JP2812346B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2812346B2 JP2812346B2 JP1207792A JP1207792A JP2812346B2 JP 2812346 B2 JP2812346 B2 JP 2812346B2 JP 1207792 A JP1207792 A JP 1207792A JP 1207792 A JP1207792 A JP 1207792A JP 2812346 B2 JP2812346 B2 JP 2812346B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- liquid crystal
- active matrix
- display device
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136263—Line defects
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136272—Auxiliary lines
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
晶表示装置に関し、特にアクティブマトリクスアレイ基
板における表示領域周辺の配線部の構造に関する。
たスイッチング素子を持つ表示エレメントアレイよりな
るアクティブマトリクス液晶パネルが実用化され、CR
Tに代わる薄型軽量表示装置として脚光を浴びている。
ティブマトリクスアレイ基板を有し、これには、マトリ
クス状に配置されるスイッチング用アクティブ素子と液
晶駆動透明電極とよりなる表示セル、ならびにそれらを
結ぶ複数のゲート配線、絶縁膜を介してゲート配線に直
交する複数の信号配線が搭載される。このようなアクテ
ィブマトリクスアレイ基板は、半導体薄膜、絶縁性薄膜
や導電性薄膜をガラス基板の片側表面全体に堆積、パタ
ーン化することを順次繰返すことで形成される。
ティブマトリクスアレイ基板の配線部の構造では、例え
ば基板であるガラスと配線を構成する金属薄膜、あるい
は金属配線とそれを覆う絶縁膜などとの熱膨脹係数の差
や、金属膜内部応力などに起因して配線金属構成原子の
一部が移動する。このような現象を、この技術分野で
は、ストレスマイグレーションと呼んでいる。このスト
レスマイグレーションにより、配線が断線を起こす場合
がある。また、配線パターン形成工程における欠陥導入
や、段差構造部における金属膜の段差被覆性の不良に起
因する配線の断線もある。断線した配線は最終的には線
状の表示欠陥として表れ不良となる。このような欠陥
は、表示画面の面積が拡大し配線が長くなればなるほど
発生確率が増大する。結果として、歩留りの低下をきた
し、生産性の観点で大きな問題になる。
は、アクティブマトリクスアレイ基板形成工程の途中で
は困難であり、通常は対向基板(カラー表示の液晶では
カラーフィルタ基板)と重ね合わせて両基板間に液晶を
封入するパネル化工程以後に実施される。即ち、付加価
値が増大した状態にまで至ったのち検査することにな
り、例えば上記線状の表示欠陥の有るパネルが発見され
てもその時点で廃棄処分することになり、多大な損失に
なる。このため、アクティブマトリクスアレイ基板上の
表示部外の周辺領域に、補修用の補助配線とその外部へ
の接続端子とを設けた配線構造が提案されている(例え
ば、米国特許第4,688,896号明細書や米国特許
第4,840,459号明細書参照)。
号配線の駆動電気信号の入力端子の反対側、即ち開放端
側の表示領域外の配線延在部にそれに直交する補修用の
補助配線とその外部への接続端子とを設けている。ゲー
ト配線あるいは信号配線に断線が生じた場合には当該配
線の開放端側で補助配線との交差点を短絡させ、補助配
線の外部接続端子から断線した配線駆動電気信号を同時
供給して表示欠陥を補修するものである。
本、場合によっては数千本にもおよぶ配線群の中から個
々の不良パネル毎に不特定の場所に発生する断線した配
線の駆動信号を選択し、パネル外に一旦取り出し迂回
し、改めて補助配線の外部接続端子から供給することに
なる。したがって、駆動回路LSIを搭載した基板側の
100〜200μmピッチの微細な間隔の端子群とアク
ティブマトリクスアレイ基板側の配線入力端子群とを位
置合せし、数十個から百個以上も同時に一括して重ね合
わせ接続するモジュール化工程では、任意に特定の駆動
信号を取り出し、迂回し、補助配線の外部接続端子に供
給することは実質的に困難で、大量生産に適用するのは
事実上不可能である。
アクティブマトリクスアレイ基板の配線部の断線の補修
方法の問題を回避しうる配線構造をもつアクティブマト
リクス液晶表示装置を提供することにある。
置は、アクティブマトリクスアレイ基板上に、平行して
延在する第1の配線群と、前記基板全面を覆う層間絶縁
膜と、当該絶縁膜上に前記第1の配線群に直交する方向
に平行して延在する第2の配線群と、を具備する。
枠外において前記第1の配線群と前記第2の配線群の一
方若しくはそれら双方の入力端子側並びに開放端側延在
部と前記絶縁膜を介して絶縁された形で直交する補修用
の補助配線を少なくとも1本以上具備し、前記第1の配
線群あるいは前記第2の配線群の入力端子側並びに開放
端側延在部の配線と前記補助配線との交差部近傍にそれ
ぞれの配線の延びる方向と異なる方向へ突出した短絡用
配線パターンと、下層側短絡配線パターン上の絶縁膜に
設けられた開口部とを具備したことを特徴とする液晶表
示装置が得られる。
による金属膜堆積により、アクティブマトリクス基板上
の配線と補助配線との任意の交差部近傍の突出部におい
て両者を電気的に短絡することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法が得られる。
て説明する。
ス液晶表示装置を構成するアクティブマトリクスアレイ
基板の配線部の平面図である。
は、ガラス基板表面にスイッチングトランジスタ(図示
せず)のゲート配線となる第1の配線102と、第1の
配線102を含め基板全体を覆う層間絶縁膜(図示せ
ず)、および第1の配線102に直交し信号配線となる
第2の配線105が形成されている。第1の配線102
と第2の配線105の各々の交差部にはスイチングトラ
ンジスタと画素透明電極(図示せず)とよりなる表示セ
ルが配置されている。対向基板外形106より外側に相
当するアクティブマトリクスアレイ基板上には補助配線
107が形成されている。更に、断線108が発生した
第1の配線の両端で、補助配線と交差する2点で第1の
配線と補助配線とを短絡109する構造である。
(伝搬遅延時間)は、断線のない正常な配線のそれに比
べて必ず大きくなる。また、各配線を駆動する駆動回路
(図示せず)は、正常な配線と断線修復した配線との区
別を行うことはできない。したがって、補助配線部の抵
抗の抵抗値および容量の容量値を低減するため、補助配
線部には低抵抗率の材料を選択し、パターン配置の最適
設計を行う必要がある。さらに、駆動回路の駆動能力に
十分な余裕を持たせておくことが望ましい。
産段階での出現率、補修工程のコスト、補助配線に必要
な周辺領域の面積などに関係する。
については、種々の方法が考えられる。その方法の一つ
に、例えば、補助配線と断線した配線との交差部にレー
ザ光を照射し層間絶縁膜を破壊する方法がある。この方
法をレーザ照射法と呼ぶ。また、別の方法として、図3
に示される方法もある。
302とが交差する交差部近傍に短絡専用のパターン
(後述する)および絶縁膜開口304を予め設けてお
く。すなわち、短絡専用パタ−ンとして、補助配線30
7からその延びる方向と異なる方向へ突出した突起部3
11と、配線302からその延びる方向と異なる方向へ
突出した突起部312とを予め設けておく。そして、短
絡必要部分を局部化学気相成長による金属堆積薄膜31
0によって補助配線307と配線302とを、突起部3
11、突起部312、および突起部312上に設けられ
た絶縁膜開口304を介して短絡する。この方法を短絡
法と呼ぶ。この短絡法では、上記レーザ照射法に比較し
て、補助配線や断線して配線を損傷する可能性が極めて
小さい。
ス液晶表示装置を構成するアクティブマトリクスアレイ
基板の配線部の平面図である。
示領域外周を一周しており、第1の 配線用と第2の配線
用との区別が無かった。これに対し、第2の実施例で
は、補助配線を表示領域外周を半周する形に配置し、第
1配線用の補助配線207aと第2配線用の補助配線2
07bとに区別している。このような第2の実施例の構
造では、補助配線1本当りに必要な周辺領域の面積が、
第1の実施例のそれの半分で済む。
断線した配線の両端部2箇所を補助配線に短絡すること
のみで、線状の表示欠陥を修復できる。また、表示欠陥
の修復は、パネル化後の状態は勿論、周辺に駆動回路基
板を付けた状態でも可能である。さらに、断線位置に応
じて特定の駆動信号を取り出し、迂回し、補助配線の外
部接続端子に別途供給する必要がないので、モジュール
化工程に検査や修正工程などの特別な追加工程は一切必
要としない。
ティブマトリクス液晶表示装置を製造できる。
クス液晶表示装置を構成するアクティブマトリクスアレ
イ基板の配線部の平面図である。
クス液晶表示装置を構成するアクティブマトリクスアレ
イ基板の配線部の平面図である。
絡方法を説明するための図で、(a)は平面図、(b)
は図3(a)のa−a´断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 アクティブマトリクスアレイ基板上に、
平行して延在する第1の配線群と、前記基板全面を覆う
層間絶縁膜と、当該絶縁膜上に前記第1の配線群に直交
する方向に平行して延在する第2の配線群と、表示領域
外かつ対向基板枠外において前記第1の配線群と前記第
2の配線群の一方若しくはそれら双方の入力端子側並び
に開放端側延在部と前記絶縁膜を介して絶縁された形で
直交する補修用の補助配線を少なくとも1本以上具備す
るアクティブマトリクス液晶表示装置において、 前記第1の配線群あるいは前記第2の配線群の 入力端子
側並びに開放端側延在部の配線と前記補助配線との交差
部近傍にそれぞれの配線の延びる方向と異なる方向へ突
出した短絡用配線パターンと、下層側短絡配線パターン
上の絶縁膜に設けられた開口部とを具備したことを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 局部化学気相成長による金属膜堆積によ
り、アクティブマトリクス基板上の配線と補助配線との
任意の交差部近傍の突出部において両者を電気的に短絡
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1207792A JP2812346B2 (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1207792A JP2812346B2 (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05203986A JPH05203986A (ja) | 1993-08-13 |
JP2812346B2 true JP2812346B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=11795526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1207792A Expired - Lifetime JP2812346B2 (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2812346B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW406204B (en) * | 1995-09-21 | 2000-09-21 | Advanced Display Kk | Liquid crystal display apparatus |
KR101058094B1 (ko) * | 2004-12-10 | 2011-08-24 | 삼성전자주식회사 | 어레이 기판, 이를 갖는 표시장치 및 리페어 방법 |
US7777825B2 (en) | 2004-12-14 | 2010-08-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and a defect correcting method for the same |
JP2006171576A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP5099988B2 (ja) * | 2005-08-08 | 2012-12-19 | 株式会社ジャパンディスプレイセントラル | 液晶表示装置 |
WO2007097074A1 (ja) | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | アクティブマトリクス基板、表示装置、テレビジョン受像機、アクティブマトリクス基板の製造方法、ゲート絶縁膜形成方法 |
JP4588785B2 (ja) | 2006-02-24 | 2010-12-01 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板、表示装置、テレビジョン受像機 |
TWI363241B (en) * | 2007-07-16 | 2012-05-01 | Au Optronics Corp | Lower substrate for an fpd |
WO2017037953A1 (ja) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 液晶表示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62283320A (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-09 | Toshiba Corp | 電気的接続装置 |
JPH02156227A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-15 | Sharp Corp | アクティブマトリクス表示装置の表示電極基板 |
-
1992
- 1992-01-27 JP JP1207792A patent/JP2812346B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05203986A (ja) | 1993-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI388912B (zh) | 製造陣列基板之方法 | |
US6980264B2 (en) | Repair method for defects in data lines and flat panel display incorporating the same | |
CA2054935C (en) | Method of manufacturing flat panel backplanes including redundant gate lines and displays made thereby | |
KR100264112B1 (ko) | 액티브 매트릭스 기판 및 그 제조 방법 | |
US20130294003A1 (en) | Substrate for display and liquid crystal display utilizing the same | |
US20060012728A1 (en) | Display device and method for repairing line disconnection thereof | |
JP2000310796A (ja) | 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板 | |
US4894690A (en) | Thin film transistor array incorporating a shorted circuit bypass technique | |
US6646694B2 (en) | Method of repairing LCD data lines | |
JP2812346B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JPH10123563A (ja) | 液晶表示装置およびその欠陥修正方法 | |
JP3066569B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2806740B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
US5466620A (en) | Method for fabricating a liquid crystal display device | |
JP2713211B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
JPH0713197A (ja) | マトリックス型配線基板およびそれを用いた液晶表示装置 | |
US5523866A (en) | Liquid-crystal display device having slits formed between terminals or along conductors to remove short circuits | |
JPH03171034A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JPH0324524A (ja) | アクティブマトリクス表示装置 | |
JPH0394223A (ja) | アクティブマトリクス表示装置の製造方法 | |
KR100318540B1 (ko) | 액정표시장치및그제조방법 | |
JP2001345452A (ja) | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 | |
JPH04283725A (ja) | 薄膜トランジスタマトリクス及びその断線修復方法 | |
JP2001264788A (ja) | 配線電極の接続方法、液晶表示装置用基板の製造方法と液晶表示装置用基板の欠陥修正方法、および液晶表示装置の製造方法、並びにそれに用いる加工装置 | |
JPH06130419A (ja) | アクティブマトリクス基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980708 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070807 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080807 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080807 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090807 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100807 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110807 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110807 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 14 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 14 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 14 |