JP2806660B2 - 不揮発性記録装置 - Google Patents
不揮発性記録装置Info
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Description
容量を有し、情報を電気的に書き込み・読み出しできる
ようになった不揮発性記録装置に関し、特にコンピュー
タ、メモリカードおよびワープロ等の機器に幅広く利用
が期待できる不揮発性記録装置に関する。
録装置の代表的なものとして、以下の4種類のものがあ
る。
発性メモリ。
安価であるためオーディオテープやビデオテープ等とし
て最も普及している。また、非常に大容量の記録装置で
あり、コンピュータ用のバックアップメモリとしても使
用される。
しか行えないため、ランダムアクセが行えず、また、情
報の読み出し・書き込みに要するアクセス時間が長いと
いう欠点がある。
使用される。取り扱いが簡単であり安価なフロッピーデ
ィスクと、フロッピーディスクに比べて記録容量は大き
いが、取り扱いが難しく、高価なハードディスクがよく
用いられる。
ムアクセスが可能であり、情報の書き込み・書き換えが
比較的容易に行えることである。
ーディスク1枚で1メガバイト程度、3.5インチのハ
ードディスク1枚で40メガバイト程度であり、大容量
化、高密度化を図る上で限界がある。
り、高密度な記録が可能である。該IC不揮発性メモリ
の代表的なものとして、電気的な書き込みと紫外線照射
による消去を行うEPROMと、電気的な書き込み・消
去が可能なEEPROMがある。これらのIC不揮発性
メモリは小型軽量、アクセス時間が短い、消費電力が小
さいなどといった長所を備えている。
EPROMを例にとってその詳細を説明する。図4はE
EPROMのメモリーセルの断面形状の一例を示す。シ
リコン基板7の表面にゲート酸化膜5を積層し、該ゲー
ト酸化膜5上にフローティングゲート4および制御ゲー
ト2を形成する。制御ゲート2は、キャリアが蓄積、保
存されるフローティングゲート4へのキャリアの注入を
制御する。両ゲート2、4間はシリコン酸化膜からなる
絶縁膜3で分離されている。シリコン基板7上には前記
ゲート2、4を覆うようにして表面保護膜1が形成され
る。表面保護膜1としては、通常シリコン酸化膜やシリ
コン窒化膜が用いられる。また、シリコン基板7の表層
部には不純物が打ち込まれたソース領域8と、ドレイン
領域6が形成され、更に両者間にチャネル領域9が形成
される。
はドレイン領域6と制御ゲート2との間に電圧を印加
し、ゲート酸化膜5を通してホットエレクトロンとして
キャリアをフローティングゲート4に注入する。一方、
記録された情報の消去は、ソース領域8と制御ゲート2
との間に電圧を印加し、Fowler−Nordhei
m(N−F)Tunneling現象を利用してキャリ
アを除去する。また、記録情報の読み出しは、ソース領
域8とドレイン領域6との間のチャンネル領域9の反転
電圧の閾値電圧でON/OFFの判断をして行う。
膜5を通して行うので、ゲート酸化膜の膜質と膜厚はE
EPROMの構成上非常に重要である。例えば、記録容
量が1メガビットのEEPROMでは通常ゲート酸化膜
5の膜厚は20nm程度の薄膜であるため、膜質、膜厚
の管理が難しく、歩留まりの低下によるコストアップが
大きな問題になっている。また、チップの寸法は通常、
短辺・長辺共に7〜10mm程度であり、記録容量を大き
くするためにチップ面積を大きくすると、歩留まりが低
下し、よりコストアップになる欠点がある。
では上記のような長所を有する反面記憶容量の向上を図
る上で限界がある。因みに、現在のEEPROMの記録
容量は1〜4メガビット程度であり、他の不揮発性記録
装置である光磁気ディスクや磁気ディスクと比較すると
記録容量は小さい。
装置であり、代表的な大容量不揮発性記録装置の1つで
ある。
ており、該光磁気ディスクは記録媒体として垂直磁化特
性を示す磁性薄膜15、16を用いる。情報の記録は、
磁性薄膜15、16を予め磁化した方向とは逆向きの弱
い磁界の中でレーザー光20をディスク上の集光領域2
1に集光し、局部的な加熱により磁性薄膜15、16に
情報を記録する。一方、情報の再生はカー効果又はファ
ラデー効果を利用して行われる。すなわち、直線偏光さ
れたレーザー光20をディスクの上に照射すると、その
透過光又は反射光は磁性薄膜15、16の磁化状態に応
じて偏光面が回転するので、この偏光面の回転を検光子
を用いて光の強弱信号に変換し光検出器で電気信号とし
て検出することにより、情報を再生する。このような光
磁気ディスクは文書ファイルや画像ファイル用の大容量
記録が可能な記録装置として実用化されている。
よる記録であるため、透明なガラス基板12を通して非
接触で記録できることである。すなわち、この記録方法
によれば記録面23側のゴミは問題とならない。これに
対して、基板面22側のゴミは影響するが、基板面22
側ではレーザー光20の焦点が合っていないため、ビー
ム径が数百ミクロンと大きく、多少のゴミが存在して悪
影響を受けることがない。
レーザー光20で情報を記録・再生するため、高密度な
記録が可能になる。因みに、3.5インチディスクで1
20メガバイト程度の大容量のメモリが実現できる。
み・読み出しにレーザー、磁石、回転機構(ディスクの
回転機構)が必要になるため、大型の周辺装置を要し、
価格が高くなる欠点がある。
なった従来の不揮発性記録装置は上記のような長所およ
び短所を有するが、このことにより今後望まれる不揮発
性記録装置としては、以下の(1)、(2)、(3)、
(4)の項目を充足することが要請される。各項目につ
いて上記従来の不揮発性記録装置を再評価すると以下の
ようになる。
こと。
スクで記録容量が1メガバイト程度であり大容量化、高
密度化に対応出来ない。
性メモリでは高密度化は実現出来るが、歩留まりの制限
によりチップ面積を大きくできないため、大容量化が困
難である。
することにより大容量化が実現出来るが、高密度化に対
応するためにヘッドとディスクの間隔を1ミクロン以下
まで狭めており、衝撃や振動により破損しやすく、また
微小なゴミであってもヘッドやディスクに付着すると記
録装置を破損してしまう欠点がある。
小型・簡潔・安価であること。
磁気ディスクは、共にディスクを回転して情報の書き込
み・読み出しを行うため、モーターなどの回転機構が必
要であり、周辺装置が大型化、複雑化する。
ッドの間隔を精密にしなければならないことや、耐衝撃
性を確保するために緩衝材が必要であるため、装置全体
が大型化し、重くなる問題がある。
出しにレーザと磁石を使用するため、装置が大型化し、
重くなり、高価格になる欠点がある。
ること。
磁気ディスクではディスクを回転しながらアクセスすべ
き情報の位置を探すため、読み出し速度の高速化を図る
上で限界がある。また、磁気テープでは読み出し・書き
込み速度が共に遅い欠点がある。
上記(1)、(2)、(3)、(4)の各項目をすべて
充足したものはなく、これら項目を全て充足する全く新
しいタイプの不揮発性記録装置の実現が要請されてい
た。
(2)、(3)、(4)の各項目をすべて充足する不揮
発性記録装置を特願平3-138027号で提案した。図6ない
し図8はこの不揮発性記録装置の概略構成を示す。図に
おいて、上部電極41は列方向に等間隔で複数本配設さ
れ、配向膜56を介して液晶53に接している。上部電
極41の下方には、該上部電極41と直交する行方向に
複数本の下部電極42が配設される。上部電極41と下
部電極42との間、より具体的には両電極41、42の
交差部にメモリセル43が形成される。
は耐熱性の優れたタングステンWが用いられる。また、
発熱体44としては減圧CVD法で形成される高純度な
多結晶シリコン(ポリシリコン)が用いられる。
43はシリコン(Si)基板55とガラス基板52間に
配設および封入される以下の構成要素からなる。シリコ
ン基板55に対向配置されるガラス基板52の対向面に
は対向電極51が配設され、該対向電極51の表面に配
向膜56が形成される。
ルド絶縁膜57が形成され、その上に下部電極42が形
成されている。下部電極42と上部電極41との間には
両者間の絶縁性を保つためにシリコン窒化膜(Si
3N4)からなる電極間絶縁膜54が形成される。この電
極間絶縁膜54はメモリセル54の部分で開口54a
し、その部分で上部電極41と下部電極42の間に発熱
体44が直接挟み込まれている。発熱体44は図8に示
されるように平板状をなす。上部電極41と発熱体44
の上には液晶53に接するようにして配向膜56が形成
される。
下部電極42との間に電圧を印加して発熱体44の両電
極41、42の交差部に相当する部分を発熱させると、
対応する液晶53、すなわち、メモリセル43が相変化
を生じ、これにより情報の書き込みが行えるようになっ
ている。今少し説明すると、液晶53はp−シアノビフ
ェニルをメソゲン基とするアクリルタイプの高分子ネマ
チック液晶やポリシロキサン系の高分子スメクチック液
晶等の液晶化合物又は分子中に液晶成分を含む化合物か
らなる。
する電圧と時間を制御することにより、記録媒体を構成
する液晶を相転移等の状態変化、例えば等方相となる温
度まで昇温せしめ、その後に上部電極41と対向電極5
1の間に情報書き込み用の電圧を印加し、加熱用の電流
の通電を停止し急冷するか、あるいは情報書き込み用の
電圧を印加せずに加熱用の電流,電圧を制御し徐冷する
ことによって液晶は配向状態となり、モノドメイン状態
となる。
加熱用の電流の通電を停止し急冷すると液晶はポリドメ
イン状態となる。その後、室温まで冷却されると液晶は
ガラス状態になり、その状態が保持される。
状態として書き込まれた情報は室温では長期間保持され
るため、書き込まれた情報を記録情報として保存でき
る。この状態の異なる液晶は誘電率が異なっているの
で、記録情報は電気的に読み出すことが出来る。
は以下に示す改善点がある。それは熱の伝搬に伴うクロ
ストークの問題である。以下にその詳細を図9、図10
および下記表1に従って説明する。
熱伝導率K〔W/m・K又はcal/s・cm・de
g〕、熱容量C〔J/g・K〕、密度ρ〔g/m3〕お
よび熱拡散率D〔m2/s〕を示している。ここで、熱
拡散率Dは非定常解析における熱の伝搬を考える上で最
適のパラメータとなるものであり、熱拡散率Dと熱伝導
率K、熱容量Cおよび密度ρとの間には下記式で示す
関係が成立する。
i、Wが他の材料よりも大きく、上記構成の不揮発性記
録装置によれば、上部電極41、下部電極42、発熱体
44およびシリコン基板55で熱の伝搬が大きいことが
わかる。従って、上記構成の不揮発性記録装置の加熱部
における熱流を分析すると、図9に矢印で示す方向に熱
が伝搬されることになる。すなわち、熱流は主として上
部電極41、下部電極42および発熱体44を通って周
囲に伝搬されて行くことになる。
拡散率Dは小さいため、液晶層中における熱流の伝搬速
度は遅くなる。従って、液晶層中の温度分布は加熱部表
面、すなわち液晶53に接するシリコン基板55側表面
の温度の影響を受け易く、図10に等温線100で示す
ような温度分布になる。すなわち、等温線100の分布
状態からわかるように緩やかな温度分布になり、加熱部
から離れても液晶層の温度がなかなか低下しないことが
わかる。
接する周囲のメモリセル43も加熱されることを意味す
る。すなわち、上記構成の不揮発性記憶装置によれば、
隣接するメモリセル43に熱が伝搬し、熱的なクロスト
ークを生じ易いという難点がある。このため、書き込み
精度の向上を図る上で限界があった。
の間隔を大きくすれば低減できる。しかるに、このよう
にすると、メモリセルのピッチが大きくなり、記録密度
が低下するという新たな欠点がある。
消するものであり、高密度、大容量化が図れ、書き込み
・読み出しを高速度で行えると共に、周辺装置の小型
化、簡潔化および低価格化が図れ、更には発熱に伴うク
ロストークを確実に排除でき、情報の書き込み・読み出
しを精度よく行える不揮発性記録装置を提供することを
目的とする。
置は、対向配置される一対の基板間に液晶化合物又は分
子中に液晶成分を含む化合物で形成された記録媒体を封
入すると共に、加熱手段により該記録媒体を加熱して情
報を書き込み、読み出し手段により該記録媒体に書き込
まれた情報を読み出すようにした不揮発性記録装置であ
って、該加熱手段が、少なくともいずれか一方が該基板
の一の方向に延出する帯状に形成された上下の電極と、
該上下の電極間に挟圧支持され、該上下の電極間に印加
される電圧によって発熱する発熱体とを有すると共に、
該一の方向と直交する第2の方向に隣接する該加熱手段
間に、該加熱手段及び該記録媒体を構成する部材より熱
拡散率が低い材料で形成された絶縁体を配設してなり、
そのことにより上記目的が達成される。
い。
報の書き込み・読み出し動作を説明する。上下の電極間
に電圧を印加し、発熱体に電流を通電すると、該発熱体
にジュール熱が発生する。この加熱用の電流、電圧とそ
の印加時間を制御することにより、記録媒体を構成する
液晶を相転移等の状態変化、例えば等方相となる温度ま
で昇温せしめ、その後に上部電極と対向電極の間に情報
書き込み用の電圧を印加し、加熱用の電流の通電を停止
し急冷するか、あるいは情報書き込み用の電圧を印加せ
ず、加熱用の電流、電圧を制御し除冷することによって
液晶は配向状態となり、モノドメイン状態となる。
加熱用の電流の通電を停止し急冷すると、液晶はポリド
メイン状態になる。その後、室温まで冷却されると液晶
はガラス状態になり、その状態が保持される。
状態として書き込まれた情報は室温では長期間保持され
るため、書き込まれた情報を記録情報として保存でき
る。この状態の異なる液晶は誘電率が異なっているの
で、記録情報は、対向電極と上部電極間に交流電圧を印
加し、誘電体である記録媒体の電気容量を測定すれば記
録情報を電気的に読み出すことができる。
移等の状態変化を生じる迄昇温し、その後、発熱体に印
加する電流、電圧を制御することにより、液晶を徐々に
冷却若しくは急冷であっても冷却時に情報書き込み電圧
を印加すると、液晶はモノドメイン状態になる。あるい
は情報書き込み電圧を印加せずに急冷するとポリドメイ
ン状態になる。これにより一旦書き込まれた情報を消去
できる。
的制御により記録媒体に対する情報の書き込み・読み出
しができる。
に、加熱手段及び記録媒体を構成する部材より熱拡散率
が低い材料で形成された絶縁体を配設すると、該絶縁体
が熱流の伝搬を阻止するので、加熱手段により加熱され
る液晶相当部と該液晶相当部に隣接する液晶相当部間、
すなわち隣接するメモリセル間において熱的なクロスト
ークが発生するのを防止できる。
を模式的に示しており、周辺回路は機能別にブロック毎
に分割して示してある。入出力信号制御部31は、他の
装置からの入力信号を信号処理してメモリーセルへ信号
(書き込み情報)を送る機能と、メモリーセルより読み
出された信号を信号処理して他の装置へ送る機能等を有
する。論理系制御部32は該不揮発性記録装置全体の信
号処理を制御する。駆動回路部33は論理系制御部32
からの指令により記録部34のメモリーセルへ電気信号
を供給するための電流を通電する。記録部34は入出力
信号制御部31から与えられる信号を蓄積し、記録情報
として保存する。
うに、記録情報の書き込み/書き換えのための加熱用の
発熱体44と、該発熱体44に電流を通電する配線を有
するシリコン基板55とガラス基板52とを有し、両基
板52、55間に記録媒体としての液晶(液晶層)53
を封入した概略構成をとる。
が列方向に複数本形成される。また、対向電極51の表
面には液晶53に接する配向膜56が形成される。液晶
53はその相転移現象によって信号を記録する機能を有
する。
交する行方向に延びる帯状をなし、該発熱体44に電流
を供給してこれを発熱させる上下の電極41、42間に
直接挟み込まれている。すなわち、上部電極41および
下部電極42は共に所定幅を有する帯状をなし、列方向
にほぼ等間隔で行方向に複数本配設され、両者間に発熱
体44が挟み込まれている。上部電極41の表面(上
面)は配向膜56を介して液晶53に接している。下部
電極42はシリコン基板55上に全面形成されたフィー
ルド絶縁膜57上に形成される。
分がメモリセルに相当し、両電極41、42の配設方向
に複数個形成される。両電極41、42の材質として
は、本実施例では耐熱性の優れたタングステンを用い
た。配向膜56および前記対向電極51の表面に形成さ
れる配向膜56は、共にポリイミドを塗布加熱後ラビン
グ処理して形成される。
るものではなく、他の配向膜材料を用いても構わない。
また、液晶材料と書き込み/書き換え条件を選べば配向
膜を省略することもできる。
び発熱体44で液晶53の相当部分、つまりメモリセル
を加熱する加熱手段が形成され、該加熱手段はほぼ等間
隔で行方向に複数本配設されるが、列方向に隣接する加
熱手段間には絶縁体58が配設される。該絶縁体58は
加熱対象のメモリセルから隣接するメモリセルに熱が伝
搬して熱的クロストークが発生するのを防止するために
配設される。このため、絶縁体58の材質としては、熱
拡散率Dの小さいものが好ましく、例えば半導体、液晶
表示装置の工程で多用されるポリイミドを用いればよ
い。ポリイミドは上記表1に示すように液晶に比べて熱
拡散率Dが小さくなっている。
る半導体用単結晶シリコンであり、抵抗値を制御するた
めに不純物を添加してある。該シリコン基板55でその
まま下部電極42を形成すると、上部電極41との間で
通電される駆動電流がシリコン基板55へリークする。
そこで、本実施例では電流リークを防止するため、シリ
コン基板55の表面をフィールド絶縁膜57で覆い、そ
の上に下部電極42を形成する構成をとる。
44の発熱により上部電極41および下部電極42に共
に温度上昇が生じるため、電極材料は耐熱性が要求され
る。そこで、本実施例では、上記のように減圧CVD法
で形成したタングステンを用いた。一方、発熱体44は
耐熱性を持つと同時に適度な抵抗値と微細加工が可能な
材料を使用する必要が有り、本実施例では高純度な多結
晶シリコンを減圧CVD法で形成した。
形成したタングステンに限定されるものではなく、耐熱
性と耐薬品性を備え、形成と加工が容易であり低抵抗な
材料であれば他の材料を用いても構わない。また形成方
法についても減圧CVD法に限定されず、膜厚を均一に
できる方法であればよい。
CVD法で形成したものを用いたが、適当な抵抗値と耐
熱性,耐薬品性を備えた形成と加工が容易な材料であれ
ば他の材料と他の形成方法を用いても構わない。
工程について説明する。本実施例では周辺MOS IC
の形成工程と記録部34の形成工程が必要であるが、こ
こでは説明の簡略上MOS ICのプロセスについては
触れず、メモリーセルの工程のみを説明する。
0)の単結晶シリコンウエハーを用いた。まず、シリコ
ン基板55上に800nmのフィールド絶縁膜57を形成
する。該フィールド絶縁膜57としては、Si3N4又は
SiO2が好ましい。次いで、フィールド絶縁膜57上
に減圧CVD法により膜厚1.2μmのタングステン膜
を形成する。そして、該膜をフォトリソグラフィとドラ
イエッチングにより不要部分を除去し、下部電極42を
パターン形成する。次に、例えばプラズマCVD法によ
りフィールド絶縁膜57上に下部電極42を覆うように
してSi3N4又はSiO2を成膜して絶縁膜57′を形
成する。次いで、フォトリソグラフィとドライエッチン
グにより、該絶縁膜57′の下部電極42の上面に相当
する部分および隣接する加熱手段間に相当する部分を開
口する。
法によって比抵抗が約1000Ω・cm、膜厚が約1.0μ
mの多結晶シリコンを形成し、発熱体44とする。多結
晶シリコンはボロン、リン、金属等の不純物が膜中へ混
入すると抵抗値が下がり発熱したときに所定の温度に達
しなくことがある。従って、減圧CVD法に使用する材
料の純度や装置の清浄度に特に注意する必要がある。本
実施例では、多結晶シリコン形成用の材料として高純度
のモノシランガスを用い、減圧CVD法で発熱体44を
形成したが、必要な抵抗値を確保できれば、他のシリコ
ン化合物や他の形成方法を用いても構わない。次いで、
フォトリソグラフィとドライエッチングにより下部電極
42の開口部の上以外の不要部分を除去する。
のタングステン膜を形成し、該膜をホトリソグラフィと
ドライエッチングにより不要部分を除去して上部電極4
1をパターン形成する。次に、加熱手段間に位置する開
口部にポリイミド膜を塗布し、続いて該ポリイミド膜の
表面を研磨し、これにより絶縁体58を形成する。上部
電極41の表面と絶縁体58の表面は面一状態にある。
そして、絶縁体58および上部電極41の上に、ポリイ
ミド材料を回転塗布し加熱重合後、不要部分を除去し、
ラビング処理を行って配向膜56を形成した。
下部電極42、発熱体44および絶縁膜57′の必要領
域のみが残された状態で不要部分が除去されるので、熱
的クロストークを防止する上で好ましいものになる。す
なわち、これらは材質が熱拡散率の大きなタングステ
ン、ポリシリコン、Si3N4又はSiO2であるので、
不要部分を可及的に除去すれば、その分、加熱対象のメ
モリセルから隣接するメモリセルへの熱伝達量を低減で
きるからである。
な大きさに裁断され、しかる後、スパッタリング法によ
り表面にITO(Indium Tin Oxide)
膜からなる透明導電膜が積層され、続いて、ホトリソグ
ラフィとエッチングにより、ITO膜の不要部分を除去
し、対向電極51を列方向に配設する。対向電極51の
配設ピッチと電極の太さは、情報の書き込みと読み出し
に最適の条件になるように選定した。そして、その後、
対向電極51の表面にポリイミド材料を回転塗布し、加
熱重合後、不要部分の除去とラビングを施し配向膜56
を形成する。
板55とガラス基板52を、それぞれの電極形成面を内
側にして対向し、且つシリコン基板55側のメモリーセ
ル上に対向電極51が位置するように位置合わせる。そ
して、ガラス基板55の記録部34の周辺に当たる部分
をシールする。その後、p−シアノビフェニルをメソゲ
ン基とするアクリルタイプの高分子ネマチック液晶(T
i=106℃、重合度;150)をシリコン基板55と
ガラス基板52の間に充填する。そして、該高分子ネマ
チック結晶を100V、500Hzの交流電圧を印加し
つつ、等方相から除冷し、ホメオトロピック配向状態と
する。最後に完成したシリコン基板55をダイシング
し、ボンディングを行った後、パッケージに収納する。
定されるものではなく、熱により相転移等の状態変化を
起こし、変化した状態を保持できるものならば他の液晶
材料を使用しても構わない。
不揮発性記録装置の加熱部における温度分布を示してお
り、等温線100の傾きより明かなように、本発明不揮
発性記憶装置によれば、加熱部から離れると、液晶53
の温度が急激に低くなっていることがわかる。従って、
本発明不揮発性記録装置によれば、加熱対象のメモリセ
ルに対して加熱手段の配設方向に直交する方向において
隣接するメモリセルに熱的なクロストークが発生するこ
とがない。それ故、本発明不揮発性記憶装置によれば、
記録密度の向上が図れると共に、精度のよい書き込み・
読み出しが可能になる。なお、加熱手段の配設方向に隣
接するメモリセルは均一に加熱されるので、この方向に
おいて熱的なクロストークを生じることはない。
き込み・読み出しは、本願出願人が先に提案した不揮発
性記録装置同様に行われるので、具体的な説明について
は省略する。
ても行うことができる。すなわち、モノドメイン構造で
は液晶53は透明状態であるのに対し、ポリドメイン構
造では光の散乱のために液晶53が不透明状態になる。
したがって、メモリーセルにレーザー光等の光を照射
し、液晶53からの反射光を検知すれば、この方法によ
っても情報を読み出すことができる。該方法は光学的検
知手段を含むものの、信号処理手段を含むため全体とし
てみれば電気的な読み出し方法といえる。
び下部電極42を共に行方向に配線する構成をとるが、
本願出願人が先に提案した不揮発性記録装置のように上
部電極41および下部電極42をマトリクス状に配線す
る構成のものについても同様に適用できる。但し、この
場合には上部電極41又は下部電極42又はその両方に
ついて加熱手段間に位置する部分の線幅を狭める等、不
要部分を出来るだけ除去する必要がある。
記録部34として単結晶シリコン基板55を用いるの
で、情報の入出力を制御等するICからなる周辺回路を
同一装置内に容易に搭載できる。従って、装置構成の小
型化、簡潔化およびコストダウンを図る上で都合のよい
ものになる。なお、周辺回路としてはICに限定される
ものではなく、単結晶シリコン基板55に搭載できるも
のであれば、他の回路や回路素子を用いても構わない。
ば、静的な電気的制御により記録媒体に対する情報の書
き込み・読み出しができるので、光磁気ディスクや磁気
ディスクで必要な回転機構や移動機構が不要になる。従
って、装置構成の小型化、簡潔化および低価格化が図れ
る。また、レーザーピックアップやヘッド等の複雑な構
成部品や精密な構造が不要になるため、振動、衝撃やゴ
ミ付着に起因して装置が破損することもない。それ故、
記録保持の安定性を著しく向上できる。
記録装置と比べてメモリーセルの構造を簡潔化できるの
で、大面積化が実現可能である。また、ICの微細加工
技術を応用することにより、微細なメモリーセルを実現
できる。従って、大容量、高密度な不揮発性記録装置が
実現できる。
リセルを加熱する加熱手段を、少なくともいずれか一方
が基板の一の方向に延出された上下の電極と、上下の電
極間に挟み込まれた発熱体とで形成し、該一の方向と直
交する方向に隣接する加熱手段間に、加熱手段及び記録
媒体を構成する部材より熱拡散率の小さい材料からなる
絶縁体を配設する構成をとるので、この方向に隣接する
メモリセル間に熱的なクロストークが発生することがな
い。従って、記録密度が高く、精度のよい書き込み・読
み出しが可能となる不揮発性記録装置を実現できる。
図。
温度分布を示す断面図。
記録部の表面構成図。
記録部を示す斜視図。
おける熱流の伝搬状態を示す断面図。
における加熱部周囲の温度分布を示す断面図。
Claims (1)
- 【請求項1】対向配置される一対の基板間に液晶化合物
又は分子中に液晶成分を含む化合物で形成された記録媒
体を封入すると共に、加熱手段により該記録媒体を加熱
して情報を書き込み、読み出し手段により該記録媒体に
書き込まれた情報を読み出すようにした不揮発性記録装
置であって、 該加熱手段が、少なくともいずれか一方が該基板の一の
方向に延出する帯状に形成された上下の電極と、該上下
の電極間に挟圧支持され、該上下の電極間に印加される
電圧によって発熱する発熱体とを有すると共に、該一の
方向と直交する第2の方向に隣接する該加熱手段間に、
該加熱手段及び該記録媒体を構成する部材より熱拡散率
が低い材料で形成された絶縁体を配設した不揮発性記録
装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28513391A JP2806660B2 (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 不揮発性記録装置 |
US07/896,097 US5515316A (en) | 1991-06-10 | 1992-06-10 | Non-volatile memory device having a memory medium containing a liquid crystal compound |
DE69223183T DE69223183T2 (de) | 1991-06-10 | 1992-06-10 | Nichtflüchtige Speicheranordnung |
EP92305294A EP0521623B1 (en) | 1991-06-10 | 1992-06-10 | A non-volatile memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28513391A JP2806660B2 (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 不揮発性記録装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05128883A JPH05128883A (ja) | 1993-05-25 |
JP2806660B2 true JP2806660B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=17687534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28513391A Expired - Lifetime JP2806660B2 (ja) | 1991-06-10 | 1991-10-30 | 不揮発性記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2806660B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW287313B (ja) * | 1995-02-20 | 1996-10-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
JP2002334639A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 真空バルブ |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP28513391A patent/JP2806660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05128883A (ja) | 1993-05-25 |
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