JP2860824B2 - 耐候性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物に関
し、詳しくは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を
有する特定のシアヌレートシロキサン化合物を添加する
ことによって、長期間に渡って耐光性の改善された高分
子材料組成物に関する。

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポ
リ塩化ビニル等の高分子材料は光の作用により劣化し、
変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の
使用に耐えないことが知られている。

そこで、光による高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられている。特に、ピペリジン
系、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤はその安定化
効果が大きく、広く用いられている。

これらの光安定剤の中でもピペリジン系化合物はそれ
自体が非着色性であり、近年特に注目されている。

しかしながら、従来知られているピペリジン系化合物
は光安定能が不十分であり、また、水によって樹脂から
容易に抽出されてしまうという欠点もあった。

また、これらのピペリジン系化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解あるいは揮散し、その効果を失う場合も多かっ
た。

これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環を
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であ
り、また、原料として安価な塩化シアヌルを用いること
ができ、反応も容易である等の利点を有している。

トリアジン環を含有する化合物としては特開昭49−21
389号、特開昭52−71486号、特開昭52−73886号、特開
昭53−9782号、特開昭53−67749号、特開昭54−106483
号、特開昭54−126249号、特開昭55−98180号、特開昭5
5−102637号、特開昭55−104279号、特開昭56−4639
号、特開昭56−30974号、および特開昭58−18378号の各
公報に種々の化合物が提案されている。

これらの公報記載の化合物において、特開昭52−7148
6号公報に記載された化合物に代表される、ジアミンま
たはグリコールで２個以上のトリアジン環を縮合させた
化合物が耐熱性、耐抽出性等に比較的優れている。

しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱性、耐
抽出性及び光安定能は未だ満足し得るものではなく、さ
らにすぐれた光安定剤の開発が要望されていた。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、上記の現状に鑑み、新規なタイプの高
分子量の光安定剤を得るために鋭意検討を重ねた結果、
下記一般式（Ｉ）、（II）または（III）で表される化
合物が耐熱性、耐抽出性及び光安定化能に優れ、苛酷な
加工条件下においても合成樹脂等の高分子材料に長期の
耐光性を付与しえることを見出し本発明に到達した。

即ち、本発明は高分子材料100重量部に対して、下記
一般式（Ｉ）、（II）または（III）で表されるシロキ
サン化合物0.001〜５重量部を添加してなる、耐光性の
改善された高分子材料組成物を提供するものである。

〔式中、Ｘは−０−またはRN＝を示し、Ａは式（IV）を
示し、Ｂは、式（Ｖ）を示し、ｍは１〜５を示し、ｎは
２〜30を示す。

式中、Ｒは水素原子、アルキル基または置換アルキル
基を示し、Ｒ′は水素原子、アルキル基またはアシル基
を示し、R₁はアルキル基を示す。〕 以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述す
る。

上記式中、Ｒ、Ｒ′及びR₁で表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二ブチル、イソブチル、アミル、オクチ
ル等があげられ、Ｒで表される置換アルキル基として
は、例えば、ジメチルアミノプロピルアミノ基、メトキ
シエチルアミノ基等があげられる。Ｒ′で表されるアシ
ル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、バレリル基、パルミトイル
基、ステアロイル基、オレオイル基があげられる。

上記一般式（Ｉ）、（II）または（III）で表される化
合物は、例えば、 で表される化合物と で表される化合物をカセイソーダ等のアルカリの存在下
に、必要に応じて、トルエン、オクタン、キシレン、ジ
オキサン等の反応に不活性な溶媒中反応させるか、（V
I）または（VII）と末端に二重結合のあるアルケニルア
ルコール、アルケニルアミンまたはアルケニルジアミン
の反応生成物とテトラアルキルシロキサンを反応させる
ことによって容易に製造することができる。

本発明の上記一般式（Ｉ）、（II）または（III）で
表される化合物を製造するために用いられる 化合物としては、例えば、オキシビス（２−ヒドロキシ
エチル・ジメチルシラン）、オキシビス（３−ヒドロキ
シプロピル・ジメチルシラン）、オキシビス（２−ヒド
ロキシエチル・ジエチルシラン）、オキシビス（３−ヒ
ドロキシプロピル・ジエチルシラン）、オキシビス（２
−アミノエチル・ジメチルシラン）、オキシビス（３−
アミノプロピル・ジメチルシラン）、オキシビス（２−
アミノエチル・ジエチルシラン）、オキシビス（３−ア
ミノプロピル・ジエチルシラン）等があげられる。

としては、例えば、4,6−ビス〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ〕−1,3,5−トリアジ
ン−２−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−1,3,5−トリ
アジン−２−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）メチルアミノ〕−1,3,
5−トリアジン−２−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（1,
2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）メチルアミ
ノ〕−1,3,5−トリアジン−２−クロライド、4,6−ビス
〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）エ
チルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−２−クロライド、
4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）エチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−２−ク
ロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−
４−ピペリジル）プロピルアミノ〕−1,3,5−トリアジ
ン−２−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）プロピルアミノ〕−1,3,5
−トリアジン−２−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（2,
2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ〕−1,3,5−トリアジン−２−クロライド、4,6−ビス
〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）
ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−２−クロライ
ド、4,6−ビス〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）オクチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−２
−クロライド、4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）オクチルアミノ〕−1,3,5−ト
リアジン−２−クロライド、４−〔Ｎ−（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−1,3,5−トリ
アジン−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（1,2,2,6,6−
ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−1,3,5−ト
リアジン−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（2,2,6,6−
テトラメチル−４−ピペリジル）メチルアミノ〕−1,3,
5−トリアジン−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（1,2,
2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）メチルアミ
ノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−ジクロライド、４−
〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）エ
チルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−ジクロライ
ド、４−〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）エチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−ジ
クロライド、４−〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジル）プロピルアミノ〕−1,3,5−トリアジン
−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）プロピルアミノ〕−1,3,5−
トリアジン−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ〕−1,
3,5−トリアジン−2,6−ジクロライド、４−〔Ｎ−（1,
2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−ジクロライド、４−
〔Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）オ
クチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−ジクロライ
ド、４−〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）オクチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−2,6−
ジクロライド等があげられる。

末端に二重結合のあるアルケニルアルコール、アルケ
ニルアミンまたはアルケニルジアミンとしては、例え
ば、アリルアルコール、ビニルアミン：アリルアミン、
ジビニルアミン、ジアリルアミン等があげられる。

反応は、室温〜約300℃までの範囲から適宜選択され
るが、好ましくは、約100℃〜約200℃で行われる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）、（II）
または（III）で表される化合物の具体的な合成例をあ
げるが、本発明は下記の合成例によって制限を受けるも
のではない。

合成例１ オキシビス〔３−〔4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ〕−1,3,5−
トリアジン−２−イル〕アミノプロピル・ジメチルシラ
ン〕（No.1化合物） オキシビス（３−アミノプロピル・ジメチルシラン）
3.7g（0.015モル）と4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ〕−1,3,5
−トリアジン−２−クロライド17.7g（0.032モル）をキ
シレン30gに溶解、水酸化ナトリウム1.3g及び沃化ナト
リウム3.5gを加え、還流下で14時間反応させた。反応
後、水洗により、食塩及び過剰の塩を除去後、脱溶媒
し、粗生成物18.3gを得た。

これをシリカゲルカラムにて精製処理を行い、目的物
の白色固体（融点85〜95℃）を得た。

NMR分析の結果、0.12ppm Si−CH₃12H、2.16ppm ＝Ｎ
−CH₃ 12H、4.08ppm −０−CH₂− 4Hに各々ピークがあ
り、目的物であることを確認した。

合成例２ の合成 4,6−ビス〔Ｎ−（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン−２−
クロライド21.4gとジアリルアミン6.4gをトルエン40gに
溶解、水酸化ナトリウム2.0g及び沃化ナトリウム0.3gを
加え、還流下で15時間反応させた。反応後、水洗によ
り、食塩及び過剰の塩を除去後、過剰のジアリルアミン
及びトルエンを留去することにより、粗生成物を得た。

これをシリカゲルカラムにて精製処理を行い、中間体
9.45gにテトラメチルジシロキサン2.14g、トルエン25ml
を加え及びシロキサン系白金触媒0.4gを加え、95〜100
℃で15時間、撹拌反応させた。

反応後、カーボンブラック1.2gを加え、60℃で30分撹
拌し、ろ過する事により、触媒を除去、更に脱トルエン
して、淡黄色のガラス状の固体を得た。これを分取型ク
ロマトグラフィーにかけ、低分子量の原料等を除去する
ことにより、平均重合度（ｎ）＝4.3の目的物（No.2化
合物）5.2gを得た。

上記合成例１及び合成例２と同様の操作により、下記
の化合物を合成した。

本発明は、上記の2,2,6,6−テトラメチルピペリジル
基を有する特定のシアヌレートシロキサン化合物を高分
子材料用の光安定剤として用いるものであり、その添加
量は特に制限を受けないが、高分子材料100重量部に対
して通常0.001〜５重量部、好ましくは0.01〜３重量部
である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料と
しては、例えば、高密度、低密度または直鎖状低密度ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−
３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共
重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩
化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン、酢酸ビニル三元共
重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩
化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−
シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニル−シク
ロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石
油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチルスチ
レンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニル
マレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリ
ロニトリル等）との共重合体（例えば、AS樹脂、ABS樹
脂、MBS樹脂、耐熱ABS樹脂等）、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及
びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエス
テル、ポリフェレニレンオキサイド、ポリカプロラクタ
ム及びポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、
ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性
合成樹脂及びこれらのブレンド物あるいはフェノール樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリカステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげることができ
る。更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエ
ン共重合ゴム等のエラストマーであっても良い。

本発明の組成物には、前記一般式（Ｉ）、（II）また
は（III）で表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化
剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。

これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フ
ェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗酸化剤、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系等の光安定剤が
あげられる。

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、2,6−
ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、2,6−ジフェニル−４
−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（3,5−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネー
ト、ジステアリル（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）ホスホネート、チオジエチレングリコール
ビス〔（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕1,6−ヘキサメチレンビス〔（3,5
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕、1,6−ヘキサメチレンビス〔（3,5−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、
4,4′−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾー
ル）、2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス（４−エチル
−６−第三ブチルフェノール）、ビス〔3,3−ビス（４
−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックア
シッド〕グリコールエステル、4,4′−ブチリデンビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、2,2′−エチリ
デンビス（4,6−ジ第三ブチルフェノール）、2,2′−エ
チリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノ
ール）、1,1,3−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三ブチ
ル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、
1,3,5−トリス（2,6−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−
第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリ
ス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドルキシベンジル）イ
ソオシアヌレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,3,5−トリス〔（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メ
タン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリ
ロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）
フェノール、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−２−｛（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プ
ロピオニルオキシ｝エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサ
スピロ〔5,5〕ウンデカン、トリエチレングリコールビ
ス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）プロピオネート〕等があげられる。

また、上記硫黄系抗酸化剤としては例えば、チオジプ
ロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリル等
のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリス
リトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネー
ト）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオ
ン酸エステル類があげられる。

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例え
ば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（2,4
−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２−
第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホス
ファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニ
ルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイ
ト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス（2,4−ジ第三ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（2,6−ジ第三ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジ
フェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−4,
4′−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−1,1,3−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−
第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラ
キス（2,4−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホ
スホナイト、9,10−ジハイドロ−９−オキサ−10−ホス
ファフェナンスレン−10−オキサイド等があげられる。

また、上記ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系
等の光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２−（２′−
ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒ
ドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−
５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−アミルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フ
ェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレ
ート、2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,
5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等の
ベンゾエート類、2,2′−チオビス（４−ｔ−オクチル
フェノール）Ni塩、〔2,2′−チオビス（４−ｔ−オク
チルフェノラート）〕−ｎ−ブチルアミンNi,（3,5−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モ
ノエチルエステルNi塩等のニッケル化合物類、α−シア
ノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリ
ル酸メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エ
チルフェニル−Ｎ′−２−エトキシ−５−ｔ−ブチルフ
ェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフェニル−
Ｎ′−２−エトキシフェニルシュウ酸ジアミド等のシュ
ウ酸ジアニリド類があげられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活
性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、
エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、
加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は、例えば、
農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光性が要求され
る分野に特に有用であり、例えば、フィルム、繊維、テ
ープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合
剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材等に用いる
ことができる。

〔実施例〕

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しか
しながら、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。

実施例１ 下記の配合により、250℃で押し出し加工してペレッ
トを作成した。次いで、250℃で射出成型して、厚さ1mm
の試験片を作成した。この試験片について、高圧水銀ラ
ンプを用いて耐光性試験を行った。また、80℃の熱水に
48時間浸漬後の試験片についても同様に試験を行った。

その結果を次の表−１に示す。

〈配合〉 ポリプロピレン（Profax 6501） 100重量部 テトラキス〔メチレン（3,5−ジジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン 0.1 ステアリン酸カルシウム 0.05 試料化合物（表−１参照） 0.3 比較化合物１ 2,4−ジクロロ−６−第３オクチルアミノ−1,3,5−トリ
アジントと1,6−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピ
ペリジルアミノ）ヘキサンの縮合物 （分子量2,500） 比較化合物２ 2,4−ジクロロ−６−モルホリノ−1,3,5−トリアジント
と1,6−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル
アミノ）ヘキサンの縮合物 （分子量1,300） 実施例２ 本実施例では、押し出し加工を繰り返すことにより高
温加工による安定化効果の変化をみた。

下記の配合により、樹脂と添加剤をミキサーで５分間
混合した後、250℃で押し出し加工してコンパウンドを
作成した。押し出しを10回繰り返した後、250℃で射出
成型して試験片を作成した。得られた試験片を用いて、
高圧水銀ランプで耐光性試験を行った。また、押し出し
１回及び５回のコンパウンドについても同様に試験を行
った。その結果を表−２に示す。

〈配合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート 0.1 トリス（2,4−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト 0.1 試料化合物（表−２参照） 0.2 実施例３ 下記の配合物を用い、混練後プレス加工して、厚さ0.
5mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、ウェザ
ロメーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を
測定した。

その結果を表−３に示した。

〈配合〉 ポリエチレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 1.0 ステアリル（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロオネート 0.1 試料化合物（表−３参照） 0.2 実施例４ 下記の配合により、260℃で押し出し加工してペレッ
トを作成し、次いで、260℃で射出成型して、厚さ1mmの
試験片を作成した。この試験片を用いて、83℃のサンシ
ャインウェザオメーター（雨なし）による耐候性試験を
行い、400時間照射後の色差を測定した。

その結果を次の表−４に示した。

〈配合〉 耐熱ABS樹脂（α−メチルスチレン共重合体）100重量部 マグネシウムステアレート 0.4 トリエチレングリコールビス（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート 0.2 ビス（2,4−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト 0.2 二酸化チタン 0.5 試料化合物（表−４参照） 0.5 実施例５ 下記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、120℃
で５分間プレスして厚さ0.5mmの試験片を作成した。こ
の試験片を用いて、フェードメーターで50時間及び100
時間照射後の伸び残率を測定した。

その結果を表−６に示す。

〈配合〉 ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100） 100重量部 バリウムステアレート 0.7 亜鉛ステアレート 0.3 2,6−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール 0.1 試料化合物（表−５参照） 0.3 実施例６ 下記の配合物を用い、混練ロールにより混練し厚さ0.
1mmのフィルムを作成した。このフィルムから試験片を
切取い、ウェザロメーターによる耐候性試験を行った。

その結果を表−６に示す。

〈配合〉 塩化ビニル樹脂（重合度1,000） 100重量部 ジオクチルフタレート 47 トリキシレニルホスフェート ３ 亜鉛ステアレート 0.8 ホスホン酸ノニルフェニルエステルバリウム塩 0.8 テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト 0.8 ビスフェノールＡジグリシジルエーテル ３ メチレンビス（ステアリン酸アミド） 0.5 ソルビタンモノパルミテート ２ 試料化合物（表−６参照） 0.3 実施例７ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用であ
る。本実施例においては金属顔料を含有するベースコー
ト及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料に
ついてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸ｎ−ブチル66
g、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル30g、メタクリ
ル酸4g、キシレン80g及びｎ−ブタノール20gをとり、11
0℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソブチロニトリル2
g、ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及びｎ−ブ
タノール20gからなる溶液を３時間で滴下した。その後
同温度で２時間攪拌し、樹脂固形分50％のアクリル樹脂
溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ユーバン20SE60;樹脂固形
分60％）2.5重量部、セルロースアセテートブチレート
樹脂（20％酢酸ブチル溶液）50重量部、アルミニウム顔
料（東洋アルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅ブ
タロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート塗料
とした。

ｂ）トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン10重量部、キシレン10重量部、ブチルグリコ
ールアセテート４重量部及び試料化合物（表−７参照）
0.15重量部（固形分に対して0.5％）をとり、トップコ
ート塗料賭した。

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜
厚さが20μになるようにスプレーし、10分間放置後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚さが30μになるようにスプレー
した。15分間放置後140℃で30分間焼付し試片とした。

上記試片をウエザロメーターに入れ塗膜のワレの発生
するまでの時間を測定した。その結果を表−７に示す。

〔発明の効果〕 本発明の高分子材料組成物は、高分子材料に、耐熱
性、耐抽出性及び光安定化能に著しく優れた化合物を光
安定剤として添加して成るもので、特に耐光性に優れ、
且つその優れた耐光性が高温で加工する際にも失われる
事がなく、長期にわたって保持されている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C08L 1/00 - 101/14 C08K 5/54

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子材料100重量部に対して、下記一般
   式（Ｉ）、（II）または（III）で表される化合物0.001
   〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善された高分子
   材料組成物。 〔式中、Ｘは−０−またはRN＝を示し、Ａは式（IV）を
   示し、Ｂは、式（Ｖ）を示し、ｍは１〜５を示し、ｎは
   ２〜30を示す。 式中、Ｒは水素原子、アルキル基または置換アルキル基
   を示し、Ｒ′は水素原子、酸素原子、アルキル基または
   アシル基を示し、R₁はアルキル基を示す。〕