求されている。したがっ
て、上記の厚みの光カード媒体を得るためには、基板上
に設けられた記録層上に厚み０．５〜１ｍｍ程度の中空
部を設け、その上に保護基板を積層したエアー・ギャッ
プ構造とすることは困難である。従って、光カード等の
薄型の光記録媒体に於ては記録層上に保護層が接着層を
介して積層する密着構造のものが必然となる。

【０００９】しかしながら、密着構造を有する光記録媒
体にレーザー光源を用いて光記録を行った場合、中空構
造を有する光記録媒体と比較して、レーザー光の照射に
よって発生した熱が密着構造部に速やかに拡散し、かつ
密着された構造のために、レーザー光の照射により形成
される記録ピット部の熱変形が抑制され、また色素記録
媒体等の熱分解も抑制される。その結果、密着構造の光
記録媒体の記録感度は、中空構造の光記録媒体と比較し
て１／３〜１／５に低下する。

【００１０】この様な問題点を解決するものとして、本
出願人は特開昭６２−２３９４３７号公報に、記録層中
に有機色素と熱によってラジカルを生成する遊離基発生
化合物を含有させて光照射部で有機色素とラジカルを反
応させて脱色部を形成して記録を行なう、記録感度を向
上させた光記録媒体を開示している。

【００１１】しかしながら、この光記録媒体は、ピット
部の有機色素の反応が記録時には完全には終了していな
いと考えられ、記録コントラストが経時的に変化してし
まうという問題点が有り、また記録ピットの周辺部分に
も脱色領域が生じ、ピット径が拡大してしまうという問
題点がある。

【００１２】また、ノボティニ及びアレキサンドル（Ｎ
ｏｖｏｔｎｙａｎｄＡｌｅｘａｎｄｒｕ）「ジャー
ナルオブアプライドフィジクス（Ｊｏｕｎａｌ
ｏｆＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ）」，Ｖｏｌ．５
０，Ｎｏ．３，ｐｐ１２１５〜（１９７９年３月）の論
文には、耐熱性の有機色素を樹脂基板上に積層して、レ
ーザービームの照射によって基板中に有機色素を拡散さ
せてスペクトル特性を変化させることにより記録を行な
う方法が記載されている。しかしながら、光記録媒体用
基板への有機色素の拡散によるスペクトル特性の変化で
は、十分なコントラスト比（例えば光カードの場合０．
４以上）の記録を行なうことができなかった。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
記録感度及び優れた耐久安定性を有する光記録媒体に優
れたＳ／Ｎ比を示す記録を行なうことができる記録方法
を提供することにある。更に、本発明の他の目的はコン
トラストの優れた再生を行なうことのできる再生方法を
提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、基板、
第１の波長の光に対して吸収極大を示す有機色素を含ん
でいる記録層、及び極性基を有する低分子化合物とポリ
マーを含み、且つ該基板上に積層されている記録補助層
を具備している光記録媒体を用意する工程；及び該光記
録媒体に記録用光ビームを照射して、該記録補助層と該
有機色素とが相溶した状態を含み、該第１の波長よりも
短波長側の光に対して吸収極大を示すピットを形成する
工程、を有することを特徴とする情報の光記録方法であ
る。

【００１５】本発明の光記録方法においては、該光記録
媒体は、該記録層と該記録補助層とが隔離層を挟んで積
層されている構成を有するものであり、該記録用光ビー
ムは該隔離層を破壊して該記録層中の有機色素と該記録
補助層とが相互作用して相溶状態を形成させるに十分な
強度を有するものが好ましい。

【００１６】また、本発明は基板、第１の波長の光に対
して吸収極大を示す有機色素を含んでいる記録層、及び
極性基を有する低分子化合物とポリマーを含み、且つ該
基板上に積層されている記録補助層を具備し、該記録補
助層と該有機色素とが相溶した状態を含み、該第１の波
長よりも短波長側の光に対して吸収極大を示すピットに
よって情報が記録されている情報レコードを用意する工
程；及び該情報レコードに再生光を照射して該ピットに
おけるスペクトル特性の周囲との変化を検出して該情報
を再生する工程、とを有することを特徴とする情報の再
生方法である。

【００１７】本発明の再生方法においては、該情報レコ
ードは、該記録層と該記録補助層とが隔離層を挟んで積
層されている構造を有し、該隔離層は該ピットにおいて
破壊されて該記録層中の有機色素と記録補助層とが相溶
した状態を形成しているのが好ましい。また、該再生光
が該ピットにおけるスペクトル特性の周囲との変化を検
出するに十分であって、且つ非ピット部における該隔離
層を破壊するに不十分な強度を有するのが好ましい。

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光記録媒体は、所定波長を有する記録用光ビーム及び該
所定波長と同じ波長を有する再生用光ビームもしくは該
所定波長と異なる波長を有する再生用光ビームを利用す
る形式のもので、基板と、有機色素を含有する記録層及
び記録補助層を有する多層膜とを具備し、該記録補助層
は、該記録用光ビームの照射によって、該有機色素との
相溶状態を形成し該光記録媒体に光学的に検出可能な変
化を生じさせるものである。

【００１９】即ち、本発明は、前述の従来の光記録媒体
の様に記録用光ビームの照射部に於て有機色素を反応さ
せて記録するのではなく、有機色素の構造を実質的に破
壊することなく、記録補助層に含まれる極性基と有機色
素間の相互作用、詳しくは、極性基と有機色素中のπ電
子との相互作用が生じる様な相溶状態を記録光照射部に
形成して有機色素の吸収帯を長波長側（深色効果）もし
くは短波長側（浅色効果）に移動させ、スペクトル特性
を有機色素記録層と変化させることにより記録を行なう
ものである。本発明によれば、有機色素層と記録補助層
の相溶状態は記録用光ビームの照射によって瞬時に形成
された後、急冷されて固定される為、この状態は熱的に
安定で記録を経時的に安定に保持でき、保存安定性に優
れた光記録媒体を得ることができるものである。

【００２０】又、本発明は有機色素との相互作用を生じ
させる機能を基板から分離したことにより、記録に最適
なスペクトル特性の変化を与える相溶状態をもたらす材
料を用いることができ、高性能の光記録媒体が得られる
ものである。

【００２１】次に、本発明を図を用いて詳細に説明す
る。図１は本発明の光記録媒体を示す模式的断面図であ
り、図１（ａ）は本発明の光記録媒体の一実施態様を、
図１（ｂ）は他の実施態様を示す模式的断面図である。

【００２２】本発明の図１（ａ）に示す光記録媒体は、
基板２上に記録層３、極性基を含むポリマーを含有する
記録補助層５が順次積層され、接着層６を介して保護基
板７が積層されている。

【００２３】また、本発明の図１（ｂ）に示す光記録媒
体は、プレフォーマットパターンの凹凸を有する基板２
上に、有機色素を含有する記録層３、該記録層３の上に
隔離層４及び極性基を含むポリマーを含有する記録補助
層５が順次積層されてなる多層膜８を設け、さらにその
上に接着層６を介して保護基板７を積層してなるもので
ある。

【００２４】そして、該隔離層４は通常は記録層３と記
録補助層５の間を離間して、この２層間での相互作用の
発生を防止し、該光記録媒体に記録用光ビーム９が照射
されると、図２に示す様に記録層に於て発生した熱によ
って溶融して破壊されるよう構成されている。又、記録
補助層５は、隔離層の破壊の結果、記録層３と接触する
と共に、該記録用光ビームの照射によって少なくとも記
録層３と記録補助層５の界面に於て、記録補助層中の極
性基が有機色素に作用して有機色素の吸収帯を移動させ
て再生用光ビームに対するスペクトル特性を変化させる
様な相溶状態を形成し、光記録媒体に光学的に検出可能
な変化（ピット１０）を生じさせるものである。

【００２５】そして、本発明の光記録媒体への情報の記
録方法は、光記録媒体１に記録用光ビーム９を照射し
て、少なくとも記録層３と極性基を含むポリマーを含有
する記録補助層５の界面に於て、有機色素と記録補助層
との間で該極性基が該有機色素に作用して、再生用光ビ
ームに対する有機色素のスペクトル特性が変化する様な
相溶状態を形成せしめて記録を行なうものである。又
は、上記光記録媒体１に記録用光ビーム９を照射して、
隔離層４を破壊すると共に該記録層と該記録補助層の間
で、極性基が該有機色素に作用して再生用光ビームに対
する有機色素のスペクトル特性が変化する様な相溶状態
を形成させて記録を行なうものである。

【００２６】本発明に於ける相溶状態とは、有機色素が
記録補助層中に拡散した混合状態及び／又は、該記録補
助層中の極性基が記録層中に拡散した混合状態及び／又
は、有機色素が該記録補助層と溶解した状態で、且つ記
録補助層中の極性基が有機色素に作用して有機色素の吸
収スペクトルにおける吸収帯が移動した状態である。

【００２７】本発明に於て、情報の記録は有機色素の反
応による脱色を主とするものでなく、上記した相溶状態
の有機色素と記録補助層間での極性基と有機色素のπ電
子との相互作用によって生じるスペクトル特性の変化を
主として記録に用いるもので、この相溶状態が熱的安定
性に優れ、且つエネルギー的にも安定化しているため、
保存安定性の良い高性能な光記録媒体を得ることができ
る。

【００２８】本発明に於て、記録補助層としては、有機
色素との相溶状態を形成したとき有機色素の吸収スペク
トルの吸収帯を移動させることのできる極性基を含むポ
リマーを含有することが好ましい。即ち、極性基を含む
ポリマーは記録用光ビームの照射によって軟化溶融し、
有機色素と相溶状態を形成する。

【００２９】一方、有機色素は一般に共役二重結合を有
し、その分子中のπ電子の移動によって光の吸収、及び
反射現象が生じていると考えられている。そして、本発
明における相溶状態に於ては、有機色素と極性基の接近
によってπ電子の移動を極性基が阻害もしくは促進させ
るため有機色素の吸収スペクトルの吸収帯が、短波長側
もしくは長波長側に移動すると考えられる。

【００３０】本発明の極性基としては、例えば、吸収帯
を短波長側に移動させるものとして、カルボキシル基、
アミド基、アミン水酸基などが挙げられ、また、吸収帯
を長波長側に移動させるものとして、ハロゲンを有する
基などが挙げられる。

【００３１】そして、本発明に於て、極性基を含むポリ
マーとは、上記極性基を有する化合物をポリマーと混合
したものや上記極性基を有する化合物をポリマーに含侵
させたものをいう。

【００３２】具体的には、ナイロン（アミド基を有するポリマー）やポリエス
テル系ポリマーに極性化合物として、マレイン酸，フタ
ル酸，無水フタル酸，無水マレイン酸やテレフタル酸エ
ステル，脂肪酸エステル，５フッ化プロパノールなどを
２〜３０ｗｔ％、好ましくは５〜１０ｗｔ％混合させた
ものや、

【００３３】比較的に自由体積の大きいポリマー
（例えば、セルロース誘導体、芳香族アミド等）中に極
性化合物として、マレイン酸，フタル酸，無水マレイン
酸，テレフタル酸エステル，無水フタル酸，脂肪酸エス
テル，カルボン酸アミド類，５フッ化プロパノールなど
を５〜３０ｗｔ％、特に１０〜２０ｗｔ％含侵させたも
のが用いられる。

【００３４】の極性基を含有するポリマーは、ポリマ
ーペレットと極性化合物を混合した後、押し出し成形す
ることで製造でき、又、のポリマーは、溶媒キャステ
ィング法で製造できる。即ち、有機溶媒中に膨潤剤とし
て、ホルムアミド、水、過塩素酸マグネシウム、過塩素
酸カリウム、塩化カリウム等を１０〜２００ｗｔ％添加
し、更にポリマーを溶解させた後、ガラス基板にドクタ
ーブレード等で塗布した後、溶媒を蒸発させて多孔質の
フィルムを作製し、上記極性化合物中に浸漬、もしくは
上記極性化合物をポリマーの貧溶媒に溶解した溶液中に
浸漬して作製できる。

【００３５】そして、本発明に於て、有機色素にカチオ
ン性色素を用いる場合、ナイロンやポリエステル系ポリ
マーにマレイン酸、無水マレイン酸、フタル酸、無水フ
タル酸、テレフタル酸エステル、脂肪酸エステルを混合
させたものは色素の吸収帯を短波長側に大きく移動させ
ることができるとともに相溶状態が安定で好ましい。

【００３６】又、本発明の記録層に用いる有機色素とし
ては、例えば、アントラキノン誘導体（特に、インダス
レン骨格を有するもの）、ジオキサジン化合物及びその
誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナンスレン
誘導体、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、メロ
シアニン系化合物、ピリリウム系化合物、キサンテン系
化合物、トリフェニルメタン系化合物、クロコニウム系
色素、アゾ色素、クロコン類、アジン類、インジゴイド
類、ポリメチン系色素、アズレン類、スクアリウム誘導
体、硫化染料及び金属のジチオラート錯体等を挙げるこ
とができる。

【００３７】これらの有機色素の中でも、ポリメチン系
やシアニン系に代表されるカチオン性色素は記録補助層
との混合状態を安定に維持できる点で好ましく、更に下
記に示すカチオン性色素は記録感度に優れ、又、相溶状
態を極めて安定に維持できると共に、スペクトル特性が
より大きく変化するために良好なコントラストの記録を
行なうことができ特に好ましい。

【００３８】そのカチオン性色素を以下に挙げる。一般
式（Ｉ）で表わされるポリメチン系色素。

【００３９】

【化１３】

【００４０】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子、置換
もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のア
ルケニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換
もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換のス
チリル基及び置換もしくは未置換の複素環基から選ばれ
る基を示す。ｒ₁ ′, ｒ₂ ′は水素原子、置換もしくは
未置換のアルキル基、置換もしくは未置換の環式アルキ
ル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしく
は未置換のアラルキル基及び置換もしくは未置換のアリ
ール基から選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，
１又は２で、Ｘ^- はアニオンを意味する。

【００４１】一般式（ＩＩ）で表わされる色素。

【００４２】

【化１４】

【００４３】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ及びＸ^- は上記と同
義で、ｒ₁ 〜ｒ₅ は水素原子、ハロゲン原子、置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のアリ
ール基を示す。Ｙは５員環又は６員環を完成するに必要
な原子群を有する２価の有機残基を示す。ｍ，ｎは０，
１又は２である。

【００４４】一般式（ＩＩＩ）で表わされる色素。

【００４５】

【化１５】

【００４６】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ, ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ
₃ ，Ｙ及びＸ^- は上記と同義である。

【００４７】一般式（ＩＶ）で表わされる色素。

【００４８】

【化１６】

【００４９】式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ, ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ
₃ ，ｒ₄ ，ｍ及びｎは上記と同義で、Ｚ^- は

【００５０】

【化１７】

【００５１】を示す。

【００５２】一般式（Ｖ）、（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で
表わされるアズレニウム系色素。

【００５３】

【化１８】

【００５４】

【化１９】

【００５５】

【化２０】

【００５６】式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₇ は水素原子、ハロゲン原
子（塩素原子、臭素原子、沃素原子）又は１価の有機残
基を表わす。１価の有機残基としては、広範なものから
選択することができる。

【００５７】又、Ｒ₁ とＲ₂ ，Ｒ₂ とＲ₃ ，Ｒ₃ とＲ
₄ ，Ｒ₄ とＲ₅ ，Ｒ₅ とＲ₆ およびＲ₆ とＲ₇ の組合せ
のうち少なくとも１つの組合せで置換又は未置換の縮合
環を形成してもよい。縮合環としては５員，６員，また
は７員環の縮合環であり、芳香族環（ベンゼン、ナフタ
レン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、メチルベンゼ
ン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキシベン
ゼンなど）、複素環（フラン環、ベンゾフラン環、ピロ
ール環、チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、チア
ゾール環など）、脂肪族環（ジメチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレンなど）が挙げられる。Ｘ^- は上記と
同義でアニオンを示す。

【００５８】Ｆは２重結合によって結合した２価の有機
残基を表わす。かかるＦを含む本発明の具体的な例とし
て、下記一般式（１）〜（１１）で表わされるものを挙
げることができる。但し、式中のＱ⁺ は下記のアズレニ
ウム塩核を示し、式中のＱ⁺を除く右辺がＦを示してい
る。

【００５９】アズレニウム塩核（Ｑ⁺ ）

【００６０】

【化２１】

【００６１】一般式（１）

【００６２】

【化２２】

【００６３】一般式（２）

【００６４】

【化２３】

【００６５】一般式（３）

【００６６】

【化２４】

【００６７】Ｒ₁ ′〜Ｒ₇ ′はＲ₁ 〜Ｒ₇ と同義であ
る。又、Ｑ⁺ で示すアズレニウム塩核と前記式（３）に
おける右辺のアズレン塩核とは対称であってもよく又は
非対称であってもよい。

【００６８】一般式（４）

【００６９】

【化２５】

【００７０】一般式（５）

【００７１】

【化２６】

【００７２】一般式（６）

【００７３】

【化２７】

【００７４】一般式（７）

【００７５】

【化２８】

【００７６】式中、Ｍは含窒素複素環を完成するに必要
な非金属原子群を表わす。

【００７７】一般式（８）

【００７８】

【化２９】

【００７９】式中、Ｒ₁₀は置換又は未置換のアリール基
あるいはそれらのカチオン基を表わす。ｐは１から８ま
での整数を表わす。ｑは１又は２である。

【００８０】一般式（９）

【００８１】

【化３０】

【００８２】式中、Ｒ₁₁は複素環基あるいはそれらのカ
チオン基を表わす。

【００８３】一般式（１０）

【００８４】

【化３１】

【００８５】式中、Ｒ₁₂は水素原子、アルキル基、置換
もしくは未置換のアリール基を表わす。

【００８６】一般式（１１）

【００８７】

【化３２】

【００８８】一般式（１２）

【００８９】

【化３３】

【００９０】式中、Ｚ₂ は置換されてもよいピラン、チ
アピラン、セレナピラン、テルロピラン、ベンゾピラ
ン、ベンゾチアピラン、ベンゾセレナピラン、ベンゾテ
ルロピラン、ナフトピラン、ナフトチアピラン又はナフ
トセレナピラン、ナフトテルロピランを完成するに必要
な原子群を示す。Ｌは、硫黄原子、酸素原子又はセレン
原子、テルル原子を表わす。Ｒ₁₃及びＲ₁₄は水素原子、
アルコキシル基、置換もしくは未置換のアリール基、ア
ルアルケニル基、複素環基を表わす。

【００９１】次に、好適な色素として一般式（ＶＩＩ
Ｉ），（ＩＸ），（Ｘ），（ＸＩ）で表わされる色素を
示す。

【００９２】一般式（ＶＩＩＩ）

【００９３】

【化３４】

【００９４】一般式（ＩＸ）

【００９５】

【化３５】

【００９６】一般式（Ｘ）

【００９７】

【化３６】

【００９８】一般式（ＸＩ）

【００９９】

【化３７】

【０１００】上記一般式（ＶＩＩＩ），（ＩＸ），
（Ｘ），（ＸＩ）中で、Ｌ₁ ，Ｌ₂ は置換された窒素原
子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子又はテルル原子を
示し、Ｚ₁ は置換されてもよいピリリウム、チオピリリ
ウム、セレナピリリウム、テルロピリリウム、ベンゾピ
リリウム、ベンゾチオピリリウム、ベンゾセレナピリリ
ウム、ベンゾテルロピリリウム、ナフトピリリウム、ナ
フトチオピリリウム、ナフトセレナピリリウム又はナフ
トテルロピリリウムを完成するに必要な原子群、Ｚ₂ は
置換されてもよいピラン、チオピラン、セレナピラン、
テルロピラン、ベンゾピラン、ベンゾチオピラン、ベン
ゾセレナピラン、ベンゾテルロピラン、ナフトピラン、
ナフトチオピラン、ナフトセレナピラン又はナフトテル
ロピランを完成するに必要な原子群を示す。ｓは０又は
１の整数である。Ｒ₁₅は置換または未置換のアリール
基、もしくは置換または未置換の複素環基を示す。ｒ
₃ ′〜ｒ₇′は前述のｒ₁ ′, ｒ₂ ′と同義である。
Ｋ，ｎ，Ｍ，ｒ_１′，ｒ_２′，ｒ_１，Ｙ，Ｚ⁻，Ｘ⁻は
前述と同義である。

【０１０１】上記一般式中の略号についてさらに詳しく
述べる。Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは、水素原子又はアルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ
ｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−ア
ミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチ
ル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換
アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒ
ドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−ア
セトキシエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキ
シエチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエ
チル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、
３−スルフェートプロピル基、４−スルフェートブチル
基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、
３−（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセ
チルスルファミル）ブチル基など）、環式アルキル基
（例えば、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（ビ
ニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘ
キセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ドデシニル
基、プレニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジ
ル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフ
チルメチル基など）、置換アラルキル基（例えば、カル
ボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベン
ジル基など）を包含する。

【０１０２】ｒ₁ ′，ｒ₂ ′，ｒ₃ ′，ｒ₄ ′，ｒ
₅ ′，ｒ₆ ′，ｒ₇ ′は水素原子又はアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉｓｏ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｔ−アミル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基
など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換アル
キル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロ
キシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−アセト
キシエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエ
チル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル
基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−
スルフェートプロピル基、４−スルフェートブチル基、
Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−
（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチル
スルファミル）ブチル基など）、環式アルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、置換もしくは未置換のア
ルケニル基（ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ドデシニル基、プレニル基など）、アラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメ
チル基、β−ナフチルメチル基など）、置換アラルキル
基（例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル
基、ヒドロキシベンジル基など）を包含する。

【０１０３】さらに、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ およびＲ
₅ は置換もしくは未置換のアリール基（例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メトキシフ
ェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、ジメチルアミノフェニル
基、ジエチルアミノフェニル基、ジプロピルアミノフェ
ニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジフェニルアミ
ノフェニル基など）、置換もしくは未置換のアリール基
（フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、エチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ニト
ロフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジメチルア
ミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル基など）を
示す。

【０１０４】ｋ，ｓは０又は１で、Ｌ, ｍ，ｎは０，１
又は２である。

【０１０５】ｒ₁ ，ｒ₂ ，ｒ₃ ，ｒ₄ ，ｒ₅ は水素原
子、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
ど）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ
−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、ｔ−オクチル基など）、アルコキシ基
（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
など）、置換もしくは未置換のアリール基（フェニル
基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、α
−ナフチル基、β−ナフチル基など）を示す。

【０１０６】Ｙは２価の炭化水素基で、例えば

【０１０７】

【化３８】−ＣＨ₂ −ＣＨ₂ −，−（ＣＨ₂ ）₃ −，

【０１０８】などを表わし、これらの５員環又は６員環
は、ベンゼン環、ナフタレン環などと縮合されていても
よい。

【０１０９】Ｒ₁ 〜Ｒ₇ 及びＲ₁ ′〜Ｒ₇ ′は水素原
子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子など）の他に、置換もしくは未置換のアルキ
ル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、
ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｔ−オクチル基など）、置換もしくは未置換のアル
コキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基など）、置換もしくは未置換のアリール基（フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、
メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジ
エチルアミノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチ
ル基、ジプロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノ
フェニル、ジフェニルアミノフェニル基など）、置換も
しくは未置換のアラルキル基（ベンジル基、２−フェニ
ルエチル基、２−フェニル−１−メチルエチル基、ブロ
モベンジル基、２−ブロモフェニルエチル基、メチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、ニトロベンジル基）、
アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
バレリル基、ベンゾイル基、トリオイル基、ナフトイル
基、フタロイル基、フロイル基など）、置換もしくは未
置換アミノ基（アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、ジプロピルアミノ基、アセチルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基など）、置換もしくは未置換スチリル
基（スチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエチル
アミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基、メト
キシスチリル基、エトキシスチリル基、メチルスチリル
基など）、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、
シアノ基又は置換もしくは未置換アリールアゾ基（フェ
ニルアゾ基、α−ナフチルアゾ基、β−ナフチルアゾ
基、ジメチルアミノフェニルアゾ基、クロロフェニルア
ゾ基、ニトロフェニルアゾ基、メトキシフェニルアゾ
基、トリルアゾ基など）、置換もしくは未置換の複素環
基（例えば、ピリジル基、キノリル基、レピジル基、メ
チルピリジル基、フリル基、チエニル基、インドリル
基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ−エチルカルバゾ
リル基など）、２，２−ジフェニルビニル基、２−フェ
ニル−２−メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノ
フェニル）−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジル
アミノフェニル）−２−フェニルビニル基、２，２−ジ
（ジエチルアミノフェニル）ビニル基、２，２−ジ（メ
トキシフェニル）ビニル基、２，２−ジ（エトキシフェ
ニル）ビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−メチルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−
２−エチルビニル基など）を挙げることができる。

【０１１０】又Ｒ₁ ′〜Ｒ₇ ′もＲ₁ 〜Ｒ₇ と同様に縮
合環を形成しても良い。Ｒ₈ は、水素原子、ニトロ基、
シアノ基、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基など）又はアリール基（フェニル基、トリ
ル基、キシリル基など）を表わす。

【０１１１】Ｒ₉ は、アルキル基（メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基など）、置換アルキル基（２
−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル基、２−エ
トキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−メト
キシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−クロロ
プロピル基、３−ブロモプロピル基、３−カルボキシプ
ロピル基など）、環式アルキル基（シクロヘキシル基、
シクロプロピル基）、アリル基、アラルキル基（ベンジ
ル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル
基、４−フェニルブチル基、α−ナフチルメチル基、β
−ナフチルメチル基）、置換アラルキル基（メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリ
メチルベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル
基など）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基）、又は置換ア
リール基（クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ト
リクロロフェニル基、エチルフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ジメトキシフェニル基、アミノフェニル基、ニ
トロフェニル基、ヒドロキシフェニル基など）を表わ
す。

【０１１２】Ｒ₁₀は置換又は未置換のアリール基（フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、α−ナ
フチル基、β−ナフチル基、アントラリル基、ピレニル
基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリ
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフ
ェニル基、トリブロモフェニル基、エチルフェニル基、
ジエチルフェニル基、ニトロフェニル基、アミノフェニ
ル基、ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェ
ニル基、ジベンジルアミノフェニル基、ジプロピルアミ
ノフェニル基、モルホリノフェニル基、ピペリジニルフ
ェニル基、ピペラジノフェニル基、ジフェニルアミノフ
ェニル基、アセチルアミノフェニル基、ベンゾイルアミ
ノフェニル基、アセチルフェニル基、ベンゾイルフェニ
ル基、シアノフェニル基など）を表わす。

【０１１３】Ｒ₁₁はフラン、チオフエン、ベンゾフラ
ン、チオナフテン、ジベンゾフラン、カルバゾール、フ
ェノチアジン、フェノキサジン、ピリジンなどの複素環
から誘導された１価の複素環基を表わす。

【０１１４】Ｒ₁₂は水素原子、アルキル基（メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基など）又は置換もしく
は未置換のアリール基（フェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ビフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ニト
ロフェニル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェ
ニル基、ジエチルアミノフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、アントラ
リル基、ピレニル基など）を表わす。

【０１１５】Ｒ₁₃およびＲ₁₄は水素原子、アルキル基
（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など）、
アルコキシル基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、エトキシエチル基、メトキシエチル基など）、アリ
ール基（フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基、ビフェニル基、メトキシフェニル基など）、
置換もしくは未置換のスチリル基（スチリル基、ｐ−メ
チルスチリル基、ｏ−クロロスチリル基、ｐ−メトキシ
スチリル基など）、置換もしくは未置換の４−フェニル
１，３−ブタジエニル基（４−フェニル１，３−ブタジ
エニル基、４−（ｐ−メチルフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル基など）、又は置換もしくは未置換の複素環基
（キノリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、フリル基
など）を表わす。

【０１１６】Ｍはピリジン、チアゾール、ベンゾチアゾ
ール、ナフトチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサ
ゾール、ナフトオキサゾール、イミダゾール、ベンズイ
ミダゾール、ナフトイミダゾール、２−キノリン、４−
キノリン、イソキノリン又はインドールなどの含窒素複
素環を完成するに必要な原子群で、ハロゲン原子（フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
ど）、アリール基（フェニル基、トリル基、キシリル基
など）、アルアルキル基（ベンジル基、ｐ−トリルメチ
ル基など）によって置換されていてもよい。

【０１１７】Ｘ^- はアニオンで塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼンスルホ
ン酸塩イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン、メチ
ル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩
イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テトラフェニ
ルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベ
ンゼンスルフィン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフル
オロ酢酸塩イオン、プロピオン酸塩イオン、安息香酸塩
イオン、シュウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン
酸塩イオン、オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオ
ン、クエン酸塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水
素一リン酸塩イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、ク
ロロスルホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオ
ン、トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフ
ルオロアンチモン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、
タングステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン
酸塩イオンなどを表わす。

【０１１８】これらの有機色素の具体例を表１にあげる
が、これらに限定はされるものではない。また、Ｚ^- が

【０１１９】

【化３９】

【０１２０】のときをＺａ^- 、Ｚ^- が

【０１２１】

【化４０】

【０１２２】のときをＺｂ^- として表わす。

【０１２３】

【表１】

【０１２４】

【表２】

【０１２５】

【表３】

【０１２６】

【表４】

【０１２７】

【表５】

【０１２８】

【表６】

【０１２９】

【表７】

【０１３０】

【表８】

【０１３１】

【表９】

【０１３２】

【表１０】

【０１３３】

【表１１】又、これらの有機色素と共に、耐光性の向上を目的とし
て赤外線吸収剤などのスタビライザーや成膜性を向上さ
せるために、記録層のスペクトル特性を、有機色素単独
からなる記録層のスペクトル特性と変化させない様なバ
インダーを添加してもよい。

【０１３４】又、記録層の膜厚としては、基板上に形成
したプリフォーマットを精度良く再生できる様に記録層
が再生用光ビームに対して出来るだけ高い反射率、具体
的には８％以上の反射率を示すことが望ましく、少なく
とも反射率１０％を示す厚さとすることが好ましく、特
に反射率が最大値を示す膜厚とするのが好ましい。

【０１３５】また、本発明に於て、隔離層４としては、
記録層の発熱によって溶融、変形又は溶融及び変形を生
じ記録層と記録補助層を連通せしめ、また非記録時に
は、記録層と記録補助層との間の相互作用を防止し、更
に記録層と接触している状態では相互に拡散しないか、
或いは拡散しても記録層のスペクトル特性の変化が殆ん
ど生じないものが好ましい。

【０１３６】この様な隔離層の材料としては、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル、酢
酸セルロース、ポリカーボネート、ポリスチレンなどの
ポリマーやＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ、ＣＳ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ など
の無機材料を用いることができる。隔離層の厚さとして
は、レーザ光の照射による記録時に記録層に生じる熱で
溶融又は変形もしくは記録層のわずかな変形に追従して
穴が形成されることが必要なことから、通常５ｎｍ〜２
５０ｎｍ、特に２０ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは３０
〜１００ｎｍが望ましい。

【０１３７】この隔離層を設けることにより、記録層と
記録補助層が直接接している光記録媒体よりも耐久安定
性を向上させることができる。又、記録感度をこの隔離
層を設けることによって、記録層と記録補助層が直接接
している光記録媒体に比べ実質的に記録感度を低下させ
ることができ、高強度の再生用光ビームを使用しても該
光記録媒体に光学的変化を生じさせることがなく、高い
コントラストの信号を再生することができる。

【０１３８】なお、この隔離層としてポリマーを用いる
場合、ポリマー中に記録用光ビームを吸収して発熱する
材料、例えば記録用光ビームの波長域に吸収極大を有す
る有機色素を含有させた場合、隔離層の形成によって低
下した記録感度を或る程度回復させることができ、良好
な記録感度を有し、且つ記録された情報を高いコントラ
スト比で再生可能な、高性能の光記録媒体を得ることが
できる。隔離層中に有機色素を分散させる場合、記録補
助層との接触による拡散でスペクトル特性の変化が生じ
ない様に含有量を１〜５ｗｔ％、特に１〜３ｗｔ％とす
ることが好ましい。

【０１３９】本発明において、基板２はガラス板、透明
セラミックス板、ＰＶＣ、ポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリオレフィン樹
脂等などの透明プラスチック板などを使用することがで
きる。特に、光学的に複屈折が無く、かつ硬くて傷の付
きにくいポリメチルメタクリレートが好ましい。基板は
光学的に透明材料であることが好ましい。又、これらの
基板の表面に、トラッキング用の溝やプレピット等が形
成されていてもよい。

【０１４０】更にまた、保護基板７としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルフォ
ン、塩化ビニル等を用いることができるが、特に薄い保
護基板には屈曲に対して強く印刷用のインク等の密着性
が良く、かつ安価なポリカーボネートが好ましい。

【０１４１】次に、本発明の光記録媒体は、例えば、基
板２上に有機色素を含有する記録層３を公知の塗布方
法、例えば、ディップコート、スプレーコート、スピナ
ーコート、バーコート、ブレードコート、ロールコー
ト、カーテンコート等の方法や、蒸着、スパッタリング
等の真空成膜法を用いて所定の厚さに形成する。次い
で、記録層３上に塗布、蒸着、或いはフィルムの積層に
よって隔離層４を所定の厚さに形成し、更に隔離層４上
に記録補助層５を前述のポリマーの塗布もしくは前述の
ポリマーをフィルムとしたものを積層して形成した後、
保護基板７を接着層６を介して貼り合わせることで製造
できる。また、記録補助層５にフィルムを用いる場合、
該フィルム上に隔離層４及び記録層３を順次積層して多
層膜を形成し、図１に示す様に、この多層膜を基板もし
くは保護基板上に接着層６を用いて固定することによっ
ても製造できる。

【０１４２】接着層６としては、シリコン系常温硬化接
着剤、エポキシ系常温硬化接着剤、ホットメルト系接着
剤等の常温又は比較的低温で硬化、接着するタイプが好
ましい。

【０１４３】次に、本発明の光記録媒体を用いた情報の
記録及び再生方法について図３を用いて説明する。先
ず、情報の記録モードについて説明する。図３に於て、
１は記録・再生装置の駆動手段（不図示）で駆動されて
いる本発明に係る光記録媒体である。ホストコンピュー
ターから送られたデータはコントローラーにてパラレル
データからシリアルデータへの変換、エラー訂正符号の
付加等が行なわれた後、変調回路３１によりシリアルデ
ータはコード信号に変換される。また、光ヘッド３０は
コントローラによって光記録媒体１の記録／再生を行な
う目的のトラック上に移動させられる。そして、コード
信号に変換されたデータはレーザダイオードドライブ回
路３２によってレーザダイオード３３に送られてデータ
の変調に応じて高レベルと低レベルとの間で強度の変化
する記録用光ビームが放射される。

【０１４４】記録用光ビームは偏光ビームスプリッター
（ＰＢＳ）３４を通った後、１／４波長板（ＱＷＰ）３
５を通って円偏光に変わり、集光レンズ３６によって直
径約１μｍのスポットに集束されつつ光記録媒体１の基
板２に入射し記録層３を照射する。そして、記録用光ビ
ームの強度が高レベルにあるときは、光記録媒体の記録
層で発生した熱によって隔離層が破壊し、記録層と記録
補助層が相溶状態となって固定され、低レベルにあると
きは隔離層が破壊されない。その結果、相溶状態となっ
ている部位１０′は記録層のスペクトル特性が変化し情
報が記録され情報レコードが形成される。又このとき、
記録用光ビームの周波数と同一もしくはその近傍の領域
に吸収極大波長を示す有機色素を隔離層に含有させた場
合、高い記録感度が得られる。又、本発明に於て、記録
補助層は記録及び／又は再生光の入射方向に対して記録
層の反対側に設けるのが好ましい。

【０１４５】次に、本発明の光記録媒体に記録された情
報の再生方法について説明する。即ち、再生モードに於
ては、レーザダイオード３３の変調，制御系３１，３２
を適当に調整しレーザ出力の強度に変動を与えない。そ
して、レーザダイオードからの出力レベルは情報レコー
ドの隔離層の破壊に必要なレベルより小さい値にセット
する。そして、レーザビームは、ＰＢＳ３４、ＱＷＰ３
５、集光レンズ３６を経て、情報レコード１ａの記録層
面に基板２を介して集束される。次いで、記録層面で反
射された光は、再びＱＷＰを通って偏光面が入射光と９
０°異なりＰＢＳ３４で反射され光検出器３７に入る。

【０１４６】光検出器３７に入る光の強度は，集束ビー
ムがピット１０を有する記録層のピット部１０上を通過
することにより変化する。光検出器３７の出力はプリア
ンプ３８で増幅され、マトリックス回路３８にて再生信
号、フォーカスサーボ及びトラッキングサーボ用の信号
となる。次いで、マトリックス回路を出た再生信号はコ
ンパレータ３９にてデジタル信号に変換された後、ＰＬ
Ｌ回路でクロック信号を抽出し、このクロック信号を用
いてデータ同期検出系４０にて再生信号の同期復調を行
なう。そして、復調回路４１にて変調と逆のアルゴリズ
ムで元のデータに戻された後、光ディスクコントローラ
ーに送られ、ホストコンピューターに読み取られる。

【０１４７】このとき、再生用光ビームの波長を記録層
の非記録部の反射極大波長、もしくはその近傍に設定す
ると、記録部と非記録部との間のコントラストをより向
上させることができる。

【０１４８】又、記録用光ビームと再生用光ビームの波
長を変化させてもよく、例えば記録用光ビームの波長λ
₁ 、再生用光ビームの波長をλ₂ としたとき、記録層に
用いる有機色素として反射極大波長がλ₂ 近傍にある有
機色素を用い、隔離層に吸収極大波長がλ₁ 近傍にある
有機色素を含有させることにより、再生用光ビームの強
度を大きくすることができるため記録コントラストが向
上する。又、このとき、λ₁ とλ₂ の関係を、λ₂ ≦
λ₁ とした場合、再生光による隔離層の破壊を完全に防
止できるので好ましい。

【０１４９】以上説明した様に、本説明は有機色素から
なる記録層に隔離層を介して記録補助層を積層して構成
されているので、基板を通して比較的弱い光記録レーザ
光（例えば、スポット径３μｍ、レーザパワー３ｍＷ、
レーザ照射時間１０〜５０μｓｅｃ）を照射すると、有
機色素の極一部が熱分解するとともに、発生した熱によ
って前記有機色素からなる記録層と記録補助層の間に形
成されている隔離層が溶融し、穴が形成される。その結
果、溶融した色素分子が、該記録補助層に拡散及び／又
は記録補助層が溶融し色素層に拡散し記録補助層と色素
層との界面に色素と反応性記録層との混合状態が形成さ
れる。この結果、記録補助層内の極性基（例えば、アミ
ド基、エーテル基、カルボニル基）と色素分子の相互作
用により色素分子間の配列が変化し、記録レーザ光の照
射部で有機色素記録層の反射率の変化が生じ、記録がな
されるものである。

【０１５０】そして、本発明によれば、有機色素と記録
補助層の相互作用を利用して記録を行なうため、従来知
られている色素の熱分解および熱変形による記録ピット
の形成とは異なり、貼り合わせ構造を有する記録媒体な
どにおいて、比較的低い記録パワーでも高品質な記録ピ
ットが得られる。

【０１５１】更に、従来の有機色素と他の物質を反応さ
せて、有機色素の分子構造を破壊して光学的変化を生じ
させる記録方法と異なり、本発明は有機色素の分子構造
は変化させず有機色素と記録補助層の混合状態における
スペクトル特性の変化を記録に用いており、この混合状
態は熱的に安定なため、保存中に記録コントラストの変
化しない耐久安定性に優れた光記録媒体が得られる。

【０１５２】本発明の光記録媒体は、密着構成を有する
光記録媒体における小さな熱変形、熱分解により形成さ
れるピットの小さな反射率の低下を、有機色素−記録補
助層の相互作用により補い、大きな色素の反射率の低下
が起こり、十分な記録コントラストを得ることができ
る。

【０１５３】すなわち、本発明の光記録媒体は、従来知
られている有機色素の熱変形、熱分解が引き起こす反射
率変化に、さらに色素と記録補助層の相溶が引き起こす
反射率変化が加算され、低い記録エネルギーでも十分な
記録コントラストが得られる。

【０１５４】さらに、本発明の光記録媒体は記録層と記
録補助層の間に隔離層を設けたために、高温環境下にお
いて、記録補助層から遊離した物質が有機色素層に接触
するのを防ぐことができ、耐環境性が向上する。

【０１５５】又、本発明に於ては、光記録媒体の記録感
度を隔離層の記録用光ビームに対する感応性によって制
御でき、高感度の光記録媒体から環境安定性や再生光劣
化の少ない光記録媒体まで目的に応じたものを製造し得
る。

【０１５６】更にまた、図５に示す様に、平板状の基板
５１上に光硬化樹脂層５２を形成し、該光硬化樹脂層５
２にトラック溝等を形成する方法（２Ｐ法）によって、
形成した光記録媒体用基板は、従来耐溶剤性に優れる反
面、記録層の変形を強く抑制し、記録感度を大幅に低下
させてしまう問題点が有ったが、本発明によれば２Ｐ法
で作製した光記録媒体用基板を用いても高感度の光記録
媒体を得ることができる。

【０１５７】

【実施例】以下に実施例を示し本発明を更に詳細に説明
する。実施例１基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８５ｍｍ×５４ｍｍ
で片面に幅３μｍ、ピッチ１２μｍのトラック溝を有す
るポリメチルメタクリレートの光カード用基板を注型成
形で作成した。次に、光カード用基板のトラック溝を形
成した面に、下記構造式で表されるポリメチン系色素
（有機色素Ｎｏ．５）をグラビアコーターで厚さ１００
０Åに塗布し記録層を設けた。なお、この厚さは波長８
３０ｎｍの光に対して最大反射率を示すものである（図
６参照）。また、図７は実施例１に用いた有機色素の厚
さ１０００Åの薄膜の反射率と波長の関係を示すグラフ
である。

【０１５８】

【化４１】

【０１５９】次いで、記録補助層として厚さ３０μｍの
ポリエステル系ポリマー（商品名：ケミット２４８；東
レ（株）製）に無水フタル酸１０ｗｔ％を混合したフィ
ルムを積層した後、シリコン系接着剤（信越シリコーン
製、ＴＳＥ３０３３）を用いて、０．３ｍｍ厚のポリカ
ーボネート製保護基板を積層し、光カードを得た。

【０１６０】この光カードを光カード記録再生機（キャ
ノン（株）製）に装着し、得られた光記録媒体に記録レ
ーザパワー３ｍＷ、波長８３０ｎｍ、パルス幅２０μｓ
ｅｃ（レーザ光照射時間）、スポット径３μｍの半導体
レーザビームを基板を通して入射させ記録を行なった。
次いで、波長８３０ｎｍ、再生レーザパワー０．２ｍＷ
で記録部を再生したところ、コントラスト比［（Ｒ_１−
Ｒ_２）／Ｒ_１］は０．６と良好であった。但し、光カー
ドの搬送速度は記録時１２０ｍｍ／ｓｅｃ、再生時４８
０ｍｍ／ｓｅｃとした。又、Ｒ_１は非記録部の出力レベ
ルで、Ｒ_２は記録部の出力レベルである。また、波長
８３０ｎｍの光に対する非記録部の反射は１６％、記録
部の反射率は３％であった。

【０１６１】次に、この光カードの非記録部の記録層の
分光透過率及び、レーザビーム照射部（ピット）の分光
透過率を瞬間マルチ測光システム（商品名：ＭＣＰＤモ
デル１０００；大塚電子（株））で測定した。その結果
を図４に示す。なお図４に於て、（ａ）非記録部の記録
層の分光透過率、（ｂ）ピットの分光透過率である。ま
た、上記の光カードを温度５０℃、ＲＨ９０％の条件下
で１０００ｈｒ放置した後のコントラストを測定したと
ころ、コントラスト比の変化は初期値の１０％以内であ
った。

【０１６２】比較例１実施例１で用いた光カード基板上に厚さ１０００Åに実
施例１で用いた有機色素を塗布し、次いで光照射により
ラジカルを発生する化合物として過酸化ベンゾイル９重
量部をニトロセルロース１重量部と共にジクロロエタン
１重量部、ジアセトンアルコール２重量部の混合液に溶
解分散し、同様にグラビアコーターで塗布し、乾燥膜厚
７５０Åの過酸化ベンゾイル含有層を成膜し、次いで実
施例１と同様にして保護基板を積層し光カードを得た。
この光カードに実施例１と同様に記録を行ない再生した
ところ、ピット部の反射率は８％で、コントラスト比は
０．５であった。又ピット部の分光透過率を実施例１と
同様に測定した。その結果を図４に（ｃ）として示す。

【０１６３】また、上記の光カードを、温度５０℃、Ｒ
Ｈ９０％の条件下で光カードの耐久性を調べたところ、
耐久時間１０００ｈｒにおいて、記録ピットのサイズが
拡大してピット間隔が記録時と変化し正確な情報の再生
が不可能であった。

【０１６４】図４の（ａ）、（ｂ）より、有機色素記録
層の分光透過率（分光吸収）の波形が、記録レーザ光の
波長λ付近でシフトする様な現象として観察され、８３
０ｍｍの波長の光に対して反射率は１６％から３％に低
下する。又実施例１のピット部での現象は、図４の
（ｃ）に示す有機色素の分解による記録部の分光透過率
の波形と異なっていることから、従来の光記録媒体のピ
ット部の色素の分解とは異なった変化が生じているもの
と考えられる。

【０１６５】参考例１ガラス基板上に実施例１で用いたＮｏ．５の有機色素
と、記録補助層の材料を１：２０の割合（重量比）でジ
クロロベンゼンに溶解・分散させグラビアコーターで厚
さ１０００Åに塗布し、記録層を形成した。次いで、こ
の記録層の分光透過率の測定を行なった。なお、測定は
ガラス基板を通して行なったものである。その結果を図
４に（ｄ）として示す。

【０１６６】次に、この記録層からジアセトンアルコー
ルで有機色素を抽出した後、ガラス基板上に厚さ１００
０Åに塗布し、その分光吸収特性を測定したところ、最
大吸収波長は実施例１の記録層の非記録部の吸収極大波
長と一致し、またその分光吸収特性もほぼ一致した。こ
のことから記録補助層と有機色素の混合状態では有機色
素の分解を伴なう反応は生じていないことが分かる。

【０１６７】また、図４の（ｄ）に示した参考例１の分
光透過率の波形が実施例１のピット部の分光透過率の波
形とほぼ一致していることから、本発明の記録が、有機
色素の分解でなく、有機色素と記録補助層の拡散による
スペクトル特性の変化によるものであることが分かる。

【０１６８】実施例２基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８５ｍｍ×５４ｍｍ
で片面に幅３μｍ、ピッチ１２μｍのトラック溝を有す
るポリメチルメタクリレートの光カード用基板を注型成
形で作成した。次に、光カード用基板のトラック溝を形
成した面に、下記構造式で表されるポリメチン系色素
（有機色素Ｎｏ．５）をグラビアコーターで厚さ１００
０Åに塗布し記録層を設けた。

【０１６９】

【化４２】

【０１７０】次に、上記記録層上に、隔離層として厚み
１０００Åのポリパラキシレンの蒸着フィルムを積層
し、次いで記録補助層として厚さ３０μｍのポリエステ
ル系ポリマー（商品名：ケミット２４８；東レ（株）
製）に無水フタル酸１０ｗｔ％を混合したフィルムを積
層した後、シリコン系接着剤（信越シリコーン製、ＴＳ
Ｅ３０３３）を用いて、０．３ｍｍ厚のポリカーボネー
ト製保護基板を積層し、光カードを得た。

【０１７１】この光カードを光カード記録再生機（キャ
ノン（株）製）に装着し、得られた光記録媒体を記録レ
ーザパワー３ｍＷ、波長８３０ｎｍ、パルス幅２０μｓ
ｅｃ（レーザ光照射時間）、スポット径３μｍで記録
し、再生レーザーパワー０．２ｍＷで再生したところ、
コントラスト比は０．６と良好であった。但し、光カー
ドの搬送速度は記録時１００ｍｍ／ｓｅｃ、再生時４０
０ｍｍ／ｓｅｃとした。

【０１７２】また、上記の光カードを、温度５０℃、Ｒ
Ｈ９０％の条件下で光カードの耐久性を調べたところ、
耐久時間１０００ｈｒにおいてもコントラスト比の変化
は初期値の５％以内であった。

【０１７３】比較例２実施例１の光カードに於いて、記録補助層を除き接着層
としてエチレン−酢酸ビニル系ホットメルトフィルム
（ヒロダイン７５８０；ヒロダイン（株）製）を用いた
以外は実施例１と同様にして光カードを作製した。この
光カードを用いて実施例１と同様にして記録・再生を行
なったところ、コントラスト比は０．３であった。更
に、耐久試験後のコントラスト比の変化率は最大２０％
であった。

【０１７４】実施例３実施例２の記録補助層にポリエステル系ポリマーＰＨ４
１３（日本マタイ製）に無水マレイン酸を１０ｗｔ％混
合したフィルムを用いても実施例１と同等の感度を有す
る光記録媒体を得ることができた。

【０１７５】実施例４実施例２の光カードの記録補助層にポリアミド系ポリマ
ー：ダイアミド（ダイセル化学製）に無水フタル酸を５
ｗｔ％混合したフィルムを用いて作製した光記録媒体
に、実施例２と同様な方法で記録しても、記録コントラ
ストが０．７の高感度な結果を得ることができた。

【０１７６】実施例５実施例２の光カードの記録補助層にエポキシ系ポリマー
ＰＨＥ４１１（日本マタイ製）にフタル酸５ｗｔ％添加
したフィルムを用い、実施例２と同様な方法で記録する
と、記録コントラストが０．５の高感度な光記録媒体を
得ることができた。

【０１７７】実施例６実施例２の隔離層を厚み５００Åのポリスチレンフィル
ムに変えても実施例２と同等な光記録媒体が得られた。

【０１７８】実施例７実施例６の光カードに於いて、隔離層として、ポリスチ
レンに記録層に用いたＮｏ．５の有機色素を２ｗｔ％を
添加し、メチルエチルケトンに１ｗｔ％溶解分散させ、
記録層上にスピンコートで厚さ５００Åに塗布した以外
は、実施例６と同様にして光カードを作製した。

【０１７９】この光カードを実施例２の記録・再生条件
に於て、記録速度１２０ｍｍ／ｓｅｃ、再生速度４８０
ｍｍ／ｓｅｃとした以外は同じ条件でコントラスト比
０．７が得られた。又耐久後のコントラスト比の変化率
は１０％以内であった。

【０１８０】実施例８図５に示す様に、基板として厚さ０．４ｍｍ、大きさ８
５ｍｍ×５４ｍｍのポリカーボネート樹脂製基板５１上
に、下記の組成から成る紫外線硬化樹脂５２を厚さ４０
μｍに塗布した。次いで、溝幅３μｍ、ピッチ１２μ
ｍ、溝深さ３０００Åの光カード用トラック溝に対応す
るパターンを有するスタンパーを、該紫外線硬化樹脂層
に密着させ、紫外線（２ＫＷ高圧水銀ランプ、３００ｍ
Ｗ／ｃｍ²）を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた
後、スタンパーを剥離して光カード用基板２を得た。

【０１８１】紫外線硬化樹脂の組成ウレタンアクリレート３０重量部ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート６７重量部１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン３重量部

【０１８２】次に、この光カード用基板に実施例２と同
様にして記録層、隔離層、記録補助層及び保護基板を積
層して光カードを形成した。この光カードに実施例２と
同様にして記録・再生を行なったところ、コントラスト
比は０．５と良好な値を示した。

【０１８３】比較例３実施例８に於て、隔離層及び記録補助層を除いた光カー
ドを作製し、実施例８と同様にして記録・再生を行なっ
たところ、コントラスト比は０．１で光カードとして実
用にならなかった。

【０１８４】実施例９実施例１で用いた記録補助層の上に吸収極大波長を８６
０ｎｍに有する下式に示す有機色素を０．０５ｗｔ％、
ホルムアミド１ｗｔ％、酢酸セルロース１ｗｔ、アセト
ン９７．８ｗｔ％の溶液を塗布して、厚さ１０００Åの
隔離層を形成した。次いで、記録層として反射極大波長
を７８０ｎｍに有するＮｏ．４０の有機色素のジクロロ
エタン３ｗｔ％溶液を実施例８で作製した基板上に塗布
して厚さ６００Åの記録層を形成した。

【０１８５】

【化４３】

【０１８６】次に、記録層と隔離層が接する様に重ね合
せた後、ゴム系ホットメルト接着剤（商品名：メルトロ
ン３Ｓ４２；ダイアボンド工業（株）製）を介して記録
補助層に保護基板を積層して光カードを作製した。

【０１８７】この光カードを光カード記録・再生装置に
装着し、搬送速度１２０ｍｍ／ｓｅｃで波長７８０ｎ
ｍ、レーザーパワー３ｍＷ、パルス幅２０μｓｅｃ、ス
ポット径３μｍで記録を行ない、次いで、搬送速度４８
０ｍｍ／ｓｅｃ、波長８３０ｎｍ、レーザーパワー０．
３ｍＷで再生したところ、コントラスト比は０．６と良
好で、耐久試験後のコントラストの変化は殆んど見られ
なかった。

【０１８８】実施例１０〜１３実施例８の光カードに於て、有機色素層、隔離層及び記
録補助層として表１に示す材料を用いた以外は実施例２
と同様に光カードを作製した。この光カードについて、
実施例２と同一の条件にて記録及び再生を行なってコン
トラスト比を測定し、また耐久試験後のコントラストの
変化について測定した。以上の結果を表２に示す。

【０１８９】比較例４〜７実施例１０〜１３に於て、記録補助層及び隔離層を省略
した光カードを各々作製し、上記実施例１０〜１３と同
様にして光カードを作製し、コントラスト比、及び耐久
試験後のコントラスト比の変化について測定した。その
結果についても表３に示した。

【０１９０】

【表１２】

【０１９１】

【表１３】

【０１９２】実施例１４厚さ１．２ｍｍ、外径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍで、一
方の表面に幅０．６μｍ、ピッチ１．６μｍ、深さ１１
００Åのスパイラル状のトラック溝を有するガラス製光
ディスク用基板をリアクティブ・イオン・エッチング法
を用いて作製した。この光ディスク用基板のトラック溝
形成面にＮｏ．５の有機色素のジクロロメタンの４ｗｔ
％溶液をスピンコーターで塗布して厚さ１０００Åの記
録層を形成した。

【０１９３】次いで、記録層上に隔離層として１００Å
のポリスチレンを塗布し、更に記録補助層として、ナイ
ロンにフタル酸を１０ｗｔ％混合した厚さ３０μｍのフ
ィルムを積層し、その上にゴム系ホットメルト接着剤
（商品名：メルトロン３Ｓ４９；ダイアボンド工業
（株）製）を介して厚さ１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍの
ガラス製保護基板を接着し、光ディスクを作製した。

【０１９４】この光ディスクを光ディスク評価装置（商
品名：ＯＭＳ−１０００；ナカミチ（株）製）に装着
し、波長８３０ｎｍ、ビーム径１．６μｍ、パワー８．
０ｍＷの記録用光ビームを用い、光ディスクを線速度７
ｍ／ｓｅｃで回転させて記録パルス巾０．２μｓで情報
の記録を行なった。なお、記録用光ビームは透明基板を
通る様に入射させた。

【０１９５】波長８３０ｎｍ、ビーム径１．６μｍ、パ
ワー０．５ｍＷの再生用光ビームを透明基板を通過する
様に入射させて情報の再生を行ない、記録コントラスト
を測定した。更にまた、この光ディスクを温度５０℃、
ＲＨ９０％の条件下で、１０００ｈｒ放置した後の再生
信号（ＲＦ出力）の変化を測定した。

【０１９６】比較例８実施例１４に於て隔離層及び記録補助層を除いた光ディ
スクを作製し、実施例１４と同一の条件で記録及び再生
を行ないコントラストを測定し、耐久後の変化も測定し
た。以上の結果を表４に示す。

【０１９７】

【表１４】

【０１９８】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、密
着構成を有する光記録媒体における小さな熱変形、熱分
解により形成されるピットの小さな反射率の低下を、有
機色素−記録補助層の相互作用により補い、大きな色素
の反射率の低下が起こり、比較的低い記録パワーでも高
品質な記録ピットが得られ、十分な記録コントラストを
得ることができる。

【０１９９】更に、本発明は有機色素の分子構造は変化
させず有機色素と記録補助層の混合状態におけるスペク
トル特性の変化を記録に用いており、この混合状態は熱
的に安定なため、保存中に記録コントラストの変化しな
い耐久安定性に優れた光記録媒体への記録を行うことが
できる。

【０２００】さらに、本発明によれば、光記録媒体の記
録層と記録補助層の間に隔離層を設けたために、高温環
境下において、記録補助層から遊離した物質が有機色素
層に接触するのを防ぐことができ、耐環境性が向上す
る。

【０２０１】また、本発明によれば、上記の光記録媒体
に優れたＳ／Ｎ比を示す記録を行なうことができ、さら
にコントラストの優れた再生を行なうことのできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体を示す概略断面図である。

【図２】本発明の光記録媒体の記録部の模式図断面図で
ある。

【図３】本発明の光記録媒体の記録・再生システムの概
略図である。

【図４】記録層の非記録部、従来の光記録媒体の記録
部、本発明による記録部の分光透過率を示すグラフであ
る。

【図５】本発明の光記録媒体の他の実施態様を示す概略
断面図である。

【図６】波長８３０ｎｍの光に対する実施例１に用いた
有機色素薄膜の反射率の膜厚依存性を示すグラフであ
る。

【図７】実施例１に用いた有機色素の厚さ１０００Åの
薄膜の反射率と波長の関係を示すグラフである。

【符号の説明】

１光記録媒体２基板３記録層４隔離層５記録補助層６接着層７保護基板８多層膜９記録用光ビーム１０ピット１１ハードコート層５１平板状の基板５２光硬化樹脂層

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板、第１の波長の光に対して吸収極大
を示す有機色素を含んでいる記録層、及び極性基を有す
る低分子化合物とポリマーを含み、且つ該基板上に積層
されている記録補助層を具備している光記録媒体を用意
する工程；及び該光記録媒体に記録用光ビームを照射し
て、該記録補助層と該有機色素とが相溶した状態を含
み、該第１の波長よりも短波長側の光に対して吸収極大
を示すピットを形成する工程、を有することを特徴とす
る情報の光記録方法。
【請求項２】該光記録媒体は、該記録層と該記録補助
層とが隔離層を挟んで積層されている構成を有するもの
であり、該記録用光ビームは該隔離層を破壊して該記録
層中の有機色素と該記録補助層とが相互作用して相溶状
態を形成させるに十分な強度を有するものである請求項
１記載の光記録方法。
【請求項３】該低分子化合物がマレイン酸、無水マレ
イン酸、フタル酸、無水フタル酸、テレフタル酸エステ
ルまたは脂肪酸エステルである請求項１または２記載の
光記録方法。
【請求項４】該有機色素がカチオン性色素である請求
項１乃至３のいずれかの項に記載の光記録方法。
【請求項５】該カチオン性色素が下記一般式（Ｉ）で
示されるポリメチン系色素である請求項４の光記録方
法。【化１】（式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子、置換もしくは未
置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル
基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換もしくは
未置換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル基
及び置換もしくは未置換の複素環基から選ばれる基を示
す。ｒ_１′，ｒ_２′は水素原子、置換もしくは未置換の
アルキル基、置換もしくは未置換の環式アルキル基、置
換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換
のアラルキル基及び置換もしくは未置換のアリール基か
ら選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，１又は２
で、Ｘ⁻はアニオンを意味する。）
【請求項６】該有機色素が下記一般式（ＩＩ）、（ＩＩ
Ｉ）または（ＩＶ）で示される請求項１記載の光記録方
法。【化２】【化３】【化４】（式中、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ及びＸ⁻は請求項５の記載と同
義であり、ｒ_１〜ｒ_５は水素原子、ハロゲン原子、置換
もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換の
アリール基を示す。Ｙは置換もしくは未置換の５員環又
は６員環を完成するに必要な原子群を有する２価の有機
残基を示す。Ｚ⁻は【化５】を示す。ｍ，ｎは０，１又は２である。）
【請求項７】該有機色素が下記一般式（Ｖ），（Ｖ
Ｉ）または（ＶＩＩ）で示される請求項１記載の光記録
方法。【化６】【化７】【化８】（式中、Ｒ_１〜Ｒ_７は水素原子、ハロゲン原子又は１価
の有機残基を示し、Ｒ_１〜Ｒ_７は結合して置換または未
置換の縮合環を形成してもよい。Ｘ⁻はアニオンを示
し、Ｆは２価の有機残基を示す。）
【請求項８】該有機色素が下記一般式（ＶＩＩＩ）、
（ＩＸ）、（Ｘ）または（ＸＩ）で示される請求項１記
載の光記録方法。【化９】【化１０】【化１１】【化１２】（式中、Ｌ_１，Ｌ_２は硫黄原子、酸素原子、セレン原子
又はテルル原子を示し、Ｚ_１は置換されてもよいピリリ
ウム系骨格を形成するに必要な原子群、Ｚ_２は置換さ
れてもよいピラン系骨格を形成するに必要な原子群を示
す。Ｒ_１５はアリール基または置換もしくは未置換の複
素環基を示す。_１Ｍ_２は含窒素複素環を完成するに必要
な非金属原子群を示す。ｒ_１′〜ｒ_７′は請求項５記載
のｒ_１′と同義で、Ｘ⁻，Ｚ⁻，Ｙ，ｒ_１はそれぞれ請
求項６記載のＸ⁻，Ｚ⁻，Ｙ，ｒ_１と同義であり、ｋお
よびｓは０又は１、Ｌおよびｎは０，１又は２であ
る。）
【請求項９】基板、第１の波長の光に対して吸収極大
を示す有機色素を含んでいる記録層、及び極性基を有す
る低分子化合物とポリマーを含み、且つ該基板上に積層
されている記録補助層を具備し、該記録補助層と該有機
色素とが相溶した状態を含み、該第１の波長よりも短波
長側の光に対して吸収極大を示すピットによって情報が
記録されている情報レコードを用意する工程；及び該情
報レコードに再生光を照射して該ピットにおけるスペク
トル特性の周囲との変化を検出して該情報を再生する工
程、とを有することを特徴とする情報の再生方法。
【請求項１０】該情報レコードは、該記録層と該記録
補助層とが隔離層を挟んで積層されている構造を有し、
該隔離層は該ピットにおいて破壊されて該記録層中の有
機色素と記録補助層とが相溶した状態を形成している請
求項９記載の再生方法。
【請求項１１】該再生光が該ピットにおけるスペクト
ル特性の周囲との変化を検出するに十分であって、且つ
非ピット部における該隔離層を破壊するに不十分な強度
を有する請求項９記載の再生方法。