JP2789365B2 - ジカルボン酸モノエステルおよびその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は天然物由来の様々な化合物の不斉合成法に有
用であり、さらに詳しくは、光学活性なプロスタグラン
ジン等の合成に有用なジカルボン酸モノエステル類およ
びその製造法に関する。

従来の技術 光学的に活性なジカルボン酸モノエステルを得る方法
としてディールス・アルダー反応、酵素によるジエステ
ル部分の加水分解法などよく知られているが、立体化学
的に混合物を形成したり、反応が繁雑であったり、特殊
な試薬を用いたりして、純粋な化合物を容易に、大量
に、しかも安価に得ることはなかなか困難であった。

発明が解決する課題 不斉合成によって光学純度の高い化合物を得ることは
天然有機化合物の合成のみならず、広い意味での医薬品
を始めとする種々の化合物の合成にとって重要な意味を
もつ。

本発明は、立体選択的に反応を進行させ、かつ反応過
程で生じる僅かな副生成物を極めて容易に除去すること
により、さらに光学純度を高め得る不斉合成法を鋭意検
討したものである。尚、本発明は以上の反応を安価な試
薬で、かつ簡便に行ない得る事をも意図している。

課題を解決する手段 本発明者らは以上の点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、
σ対称を有する酸無水物に（Ｒ）−または（Ｓ）−アリ
ール酢酸誘導体を反応させれば所望の立体配置を有する
ジカルボン酸モノエステル類を選択的に得られる事を見
出し、本発明を完成した。詳細は後述するが、本反応に
おいては、反応途中に生じる副生成物を再結晶で容易に
除去できる。本発明が提供する不斉合成法は、種々のσ
対称を有する酸無水物に応用可能であり、その結果生じ
るジカルボン酸モノエステル類は、種々のプロスタグラ
ンジン、アミノ糖、ヌクレオチド、テルペン、アルカロ
イド、ステロイド、その他の天然物由来の有用化合物の
合成中間体として極めて重要である。

本発明はこのような重要な中間体である一般式： 式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置換されていても
よいアルキル、（２）アルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置換されてい
てもよいアルケニル、（３）アルキル、アルコキシ、ハ
ロゲン、アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置換され
ていてもよいアリールまたは（４）アルキル、アルコキ
シ、ハロゲン、アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置
換されていてもよいアラルキルを示し、−Ｘ−は−Ｏ
−、−Ｓ−、−（CH₂）ｍ−、 （式中、ｍは０〜４の整数を示し、R²は水素、メチルま
たはエチル、R³は水素、メチル、ベンジルオキシカルボ
ニルまたはホルミルを示す） Ｙは（CH₂）ｎ、 （式中、ｎは０〜３の整数を示し、R²は前記と同意義を
有し、R⁴は水素、メチルまたはエチルを示す） Ｚは水素、低級アルキルまたはフェニルを示す（ただ
し、ｍとｎが同時に０である場合、（1S,2R,3S,4R）−
７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−ジカルボ
ン酸 ２−メチルエステル、（1S,2R,3S,4R）−ビシク
ロ［2.2.1］ヘプテン−2,3−ジカルボン酸 ２−メチル
エステルおよび（1R,2S,3R,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘ
プテン−2,3−ジカルボン酸２−メチルエステルを除
く）で表わされる光学活性なジカルボン酸モノエステル
IIIを提供し、さらに、これを得る方法として一般式： （式中、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有する） で表される酸無水物Ｉに、一般式： （式中、M¹は水素または金属原子、R⁵は水素、（２）ア
ルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アミノ誘導体
またはニトロで置換されていてもよいアルキルまたは
（３）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アミ
ノ誘導体またはニトロで置換されていてもよいアラルキ
ル、Arはアルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ア
ミノ誘導体またはニトロで置換されていてもよいアリー
ルを示す） で表される（Ｒ）−または（Ｓ）−アリール酢酸誘導体
を反応させて、一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
る） で表わされるアリール酢酸モノエステルIIとし、ついで
該エステルIIをエステル化反応に付してR¹を導入した
後、アリール酢酸誘導体残基を除去するかまたは該エス
テルIIを一般式： R¹OM² IV （式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置換されていても
よいアルキル、（２）アルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、アミノ、アミノ誘導体またはニトロで置換されてい
てもよいアルケニル、（３）メンチル、（４）アルキ
ル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アミノ誘導体また
はニトロで置換されていてもよいアリールまたは（５）
アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アミノ誘導
体またはニトロで置換されていてもよいアラルキルを示
し、M²はアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子
を示す）で表わされる化合物IVとの反応に付すことを特
徴とする一般式： （式中、R¹、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有する） で表される光学活性なジカルボン酸モノエステルIIIを
得る不斉合成法を提供し、その反応工程で経由する合成
中間体として、一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
る） で表される光学活性なアリール酢酸誘導体モノエステル
IIをも高純度なものとして提供している。

好ましい態様として、一般式： ［式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニト
ロで置換されていてもよいアルキル、（２）アルキル、
アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアル
ケニル、（３）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミ
ノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで
置換されていてもよいアリールまたは（４）アルキル、
アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアラ
ルキルを示す］ で表わされる光学活性なジカルボン酸モノエステルなら
びにその鏡像異性体が挙げられる。

また、別の態様として、一般式： ［式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−（CH₂）ｍ−または （式中、ｍは０〜４の整数を示し、R²は水素、メチルま
たはエチルを示す） Ｙは（CH₂）ｎまたは （式中、ｎは０〜３の整数を示し、R²は前記と同意義を
有する） Ｚは水素、低級アルキルまたはフェニルを示す（ただ
し、ｍとｎが同時に０である場合を除く）］ で表わされる酸無水物Ｉに、一般式： （式中、M¹は水素または金属原子、R⁵は（１）水素、
（２）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒド
ロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換され
ていてもよいアルキルまたは（３）アルキル、アルコキ
シ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルア
ミノまたはニトロで置換されていてもよいアラルキル、
Arはアルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロ
キシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換されて
いてもよいアリールを示す） で表わされる（Ｒ）−または（Ｓ）−アリール酢酸誘導
体を反応させて、一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
る） で表わされるアリール酢酸モノエステルIIとし、ついで
該エステルIIをエステル化反応に付してR¹を導入した
後、アリール酢酸誘導体残基を除去するかまたは該エス
テルIIを一般式： R¹OM² IV （式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニト
ロで置換されていてもよいアルキル、（２）アルキル、
アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアル
ケニル、（３）メンチル、（４）アルキル、アルコキ
シ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルア
ミノまたはニトロで置換されていてもよいアリールまた
は（５）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒ
ドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換さ
れていてもよいアラルキルを示し、M²はアルカリ金属原
子またはアルカリ土類金属原子を示す）で表わされる化
合物IVとの反応に付すことを特徴とする一般式： （式中、R¹、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有する） で表される光学活性なジカルボン酸モノエステルIIIを
得る不斉合成法が挙げられる。

さらに、別の態様として、上記の反応工程で経由する
合成中間体として、一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
る） で表される光学活性なアリール酢酸誘導体モノエステル
IIが挙げられる。

以下に反応工程図を示し、本発明をさらに詳しく説明
する。

トランスのジカルボン酸モノエステルの製造法 （式中、R¹、R⁵、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ArおよびM¹は前記と同意
義を有する。） 第一工程 前記化合物Ｉで示される、σ対称性のあるプロキラル
な環状無水物に、（Ｒ）−アリール酢酸誘導体を溶媒中
反応させることにより目的物II−Ｄが得られる。

反応は約−100〜約50℃、より好ましくは約−78〜約
０℃で約数十分〜数時間行なえば終了する。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、1,2−ジメ
トキシエタン、ｎ−ヘキサン、DMSO、トルエン、HMPAな
どが挙げられる。

この時、用いるアリール酢酸誘導体により、目的物II
−Ｄが２種でき、遊離カルボン酸タイプをII−Ｄ
（ａ）、エステルタイプをII−Ｄ（ｅ）と表わすことに
する。化合物II−Ｄ（ａ）は容易に結晶化し、単離が可
能であり、不純物が分離できるので、次反応に付すこと
ができる。化合物II−Ｄ（ｅ）は、所望により、脱保護
反応に付し、化合物II−Ｄ（ａ）にし、次反応に付すこ
とができる。

脱保護反応としては、中性〜酸性条件下で行なう反応
が推奨される。即ち、アリール酢酸残基と環に結合した
カルボニルとのエステル結合を保持したまま、脱保護す
る必要があるが、アルカリ性条件下では該エステル結合
が切れてしまうので適さないからである。通常はパラジ
ウム−炭素による中性条件下での還元的脱保護反応を行
なう。しかし、他に還元されやすい官能基を有するよう
な場合や、ＸおよびＹが２重結合を有するような場合に
は、水素化されて単結合になることがある。もし、該官
能基や２重結合等を保持したまま、脱保護したければ、
トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウム、塩酸、亜鉛−酢
酸などの試薬を用いて酸性条件下で脱保護を行なえば良
い。またLiI、LiClまたはNaClなどを用いて熱分解反応
に付すことにより、所望の保護基を切ることができる。

第二工程 目的化合物III−Ｄは、化合物II−Ｄを一般式： R¹OM² IV （式中、R¹またはM²で前記と同意義を有する） で表わされる化合物でエステル交換反応および立体選択
的異性化反応に付すことにより得ることができる。

上記一般式で表わされた化合物IVとしては、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属のアルコキシド、アリール
オキシド、アルケニルオキシド、メンチルオキシド、ア
ラルキルオキシドなどが挙げられる。

アルカリ金属またはアルカリ土類金属アルコキシドと
しては、ナトリウムメトキシド、リチウムメトキシド、
マグネシウムエトキシドなどが挙げられる。

アルカリ金属またはアルカリ土類金属アリールオキシ
ドとしては、ナトリウムフェノキシド、リチウムフェノ
キシド、マグネシウムフェノキシド、ナトリウム−α−
ナフトキシド、リチウム−β−ナフトキシドなどが挙げ
られる。

アルカリ金属またはアルカリ土類金属アルケニルオキ
シドとしては、ナトリウムアリルオキシド、リチウムア
リルオキシド、マグネシウムアリルオキシドなどが挙げ
られる。

アルカリ金属メンチルオキシドとしては、ナトリウム
メンチルオキシド、リチウムメンチルオキシドなどが挙
げられる。

アルカリ金属アラルキルオキシドとしては、ナトリウ
ムベンジルオキシド、リチウムベンジルオキシドなどが
挙げられる。

溶媒としては、メタノール、エタノール、アリルアル
コール、フェノールなどを用い、要すれば、メンチルア
ルコール、ピリジン、テトラヒドロフランなどを加えて
用いてもよい。

反応温度は約−30℃〜約150℃で、より好ましくは、
約０℃〜約80℃で行ない、約１〜約10時間で反応は終了
する。

上記第一工程において、僅かであるが、副生成物とし
て下記一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
る。） で表わされる化合物II′−Ｄが生成するが、これは、要
すれば、脱保護反応に付してジカルボン酸II′−Ｄ
（ａ）（式中、R⁵は水素）とした時、母液に残るので、
副生成物II′−Ｄを100％除去でき、純粋な目的物II−
Ｄを次の第二工程に用いることができる。II−ＤとII′
−Ｄはクロマトグラフイーを用いて分離精製することが
できる。

また、第１工程のII−ＤとII′−Ｄは分離せずに混合
物のまま次の反応に付すこともできる。

（式中、R¹、R⁵、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ArおよびM¹は前記と同意
義を有する。） 第一工程 化合物Ｉに（Ｓ）−アリール酢酸誘導体を、先に述べ
た（Ｒ）−アリール酢酸誘導体の第一工程と同様にして
反応させることにより、目的物II−Ｌが得られる。得ら
れた目的物II−Ｌは用いるアリール酢酸誘導体により、
２種でき、遊離カルボン酸タイプをII−Ｌ（ａ）、エス
テルタイプをII−Ｌ（ｅ）と表わすことにする。化合物
II−Ｌ（ａ）は結晶化し、容易に単離することができ
る。

第二工程 上記第一工程で得られた化合物II−Ｌを先に述べたＤ
体の第二工程と同様に反応させることにより、目的物II
I−Ｌが得られる。

上記第一工程において、わずかではあるが、副生成物
として下記一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびArは前記と同意義を有
する。） で表わされる化合物II′−Ｌが生成されるが、これは、
Ｄ体のアリール酢酸誘導体を用いた時と同様にして分離
でき、また、かつ、混合物のまま次の反応に付すことも
できる。エステルも同様にして、クロマトグラフイーで
分離精製ができる。

また、前記副生成物II′−ＤおよびII′−Ｌは、第二
工程の反応に付すことにより、副生成物II′−Ｄからは
目的物III−Ｌ、副生成物II′−Ｌからは目的物III−Ｄ
をそれぞれ得ることもできる。

シス−ジカルボン酸モノエステルの製造 ［化合物III−Ｄ−２の製造］ 前記トランス−ジカルボン酸モノエステル製造のＡ法
およびＢ法の第１工程と同様にして得られた化合物II
（化合物II−Ｄ、II′−Ｄ、II−ＬまたはII′−Ｌ）を
用いる。

（式中、R¹、Ｘ、ＹおよびＺは記と同意義を有し、R⁵′
は置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよ
いアルケニル、メンチル、置換されていてもよいアリー
ルまたは置換されていてもよいアラルキルを意味す
る。） 第１工程 本工程は化合物II−ＤまたはII′−Ｌの遊離のカルボ
ン酸をエステル化し、R¹を導入する工程である。

エステル化反応はアリール酢酸誘導体と環結合カルボ
ニルとのエステル結合および２位の立体配置を保持した
まま行なう。所望のR¹形成基を有するジアゾアルカン
（例えば、ジアゾメタン、ジアゾエタン、ジフェニルジ
アゾメタン、フェニルジアゾメタンなど）、アルコール
（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパ
ノール、tert−ブタノール、ベンジルアルコール、フェ
ネチルアルコール、ナフチルメチルアルコール、メント
ール、フェノール、ニトロフェノール、メチルフェノー
ル、クロロフェノール、メトキシフェノール、アミノフ
ェノールなど）によりエステル化反応を常法に従って行
なえばよい。

反応を促進させるために、ギ酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、硫酸、塩酸などの酸を用いてもよい。

第２工程 本工程はアリール酢酸誘導体と環結合カルボニルとの
エステル結合を開裂させ、シスタイプの本発明化合物II
I−Ｄ−２を得る工程である。

脱エステル化反応は立体配置を保持したまま行なう必
要があるので、通常、パラジウム−炭素による中性条件
下での還元的に行なうとよい。

（式中、R¹、R⁵′、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有
する。） 化合物II−ＬまたはII′−Ｄを用いて、化合物III−
Ｄ−２を得た上記第１工程および第２工程と同様に反応
させることにより、化合物III−Ｌ−２を得ることがで
きる。

一般式IIで表わされる本発明化合物のアリール酢酸誘
導体モノエステルには前に示したように、II−Ｄ、II′
−Ｄ、II−ＬおよびII′−Ｌの４種の立体異性体が含ま
れている。

一般式IIIで表わされる本発明化合物のジカルボン酸
モノエステルは、４個の不斉炭素原子を有しており、合
計８種の立体異性体および光学異性体を有している。本
発明にはそれらすべての異性体が含まれる。具体的に
は、下記一般式の立体配置を有する化合物 （式中、R¹、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有す
る。）ならびにこれらの鏡像異性体が含まれる。

一般式： で表わされる光学活性なジカルボン酸モノエステルの鏡
像異性体は、下記一般式： の立体配置を有する化合物である。

上記定義で用いる用語について説明する。

アルキルとしては、メチル、エチル、イソプロピル、
ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、
sec−ブチル、ペンチル、ネオペンチルなどが例示され
る。

アルケニルとしては、２−プロペニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、２−メチル−２−プロペニル、３−
メチル−３−ブテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニ
ル、４−ペンテニル、プレニルなどが挙げられる。

アリールとしては、フエニル、α−またはβ−ナフチ
ルなどが挙げられる。

アラルキルとしては、ベンジル、フエネチル、ナフチ
ルメチルなどが挙げられる。

金属原子としては、主として、アルカリ金属原子、ア
ルカリ土類金属原子を示し、アルカリ金属原子として
は、リチウム、ナトリウム、カリウムなど、アルカリ土
類金属原子としては、マグネシウム、カルシウムなどが
挙げられ、その他に亜鉛なども用いられる。

ビシクロ環としては、ノルボルナン型（ビシクロ［2.
2.1］ヘプタン、ビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エンな
ど）または７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプンタン、
７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エン、７−
アザビシクロ［2.2.1］ヘプタン、７−アザビシクロ
［2.2.1］ヘプタン−５−エン、７−チアビシクロ［2.
2.1］ヘプタン、７−チアビシクロ［2.2.1］ヘプタン−
５−エンなどが挙げられる。

用いる酸無水物としては、σ対称性のある２環性もし
くは３環性の環状無水物に適用可能である。

前記アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル上
に存在してもよい置換基としては、上記のアルキルおよ
びアルコキシ、ハロゲン、アミノ、アミノ誘導体または
ニトロなどが挙げられる。

アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシなどが
例示される。

ハロゲンとしては、フツ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙
げられる。

アミノ誘導体としては、ヒドロキシアミノ、アルキル
アミノなどが挙げられる。

以下に実施例および参考例を示し、本発明をさらに詳
しく説明するが、これらは本発明を何ら限定するもので
はない。

表、実施例および参考例で用いる略号について以下に
説明する。

Me:メチル CH₂Ph:ベンジル Et;エチル CHPh₂:ベンズヒドリル Bu:ブチル Ph:フェニル THF:テトラヒドロフラン DMF:ジメチルホルムアミド HMPA:ヘキサメチルホスホラミド Ｄ−Mande:D−マンデル酸およびそのエステル Ｌ−Mande:L−マンデル酸およびそのエステル PCC:ピリジニウムクロロクロメート PMB:p−メトキシベンジル 実施例１ （1S,2R,3S,4R）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エン
−2,3−ジカルボン酸 ２−（ベンジル Ｄ−マンデレ
ート）エステルII−１−Ｄ（e1）の製造 窒素雰囲気下、Ｄ−マンデル酸ベンジルエステル（5.
33g、22.0mmol）をTHF（50ml）に溶かした後、−78℃に
冷却し、ｎ−BuLi（1.6Mヘキサン溶液13.13ml、21.0mmo
l）を滴下し、15分間撹拌する。反応液にビシクロ［2.
2.1］ヘプタ−５−エン−２−エンド,3−エンド−ジカ
ルボン酸無水物Ｉ−１（3.32g、20.0mmol）のTHF溶液
（20ml）を加える。−78℃で１時間撹拌後、2N塩酸を加
え、酢酸エチルで抽出する。水、食塩水で洗浄後濃縮す
ると、目的物II−１−Ｄ（e1）および副生成物II′−１
−Ｄ（e1）が得られる（II−１−Ｄ（e1）＋II′−１−
Ｄ（e1）＝9.33g）。化合物II−１−Ｄ（e1）はシリカ
ゲルカラマクロマトグラフィー（トルエン＝酢酸エチ
ル）に付して精製する。

IR（液膜）:3600−2400,1748,1710,1498,1456,1342,125
7,1208,1165,1084,1072,912,732,696¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δ ppm:1.33（ABq,Apart,J＝8.9
Hz;1H）,1.48（ABq,Bpart,J＝8.9Hz,1H）,3.16（br.s,1
H）,3.21（br.s,1H）,3.30（dABq,Apart,J＝3.2,10.2H
z,1H）,3.47（dABq,Bpart,J＝3.4Hz,10.2Hz,1H）,5.13
（s,2H）,5.97（s,1H）,6.11（dABq,Apart,J＝2.9H,5.9
Hz,1H）,6.28（dABq,Bpart,J＝2.8,5.9Hz,1H）,7.13〜
7.52（m,10H） 実施例２−７ 実施例１と同様にして下記反応式に示すように反応さ
せて、目的化合物II−Ｄ（ｅ）、II−Ｄ（ａ）またはII
−Ｌ（ｅ）を得る。

反応条件を表１に示す。

（式中、R⁵、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有す
る。） なお、前記表１中、実施例５で得られた目的物II−２
−Ｄ（e1）と副生成物II′−２−Ｄ（e1）の混合物は、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付してトルエン
−酢酸エチルで精製すると目的物II−２−Ｄ（e1）のみ
が得られる（75g、単離収率:78.6％） 元素分析（C₁₈H₂₀O₆・0.2H₂Oとして） 計算値（％）:C,64.35:H,6.13 実測値（％）:C,64,37;H,6.49¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δ ppm:1.37〜2.00（m,6H）,2.6
2（br.S,2H）,3.06（dABq,Apart,J＝3.0,12.0Hz,1H）,
3.22（dABq,Bpart,J＝3.0,12.0Hz,1H）,3.74（s,3H）,
6.01（s,1H）,7.33〜7.55（m,5H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−70.2±0.6゜（CHCl₃,C＝1.965％） その他の化合物についても同様にして、II−１−Ｄ
（e1）、II−１−Ｄ（e2）、II−１−Ｄ（e3）、II−２
−Ｄ（a1）およびII−２−ｌ（e1）は単離した。

実施例８ （IR,2R,3S,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−Ｄ−マンデル酸）−エステルII−２
−Ｄ（a1）の製造 10％パラジウム炭素（0.4g）に粗生成物II−１−Ｄ
（e1）（4.06g、10.0mmol）のメタノール溶液（30ml）
を加え、常圧、水素雰囲気下、室温で1.5時間撹拌後、
触媒を濾過して除き、濃縮する。反応混合物に酢酸エチ
ル、５％炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を分取
する。有機層をもう一度水洗し、最初の水層を合わせて
酢酸エチルで洗浄する。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出後、飽和食塩水で洗浄し、濃縮すると粗生成物II−２
−Ｄ（a1）が得られる［3.14g、酸無水物からの収率:99
％、II−２−Ｄ（a1）:II′−２−Ｄ（a1）＝86:14（HP
LCによる）］。

酢酸エチルより再結晶することにより目的化合物II−
２−Ｄ（a1）を単離する（2.05g、収率:64％）。

母液を濃縮後、塩化メチレンより再結晶することによ
り副生成物としてのII′−２−Ｄ（a1）を得る。

II−２−Ｄ（a1） 融点:164〜166℃ 元素分析（C₁₇H₁₈O₆として） 計算値（％）:C,64.13;H,5.71 実測値（％）:C,63.83;H,5.73¹ H−NMR（CDCl₃,TMS）δ ppm:1.46（br.s,4H）,1.57〜
1.75（m,1H）,1.84〜2.08（m,1H）,2.40〜2.62（m,2
H）,3.02（dABq,Apart,J＝3.6,11.6Hz,1H）,3.29（dAB
q,Bpart,J＝4.4,11.6Hz,1H）,5.86（s,1H）,7.33〜7.65
（m,5H） ▲［α］²⁵ _D▼＝−117.1±0.8゜（MeOH,C＝1.934％） II′−２−Ｄ（a1） 融点:157〜158℃ 元素分析（C₁₇H₁₈O₆として） 計算値（％）:C,64.13;H,5.71 実測値（％）:C,64.02;H,5.57¹ H−NMR（CDCl₃,TMS）δ ppm:1.30〜1.66（m,4H）,1.69
〜1.87（m,1H）,1.96〜2.13（m,1H）,2.60（br.s,2H）,
3.04（dABq,Apart,J＝2.8,12.1Hz,1H）,3.13（dABq,Bpa
rt,J＝3.8,12.1Hz,1H）,5.84（s,1H）,7.33〜7.58（m,5
H） ▲［α］²⁵ _D▼＝−81.8±0.6゜（MeOH,C＝2,005％） 実施例９ 実施例２で得られた化合物II−１−Ｄ（e1）を実施例
８と同様の反応に付して、下記ジカルボン酸II−２−Ｄ
（a1）を得る。

実施例10 実施例４および５で得られた化合物II−１−Ｄ（e3）
およびII−２−Ｄ（e1）はDMSO中、LiIを反応させれ
ば、上記ジカルボン酸II−２−Ｄ（a1）を与える。

実施例11 実施例７で得られた化合物II−２−Ｌ（e1）を実施例
８と同様の反応に付して、下記ジカルボン酸II−２−Ｌ
（a1）を得る。

融点:162〜164℃ ▲［α］^23.5 _D▼＝−113.2±1.5゜（MeOH,C＝1.0075
％） 実施例12 （1S,2R,3S,4R）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エン
−2,3−ジカルボン酸 ２−（Ｄ−マンデル酸）エステ
ルII−１−Ｄ（a1）の製造 粗生成物化合物II−１−Ｄ（e2）（43g）の塩化メチ
レン溶液（60ml）を０℃に冷却し、アニソール（18ml）
およびトリフルオロ酢酸（50ml）を加え、１時間撹拌す
る。反応液を濃縮した後、酢酸エチルと５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加える。水層を分取し、酢酸エチルで
洗浄し、2N塩酸を加えて酸性にする。酢酸エチルで抽出
し、飽和食塩水で洗浄し、濃縮し、乾燥すると粗生成物
II−１−Ｄ（a1）が得られる［II−１−Ｄ（a1）:II′
−１−Ｄ（a1）＝74:26（HPLCによる）］。酢酸エチル
より再結晶することにより目的化合物II−１−Ｄ（a1）
のみが得られる（13.37g、収率47％）。

融点:169〜171℃ 元素分析（C₁₇H₁₈O₆として） 計算値（％）:C,64.55;H,5.10 実測値（％）:C,64.46;H,5.12 IR（CHCl₃）:3500−2400,1734,1438,1375,1342,1256,11
68,1146,1072¹ H−NMR（CDCl₃,TMS）δ ppm:1.36（ABq,Apart,J＝7.2H
z;1H）,1.51（ABq,Bpart,J＝7.2Hz,1H）,3.15（br.s.2
H）,3.43（dABq,Apart,J＝2.9,10.4Hz,1H）,3.53（dAB
q,Bpart,J＝3.1,10.4Hz,1H）,5.86（s,2H）,6.14〜6.33
（m,2H）,7.32〜7.62（m,5H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−159.5±1.0゜（MeOH,C＝1.993％） 実施例13 実施例１および実施例８と同様にして反応を行ない目
的物II−２−Ｄ（a1）を得る。

ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−２−エンド,3−エンド
−ジカルボン酸無水物Ｉ−２（1.66g、10.0mmol）、Ｄ
−マンデル酸ベンジルエステル（2.66g、11.0mmol）お
よびｎ−BuLi（6.40ml、10.2mmol）を用い、中間体II−
２−Ｄ（e2）を精製せず、加水素分解反応を続けて行な
い、粗目的物II−２−Ｄ（a1）2.64gが得られる。［収
率:83％/II−２−Ｄ（a1）:II′−２−Ｄ（a1）＝80:2
0］酢酸エチルより再結晶すれば目的物II−２−Ｄ（a
1）1.47gが得られる。（単離収率:46％） 中間体II−２−Ｄ（e2）はシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製できる。¹ NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.32〜1.97（m,6H）,2.55（b
r.s,1H）,2.60（br.s,1H）,2.98（dABq,Apart,J＝3.7,1
1.6Hz,1H）,3.18（dABq,Bpart,J＝3.9,11.6Hz,1H）,5.1
4（s,2H）,6.03（s,1H）,7.15〜7.52（m,10H） 実施例14〜16 実施例13と同様にして反応を行ない、目的物II−２−
Ｄ（a1）を得る。反応条件を表２に示す。

実施例17 （1R,2S,3S,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−２−Ｄ−１の
製造 窒素雰囲気下、化合物II−２−Ｄ（a1）（5.51g、17.
3mmol）にTHF（40ml）、メタノール（50ml）、ナトリウ
ムメチラート（2M/メタノール、22.0ml、44.0mmol）を
加え、４時間還流する。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出後、水および飽和食塩水で洗浄し濃縮する。得られた
混合物に塩化メチレンを加え、水で３回洗浄後濃縮する
と、目的物III−２−Ｄ−１が3.22g得られる（収率:94
％）。

融点:59〜60℃ 元素分析（C₁₀H₁₄O₄として） 計算値（％）:C,60.58;H,7.13 実測値（％）:C,60.66;H,7.08¹ H−NMR（CDCl₃,TMS）δ ppm:1.20〜1.74（m,6H）,2.59
（br.s,1H）,2.69（br.s,1H）,2.79（d,J＝5.4Hz,1H）,
3.27（dd,J＝3.8,5.4Hz,1H）,3.69（s,3H） ▲［α］²⁵ _D▼＝＋38.4±0.4゜（MeOH,C＝2.002％） 実施例18 （1S,2R,3R,4R）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−２−Ｌ−１の
製造 実施例17と同様にして反応を行ない、出発物質は実施
例17の化合物のエナンチオマーのII−２−Ｌ（a1）とす
る。化合物II−２−Ｌ（a1）（15.27g、48.0mmol）に対
し、メタノール（55ml）、THF（60ml）、ナトリウムメ
チラート（2M/メタノール、60ml、120mmol）を用いて反
応を行なうと目的物III−２−Ｌ−１を7.46g得る。（収
率:78％） 融点:59〜60℃ ▲［α］²⁵ _D▼＝−38.3゜±0.4゜（MeOH,C＝2.013
％） 実施例19 （1S,2S,3S,4R）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エン
−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−１−Ｄ
−１の製造 実施例17と同様にして反応を行ない、化合物II−１−
Ｄ（a1）（15g、47.4ml）とメタノール（50ml）、THF
（100ml）、ナトリウムメチラート（2M/メタノール、7
1.1ml、142mmol）を用いて反応を行なうと、目的物III
−１−Ｄ−１を7.96g得る（収率:93.2％）。

融点:78〜79℃ 元素分析（C₁₀H₁₄O₄として） 計算値（％）:C,61.21;H,6.17 実測値（％）:C,60.89;H,6.13 IR（CHCl₃）:3400−2400,1729,1708,1438,1422,1335,13
11,1271,1245,1190,1175,1162,1114,1022¹ H−NMR（CDCl₃,TMS）δ ppm:1.48（ABq,AAprt,J＝8.0H
z,1H）,1.63（ABq,Bpart,J＝8.0Hz,1H）,2.66（dd,J＝
1.6,4.6Hz,1H）,3.14（br.s,1H）,3.30（br.s,1H）,3.4
3（dd,J＝3.6,4.6Hz,1H）3.73（s,3H）,6.14（dABq,Apa
rt,J＝2.9,5.5Hz,1H）,6.29（dABq,Bpart,J＝3.1,5.5H
z,1H） ▲［α］²⁴ _D▼＝＋138.1±0.9゜（MeOH,C＝2.005％） 実施例20 （1R,2R,3S,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−（Ｄ−マンデル酸）エステルII−２
−Ｄ（a1）の製造 窒素気流下、水素化ナトリウム（60％、0.447g、11.1
mmol）をヘキサンで洗浄した後、THF（10ml）を加え
る。この懸濁液に室温でＤ−マンデル酸ベンジルエステ
ル（2.69g、11.1mmol）のTHF溶液（30ml）を加え、30分
間撹拌する。反応液を−78℃に冷却し、ビシクロ［2.2.
1］ヘプタ−５−エン−２−エンド,3−エンド−ジカル
ボン酸無水物Ｉ−１（1.64g、10.0mmol）のTHF溶液（10
ml）を加える。滴下終了後、撹拌を続け反応温度を０℃
まであげる。常法の後処理を行ない、実施例８と同様
に、脱保護反応に付して粗目的物II−２−Ｄ（a1）2.04
g（収率:64％）を得る。

（II−２−Ｄ（a1）:II′−２−Ｄ（a1）＝59:41） 実施例21 （1R,2R,3R,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタ−５−エン
−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−１−Ｌ
−１の製造 実施例１のＤ−マンデル酸ベンジルエステルの代わり
にＬ−マンデル酸パラメトキシベンジルエステルを用い
て同様に反応させ化合物II−１−Ｌ（e4）を主生成物と
する粗生成物を得る。これを単離することなく次の反応
に付す。

上記粗生成物（30.6g、70mmol）をアセトニトリル160
mlを溶解し、濃塩酸35.9ml（70mmol×６）を加えて、室
温にて16時間撹拌する。4NNaOH水溶液でpH4とし、これ
にNaHCO₃水溶液を氷冷下に加えてアルカリ性とし、酢酸
エチルにて洗う。有機層をさらに水で抽出し、水溶液を
合し、濃塩酸にてpH2としてから酢酸エチルにて抽出す
る。これを水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮し、結晶性の残渣を得る。この粗生成物（II−１−
Ｌ（a1）:II′−１−Ｌ（a1）＝85:15の混合物（HPLCに
よる））を酢酸エチルから再結晶し、化合物II−１−Ｌ
（a1）11.12g（収率50.2％）を得る。融点168〜170℃。

IR、¹H−NHR（CDCl₃）はII−１−Ｄ（a1）と一致す
る。

［α］_Ｄ＝＋160.5±1.0゜（MeOH,23℃,c＝2.002％） 実施例17と同様にして化合物II−１−Ｌ（a1）（601m
g）より化合物III−１−Ｌ−１、345mg（収率92.7％）
を得る。融点78〜79℃。IR、NMRは化合物III−１−Ｄ−
１と一致する。

［α］_Ｄ＝−140.8±0.9゜（MeOH,23℃,c＝2.018％） mp.78〜79℃． 実施例22 （1R,2S,3R,4S）−７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ
ン−2,3−ジカルボン酸 ２−Ｄ−マンデル酸エステルI
I−３−Ｄ（a1）の製造 化合物Ｉ−３、10.5g（62mmol）より実施例１および
実施例８と同様にして化合物II−３−Ｄ（a1）およびI
I′−３−Ｄ（a1）の混合物を得る。（II−３−Ｄ（a
1）:II′−３−Ｄ（a1）＝73:27（HPLC））この混合物
より化合物II−３−Ｄ（a1）、7.1g（収率35.8％）およ
びII′−３−Ｄ（a1）、1.5g（収率7.6％）を各々再結
晶法で単離する。

化合物II−３−Ｄ（a1） mp.175〜17℃。

元素分析（C₁₆H₁₆O₇として） 計算値（％）:C,59.99;H,5.04; 実測値（％）:C,59.85;H,5.04.¹ HNMR（CD₃OD−TMS）δ ppm:1.55〜1.88（m,4H）,3.13
（ABq,A−part、Ｊ＝9.6Hz,1H）,3.19（ABq,B−part、
Ｊ＝9.6Hz,1H）,4.83〜4.90（m,2H）,5.85（s,1H）,7.3
5〜7.65（m,5H）． IR（Nujol）νmax:3480〜2200,1733,1712,1659,1229,12
20,1185,1011,969,936,766,735,696cm^-1. ［α］_Ｄ−111.9±1.5゜（MeOH,23℃,C＝1.013％） 化合物II′−３−Ｄ（a1） mp.133〜135℃。

元素分析（C₁₆H₁₆O₇・0.5H₂Oとして） 計算値（％）:C,58.35;H,5.21; 実測値（％）:C,58.33;H,5.48.¹ HNMR（CD₃OD−TMS）δ ppm:1.55〜1.90（m,4H）,3.12
（ABq,A−part、Ｊ＝9.6Hz,1H）,3.22（ABq,B−part、
Ｊ＝9.6Hz,1H）,4.75〜4.90（m,2H）,5.74（s,1H）,7.3
5〜7.65（m,5H）． IR（Nujol）νmax:3680〜2200,1733,1710（sh）,1230,1
177;1044,994,925,819,724cm^-1. ［α］_Ｄ−92.0±1.3゜（MeOH,23℃,C＝1.014％）． 実施例23 （1R,2R,3R,4S）−７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ
ン−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−３−
Ｄ−１の製造 化合物II−３−Ｄ（a1）、610mg（1.9mmol）より実施
例17に従って化合物III−３−Ｄ−T1、190mg（収率50.0
％）を得る。

融点 134〜135℃ 元素分析（C₉H₁₂O₅として） 計算値（％）:C,54.00;H,6.05; 実測値（％）:C,53.98;H,5.97.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δ ppm:1.45〜1.95（m,4H）,3.14
（d,J＝5.1Hz,1H）,3.50t−d,J＝5.5,1.5Hz,1H）,3.74
（s,3H）,4.84（t,J＝5.0Hz,1H）,4.92（d,J＝5.0Hz,1
H）． IR（Nujol）νmax:3400〜2480,1736,1725,1255,1215,12
01,1184,1173,921,816cm^-1. ［α］_Ｄ ＋73.3±0.6゜（MeOH,24℃,C＝2.009
％）． 実施例24 （1S,2S,3S,4R）−７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ
ン−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−３−
Ｌ−１の製造 化合物III−３−Ｄ−１のエナンチオマーIII−３−Ｌ
−１を開裂反応の副生成物、化合物II′−３−Ｄ（a1）
より上記方法に準じて製造する。（収率27.5％）。

融点 133〜134℃ 元素分析（C₉H₁₂O₅として） 計算値（％）:C,54.00;H,6.05; 実測値（％）;C,54.03;H,6.06.¹ HNMRとIRは化合物III−３−Ｄ−１と一致。

［α］_Ｄ −73.5±0.6゜（MeOH,23℃,C＝2.013％）． 実施例25 （1S,2R,3S,4R）−７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ
ン−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−３−
Ｄ−２の製造 化合物II−３−Ｄ（a1）、4.5g（14.05mmol）を常法
通りジアゾメタンのエーテル溶液で処理し、化合物II−
３−Ｄ（e5）、4.77g（収率97.5％）を得る。

ジメチルエステルII−３−Ｄ（e5） 融点 131〜132℃ 元素分析（C₁₈H₂₀O₇として） 計算値（％）:C,62.05;H,5.80: 実測値（％）:C,61.87:H,5.78.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.45〜1.70（m,2H）,1.77〜
1.93（m,2H）,2.99（ABq,A−part,J＝9.6Hz,1H）,3.15
（ABq,B−part,J＝9.6Hz,1H）,3.53（s,3H）,3.70（s,3
H）,4.85〜4.93（m,1H）,4.95〜5.03（m,1H）,5.93（s,
1H）,7.34〜7.55（m,5H）． IR（Nujol）νmax:1742,1732,1198,1143,1055,1009,93
6,725,695cm^-1. ［α］_Ｄ−103.2±1.4゜（CHCl₃,23.5℃,C＝1.009
％）． ジメチルエステルII−３−Ｄ（e5）、4.18g（12mmo
l）を酢酸エチル30mlに溶解し、10％Pd−Ｃ、400mgを加
えて水素ガス中にて１時間撹拌後、触媒を濾去し、濾液
を減圧濃縮する。残渣をエーテルから再結晶し、シスハ
ーフエステルIII−３−Ｄ−２、2.02g（収率:84.2％）
を得る。

融点 104〜106℃ 元素分析（C₉H₁₂O₅として） 計算値（％）:C,54.00;H,6.05; 実測値（％）:C,53.83;H,6.04.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.45〜1.60（m,2H）,1.73〜
1.93（m,2H）,3.01（ABq,B−part,J＝9.6Hz,1H）,3.66
（s,3H）,4.87〜5.03（m,2H）,6.56（br.s,1H）． IR（Nujol）νmax:3400〜2480,1736,1731,1228,1198,10
69,1010,996,924,900,821cm^-1. ［α］_D −4.9±0.2゜（MeOH,23.5℃,C＝2.010％）． ［α］₃₆₅ −7.9±0.2゜（MeOH,23.5℃,C＝2.010
％）． このものは、R.Blochらにより報告されている化合物I
II−３−Ｄ−２と［α］_Ｄ値がほぼ一致する。［Tetrah
edron Letters,第26巻,No.34,4087頁−4090頁,1985年
（［α］_Ｄ−3.9゜（MeOH,20℃,C＝２％），融点104
℃）］ 実施例26 （1R,2S,3R,4S）−７−オキサビシクロ［2.2.1］ヘプタ
ン−2,3−ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−３−
Ｌ−２の製造 開裂反応の副生成物II′−３−Ｄ（a1）、720mg（7.2
5mmol）を用い、化合物II−３−Ｄ（a1）よりII−３−
Ｄ（e5）を得た方法に準じて、化合物II′−３−Ｄ（e
5）、678mg（収率86.6％）を得る。

ジメチルエステルII′−３−Ｄ（e5） 融点 115〜116℃ 元素分析（C₁₈H₂₀O₇として） 計算値（％）:C,62.05;H,5.80; 実測値（％）:C,61.85;H,5.74.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.45〜1.70（m,2H）,1.74〜
1.95（m,2H）,2.97（ABq,A−part,J＝9.6Hz,1H）,3.17
（ABq,B−part,J＝9.6Hz,1H）,3.36（s,3H）,3.71（s,3
H）,4.84〜4.95（m,2H）,5.00〜5.10（m,1H）,5.89（s,
1H）,7.33〜7.50（m,5H）． IR（Nujol）νmax:1753,1737,1725,1220,1190,1164,114
5,1056,1028,1004,817,735,693cm^-1. ［α］_Ｄ−84.7±1.2゜（CHCl₃,23℃,C＝1.008％）． ジメチルエステルII′−３−Ｄ（e5）、523mg（1.5mm
ol）を用い、化合物II−３−Ｄ（e5）より化合物III−
３−Ｄ−２を製造した方法によりシスハーフエステルII
I−３−Ｌ−２、271mg（収率:90.3％）を得る。

融点 103〜105℃ 元素分析（C₉H₁₂O₅・0.1H₂Oとして） 計算値（％）:C,53.51;H,6.10; 実測値（％）:C,53.67;H,5.90.¹ HNMRとIRは化合物III−３−Ｄ−２と完全に一致する。

［α］_Ｄ＋4.4±0.2゜（MeOH,24℃,C＝2.006％）． ［α］₃₆₅＋7.0±0.2゜（MeOH,24℃,C＝2.006％）． 実施例27 （1R,2R,3S,4S）−２−（メチル−Ｄ−マンデルオキシ
カルボニル）−３−メトキシカルボニルビシクロ［2.2.
1］ヘプタンII−２−Ｄ（e5）の製造 化合物II−２−Ｄ（a1）（22.72g,71.3mmol）および
ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物（2.73g,14.3mmol）
をメタノール（375ml）中24時間還流する。濃縮後、５
％炭酸水素ナトリウム溶液および酢酸エチルで分液す
る。有機層を水洗後、乾燥、濃縮すると粗目的物II−２
−Ｄ（e5）が26.06g得られる。エーテル／石油エーテル
から再結晶すると目的物II−２−Ｄ（e5）が、第１晶:1
8.59g（53.7mmol）、第２晶:0.62g（1.8mmol）、第３
晶:0.53g（1.5mmol）得られる。（合計単離収量・収率1
9.74g、79.9％）。

融点:61.5〜63.5℃。

元素分析（C₁₉H₂₂O₆として）： 計算値（％）:C 65.88:H 6.40; 実測値（％）:C 65.72,H 6.42. IR（KBr）νmax:3700〜3160,2970,2885,1758,1745,173
0,1457,1365,1345,1198,1165,1122,1082,1060,1055,104
2,1022,748,698cm^-1.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.20〜2.00（m,6H）,2.50〜
2.65（brm,2H）,2.96（dABq,A−part,J＝3.8,11.8Hz）,
3.21（dABq,B−part,J＝4.3,11.8Hz）,3.54（s,3H）,3.
70（m,3H）,5.94（s,1H）,7.30〜7.52（m,5H）． ［α］_Ｄ−77.8±1.2゜（CHCl₃,23.5℃,C＝1.00
％）． 実施例28 （1S,2S,3R,4R）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−２−Ｄ−２の
製造 10％パラジウム炭素（1.77g）に化合物II−２−Ｄ（e
5）（17.79g、51.4mmol）の酢酸エチル溶液（200ml）を
加え、常圧、水素雰囲気下、室温で50分間撹拌後、触媒
を濾過して除き、濃縮する。反応混合物にトルエン、５
％炭酸水素ナトリウム溶液を加え、水層を分取する。有
機層をもう一度水洗し、それぞれをトルエンで洗浄後、
合わせる。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出後、水で洗
浄し、乾燥、濃縮すると目的物III−２−Ｄ−２（10.2
g:定量的）が得られる。

元素分析（C₁₀H₁₄O₄として）： 計算値（％）:C 60.59,H 7.12; 実測値（％）:C 60.42,H 7.05. IR（KBr）νmax:3400〜2400,2960,2880,1735,1707,143
5,1356,1295,1288,1132,1122,1082,1058cm^-1.¹ HNMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.35〜1.53（m,4H）,1.65〜
1.88（m,2H）,2.48〜2.64（brm,2H）,2.96（dABq,A−pa
rt,J＝3.4,11.7Hz,1H）,3.03（dABq,B−part,J＝4.4,1
1.7Hz,1H）,3.64（s,3H）． ［α］_Ｄ＋17.1±0.3゜（MeOH,23.0℃,C＝2.059
％）． 実施例29 （1S,2S,3R,4R）−２−（メチル−Ｌ−マンデルオキシ
カルボニル）−３−メトキシカルボニルビシクロ［2.2.
1］ヘプタンII−２−Ｌ（e5）の製造 実施例27と同様の反応に付して、化合物II−２−Ｌ
（e5）を得る。（収率:87.5％） 融点:61.5〜62.5℃。

［α］_Ｄ＋76.3±1.2゜（CHCl₃,24℃,1.005％）． 実施例30 （1R,2R,3S,4S）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタン−2,3−
ジカルボン酸 ２−メチルエステルIII−２−Ｌ−２の
製造 実施例28と同様にして反応を行ない目的物III−２−
Ｌ−２を得る。（収率：定量的） ［α］_Ｄ−17.4±0.3゜（MeOH,C＝2.052％,24℃）． 参考例１ アリール酢酸誘導体の製造方法 （１）Ｄ−マンデル酸ベンジルエステル Ｄ−マンデル酸（85.1g、559mmol）、ベンジルアルコ
ール（65ml、628mmol）およびｐ−トルエンスルホン酸
1.01g、5.35mmol）をベンゼン（700ml）中6.5時間還流
後、水洗し、濃縮する。エーテルから再結晶し、目的物
Ｄ−２を123.5g得る。

収率:91％ 融点:103.5〜105℃ 元素分析（C₁₅H₁₄O₃として） 計算値（％）:C,74.36;H,5.82 実測値（％）:C,74.53;H,5.90¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:3.44（d,J＝5.6Hz,1H）,
5.14（ABq,Apart,J＝12.3Hz,1H）,5.22（d,J＝5.6Hz,1
H）,5.24（ABq,Bpart,J＝12.3Hz,1H）7.15〜7.50（m,10
H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−55.7±1.0゜（CHCl₃,C＝1.003％） （２）Ｄ−マンデル酸 ４−メトキシベンジルエステル Ｄ−マンデル酸（15.3g、100mmol）、４−メトキシベ
ンジルアルコール（15.2g、110mmol）およびｐ−トルエ
ンスルホン酸（0.197g、1.01mmol）をベンゼン（300m
l）中７時間浸漬後、反応液を４回水洗し、濃縮する。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエン−酢酸エチルで精製し、エーテル−
石油エーテルから再結晶すると目的物Ｄ−３を6.58g得
る。

収率:24％ 融点:70.5〜73.5℃ 元素分析（C₁₆H₁₆O₄として） 計算値（％）:C,70.58;H,5.92 実測値（％）:C,70.55;H,6.00¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:3.80（s,3H）,5.05（ABq,
Apart,J＝11.8Hz,1H）,5.19（s,1H）,5.19（ABq,Bpart,
J＝11.8Hz,1H）,6.84（d,J＝8.7Hz,2H）,7.17（d,J＝8.
7Hz,2H）,7.30〜7.45（m,5H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−36.0±0.8゜（CHCl₃,C＝1.017％） （３）Ｄ−マンデル酸−４−ニトロベンジルエステル DMF（300ml）にＤ−マンデル酸（15.2g、100mmol）、
４−ニトロベンジルブロマイド（21.6g、100mmol）およ
びトリエチルアミン（14.0ml、100mmol）を加え、室温
で８時間撹拌する。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽
出し、希塩酸、水で洗浄後、エーテル−石油エーテルか
ら再結晶すると目的物Ｄ−４ 1.96gが得られる。

収率:68％ 融点:143〜145℃ 元素分析（C₁₅H₁₃NO₅として） 計算値（％）:C,62.72;,4.56;N,4.88 実測値（％）:C,62.76;,4.61;N,4.99¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:3.26〜3.52（br.s,1H）,
5.25（ABq,Apart,J＝13.5Hz,1H）,5.28（s,1H）,5.32
（ABq,Bpart,J＝13.5Hz,1H）,7.27（d,J＝8.4Hz,2H）,
7.34〜7.48（br.s,5H）,8.14（d,J＝8.4Hz,2H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−40.0±0.8゜（CHCl₃,C＝0.995％） （４）Ｄ−マンデル酸ベンズヒドリルエステル Ｄ−マンデル酸（25.0g、164mmol）酢酸エチル（200m
l）に溶かし、室温で撹拌しながらジフェニルジアゾメ
タン（38.9g、164mmol）を加える。TLCで反応が完結し
たことを確認して濃縮する。エーテル−石油エーテルか
ら再結晶することにより目的物Ｄ−５を47.7g得る。

収率:91％ 融点:91〜91.5℃ 元素分析（C₂₁H₁₈O₃として） 計算値（％）:C,79.22;,5.71 実測値（％）:C,79.44;,5.67¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:3.47（d,J＝5.3Hz,1H）,
5.28（d,J＝5.3Hz,1H）,6.87S（s,1H）,6.87〜7.46（m,
15H） ▲［α］²⁴ _D▼＝−57.4±1.0゜（CHCl₃,C＝1.023％） （５）Ｌ−マンデル酸ベンズヒドリルエステル 参考例１−（４）と同様にして反応を行ない、Ｌ−マ
ンデル酸（30.4g、200mmol）、酢酸エチル（200ml）お
よびジフェニルジアゾメタン（38,9g、200mmol）を用い
目的物Ｌ−２を54.7g（172mmol）得る。

収率:86％ 融点:91.5〜92.0℃ ▲［α］²⁴ _D▼＝＋55.7±0.9゜（CHCl₃,C＝1.013％） 参考例２ 本発明が提供する化合物（III）の用途の一例を以下
に記す。

窒素雰囲気下、化合物III−２−Ｄ−１（2.80g、14.1
mmol）のアセトン溶液（24ml）を０℃に冷却し、トリエ
チルアミン（2.54ml、18.3mmol）とクロロ炭酸エチル
（1.75ml、18.3mmol）を加える。すぐに白色沈殿が生じ
るが、この状態のまま15分間撹拌を続け、アジ化ナトリ
ウム（2.75g、42.3mmol）の水溶液（8ml）を加える。氷
冷下で30分間撹拌した後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで
抽出し、有機層を水および食塩水で洗浄後濃縮する。酢
酸エチルを完全に除去するためにベンゼンを加えてもう
一度濃縮する。

得られた油状物質をベンゼン（20ml）に溶かし、80℃
に加熱し、熱転位を行なう。窒素の発生が終わった時点
でトリエチルアミン（2.54ml、18.3mmol）、ベンジルア
ルコール（1.75ml、16.9mmol）を加え、1.5時間還流す
る。反応終了後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、
水および食塩水で洗浄した後、濃縮する。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーおよび再結晶により
精製すると化合物１を得る（3.03g、収率:71％）。

融点:61〜62℃ 元素分析（C₁₇H₂₁NO₄として） 計算値（％）:C,67.30;H,6.69;N,4.62 実測値（％）:C,67.46;H,7.04;N,4.73¹ N−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.22〜1.86（m,6H）,1.92
（dd,J＝2.0,5.0Hz,1H）,2.50（br.s,2H）,3.70（br.s,
3H）,4.23（br.s,1H）,4.90（br.s,1H）,5.09（br.s,2
H）,7.22〜7.45（m,5H） ▲［α］²⁵ _D▼＝＋40.1±0.4゜（CHCl₃,C＝2.006％） 10％パラジウム−炭素（0.130g）に化合物１（1.42
g、4.67mmol）のメタノール溶液（13ml）を加え常圧、
水素雰囲気下、室温で30分間撹拌して加水素分解を行な
う。反応後、触媒を濾過して除き濃縮する。

窒素雰囲気下で得られた粗生成物に塩化メチレン（10
ml）を加え０℃に冷却する。これにトリエチルアミン
（1.94ml、14.0mmo）と塩化ベンゼンスルホニル（0.66m
l、5.17mmol）を加え、30分間撹拌する。2N塩酸を加
え、酢酸エチルで抽出し、水および食塩水で洗浄後濃縮
する。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
すると目的物２を得る。（1.17g、収率:81％） 融点:129〜130℃ 元素分析（C₁₅H₁₉O₄として） 計算値（％）:C,58.22;H,6.20;N,4.52;S,10,36 実測値（％）:C,58.11;H,6.07;,4.53;S,10.09 ▲［α］²⁵ _D▼＝−0.4±0.4゜（CHCl₃,C＝0.992％） ▲［α］²⁵ ₃₆₅▼＝−36.2±0.8゜（CHCl₃,C＝0.992
％） 窒素雰囲気下、化合物２（1.12g、3.62mmol）のTHF溶
液（15ml）に室温で水素化リチウムアルミニウム（0.41
2g、10.9mmol）を加える。30分間撹拌後、反応液に酢酸
エチルおよび水をこの順に加え、過剰の水素化リチウム
アルミニウムをつぶす。酢酸エチルで３回抽出して濃縮
すると目的物３を得る（1.00g、98.2％）。

融点:121〜122℃ 元素分析（C₁₄H₁₉NO₃Sとして） 計算値（％）:C,59.75;H,6.82;N,4.98;S,11,39 実測値（％）:C,59.83;H,6.91;,5.02;S,11.33 ▲［α］²⁶ _D▼＝＋6.8±0.5゜（CHCl₃,C＝1.000％） 窒素雰囲気下、化合物３（8.01g、28.5mmol）の塩化
メチレン溶液（600ml）にPCC（18.4g、85.4mmol）とモ
レキュラーシーブ（4A粉末、25.1g）を加え、室温で撹
拌する。TLCで反応が終了したことを確認してから、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより無機物を除
き、濃縮すると中間生成物４が得られる。化合物４はあ
まり安定でないのでこれ以上の精製は行なわずに次の操
作へ進む。

窒素雰囲気下、塩化メトキシメチルトリフェニルホス
ホニウム（31.20g、91.0mmol）のTHF溶液（160ml）を−
78℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム（1.6Mヘキサン溶
液、56.0ml、84.0mmol）を加える。滴下終了後、ドライ
アイス−アセトンバスから氷浴に変えて、０℃で25分間
撹拌する。再び、ドライアイス−アセトンバスにかえて
反応液を−78℃に冷却してから、先程得られた中間生成
物４（7.27g）のTHF溶液（80ml）を加える。滴下終了
後、アイスバスをはずし35分間撹拌する。氷水を加えて
酢酸エチルで抽出した後、有機層を水および食塩水で洗
浄後濃縮する。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より中間生成物５を得るが、この化合物もあまり安定で
ないのでこれ以上の精製は行なわずに次の操作に進む。

窒素雰囲気下、化合物５（5.86g）に90％ぎ酸（5.0m
l）を加え室温で１時間撹拌する。TLCで反応が終了した
ことを確認してから炭酸水素ナトリウムおよび５％炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和する。水を加えて酢酸エチ
ルで抽出したのち、水および食塩水で洗浄後濃縮する。
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると目的
物６を得る（3.30g、化合物３からの収率:40％）。

化合物６ 融点:100〜103℃ 元素分析（C₁₅H₁₉NO₃Sとして） 計算値（％）:C,61.40;H,6.54;N,4.77;S,10,93 実測値（％）:C,61.39;H,6.51;,4.90;S,11.02 ▲［α］^25.5 _D▼＝＋36.5±0.8゜（CHCl₃,C＝0.994
％） 窒素雰囲気下、４−カルボキシブチルトリフェニルホ
スホニウムブロマイド（14.8g、33.3mmol）にTHF（80m
l）を加えた懸濁液にカリウムｔ−ブチレート（7.55g、
67.3mmol）を室温で加える。室温のまま１時間撹拌した
後、−20℃に冷却して化合物６（3.25g、11.1mmol）のT
HF溶液（20ml）をゆっくり加える。−20℃で約１時間半
撹拌を続けた後、アイスバスを除き、もう１時間撹拌を
する。反応液に2N塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、水お
よび食塩水で洗浄後濃縮する。得られた粗生成物にトル
エンと1N水酸化ナトリウム溶液を加えて水層を分取す
る。有機層をもう一度水洗し、先程の水層と合わせた
後、2N塩酸を加える。酢酸エチルで抽出後、水および食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮する。シリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、目的物
７を得る（3.29g、収率79％）。

融点:62℃ 元素分析（C₂₀H₂₇NO₄Sとして） 計算値（％）:C,63.63;H,7.21;N,3.71;S,8,49 実測値（％）:C,63.56;H,7.21;,3.83;S,8.43 ▲［α］²² _D▼＝＋5.3±0.5゜（CHCl₃,C＝1.003％） ▲［α］²⁴ _D▼＝＋27.1±0.7゜（MeOH₃,C＝1.015％） 参考例３ 窒素雰囲気下、化合物III−２−Ｌ−２（5.00g、25.2
mmol）のアセトン溶液（25ml）を０℃に冷却し、トリエ
チルアミン（3.90ml、28.0mmol）とクロロ炭酸エチル
（2.65ml、27.7mmol）を加える。すぐに白色沈殿が生じ
るが、この状態のまま30分間撹拌を続け、アジ化ナトリ
ウム（1.72g、26.5mmol）の水溶液（6ml）を加える。氷
冷下で45分間撹拌した後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで
抽出し、有機層を５％炭酸水素ナトリウム溶液、水およ
び食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮する。酢酸エチルを完全
に除去するためにベンゼンを加えてもう一度濃縮する。

得られた油状物質をベンゼン（25ml）に溶かした後、
加熱し、熱転位を行なう。窒素の発生が終わった時点で
ベンジルアルコール（2.74ml、26.5mmol）トリエチルア
ミン（3.90ml、28.0mmol）、を加え、75分間撹拌する。
反応終了後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、５％
炭酸水素ナトリウム溶液、水および食塩水で洗浄した
後、乾燥、濃縮する。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付して、トルエン−酢酸エチルで生成
すると目的物８（3.99g、13.2mmol）が得られる。（収
率:52.1％）。

元素分析（C₁₇H₂₁NO₄として） 計算値（％）:C,67.31;H,6.98;N,4.62; 実測値（％）:C,67.12;H,6.96;N,4.63 IR（CHCl₃）νmax:3400,2950,2880,1718,1505,1453,143
8,1358,1325,1316,1163,1152,1080,1062,1035,1028c
m^-1.¹ N−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.32〜1.70（m,6H）,2.49
（br.s,2H）,2.93（dd,J＝4.3Hz,J＝11.1Hz,1H）,3.63
（s,3H）,3.97〜4.18（m,1H）,5.08（s,2H）,6.65〜6.8
3（br.m,1H）,7.28〜7.44（m,5H） ［α］_Ｄ＝＋6.1±0.5゜（CHCl₃,C＝1.010％,23.5
℃） ［α］₃₆₅＝＋28.5±0.7゜（CHCl₃,C＝1.010％,23.5
℃） 10％パラジウム−炭素（0.602g）に化合物８（3.87
g、12.8mmol）のメタノール溶液（15ml）を加え常圧、
水素雰囲気下、室温で100分間撹拌して加水素分解を行
なう。反応後、触媒を濾過して除き濃縮する。

窒素雰囲気下で得られた粗生成物に塩化メチレン（10
ml）を加え０℃に冷却する。これにトリエチルアミン
（3.60ml、25.8mmol）と塩化フェニルスルホニル（1.66
ml、13.0mmol）を加え、30分間撹拌する。2N塩酸を加
え、酢酸エチルで抽出し、５％っ炭酸水素ナトリウム溶
液、水および食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮する。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーおよび再結晶により精製
すると目的物９（3.20g、10.3mmol）を得る。（収率81.
0％） 融点:112.5〜113.5℃． 元素分析（C₁₅H₁₉NO₄Sとして） 計算値（％）:C,58.23;H,6.19;N,4.53;S,10,36 実測値（％）:C,58.33;H,6.19;,4.45;S,10.08. IR（CHCl₃）νmax:3335,3270,2965,2880,1705,1445,143
5,1368,1352,1330,1202,1165,1092,905,758,732,725,69
0,667,586,552cm^-1.¹ N−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.22〜1.76（m,6H）,2.30
（br.s,2H）,2.43（br;s,1H）,2.64（dd,J＝4.8Hz,J＝1
0.6Hz,1H）,3.51（s,3H）,3.66〜3.82（m,1H）,6.74
（d,J＝8.8Hz,1H）,7.42〜7.51（m,3H）,7.77〜7.90
（m,2H）． ［α］_Ｄ＝−42.1±0.8゜（CHCl₃,C＝1.002％,24℃） 窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（1.54
g）のTHF懸濁液（30ml）に化合物９（3.00g、9.70mmo
l）のTHF溶液（30ml）を加える。２時間撹拌後、反応液
に酢酸エチルおよび水を順次加え、過剰の水素化リチウ
ムアルミニウムを分解する。酢酸エチルで３回抽出して
乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製す
ると目的物10（2.70g）を得る。（収率:99.0％） 融点:97.5〜99.5℃． 元素分析（C₁₄H₁₉NO₃Sとして） 計算値（％）:C,59.76;H,6.81;N,4.98;S,11,39; 実測値（％）:C,59.68;H,6.77;,4.92;S,11.14. IR（KBr）νmax:3640〜3360,3260,2960,2890,1482,146
3,1448,1340,1310,1165,1155,1092,1046,955,755,718,6
88,595,575,549cm^-1.¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.16〜2.27（m,10H）,3.4
0〜3,56（m,1H）,3.62（dABq,Apart,J＝5.0,11.0Hz,1
H）.3.81（dABq,Bpart,J＝9.0,11.0Hz,1H）,5.51〜5.78
（br.m,1H）,7.46〜7.70（m,3H）,7.85〜8.00（m,2
H）． ［α］_Ｄ＝＋35.1±0.8゜（CHCl₃,C＝1.005％,24.0
℃） 化合物10のラセミ体はカイラルカラム（ULTRONES−OV
M）を用いたHPLCにより（＋）体と（−）体が分離でき
る。

窒素雰囲気下、PCC（0.700g、3.25mmol）とモレキュ
ラーシーブ（4A粉末、0.703g）の塩化メチレン溶液（15
ml）に化合物10（0.304g、1.08mmol）の塩化メチレン溶
液（5ml）を氷冷下で加える。０℃で45分間撹拌後、30
℃でさらに45分間撹拌する。TLCで反応が終了したこと
を確認してから、シリカゲルを用いて無機物を除き、濃
縮すると化合物11aと化合物11bの混合物が得られる。
（0.301g,定量的）化合物11a:化合物11b＝9:1。化合物1
1aは不安定で単離操作中に化合物11bに徐々に変化す
る。¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:2.58〜2.66（br.m,1H）,
2.74〜2.88（m,1H）,3.64〜3,78（d,J＝7.5Hz,1H）,9.4
9（s,1H）．（化合物11aに特徴的なシグナルのみ記載） 窒素雰囲気下、化合物11aと化合物11bの混合物（0.55
1g、1.97mmol）のメタノール溶液（3.0ml）にナトリウ
ムメチラート（0.2N/メタノール、1.0ml、0.200mmol）
を加える。室温で60分間撹拌した後、TLCで反応が終了
したことを確認する。反応液を一旦濃縮し、2N塩酸およ
び酢酸エチルで分液後、水洗、乾燥、濃縮すると目的物
11b（0.537g）が得られる。（収率:97.5％） 融点:100〜103℃ 元素分析（C₁₄H₁₇NO₃Sとして） 計算値（％）:C,60.19:H,6.13;N,5.01;S,11.48; 実測値（％）:C,60.08;H,6.09;N,5.11;S,11.41. IR（KBr）νmax:3250,2960,2940,1712,1462,1448,1338,
1325,1158,1145,1128,1090,1080,753,720,682,655,590,
542cm^-1.¹ H−NMR（CDCl₃−TMS）δppm:1.05〜1.85（m,6H）,2.18
〜2.31（m,2H）,2.45（d,J＝3.6Hz,1H）,3.81〜3.94
（m,1H）,4.90〜5.05（br.m,1H）,7.40〜7.67（m,3H）,
7.76〜7.97（m,2H）,9.55（s,1H）． ［α］_Ｄ＝47.6±0.9゜（CHCl₃,C＝1.009％,24.0℃） 化合物11bは化合物４（参考例２（４）で製造される
中間体）と一致するので、以下参考例２（４）および
（５）に従って反応させ化合物７を得ることができる。

化合物７はトロンボキサンA₂レセプターアンタゴニス
トとして強い作用を有しており、火傷、外傷、急性膵
炎、心機能障害、失血、敗血症、エンドトキシンなどに
よるショック、血液再潅流後の冠動脈または消火器系動
脈などにおける虚血性ショック、各種の炎症、心筋梗
塞、脳梗塞、肺栓塞、腎不全、狭心症、血栓症、抹消血
管閉塞性循環不全、心不全などの各種臓器の虚血性疾
患、クモ膜下出血後の血管攣縮、癌転移などの防止およ
び治療、臓器移植手術後もしくは血液透析、人工心肺な
どの体外循環中の血栓発生防止、冠動脈再形成手術後の
再狭窄防止などや高血圧、動脈硬化、喘息、アレルギー
疾患の予防および治療に用いることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−19960（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−250852（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−180862（ＪＰ，Ａ) Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，14［２ ］（1971），175. Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｂｅｒ ｇ．，93［11］（1984），999−1003 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07C 69/753 C07C 67/08 C07D 521/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式： ［式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
   アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニト
   ロで置換されていてもよいアルキル、（２）アルキル、
   アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
   ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアル
   ケニル、（３）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミ
   ノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで
   置換されていてもよいアリールまたは（４）アルキル、
   アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
   ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアラ
   ルキルを示す］ で表わされる光学活性なジカルボン酸モノエステルなら
   びにその鏡像異性体。
2. 【請求項２】一般式： ［式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−（CH₂）ｍ−または （式中、ｍは０〜４の整数を示し、R²は水素、メチルま
   たはエチルを示す） Ｙは（CH₂）ｎまたは （式中、ｎは０〜３の整数を示し、R²は前記と同意義を
   有する） Ｚは水素、低級アルキルまたはフェニルを示す（ただ
   し、ｍとｎが同時に０である場合を除く）］ で表わされる酸無水物Ｉに、一般式： （式中、M¹は水素または金属原子、R⁵は（１）水素、
   （２）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒド
   ロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換され
   ていてもよいアルキルまたは（３）アルキル、アルコキ
   シ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルア
   ミノまたはニトロで置換されていてもよいアラルキル、
   Arはアルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロ
   キシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換されて
   いてもよいアリールを示す） で表わされる（Ｒ）−または（Ｓ）−アリール酢酸誘導
   体を反応させて、一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
   る） で表わされるアリール酢酸モノエステルIIとし、ついで
   該エステルIIをエステル化反応に付してR¹を導入した
   後、アリール酢酸誘導体残基を除去するかまたは該エス
   テルIIを一般式： R¹OM² IV （式中、R¹は（１）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
   アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニト
   ロで置換されていてもよいアルキル、（２）アルキル、
   アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、ア
   ルキルアミノまたはニトロで置換されていてもよいアル
   ケニル、（３）メンチル、（４）アルキル、アルコキ
   シ、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシアミノ、アルキルア
   ミノまたはニトロで置換されていてもよいアリールまた
   は（５）アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ、ヒ
   ドロキシアミノ、アルキルアミノまたはニトロで置換さ
   れていてもよいアラルキルを示し、M²はアルカリ金属原
   子またはアルカリ土類金属原子を示す）で表わされる化
   合物IVとの反応に付すことを特徴とする一般式： （式中、R¹、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同意義を有する） で表される光学活性なジカルボン酸モノエステルIIIを
   得る不斉合成法。
3. 【請求項３】一般式： （式中、R⁵、Ｘ、Ｙ、ＺおよびArは前記と同意義を有す
   る） で表される光学活性なアリール酢酸誘導体モノエステル
   II。