JP2804835B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP2804835B2
JP2804835B2 JP2223688A JP22368890A JP2804835B2 JP 2804835 B2 JP2804835 B2 JP 2804835B2 JP 2223688 A JP2223688 A JP 2223688A JP 22368890 A JP22368890 A JP 22368890A JP 2804835 B2 JP2804835 B2 JP 2804835B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
power supply
output
transistor
supply potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2223688A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04208562A (ja
Inventor
博司 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2223688A priority Critical patent/JP2804835B2/ja
Publication of JPH04208562A publication Critical patent/JPH04208562A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2804835B2 publication Critical patent/JP2804835B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体装置に関し、特に、ボンディング
パッドに接続された回路のサージ耐量の向上に関するも
のである。
〔従来の技術〕
第11図は従来の半導体装置の一例としてのダイナミッ
クRAMの構成を示す図である。図において、ダイナミッ
クRAMチップ1には外部から電源電圧Vcc、接地電位Vs
s、制御信号▲▼、▲▼、▲▼、アド
レス信号Addおよびデータ入力信号Dinが供給され、ダイ
ナミックRAMチップ1からデータ出力Doutが外部へ供給
される。MCAはメモリセルアレイ、CGは制御信号発生回
路、BCはバッファ回路、ODは出力ドライバ回路である。
データ読出し時には、メモリセルアレイMCA内のメモリ
セルがアドレス信号Addに基づいて選択され、制御信号
発生回路CGによって発生される制御信号に応答して上記
メモリセルの内容がバッファ回路BCに読出され、更に出
力ドライバ回路ODを通してデータ出力信号Doutとしてダ
イナミックRAMチップ1の外部へ出力される。
第12図は第11図の出力ドライバ回路ODの詳細な構成を
示す図である。図においてQ1はデータ出力信号パッド2
にハイレベルを出力するためのトランジスタであり、Q2
はデータ出力信号パッド2にロウレベルを出力するため
のトランジスタである。トランジスタQ1に接続された出
力用電源配線端VCQ1はクロスアンダによる抵抗R1を介し
て出力用電源配線VC1に接続されている。トランジスタQ
2に接続された出力用接地配線端VSQ2はクロスアンダに
よる抵抗R2を介して出力用接地配線VS1に接続されてい
る。トランジスタQ1及びQ2のゲートには各々出力コント
ロール信号OC1およびOC2が接続されている。4および5
はデータ出力信号パッド2とトランジスタQ1およびQ2
接続する配線である。
第13図は第11図の制御信号発生回路CGの一部を示す構
成図である。図において回路3には電源配線VC2および
接地配線VS2が接続されている。
第14図は第11図の出力ドライバ回路OD部分のパターン
レイアウトを示す図である。図においてデータ出力信号
パッド2の両側にトランジスタQ1およびQ2が配置されて
いる。4および5はデータ出力信号パッド2とトランジ
スタQ1およびQ2を接続する配線である。トランジスタQ1
に接続された出力用電源配線端VCQ1はコンタクトホール
C1,クロスアンダU1およびコンタクトホールC2を介して
出力用電源配線VC1に接続されている。また、トランジ
スタQ2に接続された出力用接地配線端VSQ2はコンタクト
ホールC3,クロスアンダU2およびコンタクトホールC4
介して出力用接地配線VS1に接続されている。トランジ
スタQ1にはクロスアンダU3を通して出力コントロール信
号OC1が接続され、トランジスタQ2にはクロスアンダU4
を通して出力コントロール信号OC2が接続されている。V
C2は第13図に示す回路3や第14図の回路3aおよび3bに接
続される電源配線である。VS2は第13図に示す回路3や
第14図の回路3aおよび3bに接続される接地配線である。
図においてパッド2,配線4および5,出力用電源配線VC
Q1,出力用電源配線VC1,出力用接地配線VSQ2,出力用接地
配線VS1,電源配線VC2および接地配線VS2は通常アルミニ
ウムにより形成される。また、クロスアンダU1,U2,U3
よびU4はポリシリコンまたはポリサイド(ポリシリコン
と金属珪化物の2重層)によって形成される。
第14図のトランジスタQ1のパターンレイアウトを第15
図に示す。クロスアンダU3に接続されたゲートG1,配線
4に接続されたソースおよび出力用電源配線端VCQ1に接
続されたドレインによってトランジスタが構成されてい
る。
第14図のトランジスタQ2のパターンレイアウトを第16
図に示す。クロスアンダU4に接続されたゲートG2、配線
5に接続されたドレインおよび出力用接地配線端VSQ2
接続されたソースによってトランジスタが構成されてい
る。
第17図はダイナミックRAMチップの一部のパターンレ
イアウトを示す図である。図において、ダイナミックRA
Mチップ1内に配置されたMCAはメモリセルアレイ、2は
データ出力信号パッド、Q1,Q2はトランジスタ,3a〜3cは
第11図に示す制御信号発生回路の一部を構成する回路で
ある。図において出力用電源配線VC1は出力用電源パッ
ドVC1Pに接続され、電源配線VC2は電源パッドVC2Pに接
続され、出力用接地配線VS1は出力用接地パッドVS1Pに
接続され、接地配線VS2は接地パッドVS2Pに接続されて
いる。出力用電源パッドVC1Pおよび電源パッドVC2Pはと
もにダイナミックRAMチップ1を収納する図示しないパ
ッケージの電源ピンに接続される。また出力用接地パッ
ドVS1Pおよび接地パッドVS2PはともにダイナミックRAM
チップ1を収納する図示しないパッケージの接地ピンに
接続される。データ出力時には出力ドライバ回路によっ
て半導体素子外部に接続される負荷容量を充電または放
電する必要があり、このときに出力ドライバ回路に接続
された電源配線または接地配線に大きなノイズが発生す
る。このノイズが他の回路の動作に影響を与えないよう
に、上記のごとく電源配線および接地配線を各々2本に
分割している。通常、電源配線VC2および接地配線VS2
接続される回路と電源パッドVC2Pおよび接地パッドVS2P
との間のインピーダンスを小さくするために、第17図に
示すように配線がクロスアンダ抵抗等を含まないように
アルミニウム層のみで伸延できる配置とする。一方、出
力用電源配線VC1および出力用接地配線VS1も通常、出力
ドライバ回路OD等の接続される回路と出力用電源パッド
VC1Pおよび出力用接地パッドVS1Pとの間のインピーダン
スを小さくするために、クロスアンダ等が含まれないよ
うに配置する。出力ドライバ回路部分では、トランジス
タQ1およびQ2に出力用電源配線VC1および出力用接地配
線VS1を接続する必要があるが、出力用電源配線VC1およ
び出力用接地配線VS1よりも電源配線VC2および接地配線
VS2の低インピーダンスを優先させるために、出力ドラ
イバ回路部分では出力用電源配線VC1および出力用接地
配線VS1にクロスアンダを使用する。
上記のように構成された、出力ドライバ回路ODにおい
て、データ出力信号パッド2にサージ電圧が印加された
場合の出力ドライバ回路内の電圧波形を第18図に示す。
図においてデータ出力信号パッド2に時刻t1にピーク電
圧がV6となる電圧波形6で示されるサージ電圧が印加さ
れた場合、このサージ電圧はトランジスタQ1,出力用電
源配線端VCQ1,クロスアンダによる抵抗R1および出力用
電源配線VC1(径路1)と、トランジスタQ2,出力用接地
配線端VSQ2,クロスアンダによる抵抗R2および出力用接
地配線VS1(径路2)を通して放電される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、従来の半導体装置は以上のように構成
されているので、出力ドライバ回路ODのクロスアンダに
よる抵抗R1およびR2により、印加されたサージ電圧に対
する前記径路1および径路2の放電時定数が増大する。
この結果サージ電圧の放電が遅延し、第12図のノードN1
の電圧波形は、第18図の時刻t2にピーク電圧V7をもつ電
圧波形7のようになり、出力ドライバ回路ODを熱的破壊
に至らしめるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、ボンディングパッドにサージ電圧を印加し
ても破壊されないサージ電圧が加わった場合のサージ耐
量を向上できる,信頼性の高い半導体装置を得ることを
目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本願の請求項1の発明に係る半導体装置は、第1の電
源電位の配線と第2の電源電位の配線とを含む第1の基
準電位配線と、前記第1の電源電位配線と前記第2の電
源電位配線との間に、互いに直列に接続された第1,第2
のMOSトランジスタと、前記第1のMOSトランジスタと前
記第2のMOSトランジスタとの接続ノードに接続される
ボンディングパッドと、MOSトランジスタからなり、前
記ボンディングパッドに外部から印加されるサージ電圧
を前記第1の基準電位配線とは異なる配線である第2の
基準電位配線に含まれる第3の電源電位の配線に放電す
る放電用素子とを備えるようにしたものである。
また、本願の請求項2の発明に係る半導体装置は、第
1の電源電位と第2の電源電位の配線からなる第1の基
準電位配線と、ボンディングパッドと、前記ボンディン
グパッドと接続され、該ボンディングパッドに出力すべ
き値を前記第1の電源電位と前記第2の電源電位に対応
する2値の論理値のいずれかに決定し出力する回路と、
MOSトランジスタからなり、前記ボンディングパッドに
外部から印加されるサージ電圧を前記第1の基準電位配
線とは異なる配線である第2の基準電位配線に含まれる
第3の電源電位の配線に放電する放電用素子とを備える
ようにしたものである。
〔作用〕
この発明においては、上述のように構成したことによ
り、ボンディングパッドに印加されたサージ電圧が充分
に放電される。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明に係る半導体装置の一実施例として
のダイナミックRAMの構成を示す図である。図におい
て、ダイナミックRAMチップ1には外部から電源電圧Vc
c、接地電位Vss、制御信号▲▼,▲▼,▲
▼,アドレス信号Addおよびデータ入力信号Dinが供
給され、ダイナミックRAMチップ1からデータ出力信号D
outが外部へ供給される。MCAはメモリセルアレイ、CGは
制御信号発生回路、BCはバッファ回路、ODaは出力ドラ
イバ回路である。データ読出し時には、メモリセルアレ
イMCA内のメモリセルがアドレス信号Addに基づいて選択
され、制御信号発生回路CGによって発生される制御信号
に応答して上記メモリセルの内容がバッファ回路BCに読
出され、更に出力ドライバ回路ODaを通してデータ出力
信号DoutとしてダイナミックRAMチップ1の外部へ出力
される。
第2図は第1図の出力ドライバ回路ODaの詳細な構成
を示す図である。図において、Q1はデータ出力信号パッ
ド2にハイレベルを出力するためのトランジスタであ
り、Q2はデータ出力信号パッド2にロウレベルを出力す
るためのトランジスタである。トランジスタQ1に接続さ
れた出力用電源配線端VCQ1はクロスアンダによる抵抗R1
を介して出力用電源配線VC1に接続されている。トラン
ジスタQ2に接続された出力用接地配線端VSQ2はクロスア
ンダによる抵抗R2を介して出力用接地配線VS1に接続さ
れている。トランジスタQ1およびQ2のゲートには各々出
力コントロール信号OC1およびOC2が接続されている。4
および5はデータ出力信号パッド2とトランジスタQ1
よびQ2を接続する配線である。放電用トランジスタQ
3は、出力用電源配線端VCQ1のノードN2と接地配線VS2
の間に設けられたトランジスタである。放電用トランジ
スタQ4は出力接地配線端VSQ2のノードN3と接地配線VS2
との間に設けられたトランジスタである。
第3図は第1図の出力ドライバ回路ODa部分のパター
ンレイアウトを示す図である。図においてデータ出力信
号パッド2の両側にトランジスタQ1およびQ2が配置され
ている。4および5はデータ出力信号パッド2とトラン
ジスタQ1およびQ2を接続する配線である。トランジスタ
Q1に接続された出力用電源配線端VCQ1はコンタクトホー
ルC1,クロスアンダU1およびコンタクトホールC2を介し
て出力用電源配線VC1に接続されている。また、トラン
ジスタQ2に接続された出力用接地配線端VSQ2はコンタク
トホールC3,クロスアンダU2およびコンタクトホールC4
を介して出力用接地配線VS1に接続されている。トラン
ジスタQ1にはクロスアンダU3を通して出力コントロール
信号OC1が接続され、トランジスタQ2にはクロスアンダU
4を通して出力コントロール信号OC2が接続されている。
VC2は回路3aや3bに接続される電源配線である。VS2は回
路3aや3bに接続される接地配線である。放電用トランジ
スタQ3は、出力用電源配線端VCQ1と接地配線VS2との間
に設けられ、放電用トランジスタQ4は出力用接地配線端
VSQ2と接地配線VS2との間に設けられている。
第4図は放電用トランジスタQ3部分の詳細なレイアウ
トを示す図である。図において、拡散層8および9がコ
ンタクトホールC5およびC6によって各々出力用電源配線
端VCQ1および接地配線VS2に接続されており、10の部分
が放電用トランジスタQ3のチャネルとなる。
第5図は放電用トランジスタQ4部分の詳細なレイアウ
トを示す図である。図において拡散層11および12がコン
タクトホールC7およびC8によって各々出力用接地配線端
VSQ2および接地配線VS2に接続されており、13の部分が
放電用トランジスタQ4のチャネルになる。
第6図は第4図のX1−X2における断面図である。図に
おいて、P型シリコン基板14内に設けられたn型拡散層
8および9が放電用トランジスタQ3のソースおよびドレ
インになる。チャネル部分10の上に形成された厚い酸化
膜15を介して設けられた接地配線VS2の伸延部分がゲー
トとなる。
ここで、上記のように形成されたダイナミックRAMの
データ出力信号パッド2にサージ電圧を印加した場合の
出力ドライバ回路内の電圧波形を第7図に示す。図にお
いて、データ出力信号パッド2に時刻t1にピーク電圧が
V6となる電圧波形6で示されるサージ電圧が印加された
場合、トランジスタQ1,出力用電源配線端VCQ1,放電用ト
ランジスタQ3および接地配線VS2(径路3)とトランジ
スタQ2,出力用接地配線端VSQ2、放電用トランジスタQ4
および接地配線VS2(径路4)を通して放電される。こ
のとき、トランジスタQ1,Q2および放電用トランジスタQ
3,Q4はパンチスルー動作を行うため、サージ電圧は遅延
なく放電され、出力ドライバ回路内のノードN1の電圧波
形は、時刻t2に十分低いピーク電圧V8をもつ電圧波形8
のようになり、出力ドライバ回路は破壊されない。
以上のように、従来では出力トランジスタにクロスア
ンダした電源配線,接地配線を使用した場合に出力ピン
のサージ耐量が低下していたのに対し、上述のように本
実施例では、クロスアンダした電源配線,接地配線とク
ロスアンダしない電源配線,接地配線間にトランジスタ
Q3,Q4からなる放電素子を入れるようにしたので、サー
ジ耐量が向上し、これにより素子の信頼性向上を図るこ
とができる。
なお、上記実施例では、放電用トランジスタをゲート
の下を厚い酸化膜で形成したトランジスタにより構成し
た場合について説明したが、これは第8図に示すように
薄い酸化膜で形成したトランジスタとしても同様の効果
を奏する。図において16はゲート電極であり、図示しな
い部分で接地配線VS2と接続される。
また、上記実施例では、放電用トランジスタのチャネ
ル部分上に接地配線VS2の伸延部分によるアルミニウム
ゲートがある場合について説明したが、第9図に示すよ
うにアルミニウムゲートはなくても同様の効果を奏す
る。
また、上記実施例では、放電用トランジスタのソース
は接地配線に接続されている場合について説明したが、
これは第10図に示すように電源配線に接続されていても
よく、この場合にも同様の効果を奏する。
また、上記実施例では、放電用トランジスタを出力ド
ライバ回路に設け、データ出力信号パッドにサージ電圧
が印加される場合について説明したが、放電用トランジ
スタを他の回路に設け、対応するパッドにサージ電圧が
印加された場合についても同様の効果を奏する。
また、上記実施例では、放電用トランジスタを2個設
けた場合についても説明したが、1個あるいは他の複数
個設けた場合にも同様の効果を奏する。
また、上記実施例では、半導体装置がダイナミックRA
Mである場合について説明したが、他の半導体装置であ
ってもよいことは勿論である。
〔発明の効果〕
以上のように、本願の請求項1の発明に係る半導体装
置によれば、第1の電源電位の配線と第2の電源電位の
配線とを含む第1の基準電位配線と、前記第1の電源電
位配線と前記第2の電源電位配線との間に、互いに直列
に接続された第1,第2のMOSトランジスタと、前記第1
のMOSトランジスタと前記第2のMOSトランジスタとの接
続ノードに接続されるボンディングパッドと、MOSトラ
ンジスタからなり、前記ボンディングパッドに外部から
印加されるサージ電圧を前記第1の基準電位配線とは異
なる配線である第2の基準電位配線に含まれる第3の電
源電位の配線に放電する放電用素子とを備えるようにし
たので、ボンディングパッドにサージ電圧が印加された
ときのサージ耐量が向上した,信頼性の高い半導体装置
が得られる効果がある。
また、本願の請求項2の発明に係る半導体装置によれ
ば、第1の電源電位と第2の電源電位の配線からなる第
1の基準電位配線と、ボンディングパッドと、前記ボン
ディングパッドと接続され、該ボンディングパッドに出
力すべき値を前記第1の電源電位と前記第2の電源電位
に対応する2値の論理値のいずれかに決定し出力する回
路と、MOSトランジスタからなり、前記ボンディングパ
ッドに外部から印加されるサージ電圧を前記第1の基準
電圧配線とは異なる配線である第2の基準電位配線に含
まれる第3の電源電位の配線に放電する放電用素子とを
備えるようにしたので、ボンディングパッドにサージ電
圧が印加されたときのサージ耐量が向上した,信頼性の
高い半導体装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による半導体装置の構成を
示す図、第2図は第1図の出力ドライバ回路の構成図、
第3図は第1図の出力ドライバ回路部分のパターンレイ
アウト図、第4図および第5図は第2図および第3図に
示される放電用トランジスタのパターンレイアウト図、
第6図は第4図の放電用トランジスタの断面図、第7図
は第2図の出力ドライバ回路のサージ電圧印加時の電圧
波形図、第8図は本発明の他の実施例における放電用素
子の断面図、第9図と本発明の更に他の実施例による放
電用素子の断面図、第10図は本発明の他の実施例におけ
る出力ドライバ回路の構成図、第11図は従来の半導体装
置の構成を示す図、第12図は第11図の制御信号発生回路
の一部の構成図、第13図は第11図の制御信号発生回路の
一部を示す構成図、第14図は第11図の出力ドライバ回路
部分のパターンレイアウト図、第15図および第16図は第
12図および第14図に示されるトランジスタQ1およびQ2
パターンレイアウト図、第17図は第11図の半導体装置の
一部のパターンレイアウト図、第18図は第12図の出力ド
ライバ回路へのサージ電圧印加時の電圧波形図である。 図中、VC1,VS1……第1の基準電位配線、VC2,VS2……第
2の基準電位配線、ODa……第1の回路、VCQ1,VSQ2……
基準電位端子、R1,R2……抵抗、Q3,Q4……放電手段、MC
A……メモリセルアレイ、CG……制御信号発生回路、BC
……バッファ回路、C1〜C4……コンタクトホール、U1
U4……クロスアンダ、1……半導体装置、2……データ
出力信号パッド、3,3a,3b……回路、4,5……配線、8,9,
11,12……拡散層、10,13……チャネル領域、14……p型
シリコン基板、15,15a……酸化膜、16……ゲート電極。 なお図中同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の電源電位の配線と第2の電源電位の
    配線とを含む第1の基準電位配線と、 前記第1の電源電位配線と前記第2の電源電位配線との
    間に、互いに直列に接続された第1,第2のMOSトランジ
    スタと、 前記第1のMOSトランジスタと前記第2のMOSトランジス
    タとの接続ノードに接続されるボンディングパッドと、 MOSトランジスタからなり、前記ボンディングパッドに
    外部から印加されるサージ電圧を前記第1の基準電位配
    線とは異なる配線である第2の基準電位配線に含まれる
    第3の電源電位の配線に放電する放電用素子とを備えた
    ことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】第1の電源電位と第2の電源電位の配線か
    らなる第1の基準電位配線と、 ボンディングパッドと、 前記ボンディングパッドと接続され、該ボンディングパ
    ッドに出力すべき値を前記第1の電源電位と前記第2の
    電源電位に対応する2値の論理値のいずれかに決定し出
    力する回路と、 MOSトランジスタからなり、前記ボンディングパッドに
    外部から印加されるサージ電圧を前記第1の基準電位配
    線とは異なる配線である第2の基準電位配線に含まれる
    第3の電源電位の配線に放電する放電用素子とを備えた
    ことを特徴とする半導体装置。
JP2223688A 1990-08-22 1990-08-22 半導体装置 Expired - Fee Related JP2804835B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2223688A JP2804835B2 (ja) 1990-08-22 1990-08-22 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2223688A JP2804835B2 (ja) 1990-08-22 1990-08-22 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04208562A JPH04208562A (ja) 1992-07-30
JP2804835B2 true JP2804835B2 (ja) 1998-09-30

Family

ID=16802092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2223688A Expired - Fee Related JP2804835B2 (ja) 1990-08-22 1990-08-22 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2804835B2 (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6038858A (ja) * 1983-08-12 1985-02-28 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JPS6146046A (ja) * 1984-08-10 1986-03-06 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04208562A (ja) 1992-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100296567B1 (ko) 웰저항을사용한cmos회로의esd보호
US6404056B1 (en) Semiconductor integrated circuit
JP3137749B2 (ja) 半導体集積回路装置
US5973554A (en) Semiconductor device structured to be less susceptible to power supply noise
US5923079A (en) Single-chip system having electrostatic discharge (ESD) protective circuitry including a single bipolar transistor portion
JPH073862B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2792795B2 (ja) 半導体集積装置
JP3434398B2 (ja) 半導体装置
US6521951B2 (en) Semiconductor circuit device with improved surge resistance
USRE35430E (en) Semiconductor memory device
KR100222623B1 (ko) 입력 보호 회로 및 이를 이용한 반도체 장치
US5867418A (en) Semiconductor memory device and semiconductor device
KR960016426B1 (ko) 반도체 집적회로 장치
JP2804835B2 (ja) 半導体装置
JP2915312B2 (ja) 半導体集積回路装置
JP3420967B2 (ja) 半導体集積回路
US5153699A (en) Semiconductor device
US20060220263A1 (en) Semiconductor device to be applied to various types of semiconductor package
JPH10294429A (ja) 半導体装置
JPH05299598A (ja) 半導体装置
JPH0419633B2 (ja)
JPH07106522A (ja) 半導体集積回路
JP3529473B2 (ja) 半導体記憶装置
JP3437867B2 (ja) 半導体メモリ
JPH06188380A (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees