JP2903892B2 - 電界効果トランジスタの製造方法 - Google Patents
電界効果トランジスタの製造方法Info
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Description
界効果トランジスタの製造方法に関するものである。
成されたシリコンなどからなる半導体薄膜の表面をチャ
ネルとするMOS電界効果トランジスタ(以下、SOI
MOSFETという)はシリコン基板表面をチャネルと
するバルクMOSFETに比べて、短チャネル効果に強
く、スイッチング速度が速くなるなどの利点がある。
薄膜(以下、基板という)に電極を接続して基板電位を
固定することが難しいので、通常、浮遊電位のまま動作
させている。そのため基板に少数キャリアが蓄積すると
基板電位が変動し、その結果MOSFETの特性が変化
するという欠点がある。
ンパクトイオン化を抑制するため、高濃度ドレインに隣
接して低濃度ドレインを形成するLDD構造を適用した
り、発生した少数キャリアをソース領域に引き込んで、
再結合によって消滅させる再結合中心となる金属をソー
ス領域に導入して、この浮遊基板効果を抑制している。
浮遊基板効果を抑制するため、LDD構造にすると低濃
度ドレインの抵抗成分のためMOSFETの電流駆動能
力が低下する。そのため本来のSOIMOSFETの利
点である速いスイッチ速度を遅くしてしまうという問題
がある。
少数キャリアをソースに引き抜こうとしても、少数キャ
リアの発生はドレイン端で生じるのでソースに到達する
までに少数キャリアの一部が基板に蓄積する。MOSF
ET特性の変動は小さくなっても残ってしまうという問
題がある。これらの問題はSOIMOSFETにおいて
は基板電極を形成することが困難であることから生じ
る。
領域を設けた分だけチップ面積が増えてしまうという問
題が生じる。
なく基板電極を形成すると同時にスイッチ速度の高速化
を実現した電界効果トランジスタの製造方法を提供する
ことにある。
ジスタの製造方法は、絶縁物の上に形成された一導電型
半導体薄膜を選択酸化して素子分離酸化膜を形成する工
程と、前記素子分離酸化膜に囲まれて残された前記半導
体薄膜の表面にゲート絶縁膜を形成したのち、全面にポ
リシリコンを堆積する工程と、前記ポリシリコンおよび
前記ゲート絶縁膜をパターニングして、前記半導体膜表
面に達する第1のコンタクト開口を有する前記ポリシリ
コンからなるゲート電極を形成する工程と、逆導電型不
純物をイオン注入して前記ゲート電極両側の直下にソー
ス・ドレイン層を形成する工程と、全面に層間絶縁膜を
堆積したのち前記第1のコンタクト開口の内側に第2の
コンタクト開口を形成する工程と、一導電型不純物をイ
オン注入して前記第2のコンタクト開口の前記半導体薄
膜にオーミック層を形成する工程と、前記オーミック層
に接する前記層間絶縁膜をエッチングして前記第2のコ
ンタクト開口を少なくとも前記第1のコンタクト開口ま
で拡げる工程と、前記第1のコンタクト開口を被って前
記ポリシリコンからなるゲート電極と前記オーミック層
とを接続する金属配線を形成する工程とを含むものであ
る。
ト電圧との関係を図3に示す。基板にゲート電圧と同一
極性の1Vを印加すると、破線に示すようにMOSFE
Tのしきい値電圧が下がってドレイン電流が増大すると
同時に、ゲート電圧0Vのオフ時のリーク電流が増大す
る。
絡)すると実線に示すように変る。ゲート電圧0Vにお
ける漏れ電流は十分に小さいうえ、ドレイン電流に対す
るゲート電圧特性の勾配が急峻になるのでFETのON
(オン)状態とOFF(オフ)状態との区別がより明確
になる。さらにFETがオン状態のときのドレイン電流
が増大してスイッチング特性が向上する。
を形成してゲート電極と接続することができる。その結
果、SOIMOSFETの問題点である浮遊基板効果を
抑制するとともに、FETの高速化が可能になる。
(g)を参照して工程順に説明する。
の断面図である図2(b)に示すように、P型シリコン
からなる下地ウェーハ1に酸化シリコン膜2で絶縁分離
されたP型シリコン層3が形成されている、P型SOI
基板を用いる。SOI基板は酸素イオン注入によるSI
MOX(Separation by Implant
ed Oxygen)または、レーザ、電子ビームやラ
ンプアニールによって再結晶するZMR(Zone M
elting Recrystallization)
などで形成される。つぎに選択酸化法により素子分離用
酸化膜4を形成して素子領域となるP型シリコン層3を
絶縁分離する。このとき図2(a)に示すように、ゲー
ト電極のコンタクト予定領域までP型シリコン層3を残
して凸型にしたことに特徴がある。
断面図である図2(d)に示すように、ゲート酸化膜5
を形成したのちしきい値電圧を調整するためボロン(硼
素)をイオン注入する。つぎに燐をドープしたポリシリ
コンを形成してからパターニングしてゲート電極6を形
成する。ポリシリコンをパターニングするとき、同時に
ゲート電極6にコンタクト11を開口する。
断面図である図2(f)に示すように、砒素をイオン注
入してN+ 型ソース・ドレイン拡散層7を形成する。つ
ぎに全面に厚さ0.4μmの層間絶縁膜8を堆積したの
ち、レジスト(図示せず)をマスクとしてエッチングし
てコンタクト12を開口する。このときコンタクト12
はゲート電極6と同時にパターニングしたコンタクト1
1よりもひとまわり小さくして、コンタクト12の側面
に層間絶縁膜8からなる厚さ約0.1μmの側壁が残る
ようにする。このあとボロンをイオン注入したとき、ゲ
ート電極6にボロンが侵入しないようにするためであ
る。
断面図である図2(h)に示すように、ボロンをイオン
注入したのちアニールして基板電極予定領域にP+ 型オ
ーミック拡散層9を形成する。つぎにコンタクト12の
側面に残っている層間絶縁膜8などからなる絶縁膜をエ
ッチングする。
断面図である図1(b)に示すように、スパッタ法によ
り全面にAl(アルミニウム)系合金を堆積したのち、
パターニングしてAl配線10を形成して素子部が完成
する。
説明したが、本発明はNチャネルに限定されることなく
極性を変えることによりPチャネルのFETにも適用す
ることができる。さらにNチャネルおよびPチャネルの
FETが共存するCMOS集積回路に適用しても同様の
効果を得ることができる。
り、チップ面積を増やすことなくSOIMOSFETの
問題点である浮遊基板効果を抑制することができる。さ
らにFETのオン状態とオフ状態との区別が明確にな
り、オン状態のドレイン電流が増加して、FETの高速
動作が可能になった。
自己整合的に基板コンタクト領域の不純物濃度を上げ
て、コンタクト抵抗を低減することができる。
る。(b)は(a)の断面図である。
実施例を工程順に示す平面図である。(b),(d),
(f),(h)は本発明の一実施例を工程順に示す断面
図である。
性を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁物の上に形成された一導電型半導体
薄膜を選択酸化して素子分離酸化膜を形成する工程と、
前記素子分離酸化膜に囲まれて残された前記半導体薄膜
の表面にゲート絶縁膜を形成したのち、全面にポリシリ
コンを堆積する工程と、前記ポリシリコンおよび前記ゲ
ート絶縁膜をパターニングして、前記半導体膜表面に達
する第1のコンタクト開口を有する前記ポリシリコンか
らなるゲート電極を形成する工程と、逆導電型不純物を
イオン注入して前記ゲート電極両側の直下にソース・ド
レイン層を形成する工程と、全面に層間絶縁膜を堆積し
たのち前記第1のコンタクト開口の内側に第2のコンタ
クト開口を形成する工程と、一導電型不純物をイオン注
入して前記第2のコンタクト開口の前記半導体薄膜にオ
ーミック層を形成する工程と、前記オーミック層に接す
る前記層間絶縁膜をエッチングして前記第2のコンタク
ト開口を少なくとも前記第1のコンタクト開口まで拡げ
る工程と、前記第1のコンタクト開口を被って前記ポリ
シリコンからなるゲート電極と前記オーミック層とを接
続する金属配線を形成する工程とを含む電界効果トラン
ジスタの製造方法。
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- 1992-09-07 JP JP4237920A patent/JP2903892B2/ja not_active Expired - Lifetime
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