JP2934186B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
特に、多層の塗布膜を支持体上に形成するに好適な押し
出し型の塗布装置(エクストルージョンダイ;以降ダイ
と称する)に用いて好適な塗布方法に関する。
て、走行する支持体に多層の塗布液を押し出して多層塗
布膜を上記支持体上に形成する技術が知られている(特
開昭63-88080及び特開平2-251265の各公報に記載の発
明)。
ップと、2以上の下流側リップと、上記各リップ間に形
成されて塗布液を押し出し可能な複数のスロット部とを
備えて塗布装置が構成され、上流側リップから下流側リ
ップの方向へ走行する支持体上に上記各スロット部から
同一もしくは異なった成分構成の塗布液が押し出される
ようになっている。これにより、上流側のスロット部に
おいて支持体に塗着された塗布液上に、下流側のスロッ
ト部から他の塗布液が重なって塗着されて、多層構造の
塗布膜が支持体上に形成される。
した塗布装置1の断面図であり、上流側リップ2、第1
下流側リップ3及び第2下流側リップ4を備え、上流側
リップ2と第1下流側リップ3との間に第1スロット部
5が、第1下流側リップ3と第2下流側リップ4との間
に第2スロット部6がそれぞれ設けられる。第1スロッ
ト部5から下層塗布液7が押し出され、第2スロット部
6から上層塗布液8が押し出されて、支持体としてのウ
エブ9上に、下層塗布膜10A及び上層塗布膜10Bの
2層構造の塗布膜10が形成される。
だ適当に用いただけでは良好な塗布膜は得られない。あ
る場合は、塗布方向に沿った等ピッチのスジムラが発生
したり、またある場合は、やはり塗布方向に沿った比較
的幅の大きな濃淡のスジムラを生じる。
従来技術の多くは、リップ先端(塗布作業面)形状、特
にウエブ側に凸に湾曲したリップの曲率に関するもので
あった。特開昭63-88080では、下流側リップの曲率半径
の差を一定範囲内に収めることにより良好な塗布が可能
としており、リップ間段差については-300〜+300μm の
間で任意に設定されるとしている。然しながら、特開昭
63-88080の各実施例に示される塗布条件(塗布膜厚な
ど)では、リップ間段差は実際もっと小さな値におさめ
られなければならない。
下流リップ間段差を調整し、第1下流側リップ3の塗布
作業面(リップ面)11における下流端aとウエブ9と
の隙間をGとし、第1スロット部5から押し出されて形
成された未乾燥状態の下層塗布膜10Aの膜厚をhとす
ると、 h/G>0.5 、 h/G<0.4 の場合に、塗布膜10に塗布むらが発生することがあ
る。
(A)に示すように、下層塗布液7と上層塗布液8との
境界の界面12のダイ幅方向における少なくとも一部
が、第1下流側リップ3の上記下流端aから矢印A方向
に離れて、塗布膜10に塗布幅方向に発達したメニスカ
スむらが生ずることがある。
に示すように、下層塗布液7と上層塗布液8との界面2
1が部分的に、第1下流側リップ3の上記下流端aから
矢印B方向に離れ、塗布方向に沿った比較的幅の大きな
濃淡のスジムラや、まだら状塗布ムラを生じる。尚、図
5中の符号fは未乾燥状態の上層塗布膜10Bの膜厚を
示す。
されたものであり、塗布むらの発生を防止して、品質の
良好な多層構造の塗布膜を得ることができる塗布方法を
提供することにある。
は、上流側リップと、少なくとも2つの下流側リップ
と、上記各リップ間に形成されて塗布液を押し出し可能
とするスロット部とを備えてなる押し出し型の塗布装置
を用い、上記上流側リップ及び上記下流側リップに対向
して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法に
おいて、上記それぞれの下流側リップには上記支持体に
対向して上記塗布液に接する塗布作業面が形成され、上
記下流リップのうち最も下流側のリップを除く各々の下
流側リップの塗布作業面下流端と上記支持体との隙間を
Gとし、このGが設定された塗布作業面と該支持体との
間に挟まれた塗布液が塗布装置から離反して形成された
未乾燥状態の塗布膜厚みをhとすると、 0.4< h/G≦0.
5に設定されたものである。
の発明において、支持体走行方向の上流に位置する下流
側リップの塗布作業面下流端と、上記下流側リップに隣
接して上記支持体走行方向の下流に位置する下流側リッ
プの塗布作業面上流端との段差を変更して、上記支持体
の位置を変位させ、h/Gを変更させるようにしたもの
である。
の発明において、支持体走行方向の上流に位置する下流
側リップの塗布作業面下流部に切欠を形成して、この切
欠高さの調整によりh/Gを変更させるようにしたもの
である。
の作用がある。支持体走行方向上流側に位置する下流側
リップの塗布作業面の下流端と、支持体との隙間Gと、
支持体走行方向上流側に位置する下流側リップよりも上
流側に存在するスロット部から押し出されて形成された
未乾燥状態の塗布膜の膜厚hとの比 h/Gが、0.4 < h/G≦0.5 なる関係に設定されたので、支持体に塗布される多層構
造の塗布膜の各層の境界(界面)が安定し、塗布膜に塗
布幅方向に発達した各種塗布むらの発生を防止でき、こ
の結果、品質の良好な多層構造の塗布膜を得ることがで
きる。
に基づいて説明する。 (第1の実施の形態) 図1は、本発明に係る塗布方法に用いられる塗布装置の
第1の実施の形態が適用されたダイヘッドを示す概略断
面図である。図2は、図1のII部を拡大して示す概略
断面図である。図3は、図1のダイヘッドにおける塗布
状態を示す断面図である。図1及び図2に示す塗布装置
20はエクストルージョン型塗布装置であり、連続的に
走行する支持体に塗布膜を塗布して、多層状態の塗布膜
を形成するものである。ここで、支持体としてはプラス
チック、紙、布或いは金属等の可撓性シート又はウエブ
である。また、塗布液としては磁性分散液、感光液、感
熱分散液或いは粘着液であり、それぞれ磁気記録媒体、
写真フィルム、感熱紙(熱転写型インクリボンを含む)
或いは粘着テープを製造するものである。この実施例で
は、支持体としてウエブ21を用いる。また、塗布液と
しては、成分構成が異なる下層用塗料22Aと上層用塗
料22Bを用いる。
第1下流側ブロック23B及び第2下流側ブロック23
Cからなるダイヘッド23を有し、このダイヘッド23
の先端には、ウエブ21の走行方向に順次上流側リップ
24、第1下流側リップ25及び第2下流側リップ26
がそれぞれ形成される。上流側リップ24は上流側ブロ
ック23Aの先端に、第1下流側リップ25は第1下流
側ブロック23Bの先端に、第2下流側リップ26は第
2下流側ブロック23Cの先端にそれぞれ形成される。
5間に第1スロット部27が形成され、この第1スロッ
ト部27が第1液チャンバ部28に連通される。また、
第1下流側リップ25と第2下流側リップ26間に第2
スロット部29が形成され、この第2スロット部29が
第2液チャンバ部30に連通される。
及び第2下流側リップ26は、ウエブ21の幅とほぼ同
一幅に設定される。また、第1スロット部27及び第1
液チャンバ部28は、上流側リップ24及び第1下流側
リップ25の全幅方向に延在して構成される。第2スロ
ット部29及び第2液チャンバ部30も、第1下流側リ
ップ25及び第2下流側リップ26の全幅方向に延在し
て構成される。
に接続され、この第1液供給系31からの下層用塗料2
2Aを、塗布幅方向において塗布量が一定となるよう分
配させ、第1スロット部27へ供給する。第2液チャン
バ部30は、第2液供給系32に接続され、この第2液
供給系32からの上層用塗料22Bを、塗布幅方向に塗
布量が一定となるよう分散させ、第2スロット部29へ
供給する。
ローラ等に案内されて、上記上流側リップ24、第1下
流側リップ25及び第2下流側リップ26に対向し、背
面が支持されることなく走行する。図3に示すように、
この走行するウエブ21に、塗布装置20の第1スロッ
ト部27から下層用塗料22Aが、第2スロット部29
から上層用塗料22Bが順次連続的に押し出されて塗布
され、ウエブ21に塗着された下層用塗料22A上に上
層用塗料22Bが塗着されて、ウエブ21の幅方向に均
一な多層状態の塗布膜33(下層塗布膜33A、上層塗
布膜33B)が形成される。下層塗布膜33Aは下層用
塗料22Aにより形成され、上層塗布膜33Bは上層用
塗料22Bにより形成される。
ップ26のそれぞれの先端部で、ウエブ21に対向し下
層用塗料22A、22Bにそれぞれ接する面は、塗布に
寄与する塗布作業面(リップ面)34、35である。こ
れらの塗布作業面34及び35は、ウエブ21側に凸に
湾曲した面、もしくは平面状に形成される。
25の塗布作業面34における下流端Xとウエブ21と
の隙間をGとし、スロット部27から押し出されて形成
された未乾燥状態の下層塗布膜33Aの膜厚をhとする
と、上記隙間Gと膜厚hとの比 h/Gは、0.4 < h/G≦0.5 …式 に設定されている。
膜厚hは、第1スロット部27からの下層用塗料22A
の押出流量、ウエブ21の走行速度及びウエブ21の幅
によって決定される。即ち、単一時間における液の吐出
量をQ、ウエブ速度をU、塗布幅をWとしたとき、h=
Q/(U・W)によって表され、製品の種類に応じた所
望の値に設定されている。そこで、本実施の形態では、
h/Gの調整は、第2下流側リップ26をウエブ21に接
近或いは離反する方向Yに移動させて、第1下流側リッ
プ25の塗布作業面34における下流端Xと第2下流側
リップ26の塗布作業面35における上流端との距離
(段差d)を変更し、ウエブ21の位置を変位させて、
上記隙間Gを変更することによってなされる。尚、図3
中の符号fは未乾燥状態の上層塗布膜33Bの膜厚を示
す。
び第2下流側リップ26の塗布作業面35が円弧面であ
るとき(更に、第1下流側リップ25の塗布作業面34
及び第2下流側リップ26の塗布作業面35の円弧面の
曲率半径R1 、R2 がそれぞれ11mm、31mmであり、塗布
膜厚が上層0.3 μm 、下層1.2 μm 、塗工速度が100m
/min であるとき)には、表1に示すように、段差dが
0 μm 、1 μm 或いは3 μmの場合に、 h/Gが0.44〜0.
50の範囲に設定されて、下層用塗料22Aと上層用塗料
22Bとの界面36が安定化し、塗布膜33に塗布幅方
向に発達した塗布むらが発生しないことがわかる。表1
では、段差dのマイナスは、第2下流側リップ26の塗
布作業面35が第1下流側リップ25の塗布作業面34
よりもウエブ21側へ突き出ていることを示す。
6を第1か竜側リップ25に対しウエブ21に接近或い
は離反する方向Yに移動させることによって、第1下流
側リップ25の塗布作業面34の下流端Xと第2下流側
リップ26の塗布作業面35における上流端との段差d
を変更させ、これによりウエブ21を変位させて、第1
下流側リップ25の塗布作業面34の下流端Xとウエブ
21との隙間Gと、第1スロット部27から押し出され
て形成された未乾燥状態の下層塗布膜33Aの膜厚hと
の比 h/Gが、0.4 < h/G≦0/5 なる関係に設定されたので、ウエブ21に塗着される多
層構造の塗布膜33の下層塗布膜33Aと上層塗布膜3
3Bとの境界(界面36)が安定化して、図8に示すよ
うに、塗布膜33に塗布むらを発生させることを防止で
き、この結果、品質の良好な多層構造の塗布膜33を得
ることができる。
第2の実施の形態が適用されたダイヘッドにおける塗布
状態を示す断面図である。この第2の実施の形態におい
て前記第1の実施の形態と同様な部分は、同一の符号を
付すことにより説明を省略する。
0は、ダイヘッド44における第2下流側リップ26を
ウエブ21側へ接近或いは離反する方向Yへ移動させ
ず、第1下流側リップ41の塗布作業面42における下
流部に切欠43を形成したものである。通常この切欠4
3の切欠角度θ1 は45度以下に設定される。この切欠4
3の切欠高さeを変更することにより、第1下流側リッ
プ41の塗布作業面42における下流端Xとウエブ21
との隙間Gを直接変更して、 h/Gの値を調整する。
の第1下流側リップ41の塗布作業面42における下流
端Xと第2下流側リップ26の塗布作業面35における
上流端との段差dを 5μmとしたとき、更に、第1下流
側リップ41の塗布作業面42及び第2下流側リップ2
6の塗布作業面35の円弧面の曲率半径R1 、R2 がそ
れぞれ11mm、31mmであり、塗布膜厚が上層0.3 μm 、下
層1.2 μm 、塗工速度が100 m /min であり、更に、切
欠面43と塗布作業面42の交点をZとし、この交点Z
と下流端Xとのウエブ投影距離Jを100 μmとしたとき
の切欠高さeとh/Gとの関係を示している。切欠43の
切欠高さeが1.0 μm、2.0 μm、3.0μm、4.0 μm
或いは5.0 μmのときに、 h/Gが0.40〜0.51の範囲に設
定され、下層塗布膜33Aと上層塗布膜33Bとの界面
36が安定して、塗布膜33に塗布幅方向に発達した塗
布むらを発生しないことがわかる。切欠43がないとき
(切欠高さeが0.0 μm のとき)や切欠高さeが 1.0μ
mの時にはメニスカスむらが発生している。また切欠高
さeが 6μm、 7μm、 8μmの時、塗布方向に沿った
太いスジムラが発生している。
リップ41の塗布作業面42の下流端Xとウエブ21と
の隙間Gと、第1スロット部27から押し出されて形成
された未乾燥状態の下層塗布膜33Aの膜厚hとの比 h
/Gとが0.4 < h/G≦0.5 なる関係に設定されたので、図8に示すように、塗布膜
33にメニスカスむらを発生させることを防止でき、品
質の良好な多層構造の塗布膜を得ることができる。
側リップ25、41の下流端部xとウエブ21との距離
Gは、図7に示すようにレーザ変位計50により計測す
ることができる。即ち、塗布液22A、22Bがダイヘ
ッド23、44より吐出されず且つ、ウエブ21がダイ
リップ24、25、41、26を被覆していない状態で
の第1下流側リップ25、41の下流端部xまでの距離
と、通常の塗布が行なわれている状態でのウエブ21ま
での距離を据えることにより、既知であるウエブ21の
厚みと合わせ、第1下流側リップ25、41の下流端部
xとウエブ21との距離Gを知ることができる。
2層の場合を述べたが、3層以上の塗布膜を形成する塗
布装置でも本発明の塗布方法が適用できる。
よれば、メニスカスむらの発生を防止して品質の良好な
多層構造の塗布膜を得ることができる。
布装置の第1の実施の形態が適用されたダイヘッドを示
す概略断面図である。
図である。
示す断面図である。
布装置の第2の実施の形態が適用されたダイヘッドにお
ける塗布状態を示す断面図である。
におけるダイヘッドを示す断面図である。
おける塗布状態を示す断面図である。
る下流端とウエブとの隙間を計測する計測状態を示す図
である。
である。
Claims (3)
- 【請求項1】 上流側リップと、少なくとも2つの下流
側リップと、上記各リップ間に形成されて塗布液を押し
出し可能とするスロット部とを備えてなる押し出し型の
塗布装置を用い、上記上流側リップ及び上記下流側リッ
プに対向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗
布方法において、 上記それぞれの下流側リップには上記支持体に対向して
上記塗布液に接する塗布作業面が形成され、上記下流リ
ップのうち最も下流側のリップを除く各々の下流側リッ
プの塗布作業面下流端と上記支持体との隙間をGとし、
このGが設定された塗布作業面と該支持体との間に挟ま
れた塗布液が塗布装置から離反して形成された未乾燥状
態の塗布膜厚みをhとすると、 0.4< h/G≦0.5に設定
されたことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項2】 支持体走行方向の上流に位置する下流側
リップの塗布作業面下流端と、上記下流側リップに隣接
して上記支持体走行方向の下流に位置する下流側リップ
の塗布作業面上流端との段差を変更して、上記支持体の
位置を変位させ、 h/Gを変更させるようにした請求項1
に記載の塗布方法。 - 【請求項3】 支持体走行方向の上流に位置する下流側
リップの塗布作業面下流部に切欠を形成して、この切欠
高さの調整により h/Gを変更させるようにした請求項1
に記載の塗布方法。
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