JP2859118B2 - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

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JP2859118B2
JP2859118B2 JP5345155A JP34515593A JP2859118B2 JP 2859118 B2 JP2859118 B2 JP 2859118B2 JP 5345155 A JP5345155 A JP 5345155A JP 34515593 A JP34515593 A JP 34515593A JP 2859118 B2 JP2859118 B2 JP 2859118B2
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誠也 佐藤
雅夫 辻
保▲廣▼ 溝畑
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、フォト
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板などの基板を、カセットなどの収容
部などから取り出して載置支持し、各種の処理装置や測
定装置などに搬送するために使用する基板搬送装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】この種の基板搬送装置としては、従来一
般に、基板を載置支持するアームに真空吸着孔を設け、
基板を真空吸着によって保持するものがあったが、その
真空吸着の吸着面が基板に密着するために基板の裏面に
パーティクルが付着する問題があった。そのため、真空
吸着によらずに基板を保持できるように構成することが
考えられ、従来、実公平3−18435号公報に開示さ
れているものが知られている。
【0003】この従来例によれば、一対のグリッパーそ
れぞれの先端に固定の第1の押え部が設けられ、一方、
他方のグリッパーがプッシュロッドによって進退自在
に、かつ、スプリングによって押圧力を付与可能な状態
で設けられ、そのグリッパーに第2の押え部が設けら
れ、基板の外周面に2つの第1の押え部と第2の押え部
とを接触させるとともに、スプリングによって与えられ
る接触圧力により、基板を3点で支持する状態で保持
し、基板の表裏両面に接触しない状態で位置決めして基
板を保持することにより、塵埃の付着を回避するように
構成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来例の場合、基板を保持するための力がスプリ
ングの弾性力に依存しており、相当な弾性力を必要とし
ている。そのため、第1および第2の押え部が基板の外
周面に当接して接触するときに、その当接部分が削れ、
却って発塵するという欠点があった。また、基板を搬送
している最中においても相当な弾性力で基板を挟持する
ため、その当接部分が削れて発塵するとともに、そのパ
ーティクルが基板に付着して汚染を招く欠点があった。
【0005】そこで、本願出願人は、先に、発塵による
パーティクルの付着を極力抑制できながら位置決め状態
で基板を支持できるようにした技術を提案した(特願平
5−95293号)。
【0006】この提案例では、互いに対向してその対向
間隔を変更可能に支持部材を配置し、この支持部材それ
ぞれに、基板の外周縁側の底面を載置支持する底面支持
体と、基板の外周面に当接して基板の底面に沿った方向
の位置を規制する外縁支持体とを備えさせ、かつ、両支
持部材の対向間隔を調整するときに、外縁支持体が基板
に対して所定の遊びを持って作用するように構成し、基
板の外周面に外縁支持体が作用するときに、慣性力と基
板下面での摩擦力とに抗して移動させられるだけのわず
かな力で済むようにして、基板外周面との当接による発
塵を回避するように構成している。また、搬送の最中に
おいても、基板の外周面と外縁支持体との間の遊びによ
り基板の外周面に大きな力を加えないようにして発塵を
回避するように構成している。
【0007】ところが、上記提案例の場合に、例えば、
カセットなどに収容された基板を取り出すなど、その基
板の下部の空間が狭い場合に、厚みのある外縁支持体を
基板の下方に挿入しづらく、実用上未だ改善の余地があ
った。このことは、先の実公平3−18435号公報に
開示された従来例でも同様である。
【0008】殊に、基板を上下方向に多段に収容したカ
セットでは、カセット搬送時の振動などに起因して、基
板の一部が傾いた姿勢で収容され、それに起因して基板
の取り出し側、即ち、カセットの開口側で上下に隣接し
た基板間の隙間が小さくなっている場合があり、このよ
うな場合には、上述提案例や実公平3−18435号公
報に開示された従来例のものでは使用できない虞もあっ
た。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板下方の空間が狭い箇所でも、基板
支持アームを容易に挿入して基板を取り出すとともに、
容易に位置決めして搬送できるように、かつ、基板の位
置決めを行うための押圧部材を平面視でのスペースを大
きくすること無く設けられるようにすることを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述のような
目的を達成するために、基板を上下方向に多段に収容す
るカセットとの間で基板の受け渡しを行う基板搬送装置
であって、 その基端側にのみ基板の端面を受け止める位
置決めガイドを有し、基板を水平姿勢で支持する基板支
持アームと、 前記基板支持アームを昇降させる昇降手段
と、 基板が、前記カセット外の所定位置と前記カセット
内の所定位置との間の移動経路を移動するように前記基
板支持アームを移動させる移動手段と、 カセット外にお
ける、前記基板の移動経路よりも下方の位置に設けられ
た退避位置と、前記基板支持アームに支持された基板の
端面を押圧して前記基板支持アームの位置決めガイドに
受け止めさせる側に基板を摺動移動させる位置決め位置
との間を移動可能な押圧部材と、 前記退避位置と前記位
置決め位置との間で前記押圧部材を移動させる駆動手段
と、を備えたことを特徴としている。
【0011】
【作用】発明の基板搬送装置の構成によれば、カセッ
トから基板を受け取るにあたっては、まず、駆動手段に
よって押圧部材を基板の移動経路よりも下方の位置に設
けられた退避位置に移動させておく。そして、移動手段
によりカセット外からカセット内の基板の下方の空間に
その先端側を肉薄にした基板支持アームを移動させ、昇
降手段により基板支持アームを上昇させることでカセッ
トから基板を受け取り、カセット内の所定位置において
基板を水平姿勢で支持する。そして、基板がカセット内
の所定位置からカセット外の所定位置との間の移動経路
を移動するように、移動手段によって基板支持アームを
移動させる。そして、基板支持アームの移動により基板
がカセットから完全に取り出された後、駆動手段によっ
て退避位置にあった押圧部材を位置決め位置に移動さ
せ、基板支持アームに支持された基板の端面を押圧し
て、基板支持アームの位置決めガイドに基板を受け止め
させる側に摺動移動させて位置決めが行われる。
【0012】
【0013】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0014】図1は本発明に係る第1実施例の基板搬送
装置を用いた基板処理装置を示す全体概略斜視図であ
る。基板処理装置は、半導体ウエハ等の円弧状の外周面
を有する基板Wに対してフォトレジスト液を塗布処理す
るとともに乾燥処理するための装置であり、大きく分け
て、未処理基板や処理済み基板を保管する部分(以下、
インデクサーモジュールと称する)1と、基板Wを処理
する基板処理部2とから構成されている。
【0015】インデクサーモジュール1は、固定の基台
3上に一列状態に載置された4個のカセットC…と、そ
れらのカセットC…に対して基板Wを搬入・搬出する基
板搬送装置4とよりなる。インデクサーモジュール1と
基板処理部2との間での基板Wの受け渡しは、所定の基
板受渡し位置Pにおいて、基板搬送装置4と基板処理部
2の基板搬送手段10(後述する)との間で行われる。
基板搬送装置4は、基板処理部2へ搬送すべき基板Wを
カセットCから取り出して基板受渡し位置Pへ搬送し、
また基板受渡し位置Pで基板搬送手段10から受け取っ
た基板Wを搬送してカセットCへ収納する。前記カセッ
トC…それぞれ内には、基板Wを上下方向に多段に収納
できるようになっている。
【0016】基板処理部2は、例えば、 120℃などの所
定温度で基板Wを加熱処理して水分などを除去する第1
の基板加熱ユニット5と、その下方に設けられて加熱処
理後の基板Wを、例えば、23℃などの所定温度まで冷却
して常温に戻す第1の基板除熱ユニット6と、基板Wを
保持して回転させながらその表面にフォトレジスト液を
塗布する基板回転式フォトレジスト処理ユニット7と、
フォトレジスト液を塗布した基板Wを、例えば、 100℃
などの所定温度で基板Wを加熱処理して溶剤成分を揮発
させ、フォトレジスト膜を基板Wに密着させる第2の基
板加熱ユニット8と、その下方に設けられて加熱処理後
の基板Wを、例えば、23℃などの所定温度まで冷却して
常温に戻す第2の基板除熱ユニット9とを備えて構成さ
れている。
【0017】また、基板処理部2には基板搬送手段10
が備えられ、基板受渡し位置Pから給排される基板W
を、第1および第2基板加熱ユニット5,8、第1およ
び第2基板除熱ユニット6,9、基板回転式フォトレジ
スト処理ユニット7それぞれの間で任意の順序で搬入・
搬出するように構成されている。
【0018】基板搬送装置4において、図2の斜視図に
示すように、基台3に固定される取付台11に、第1の
電動モータ12によって正逆転される第1のネジ軸13
と第1のガイド14とによって水平方向に移動可能に第
1の支持台15が設けられている。この第1の支持台1
5の移動方向は、基台3上に載置されたカセットCの列
に沿った方向である。
【0019】第1の支持台15に、第2の電動モータ1
6によって正逆転される第2のネジ軸17と第2のガイ
ド18とによって上下方向に移動可能に第2の支持台1
9が設けられている。この第2の電動モータ16と第2
のネジ軸17とが本発明の昇降手段に相当する。
【0020】第2の支持台19に、正逆転可能な第3の
電動モータ20によって往復移動可能にベルト21と第
3のガイド22とによって、前記第1の支持台15の移
動方向に直交する水平方向に移動可能に、基板Wを水平
姿勢で載置支持する基板支持アーム23が設けられてい
る。これにより、基板Wが、カセットC外の所定位置と
カセットC内の所定位置との間の移動経路を移動するよ
うに基板支持アーム23が移動される。この第3の電動
モータ20、ベルト21、第3のガイド22が本発明の
移動手段に相当する。
【0021】基板支持アーム23は薄い板状部材で構成
され、その基板支持アーム23の基端側に、平面視で円
弧状のガイド面Fを有する位置決めガイド24が、その
ガイド面Fを基板支持アーム23の先端側に向けて一体
的に設けられ、かつ、基板支持アーム23の上面に、基
板Wを点接触により載置支持する複数の突起25…が設
けられている。
【0022】図3の要部の側面図、および、図4の要部
の平面図に示すように、第2の支持台19上の基板支持
アーム23を挟んで両側それぞれに、水平方向の軸芯周
りで揺動可能に押圧部材26が設けられ、その押圧部材
26,26それぞれと第2の支持台19との間にエアシ
リンダ27が介装され、押圧部材26,26それぞれの
先端が、揺動に伴って基板支持アーム23の上下および
基板支持アーム23の先端側から基端側にわたって変位
し、突起25…上に載置支持された基板Wの外周端面に
当接して基板Wを位置決めガイド24側に押圧して移動
させ、その基板Wの端面を位置決めガイド24に受け止
めさせるように構成されている。
【0023】次に、以上の構成による基板搬送装置4を
用いてカセットCから所定の基板Wを取り出す動作につ
き、図5の側面図により説明する。先ず、本発明の駆動
手段に相当するエアシリンダ27を短縮して押圧部材2
6の先端を基板支持アーム23の基板載置面よりも下方
に位置させた状態で、すなわち、押圧部材26の先端を
カセットC外における、基板Wの移動経路よりも下方の
位置に設けられた退避位置に位置させた状態で、基板支
持アーム23を所定のカセットCの前まで移動させてか
ら、基板支持アーム23を所定の高さまで上昇させ、そ
の後に、カセットC側に移動して基板支持アーム23を
取り出そうとする基板Wの下方に挿入する[図5の
(a)参照]。
【0024】基板支持アーム23を所定位置まで挿入し
た後、基板WをカセットCの基板嵌入溝28から持ち上
げるに足る位置であるカセットC内の所定位置まで基板
支持アーム23を上昇させ、基板Wを突起25…上に載
置支持させる[図5の(b)参照]。
【0025】基板Wを基板支持アーム23に支持した状
態で、カセットC外の所定位置に向けてカセットCから
離れる側に移動させ、カセットC外に取り出し[図5の
(c)参照]、しかる後に、エアシリンダ27を伸長す
るよう作動して押圧部材26を上方に揺動させかつ押圧
部材26の先端を基板支持アーム23の先端側から基端
側へ移動させる位置決め位置に移動させ、その先端を基
板Wの外周端面に押圧させ、基板Wを突起25…上で基
板支持アーム23の基端側に摺動移動させて基板Wの外
周端面を位置決めガイド24のガイド面Fに合致するよ
うに当接させて位置決めする[図5の(d)参照]。位
置決めガイド24のガイド面Fは基板Wの外周と一致す
る円弧状の形状をしているので、基板Wは基板支持アー
ム23の基端−先端方向だけでなく、それに直交する方
向でも所定位置に位置決めされる。
【0026】その後、基板支持アーム23を基板受渡し
位置Pに移動して基板Wを基板搬送手段10に受け渡
す。基板受渡し位置PからカセットCに基板Wを搬送し
て収容する場合は、押圧部材26を下方側に揺動させた
状態で、基板受渡し位置Pにおいて基板搬送手段10か
ら基板支持アーム23に基板Wを受け取り、その後、基
板支持アーム23を所定のカセットCの前に移動させ、
エアシリンダ27を伸長するように作動して押圧部材2
6を移動させて位置決めガイド24によって基板Wの位
置決めをした後に、基板支持アーム23をカセットC側
に移動させて基板WをカセットC内に収納する。
【0027】図6は、第2実施例の基板搬送装置を示す
側面図であり、第1実施例と異なるところは次の通りで
ある。すなわち、第2の支持台19上に、第4のガイド
29と第2のエアシリンダ30とによって基板支持アー
ム23の先端側から基端側に移動可能となるように、上
下方向に伸縮する第3のエアシリンダ31が設けられ、
その第3のエアシリンダ31に押圧部材32が一体的に
取り付けられ、第3のエアシリンダ31の伸長動作によ
って、押圧部材32を基板Wの外周端面に作用可能な位
置に変位させるとともに、その状態で第2のエアシリン
ダ30を伸縮させることにより、押圧部材32を基板W
の外周端面に押圧し、基板Wを突起25…上で摺動移動
させて位置決めガイド24に当接し、基板Wの位置決め
を行うように構成されている。他の構成は第1実施例と
同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省
略する。
【0028】上記実施例では、位置決めガイド24を基
板支持アーム23に一体的に設けているが、本発明とし
ては、位置決めガイド24を基板支持アーム23とは別
体で設け、基板支持アーム23だけをカセットCに挿脱
させ、カセットCから取り出した位置において、押圧部
材26または32の押圧により摺動移動した基板Wを受
け止めて位置決めできるように設けるものでも良い。
【0029】本発明は、ノッチやオリエンテーションフ
ラットを備えた円弧状の外周面を有する円形基板に限ら
ず、角型基板にも適用でき、その場合、位置決めガイド
24によって角型基板の角部を受け止めるように、その
ガイド面Fを直角形状に構成すれば良い。
【0030】また、基板支持アーム23の長さを、その
先端側が基板Wよりもはみ出すに足る長さに構成し、そ
の先端側に基板支持用の突起25よりも、基板Wの厚み
より小さい所定量だけ突出するような掻き出し用突起を
付設し、基板WをカセットCから取り出す時に基板Wが
カセットC側に不測に滑るのを阻止できるようにするも
のでも良い。
【0031】上述実施例のカセットCにおいて、その基
板嵌入溝28の基板Wを受ける面が基板中心側程低くな
る傾斜面に構成され、カセットCに収容された基板W…
の外周面の一部が傾斜面で受け止め支持して収容されて
いるような場合には、カセットCの搬送時の振動などに
よって支持姿勢が傾斜して、下部の基板との間隔が小さ
くなる場合があり、また、オリエンテーションフラット
を形成した基板を収容したときにオリエンテーションフ
ラットと円弧面との交点箇所が基板嵌入溝28に支持さ
れ、基板Wがその取り出し方向で傾斜して下部の基板と
の間隔が小さくなる場合があり、本発明としては、その
ようなカセットCに収容された基板Wを取り出して搬送
する場合に好適に使用できるが、例えば、所定の基板待
機位置などに、その下部空間が狭い状態で載置される基
板を取り出して搬送するような場合にも適用できる。
【0032】
【0033】本発明の基板搬送装置によれば、基端側に
のみ位置決めガイドを設け、基板支持アームを肉薄にで
きるから、カセットに多段に収容された基板を取り出す
場合に、搬送時の振動などに起因して基板が傾斜姿勢に
なり、基板の取り出し側で上下方向で隣合う基板との間
隙が小さくなっていても、それらの基板間に基板支持ア
ームの先端側を容易に挿入でき、基板をカセットから取
り出してから、押圧部材により基板を押圧して位置決め
し、基板を容易に位置決めして搬送できる。また、基板
の位置決めのための押圧部材による押圧をカセットの外
で行うことにより、たとえ、基板の摺動や、基板の外周
端面と押圧部材や位置決めガイドとの接触に伴って発塵
があったとしても、それらを下方の基板上に落下させ
ず、パーティクルの付着を良好に抑制できる。さらに、
カセット外における、基板の移動経路よりも下方の位置
に設けられた退避位置と、基板支持アームに載置支持さ
れた基板の端面を押圧して基板支持アームの位置決めガ
イドに受け止めさせる側に基板を摺動移動させる位置決
め位置との間を移動可能なように押圧部材を設け、平面
視で基板支持アームの移動による基板の移動経路とオー
バーラップした位置に基板の位置決めを行うための押圧
部材を配置しているので、押圧部材を設けるための専用
のスペースを削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施例の基板搬送装置を用い
た基板処理装置を示す全体概略斜視図である。
【図2】基板搬送装置の斜視図である。
【図3】要部の側面図である。
【図4】要部の平面図である。
【図5】基板の取り出し動作の説明に供する側面図であ
る。
【図6】第2実施例の基板搬送装置の側面図である。
【符号の説明】
4…基板搬送装置 23…基板支持アーム 24…位置決めガイド 26,32…押圧部材 C…カセット W…基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 溝畑 保▲廣▼ 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西工場 内 (56)参考文献 特開 平5−29438(JP,A) 実開 平1−173940(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/68 B65G 49/07

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を上下方向に多段に収容するカセッ
    トとの間で基板の受け渡しを行う基板搬送装置であっ
    て、 その基端側にのみ基板の端面を受け止める位置決めガイ
    ドを有し、基板を水平姿勢で支持する基板支持アーム
    と、 前記基板支持アームを昇降させる昇降手段と、 基板が、前記カセット外の所定位置と前記カセット内の
    所定位置との間の移動経路を移動するように前記基板支
    持アームを移動させる移動手段と、 カセット外における、前記基板の移動経路よりも下方の
    位置に設けられた退避位置と、前記基板支持アームに支
    持された基板の端面を押圧して前記基板支持アームの位
    置決めガイドに受け止めさせる側に基板を摺動移動させ
    る位置決め位置との間を移動可能な押圧部材と、 前記退避位置と前記位置決め位置との間で前記押圧部材
    を移動させる駆動手段と、 を備え たことを特徴とする基板搬送装置。
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