JPH053241A - 板状体搬送装置 - Google Patents

板状体搬送装置

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JPH053241A
JPH053241A JP22486091A JP22486091A JPH053241A JP H053241 A JPH053241 A JP H053241A JP 22486091 A JP22486091 A JP 22486091A JP 22486091 A JP22486091 A JP 22486091A JP H053241 A JPH053241 A JP H053241A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 ウエハ搬送装置のピンセット14の先端に段
部16aを設け、また、搬送基台12にセンタリング部
材18a,18bを設ける。これにより、ウエハを載置
したピンセット14が搬送基台12側に移動したとき
に、段部16aとセンタリング部材18a,18bと
で、ウエハを挟み込む。 【効果】 ウエハを保持する際に、同時にセンタリング
も行なうことができる。したがって、センタリングのた
めのロス時間がなくなり、一工程少ない分ごみの発生も
減少し、さらに、位置合わせ手段を別途設ける必要がな
いのでコストを削減させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子の製
造工程等においてウエハの搬送に使用される、板状体搬
送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、板状体搬送装置として、ウエハを
収納したウエハキャリアと各種処理装置との間や処理装
置間などで半導体ウエハの搬送を行なう装置が、ウエハ
搬送装置として知られている。
【0003】さらに、かかるウエハ搬送装置として、搬
送基台にピンセットを設け、このピンセットの上面にウ
エハを載置し真空吸着、静電吸着により仮固定すること
により半導体ウエハを保持し、この状態で搬送基台を移
動させることにより、半導体ウエハの搬送を行なうもの
が知られている。
【0004】このようなウエハ搬送装置を用いて半導体
ウエハを搬送する場合、複数台のウエハ搬送装置を用い
る場合がある。例えば、第1のウエハ搬送装置でウエハ
キャリアから半導体ウエハを取り出して一旦移しかえの
ために一時的に半導体ウエハを載置する載置台に載置
し、続いて、この載置台に載置された半導体ウエハを第
2のウエハ搬送装置で保持して処理装置まで搬送すると
いった場合である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述のようなウエハ搬
送装置においては、搬送基台に設けられたピンセットで
半導体ウエハを保持する際に、ピンセットの上面の載置
位置の中心と半導体ウエハの中心とを正確に一致させる
必要がある。これが不正確であると載置位置がずれたま
まの状態で搬送されるので、例えばウエハキャリアや処
理装置の載置位置に半導体ウエハを正しくセットできな
い場合が生じるおそれがあるからである。不正にキャリ
アへ搬入することはウエハの破損を招き、また、処理装
置に不正な位置へ搬入することは、均一な処理を実行で
きず、歩留まりの劣化を招く。
【0006】また、上述したような問題は複数のピンセ
ットを使用し一枚のウエハを連続して搬送する場合も生
ずる。例えばこのような載置位置のずれは、第1の搬送
装置で載置台に載置した半導体ウエハを第2の搬送装置
で保持搬送する際に、特に生じやすい。
【0007】かかる課題は、載置台に半導体ウエハの位
置合わせ手段を設けることによって解決することが可能
である。例えば、第1の搬送装置から第2の搬送装置へ
半導体ウエハの受け渡しを行なう場合であれば、第1の
搬送装置で半導体ウエハを載置台に載置した後、この載
置台に設けられた位置合わせ手段で半導体ウエハのセン
タリングを行ない、その後、この半導体ウエハを第2の
搬送装置で保持することとすれば、ピンセットの上面の
載置位置の中心と半導体ウエハの中心とを正確に一致さ
せることが可能である。
【0008】しかしながら、載置台上で半導体ウエハの
センタリングを行なう場合、センタリング中は半導体ウ
エハの搬送は行われないので、このセンタリングに要す
る時間がロスタイムとなり、搬送を効率よく行なう上で
妨げとなるという課題を生じる。
【0009】また、このような新たな工程を付加するこ
とは、パーティクルの発生原因を増加させることとな
り、半導体製品の歩留まり低下の原因となるという課題
も生じる。
【0010】さらに、位置合わせ手段を設ける分、処理
装置全体のコストが高くなってしまうという課題も生じ
る。
【0011】本発明は、このような課題に鑑みて成され
たものであり、ウエハ保持部材の上面の載置位置の中心
と半導体ウエハの中心とを正確に一致させることがで
き、上述のような位置合わせ手段を別途設ける必要のな
いウエハ搬送装置を安価に提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の板状体搬送装置
は、板状体を保持して搬送する板状体搬送装置におい
て、上面に前記板状体を保持可能に構成された板状体保
持部材と、この板状体保持部材の予め定められた保持部
に設けられた第1の位置決め部材と、前記板状体を載置
した前記板状体保持部材が移動したときにこの板状体の
側面に当接して前記板状体を位置決めする如く設けられ
た第2の位置決め部材と、を具備することを特徴とす
る。
【0013】
【作用】駆動手段によって板状体保持部材をのばしてこ
の板状体保持部材の上面に板状体を載置し、続いて、駆
動手段によって板状体保持部材を搬送基台側に移動した
ときに第1の位置決め部材と第2の位置決め部材とでウ
エハを挟み込むことによって板状体の保持とセンタリン
グとを同時に行なう。
【0014】このように、板状体搬送装置を、板状体を
保持する際に併せてセンタリングもできるように構成す
ることにより、従来のように別途センタリング動作を行
う必要がないため、センタリングのためのロス時間がな
くなり、一工程少ない分パーティクルの発生も減少し、
さらに、位置合わせ手段を別途設ける必要がないのでコ
ストを削減させることができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の1実施例として、本発明に係
わる板状体搬送装置をレジスト膜形成装置において使用
されるウエハ搬送装置に適用した場合について説明す
る。
【0016】図1に示したように、本実施例に係わるレ
ジスト膜形成装置は、ウエハの搬入・搬出を行う搬入搬
出ユニット30とウエハの処理を行う処理機構ユニット
40とを有している。
【0017】搬入搬出ユニット30は、本発明に係わる
ウエハ搬送装置(すなわち、センタリングの機構を有す
るウエハ搬送装置)としての第1のウエハ搬送装置10
と、半導体ウエハ60を収納する任意の数(本実施例で
は4個とする)のウエハキャリア32と、3本の立設し
たピンによって構成されたウエハ載置手段34とを有し
ている。この搬入搬出ユニット30では、第1のウエハ
搬送装置10によって、ウエハキャリア32に収納され
た処理前の半導体ウエハ60を取り出してセンタリング
すると共に載置手段34まで搬送して載置する工程、お
よび、載置手段34に載置された処理後の半導体ウエハ
60を保持してセンタリングすると共にウエハキャリア
32まで搬送して収納する工程が行なわれる。
【0018】一方、処理機構ユニット40は、半導体ウ
エハ60に対する例えば、レジスト塗布処理、ベーキン
グ処理、現像処理などの各種処理を行なうための各処理
機構42〜48と、これらの各処理機構42〜48に対
する半導体ウエハ60の搬入および搬出を行なうための
第2のウエハ搬送装置50とを有している。第2のウエ
ハ搬送装置50は、載置手段34に載置された処理前の
半導体ウエハ60を予め定められたプログラムによりア
ドヒージョン処理機構42、冷却機構46、塗布機構4
8、ベーク機構44などへ順次選択的に搬送し、最後
に、すべての処理が終わった半導体ウエハ60を再び載
置手段34に載置する。これら工程プログラムはプログ
ラマブルで各ウエハに応じた処理プログラムが設定でき
る。なお、本実施例では、第2のウエハ搬送装置50と
しては、センタリングの機能を有していないものを使用
することとする。
【0019】図2は、第1のウエハ搬送装置10の構成
を概略的に示すものであり、図2(a)は上面図、図2
(b)は正面図である。また、図3は、第1の搬送装置
10を示す側面図であり、図3(a)はウエハ保持部材
であるピンセット14をのばしていない状態(すなわ
ち、図2(a)と同じ状態)、図3(b)はピンセット
14をのばした状態を示している。
【0020】第1の搬送装置10は、搬送基台12に、
上面に前記ウエハを載置させるように構成されたピンセ
ット14と、取付金具20a,20bによって支持され
たセンタリング部材(第2の位置決め部材)18a,1
8bと、この搬送基台12を昇降させるための昇降ロッ
ド22とを設けて構成されている。さらに、この第1の
ウエハ搬送装置10は、図示していない手段により、各
ウエハキャリア32の近傍と、載置手段34の近傍との
間を移動することができる。
【0021】また、ピンセット14は、図示していない
駆動手段により図中Aで示した方向に自動的に移動させ
ることができるように構成されている。さらに、このピ
ンセットの上面部には、先端にはウエハ載置面より上方
に突出する段部(第1の位置決め部材)16aが、セン
タリング部材18a,18b側には上端が段部16aよ
りも高く構成された壁部が形成された押圧部16bが、
それぞれ形成されている。
【0022】次に、このような第1の搬送装置10を用
いて、ウエハキャリア32に収納された半導体ウエハ6
0を保持してセンタリングを行ない、載置手段34まで
搬送する方法について説明する。
【0023】図4(a)において、半導体ウエハ62
は、ウエハキャリア32に正規な状態で収納されている
場合を示している。また、他の半導体ウエハ64は、正
規な状態よりウエハキャリア32の奥側にずれた状態で
収納されている場合を示している。
【0024】図に示したように、ウエハキャリア32の
近傍(本実施例ではウエハキャリア32の開口32aか
ら例えば2mmの位置とした)まで移動させた第1の搬
送装置10から、ピンセット14を各ウエハ間でウエハ
に接触しない状態で延ばして保持したい半導体ウエハ6
4の下側に挿入し、このピンセット14を昇降ロッド2
2(図4では図示せず)を用いて当該ウエハ64を支持
し上方ウエハに接触しない範囲で上昇させることによ
り、半導体ウエハ64を載置することができる。さら
に、この状態でピンセット14を伸びた状態から縮んだ
状態にすなわち搬送基台12側に前後移動させて(すな
わち、図3(a)に示した状態)、予め定められた位置
まで戻ったとき、前記ウエハ64の側壁面がセンタリン
グ部材18a,18bに当接する。このとき、段部16
aの下り傾斜の内側面16c´とセンタリング部材18
a,18bの円弧状の側面18a´,18b´(図2参
照)とで半導体ウエハ64の側壁面部分を押圧して挟み
込む作用が生じ、この奥側にずれて収納されていた半導
体ウエハ64のセンタリングをピンセット14上におい
て行なうことができる。すなわち、半導体ウエハ64を
保持したピンセット14が搬送基台12側に戻ってきた
ときに、同時にセンタリングを行う。このため、従来の
ように、別途センタリング機構を必要とせず、かつ、セ
ンタリング時間も特に必要とはしない。
【0025】なお、図から解るように、ピンセット14
の段部16aの内側面16a´と押圧部16bの押圧面
16b´との間隔は、奥側にずれた半導体ウエハ64も
そのままピンセット14に載置できるように寸法に余裕
をもたせて定められている。
【0026】また、図4(b)において、半導体ウエハ
66は、ウエハキャリア32の開口32a側にずれた状
態で収納されている場合を示している。
【0027】この場合でも、押圧部16bの高さを段部
16aの高さよりも高くし、ピンセット14を延ばして
保持したい半導体ウエハ64の下側に挿入する際に押圧
部16bの内側面16b´で半導体ウエハ66を押し込
むことができるように構成しているので、開口32a側
にずれた状態で収納された半導体ウエハ66をそのまま
保持することが可能となる。なお、センタリングを行な
う方法は、上述の図4(b)の場合と同様である。
【0028】以上説明したようにしてセンタリングを行
なった状態で保持された半導体ウエハ60は、載置手段
34の近傍まで搬送され、この載置手段34上に載置さ
れる。載置手段34上への載置は、載置手段34上まで
ピンセット14をのばし、続いてこのピンセット14を
昇降ロッド22を用いて下降させることにより行なうこ
とができる。
【0029】一方、載置手段34上に載置された半導体
ウエハ60を保持してセンタリングを行ない、ウエハキ
ャリア32に収納する工程も、ほぼ同様にして行なうこ
とができる。
【0030】このように、本実施例のレジスト膜形成装
置では、第1のウエハ搬送装置をウエハを保持する際に
併せてセンタリングもできるように構成したので、半導
体ウエハ60を保持する状態で、移動により同時にセン
タリングも行なうことができる。したがって、センタリ
ングのためのロス時間がなくなり、一工程少ない分パー
ティクルの発生も減少し、さらに、従来のように、載置
手段34付近に別途位置合わせ手段を設ける必要がない
のでコストを削減させることができる。
【0031】なお、本実施例では、第1のウエハ搬送装
置10にのみセンタリングの機能を設けることとした
が、この機能を第2のウエハ搬送装置50にも設け、各
処理機構42〜48間の搬送を行なう際にセンタリング
を行なうこととしてもよい。
【0032】また、本実施例では、段部16aとセンタ
リング部材18a,18bとによってセンタリングを行
なうこととしたが、例えば複数本のピンを設けるなど、
他の構成の位置決め部材によってセンタリングを行なっ
てもよい。すなわち、ピンセット14の先端に設けられ
た位置決め部材と、搬送基台12に固定された位置決め
部材とで半導体ウエハ60のセンタリングを行なう場合
には、位置決め部材の形状や配置によらず、本発明の効
果を得ることができる。
【0033】加えて、本実施例では、ピンセット14に
載置することのみによって半導体ウエハ60の保持を行
なうこととしたが、センタリング後搬送を行なう際に、
真空吸着や静電吸着等の仮固定機構を設けるようにして
もよい。
【0034】さらに、本実施例では、本発明に係わるウ
エハ搬送装置をレジスト膜形成装置に使用した場合につ
いて説明したが、他の装置に使用することもできるのは
もちろんである。
【0035】また、搬送する板状体は、前記ウエハの他
に、側面が円形であるものや、LCD基板、プリント基
板、方形状の板状体でもよい。
【0036】なお、本実施例では搬入搬出ユニット30
の半導体ウエハ受け渡し位置に立設した3本のピンによ
ってウエハ載置手段34を構成し、この載置手段34に
半導体ウエハ60を一旦載置して第1のウエハ搬送装置
10と第2のウエハ搬送装置50との間の半導体ウエハ
の受け渡しを行う例について説明したが、図5に示すよ
うに、載置手段34を設けずに、第1のウエハ搬送装置
10と第2のウエハ搬送装置50との間で、直接受け渡
しを行うこととしてもよい。
【0037】この場合の第1のウエハ搬送装置110の
機構は上述の実施例の第1のウエハ搬送装置10とほぼ
同一でよいため省略するが、図示していない手段によ
り、直列に配置した各ウエハキャリア32の近傍および
処理機構ユニット40の第2のウエハ搬送装置50との
半導体ウエハ受け渡し位置に移動することができる。
【0038】図5において、ウエハキャリア32に収納
された半導体ウエハ60は、第1のウエハ搬送装置11
0によって保持されるとともに、上述の実施例の場合と
同様にしてセンタリングが行われ、そのままの状態で、
この第1のウエハ搬送装置110によって、第2のウエ
ハ搬送装置50の搬送路の左端付近まで搬送される。そ
して、第1のウエハ搬送装置110のピンセット14を
半導体ウエハ60を保持したまま伸ばすとともに、第2
のウエハ搬送装置50のピンセット52をピンセット1
4の下方から上昇させることにより、半導体ウエハ60
のピンセット14からピンセット52への受け渡しを行
うことができる。
【0039】一方、第2のウエハ搬送装置50から第1
のウエハ搬送装置110への受け渡しを行うときは、第
2のウエハ搬送装置50を処理機構ユニット40の左端
付近に搬送し、第1のウエハ搬送装置110を、ピンセ
ット14を伸ばしたままの状態で、ピンセット52の下
方から上昇させることとすればよい。
【0040】さらに、このように第1のウエハ搬送装置
110と第2のウエハ搬送装置50との間の半導体ウエ
ハ60の受け渡しを直接行う場合に、第1のウエハ搬送
機構110に昇降可能な複数(例えば3本)のピンを設
け(図示せず)、このピンを用いて受け渡しを行うこと
としてもよい。例えば、第1のウエハ搬送装置110を
半導体ウエハの受け渡し位置まで移動させた後に、これ
らピンをアップさせることにより、ピンセット14に載
置されていた半導体ウエハ60を、これらのピンで支持
し、その後、第2のウエハ搬送装置50のピンセット5
2を半導体ウエハ60の下方から上昇させることによ
り、かかる半導体ウエハ60の受け渡しを行うこととし
てもよい。
【0041】また、かかる場合において、第2のウエハ
搬送装置50から第1のウエハ搬送装置110への受け
渡しを行うときには、一旦、第1のウエハ搬送装置11
0に設けられた上述のごとき複数のピン上に半導体ウエ
ハ60を載置し、その後、これらのピンを下降させるこ
とにより、ピンセット14上に半導体ウエハ60を載置
させることとすればよい。或いは、上述した第1のウエ
ハ搬送装置110に複数のピンを設けない場合と同様
に、第1のウエハ搬送装置110を、ピンセット14を
伸ばしたままの状態で、第2のウエハ搬送装置50のピ
ンセット52の下方から上昇させることとしてもよい。
【0042】このように、ウエハ載置手段34を半導体
ウエハの受け渡し場所に固定して設けることは必須では
なく、第1のウエハ搬送装置110と第2のウエハ搬送
装置50との間で、直接、半導体ウエハの受け渡しを行
うことも可能である。
【0043】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ウエハを保持すると同時に、このウエハのセンタ
リングを行なうことが可能なウエハ搬送装置を安価に提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例に係わるウエハ搬送装置を用
いたレジスト膜形成装置の概略構成を示す概念図であ
る。
【図2】本発明の1実施例に係わるウエハ搬送装置の構
成を概略的に示す図であり、図2(a)は上面図、図2
(b)は正面図である。
【図3】本発明の1実施例に係わるウエハ搬送装置を概
略的に示す側面図であり、図3(a)はピンセットをの
ばしていない状態を示す図、図3(b)はピンセットを
のばした状態を示す図である。
【図4】図4(a)、図4(b)ともに、本発明の1実
施例に係わるウエハ搬送装置を用いたウエハの保持方法
を説明するための概念図である。
【図5】本発明に係わるウエハ搬送装置を用いたレジス
ト膜形成装置の他の例を示す概念図である。
【符号の説明】
10,110 第1のウエハ搬送装置 12 搬送基台 14 ピンセット 16a 段部 16b 押圧部 18a,18b センタリング部材 20a,20b 取付金具 22 昇降ロッド
TE038401

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 板状体を保持して搬送する板状体搬送装
    置において、上面に前記板状体を保持可能に構成された
    板状体保持部材と、この板状体保持部材の予め定められ
    た保持部に設けられた第1の位置決め部材と、前記板状
    体を載置した前記板状体保持部材が移動したときにこの
    板状体の側面に当接して前記板状体を位置決めする如く
    設けられた第2の位置決め部材と、を具備することを特
    徴とする板状体搬送装置。
JP22486091A 1991-04-19 1991-08-08 板状体搬送装置 Expired - Lifetime JP2919123B2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003095435A (ja) * 2001-09-27 2003-04-03 Ebara Corp 四辺形基板搬送ロボット
US6712579B2 (en) 2001-04-17 2004-03-30 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate transfer apparatus and substrate transfer method
US6729559B2 (en) 2000-10-17 2004-05-04 Daizo Co., Ltd. Rotary aerosol product
JP2011018794A (ja) * 2009-07-09 2011-01-27 Sumco Corp ウェーハ搬送装置及びウェーハ搬送方法
JP2011035281A (ja) * 2009-08-05 2011-02-17 Disco Abrasive Syst Ltd ワーク収納機構および研削装置

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