JP2800444B2 - 光磁気記録媒体及びその記録再生方法 - Google Patents

光磁気記録媒体及びその記録再生方法

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JP2800444B2
JP2800444B2 JP6839791A JP6839791A JP2800444B2 JP 2800444 B2 JP2800444 B2 JP 2800444B2 JP 6839791 A JP6839791 A JP 6839791A JP 6839791 A JP6839791 A JP 6839791A JP 2800444 B2 JP2800444 B2 JP 2800444B2
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敏史 川野
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Mitsubishi Chemical Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は情報の記録に用いる光磁
気記録媒体及びその記録再生方式に関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスクは高密度、高速の記録媒体と
して様々な分野での応用が進んでいる。だが動画等への
利用を考えた時、また他の記録媒体との競合を考慮する
と、さらに高密度の記録が要求されている。しかしなが
ら、光ディスクに用いられる再生ビームのスポット径は
使用する半導体レーザーの波長により制限されており、
現在使用されている約780nmの波長では約1μm で
ある。従って、記録ビットの間隔が狭くなってくると読
み取りの時に周囲のビットを同時に読みとってしまうた
め信号の強さが著しく低下してしまう。またトラックピ
ッチを狭くした場合でも同様の理由によりクロストーク
の増加を招く。
【0003】これらの問題を解決するには、レーザーの
波長を短くすればよいのであるが短波長の半導体レーザ
ーの開発は非常な技術的困難を伴っており今後さらに多
くの時間を用するものと思われる。また非線形光学素子
を用いて2次高調波を発生させる方法(SHG)もある
が、十分なパワーを発生させるのは困難な状況である。
書換え可能な光ディスクである光磁気ディスクにおいて
も上記の問題は全く同一であったが1991年2月発行
の雑誌「日経エレクトロニクス」にレーザー光波長を現
行のままで記録密度を上げる方法が報告されている。こ
の方法を図2を用いて簡単にまとめると a)再生層(1)、記録層(2)の2層を用い両層に記
録を行う b)初期磁界を用い再生層の磁化をそろえる c)外部磁界(3)を印加しながら再生光(4)を照射
しその温度上昇により記録層(2)の磁化を再生層
(1)に転写する。 というものでこの方式では再生時にまだ再生してない部
分のビットが再生層に存在しないため周囲のビットから
の信号の洩れ込みが小さく記録密度の向上が可能であ
る。また隣接トラックにもビットが無いのでトラックピ
ッチも小さくできる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2に
示すようにこの方式では再生光が通過した部分のビット
は存在しているため、周囲のビットからの信号の洩れ込
みを完全に無くすことはできなかった。すなわち読みと
っているビットの片側は消去された状態であるがもう片
側にはビットがあり、回りが全て消去されている状態に
比べると効果は半分であった。そのため記録密度向上の
効果も不十分なものであった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は再生層に特
定の磁気特性を持たせ、再生中に初期化磁界を印加する
ことで再生後温度の低下した部分を再び初期化して再生
中の周囲からの信号の洩れ込みを完全に無くすことに成
功した。本発明の要旨は、基板上に垂直磁化膜からなる
再生層及び記録層を有し前記再生層及び記録層が互いに
交換結合を行っている光磁気記録媒体であって、かつ (a)室温において再生層の保磁力HC1と記録層の保磁
力HC2とが HC1<HC2 (b)室温以上でかつ記録層のキュリー温度TC2以下で
ある温度において
【0006】
【数2】
【0007】の関係を満足する温度TR が存在すること
を特徴とする光磁気記録媒体及びその媒体を用いて以下
の方法で記録再生を行うことを特徴とする記録再生方法
に存する。
【0008】 2値情報に応じて記録光の変調または
磁界の変調により記録層の磁化方向を変化させることに
よって記録を行う。 初期化磁界Hini を印加して前
期記録層の磁化方向を変化させることなく再生層の磁化
を一方向にそろえる。 Hini を印加したままの状態
で再生層側から再生光を照射することにより再生層の温
度を室温以上、TC2以下でかつ特許請求の範囲第1項記
載の(A)式を満足する温度TR まで昇温し、この結
果、再生層は記録層との間に磁壁が存在する場合磁壁を
消失するように磁区が反転し、存在しない場合は変化を
生じないことにより記録層の磁区を再生層に転写する。
再生光が通過して再生層の温度が下がった時、再生
層の磁区は再びHiniによって一方向にそろえられる。
【0009】図1に示すように、本発明の磁性層は交換
結合をした再生層(1)及び記録層(2)の2層よりな
る再生層(1)及び記録層(2)に情報を記録するのは
通常の光変調記録方式や磁界変調記録方式により簡単に
行うことができる。情報の再生の際には再生光(4)の
照射される部分の周囲に再生層(1)を初期化するのに
充分な大きさの初期化磁界(3)Hini が印加されてな
ければならない。再生層(1)と記録層(2)の間の交
換結合エネルギーをσW とすると
【0010】
【数3】
【0011】を満足しなければならない。このとき記録
層の記録が消えない条件は
【0012】
【数4】
【0013】〔2〕式は室温においてもまた再生光が照
射された状態でも満足されなければならない。
【0014】本発明の場合はHini が無くなった場合に
再生層が初期化されたままである必要はなく、磁壁が消
失するように再生層が変化してもかまわない。上記した
公知技術の場合は、再生層の初期化を行った後にHini
が無い状態でも再生層が変化してはいけないため、再生
層に対して
【0015】
【数5】
【0016】という条件が生じて再生層の要求を厳しく
していたが、本発明ではこういった制約は生じない。
【0017】再生層に再生光が照射された時の温度をT
R とする。このときの再生層の保磁力をHC1R 、飽和磁
化をMS1R とする。室温より高く記録層のキュリー温度
より低いTR において
【0018】
【数6】
【0019】という関係を満足するとき、再生層は記録
層との間に磁壁を形成しないように動き、記録層の情報
が再生層に転写されることになる。
【0020】〔1〕,〔4〕式から再生層は
【0021】
【数7】
【0022】を満足するとき適当なHini が存在できる
ことがわかる。再生光が通過して温度が下がると再び
〔1〕式の条件が満たされるようになり再生層は初期化
される。
【0023】以上のような動きにより、図1に示すよう
に記録ビットは再生光(4)により昇温した部分のみに
生じ、その他の部分には全く生じないので隣接ビットか
らの信号の漏れ込みは全くなく非常に高密度の記録が可
能となる。ここで用いる再生層(1)は例えばDyFe
Co、GdFeCo、GdFe、GdTbFe、GdT
bFeCo、GdDyFeCo等の低いHC が得られ易
い材料が使われる。再生光(4)のわずかな温度上昇で
保磁力(磁化)の温度変化が激しく起こるものがよく、
GdFeCoまたはGdDyFeCo、GdTbFeC
o、GdFe、GdTbFeのGd量が多いものが好ま
しく用いられる。
【0024】また記録層(2)にはTbFeCo、Tb
Fe、TbDyFeCo、GdTbFeCo等の大きな
C が得られ易い材料が用いられる。また再生層(1)
と記録層(2)の間に交換結合力を制御するための中間
層を設けてもよい。中間層を設けることによりHini を
小さくすることが可能となる。中間層としては再生層
(1)及び記録層(2)よりも磁気異方性が小さいもの
が用いられる。例えばGdFeCo等である。
【0025】再生層(1)の膜厚は薄すぎると保磁力が
大きくなり初期化が困難になり、厚すぎると感度が悪く
なるため500〜1500Åが適当である。記録層
(2)は薄すぎると磁区が不安定となり厚すぎると感度
が悪化するため300〜1500Åが適当である。本発
明の場合、読みだし時に光ヘッドに対向して強い磁石
(Hini)が必要であるので記録、消去に対応した磁界の
反転が困難となるかもしれない。このような場合は記録
あるいは消去専用にもう1つヘッドを用意する。この場
合、2つのヘッドにより見かけ上オーバーライトができ
るのが大きな利点である。
【0026】磁性層の両側に酸化防止の為の保護膜をも
うけることは好ましい形態である。保護膜としては酸化
物や窒化物、炭化物、硫化物等のセラミックスの薄膜が
好ましく用いられるSi3 4 、AlN、TiO2 、T
2 5 、SiO2 、SiO、Al2 3 、ZnS、S
iC、等である。また、さらにその上に紫外線硬化樹脂
等の有機膜の保護膜を設けてもよい。
【0027】
【実施例】一例として再生層に500Åの(Gd90Dy
10)22 (Fe95Co5 )を用い、記録層にキュリー温度
200℃の500ÅのTb21(Fe90Co10)79 を用い
た場合を示す。再生パワー1.5mWのとき再生層は約
80℃まで温度が上昇する。室温と80℃のときの再生
層と記録層の特性を表1に示す。このとき(5)式の左
辺は
【0028】
【数8】
【0029】となり(5)式を満足する。Hini には
1.9kOe以上、2.5kOe以下の値を選べばよ
い。記録層に対する(2)式右辺は室温において7kO
e、また80℃において5.5kOeであるから記録層
の磁区はHini によって影響を受けず安定に存在する。
【0030】
【表1】
【0031】
【発明の効果】本発明によると再生層において再生部分
のみに記録ビットを発生させることが可能であるので記
録密度を上げることができて記録容量を飛躍的に向上す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による再生法の説明図
【図2】従来法による再生法の説明図
【符号の説明】
1 再生層 2 記録層 3 初期化磁界 4 再生光

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に垂直磁化膜からなる再生層及び
    記録層を有し前記再生層及び記録層が互いに交換結合を
    行っている光磁気記録媒体であってかつ以下の(a),
    (b)を満足することを特徴とする光磁気記録媒体。 (a)室温において再生層の保磁力HC1と記録層の保磁
    力HC2とが HC1<HC2 (b)室温以上でかつ記録層のキュリー温度TC2以下で
    ある温度において下記(A)式を満足する温度TR が存
    在する 【数1】
  2. 【請求項2】 特許請求の範囲第1項記載の光磁気記録
    媒体を用いて以下の方法で記録再生を行うことを特徴と
    する記録再生方法。 2値情報に応じて記録光の変調
    または磁界の変調により記録層の磁化方向を変化させる
    ことによって記録を行う。 初期化磁界Hini を印加
    して前期記録層の磁化方向を変化させることなく再生層
    の磁化を一方向にそろえる。 Hini を印加したまま
    の状態で再生層側から再生光を照射することにより再生
    層の温度を室温以上、TC2以下でかつ特許請求の範囲第
    1項記載の(A)式を満足する温度TR まで昇温し、こ
    の結果、再生層は記録層との間に磁壁が存在する場合磁
    壁を消失するように磁区が反転し、存在しない場合は変
    化を生じないことにより記録層の磁区を再生層に転写す
    る。 再生光が通過して再生層の温度が下がった時、
    再生層の磁区は再びHiniによって一方向にそろえられ
    る。
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