JP2762025B2 - 可溶性の未担持触媒を用いた気相重合反応 - Google Patents
可溶性の未担持触媒を用いた気相重合反応Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は全般的には気相重合反応
の分野に関する。一層特には、本発明は可溶性の未担持
遷移触媒及びそれらの助触媒をかかる気相重合反応にお
いて利用することを指向する。
の分野に関する。一層特には、本発明は可溶性の未担持
遷移触媒及びそれらの助触媒をかかる気相重合反応にお
いて利用することを指向する。
【0002】
【従来技術】オレフィンポリマーを製造するための気相
反応は当分野で良く知られている。このような気相反応
は、例えば米国特許第4,588,790号、同3,2
56,263号、同3,625,932号、英国特許第
1,248,951号、同1,248,952号、同
1,248,953号、等に記載されている通りに流動
床、撹拌式或はパドル−タイプ反応系において行なわれ
るのが典型的である。本明細書中で用いる通りの「ポリ
オレフィン」はアルファ−オレフィンのホモポリマー、
コポリマー、及びターポリマーを含む意味であり、随意
にジエン、ビニル不飽和を有する芳香族化合物及び/又
は一酸化炭素を含有してよい。
反応は当分野で良く知られている。このような気相反応
は、例えば米国特許第4,588,790号、同3,2
56,263号、同3,625,932号、英国特許第
1,248,951号、同1,248,952号、同
1,248,953号、等に記載されている通りに流動
床、撹拌式或はパドル−タイプ反応系において行なわれ
るのが典型的である。本明細書中で用いる通りの「ポリ
オレフィン」はアルファ−オレフィンのホモポリマー、
コポリマー、及びターポリマーを含む意味であり、随意
にジエン、ビニル不飽和を有する芳香族化合物及び/又
は一酸化炭素を含有してよい。
【0003】一般に、アルファ−オレフィンモノマーは
炭素原子2〜12を有し、代表的には下記を含み、これ
らに限定されない:エチレン、プロピレン、ブテン−
1、ペンテン−1、4−メチルペンテン−1、ヘキセン
−1、スチレン、等。随意にアルファ−オレフィンと重
合させてもよい好適なジエンは非共役のものである。こ
れらの非共役ジエンモノマーは炭素原子約5〜約15を
有する直鎖であっても、枝分れ鎖であっても或は環状炭
化水素ジエンであってもよい。特に好適なジエンは1,
4−ヘキサジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン
を含む。また随意にアルファ−オレフィンと重合させて
もよい好適なビニル不飽和を有する芳香族化合物はスチ
レン及び置換されたスチレンを含む。
炭素原子2〜12を有し、代表的には下記を含み、これ
らに限定されない:エチレン、プロピレン、ブテン−
1、ペンテン−1、4−メチルペンテン−1、ヘキセン
−1、スチレン、等。随意にアルファ−オレフィンと重
合させてもよい好適なジエンは非共役のものである。こ
れらの非共役ジエンモノマーは炭素原子約5〜約15を
有する直鎖であっても、枝分れ鎖であっても或は環状炭
化水素ジエンであってもよい。特に好適なジエンは1,
4−ヘキサジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン
を含む。また随意にアルファ−オレフィンと重合させて
もよい好適なビニル不飽和を有する芳香族化合物はスチ
レン及び置換されたスチレンを含む。
【0004】それでまた、一酸化炭素とアルファ−オレ
フィンとを共重合させて交互コポリマーを形成するのに
第VIII族遷移金属化合物を利用してもよい。一種又
はそれ以上のアルファ−オレフィンモノマー、及び随意
のジエンの重合を行なわせるのに、触媒を要するのが普
通である。このような触媒は下記を含むことができ、こ
れらに限定されない:配位アニオン性触媒;カチオン性
触媒;フリーラジカル触媒;アニオン性触媒;等。
フィンとを共重合させて交互コポリマーを形成するのに
第VIII族遷移金属化合物を利用してもよい。一種又
はそれ以上のアルファ−オレフィンモノマー、及び随意
のジエンの重合を行なわせるのに、触媒を要するのが普
通である。このような触媒は下記を含むことができ、こ
れらに限定されない:配位アニオン性触媒;カチオン性
触媒;フリーラジカル触媒;アニオン性触媒;等。
【0005】例えば米国特許第3,779,712号、
同3,876,602号、同3,023,203号に一
層十分に記載されている通りに、このような触媒は反応
域に、触媒的に活性な物質を典型的にはアルミナ或はシ
リカで作られる不活性担体に含浸させた固体粒状物とし
て導入して有用な触媒を形成するのが普通である。本明
細書中で用いる通りの特定の物質を、それが触媒担体で
あろうと或は溶媒であろうと改質する「不活性」なる用
語は、言及する物質が反応域において気相重合反応の条
件下で非−失活性でありかつ反応域内或は外で触媒に関
して非−失活性であることを意味する。
同3,876,602号、同3,023,203号に一
層十分に記載されている通りに、このような触媒は反応
域に、触媒的に活性な物質を典型的にはアルミナ或はシ
リカで作られる不活性担体に含浸させた固体粒状物とし
て導入して有用な触媒を形成するのが普通である。本明
細書中で用いる通りの特定の物質を、それが触媒担体で
あろうと或は溶媒であろうと改質する「不活性」なる用
語は、言及する物質が反応域において気相重合反応の条
件下で非−失活性でありかつ反応域内或は外で触媒に関
して非−失活性であることを意味する。
【0006】当業者は、重合反応、特に気相重合反応に
ついて、ポリマー粒子寸法の調節、それにより生成物の
嵩密度の調節を助成するように不活性担体に含浸させた
触媒を提供することが必要であると長い間信じてきた。
例えば米国特許第5,057,475号参照。特に、当
業者は、担持された粒状触媒の寸法が反応の間に生成さ
れるポリマー粒子について決定力がある、すなわちポリ
マー粒子が担持された粒状触媒の寸法に比べて約10〜
約15倍大きくなると信じている。従って、当業者なら
ば、担持されない触媒を用いるならば望ましくない結果
を生じると予想するであろう。実際、公表されたヨーロ
ッパ特許出願第0 232 595 B1号では、均一
触媒系、すなわち未担持触媒を用いたスラリー重合反応
の検討において、このような触媒系の不利は生成される
ポリマー生成物が小さい粒子寸法及び小さい嵩密度を示
すことであることが教示されている。その上、当業者
は、触媒的に活性な物質を担体上に含浸させることは望
ましいことに触媒の活性中心を弱めるものと信じてい
る。これは、かかる活性中心の一層大きな分離をもたら
しかつかかる部位の一層多くをモノマーに暴露させ、そ
のため重合を促進させるものと考えられている。
ついて、ポリマー粒子寸法の調節、それにより生成物の
嵩密度の調節を助成するように不活性担体に含浸させた
触媒を提供することが必要であると長い間信じてきた。
例えば米国特許第5,057,475号参照。特に、当
業者は、担持された粒状触媒の寸法が反応の間に生成さ
れるポリマー粒子について決定力がある、すなわちポリ
マー粒子が担持された粒状触媒の寸法に比べて約10〜
約15倍大きくなると信じている。従って、当業者なら
ば、担持されない触媒を用いるならば望ましくない結果
を生じると予想するであろう。実際、公表されたヨーロ
ッパ特許出願第0 232 595 B1号では、均一
触媒系、すなわち未担持触媒を用いたスラリー重合反応
の検討において、このような触媒系の不利は生成される
ポリマー生成物が小さい粒子寸法及び小さい嵩密度を示
すことであることが教示されている。その上、当業者
は、触媒的に活性な物質を担体上に含浸させることは望
ましいことに触媒の活性中心を弱めるものと信じてい
る。これは、かかる活性中心の一層大きな分離をもたら
しかつかかる部位の一層多くをモノマーに暴露させ、そ
のため重合を促進させるものと考えられている。
【0007】しかし、従来気相重合反応において用いら
れる担持された触媒に付随する不利の内の一つは、アル
ミナ、シリカ、等のような担体物質がポリマー生成物中
に無機残留灰として後に残り、それによりポリマーの総
括不純物レベルを増大させることである。ポリマーの性
質の内のいくつか、例えばフィルム外観レーティング、
耐衝撃性、引裂強さ、等は、かかる不純物の量に応じ
て、影響され得る可能性がある。それでまた、担体上に
含浸されることにより、触媒の活性は、反応体と接触す
る有効な暴露される触媒表面積によって影響を与えられ
るのが普通である。これは、とりわけ使用される担体の
多孔度及び容積の関数になるのが典型的である。担体が
表面積対容積の適当な比を備えない時、その場合触媒は
高い活性を示さないことになる。
れる担持された触媒に付随する不利の内の一つは、アル
ミナ、シリカ、等のような担体物質がポリマー生成物中
に無機残留灰として後に残り、それによりポリマーの総
括不純物レベルを増大させることである。ポリマーの性
質の内のいくつか、例えばフィルム外観レーティング、
耐衝撃性、引裂強さ、等は、かかる不純物の量に応じ
て、影響され得る可能性がある。それでまた、担体上に
含浸されることにより、触媒の活性は、反応体と接触す
る有効な暴露される触媒表面積によって影響を与えられ
るのが普通である。これは、とりわけ使用される担体の
多孔度及び容積の関数になるのが典型的である。担体が
表面積対容積の適当な比を備えない時、その場合触媒は
高い活性を示さないことになる。
【0008】発明の要約 本発明により、驚くべきことに、従来技術の忠告にもか
かわらず、未担持の可溶性オレフィン重合配位触媒が実
際気相反応において有用でありかつ液状形態で反応域に
望ましくない結果を生じないで導入することができるこ
とを見出した。本明細書中で用いる通りの「液状形態」
とは、触媒或は助触媒が溶解された溶液を含み、かつ助
触媒が反応域に導入する際に液体ならば、助触媒のこの
純の形態もまたこの用語に含まれる。触媒を液状形態で
反応域に導入することにより、有意な利点が数多く実現
される。特に、(i)担体物質それ自体を供する;(i
i)担体物質を意図する用途について適合し得る形態
で、例えば表面積対容積の必要な比を有するように供す
る;(iii)担体をその上に活性な触媒を含浸させる
ように加工することに伴う費用がかからない。担体を使
用しないことにより、担体に起因するポリマー生成物中
に残る残留灰の問題が完全に除かれるのはもちろんであ
る。
かわらず、未担持の可溶性オレフィン重合配位触媒が実
際気相反応において有用でありかつ液状形態で反応域に
望ましくない結果を生じないで導入することができるこ
とを見出した。本明細書中で用いる通りの「液状形態」
とは、触媒或は助触媒が溶解された溶液を含み、かつ助
触媒が反応域に導入する際に液体ならば、助触媒のこの
純の形態もまたこの用語に含まれる。触媒を液状形態で
反応域に導入することにより、有意な利点が数多く実現
される。特に、(i)担体物質それ自体を供する;(i
i)担体物質を意図する用途について適合し得る形態
で、例えば表面積対容積の必要な比を有するように供す
る;(iii)担体をその上に活性な触媒を含浸させる
ように加工することに伴う費用がかからない。担体を使
用しないことにより、担体に起因するポリマー生成物中
に残る残留灰の問題が完全に除かれるのはもちろんであ
る。
【0009】それでまた、触媒を液状形態で提供するこ
とにより、極めて高い触媒表面積対容積比が実現され
る。その上、触媒を未担持の液状形態で反応域に加える
ことができることは、容易、簡便かつ効率的な触媒導入
方法を提供し、通常一層費用がかかりかつ複雑な固体物
質の取扱を回避する。触媒を単に適した溶媒に溶解さ
せ、生成した触媒溶液(必要ならば、液状形態の助触
媒)を次いで反応域にスプレー或は注入する。触媒と助
触媒とを予備混合して反応域に同時に導入してもよく、
或は所望の場合には触媒と助触媒とを別々に導入しても
よい。
とにより、極めて高い触媒表面積対容積比が実現され
る。その上、触媒を未担持の液状形態で反応域に加える
ことができることは、容易、簡便かつ効率的な触媒導入
方法を提供し、通常一層費用がかかりかつ複雑な固体物
質の取扱を回避する。触媒を単に適した溶媒に溶解さ
せ、生成した触媒溶液(必要ならば、液状形態の助触
媒)を次いで反応域にスプレー或は注入する。触媒と助
触媒とを予備混合して反応域に同時に導入してもよく、
或は所望の場合には触媒と助触媒とを別々に導入しても
よい。
【0010】驚くべきことに、触媒/重合分野の当業者
ならば、触媒を液状形態で反応域に導入すれば不良な結
果を生じる、或は結果を少しも生じないことを予想した
であろうが、本発明者等はそうすることが極めて良好な
結果をもたらし、担持された形態の触媒に関して見られ
るよりも更に高い触媒活性をもたらすことを見出した。
当業者ならば、触媒及び助触媒を液状形態で導入すれ
ば、前に検討して通りに小さい粒子寸法及び小さい嵩密
度を予想するのに加えて、望ましくないポリマーの膨潤
を引き起こし或は少なくとも粒子床においてポリマー粒
子の凝結及び凝集を引き起こすことになろうと予想した
であろう。当業者ならば、かかる凝集されたポリマー粒
子は望ましくないことにガス分配板を閉塞し、生成物排
出バルブを閉塞し、反応装置の壁を被覆してシートを形
成し、床における固形分及びガスの流れを乱し、大きな
チャンクのプリカーサーとなって反応装置全体にわたっ
て延在することになることを予想するであろう。それで
また、当業者ならば、液状触媒のキャリオーバーがそれ
により望ましくないことに熱交換器の壁及びその他の下
流の装置のポリマーによる被覆を引き起こすことになろ
うと予想するであろう。その上、当業者ならば、また触
媒とモノマーとの高い反応性の組合せが丁度触媒供給装
置オリフィスの所で重合を引き起こし、同様にオリフィ
スを閉塞させることになろうと予想するであろう。この
ような予想にもかかわらず、本発明者等は、今本発明の
重合方法を用いてこのような問題が通常起きず、良好な
ポリマーが得られることを見出した。
ならば、触媒を液状形態で反応域に導入すれば不良な結
果を生じる、或は結果を少しも生じないことを予想した
であろうが、本発明者等はそうすることが極めて良好な
結果をもたらし、担持された形態の触媒に関して見られ
るよりも更に高い触媒活性をもたらすことを見出した。
当業者ならば、触媒及び助触媒を液状形態で導入すれ
ば、前に検討して通りに小さい粒子寸法及び小さい嵩密
度を予想するのに加えて、望ましくないポリマーの膨潤
を引き起こし或は少なくとも粒子床においてポリマー粒
子の凝結及び凝集を引き起こすことになろうと予想した
であろう。当業者ならば、かかる凝集されたポリマー粒
子は望ましくないことにガス分配板を閉塞し、生成物排
出バルブを閉塞し、反応装置の壁を被覆してシートを形
成し、床における固形分及びガスの流れを乱し、大きな
チャンクのプリカーサーとなって反応装置全体にわたっ
て延在することになることを予想するであろう。それで
また、当業者ならば、液状触媒のキャリオーバーがそれ
により望ましくないことに熱交換器の壁及びその他の下
流の装置のポリマーによる被覆を引き起こすことになろ
うと予想するであろう。その上、当業者ならば、また触
媒とモノマーとの高い反応性の組合せが丁度触媒供給装
置オリフィスの所で重合を引き起こし、同様にオリフィ
スを閉塞させることになろうと予想するであろう。この
ような予想にもかかわらず、本発明者等は、今本発明の
重合方法を用いてこのような問題が通常起きず、良好な
ポリマーが得られることを見出した。
【0011】触媒を未担持の形態でガス状反応域に導入
することの利点は多数ある。上述した費用を低減させか
つ残留灰を回避することに加えて、かかる触媒を調製し
て導入する際の容易性もまた極めて重要である。このこ
とは、触媒を一種より多く用いるつもりの場合に、特に
有利になる。例えば、ポリマーの分子量分布を調整する
ために、例えば米国特許第4,530,914号におい
て検討されている通りにメタロセンのような触媒の混合
物を用いるのが望ましい。かかる触媒の慣用の担持され
た形態の代わりにかかる触媒の溶液を用いる本発明の重
合方法は、このような多触媒系を調製して用いることの
容易性を極めて簡単にする。
することの利点は多数ある。上述した費用を低減させか
つ残留灰を回避することに加えて、かかる触媒を調製し
て導入する際の容易性もまた極めて重要である。このこ
とは、触媒を一種より多く用いるつもりの場合に、特に
有利になる。例えば、ポリマーの分子量分布を調整する
ために、例えば米国特許第4,530,914号におい
て検討されている通りにメタロセンのような触媒の混合
物を用いるのが望ましい。かかる触媒の慣用の担持され
た形態の代わりにかかる触媒の溶液を用いる本発明の重
合方法は、このような多触媒系を調製して用いることの
容易性を極めて簡単にする。
【0012】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、一実
施態様では、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のモノ
マーを含むガス状流を連続して反応域に導入し; b)液状形態の重合触媒を反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む気相重合反応でポリマーを製造する方法を指
向する。
施態様では、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のモノ
マーを含むガス状流を連続して反応域に導入し; b)液状形態の重合触媒を反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む気相重合反応でポリマーを製造する方法を指
向する。
【0013】本発明は、別の実施態様では、生長ポリマ
ー粒子の床を収容する反応域、下部ガス拡散域、上部ガ
ス速度減小域、ガス拡散域へのガス入口、及びガス速度
減小域より上部のガス出口を有するガス流動床反応装置
においてモノマーからポリマーを製造する方法であっ
て、 a)モノマーを含有するガス状流を連続してガス拡散域
を通して反応域の中に粒子を懸濁された及びガス流動さ
れた状態に保つ程の上方向速度で通し; b)液状形態の触媒を反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出し; d)モノマーを含む未反応ガス流れを連続して反応域か
ら抜き出し、該流れを圧縮及び冷却し; e)該流れを連続してガス拡散域に導入する ことを含む方法を指向する。
ー粒子の床を収容する反応域、下部ガス拡散域、上部ガ
ス速度減小域、ガス拡散域へのガス入口、及びガス速度
減小域より上部のガス出口を有するガス流動床反応装置
においてモノマーからポリマーを製造する方法であっ
て、 a)モノマーを含有するガス状流を連続してガス拡散域
を通して反応域の中に粒子を懸濁された及びガス流動さ
れた状態に保つ程の上方向速度で通し; b)液状形態の触媒を反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出し; d)モノマーを含む未反応ガス流れを連続して反応域か
ら抜き出し、該流れを圧縮及び冷却し; e)該流れを連続してガス拡散域に導入する ことを含む方法を指向する。
【0014】アルファ−オレフィンモノマーからポリオ
レフィンを製造するために典型的に用いられる触媒は、
元素の周期表の第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金
属化合物を含む配位触媒が普通である。これらから、本
発明において用いるのに適した遷移金属オレフィン重合
用触媒は、かかる遷移金属化合物の溶液を製造すること
ができるように、炭化水素の、実質的に非配位性の溶媒
に可溶性のものである。これらの炭化水素の、実質的に
非配位性の溶媒は不活性であり、触媒の触媒活性或は重
合反応を妨げない。好適な遷移金属化合物の中に、第I
VB族、第VB族及び第VIBからのものがあり、最も
好適なのはメタロセンである。遷移金属オレフィン重合
用触媒は、当業者に良く知られている一種又はそれ以上
の適したオルガノ金属化合物のような助触媒と共に使用
するのが典型的である。
レフィンを製造するために典型的に用いられる触媒は、
元素の周期表の第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金
属化合物を含む配位触媒が普通である。これらから、本
発明において用いるのに適した遷移金属オレフィン重合
用触媒は、かかる遷移金属化合物の溶液を製造すること
ができるように、炭化水素の、実質的に非配位性の溶媒
に可溶性のものである。これらの炭化水素の、実質的に
非配位性の溶媒は不活性であり、触媒の触媒活性或は重
合反応を妨げない。好適な遷移金属化合物の中に、第I
VB族、第VB族及び第VIBからのものがあり、最も
好適なのはメタロセンである。遷移金属オレフィン重合
用触媒は、当業者に良く知られている一種又はそれ以上
の適したオルガノ金属化合物のような助触媒と共に使用
するのが典型的である。
【0015】従って、本発明の好適な実施態様では、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のモノ
マーを含むガス状流を連続して反応域に導入し; b)(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化
合物及び(ii)オルガノ金属化合物を含み、(i)及
び(ii)が液状形態である重合触媒を反応域に導入
し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む気相重合反応でポリマーを製造する方法を開
示する。
マーを含むガス状流を連続して反応域に導入し; b)(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化
合物及び(ii)オルガノ金属化合物を含み、(i)及
び(ii)が液状形態である重合触媒を反応域に導入
し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む気相重合反応でポリマーを製造する方法を開
示する。
【0016】一層好適な実施態様では、ポリオレフィン
を反応域において気相重合反応で製造するに際し、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属を
含有する少なくとも一種のメタロセン化合物及び(i
i)アルミノオキサンを含み、(i)及び(ii)が液
状形態であるオレフィン重合用触媒を反応域に導入し; c)ポリオレフィン生成物を反応域から抜き出す ことを含む反応で製造する。上述した種々の実施態様の
すべてにおいて、ポリマーを製造するために用いるモノ
マーは炭素原子2〜12、好ましくは炭素原子2〜6を
有する。
を反応域において気相重合反応で製造するに際し、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属を
含有する少なくとも一種のメタロセン化合物及び(i
i)アルミノオキサンを含み、(i)及び(ii)が液
状形態であるオレフィン重合用触媒を反応域に導入し; c)ポリオレフィン生成物を反応域から抜き出す ことを含む反応で製造する。上述した種々の実施態様の
すべてにおいて、ポリマーを製造するために用いるモノ
マーは炭素原子2〜12、好ましくは炭素原子2〜6を
有する。
【0017】ポリオレフィンは、一種又はそれ以上のメ
タロセンと一種又はそれ以上のアルミノオキサンとを反
応させて形成する液状の触媒的に活性な反応生成物を使
用して製造するのが好ましい。メタロセンは下記の一般
式によって表わすことができる:
タロセンと一種又はそれ以上のアルミノオキサンとを反
応させて形成する液状の触媒的に活性な反応生成物を使
用して製造するのが好ましい。メタロセンは下記の一般
式によって表わすことができる:
【化1】 (C5 Rx )y R’z (C5 Rm )MQn-y-1 (I) 式中、Mは元素の周期表の第IIIB〜VIII族の金
属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合さ
れた同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換され
たシクロペンタジエニルであり;Rは同じであり或は異
なり、水素もしくは炭素原子1〜20を含有するアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルキルアリール、或はア
リールアルキルラジカルのようなヒドロカルビルラジカ
ルでありもしくは2つの炭素原子が一緒に結合されてC
4 〜C6 環を形成し;R’は2つの(C5 Rx )及び
(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換された或は未
置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或はジアリール
ゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル或はアリー
ルホスフィン或はアミンラジカルであり;Qは炭素原子
1〜20を有するアリール、アルキル、アルケニル、ア
ルキルアリール、或はアリールアルキルラジカルのよう
なヒドロカルビルラジカル、炭素原子1〜20を有する
ヒドロカルボキシラジカル或はハロゲンであり、互いに
同じになり或は異なることができ;zは0或は1であ
り;yは0、1或は2であり;zは、yが0である時、
0であり;nは、Mの原子価状態に応じて0、1、2、
3或は4であり;n−yは≧1である。
属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合さ
れた同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換され
たシクロペンタジエニルであり;Rは同じであり或は異
なり、水素もしくは炭素原子1〜20を含有するアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルキルアリール、或はア
リールアルキルラジカルのようなヒドロカルビルラジカ
ルでありもしくは2つの炭素原子が一緒に結合されてC
4 〜C6 環を形成し;R’は2つの(C5 Rx )及び
(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換された或は未
置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或はジアリール
ゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル或はアリー
ルホスフィン或はアミンラジカルであり;Qは炭素原子
1〜20を有するアリール、アルキル、アルケニル、ア
ルキルアリール、或はアリールアルキルラジカルのよう
なヒドロカルビルラジカル、炭素原子1〜20を有する
ヒドロカルボキシラジカル或はハロゲンであり、互いに
同じになり或は異なることができ;zは0或は1であ
り;yは0、1或は2であり;zは、yが0である時、
0であり;nは、Mの原子価状態に応じて0、1、2、
3或は4であり;n−yは≧1である。
【0018】アルミノオキサンはポリ(ヒドロカルビル
アルミニウムオキシド)であり、水とアルキルアルミニ
ウムとを反応させることにより形成することができる。
アルミノオキサンは下記式(化2)によって表わされる
反復単位を含有する:
アルミニウムオキシド)であり、水とアルキルアルミニ
ウムとを反応させることにより形成することができる。
アルミノオキサンは下記式(化2)によって表わされる
反復単位を含有する:
【化2】 式中、一般にR”は炭素原子1〜約12を含有するアル
キルラジカルもしくは置換された或は未置換のフェニル
或はナフチルラジカルのようなアリールラジカルであ
る。
キルラジカルもしくは置換された或は未置換のフェニル
或はナフチルラジカルのようなアリールラジカルであ
る。
【0019】本発明は、好適な実施態様では、反応域に
おいて気相重合反応によってアルファ−オレフィンモノ
マーからポリオレフィンを製造する方法であって、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属を含有す
る少なくとも一種のメタロセン化合物及び液状形態のア
ルミノオキサンの溶液を含むオレフィン重合用触媒を反
応域に導入し; c)ポリオレフィン生成物を反応域から抜き出すことを
含む方法を指向する。
おいて気相重合反応によってアルファ−オレフィンモノ
マーからポリオレフィンを製造する方法であって、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属を含有す
る少なくとも一種のメタロセン化合物及び液状形態のア
ルミノオキサンの溶液を含むオレフィン重合用触媒を反
応域に導入し; c)ポリオレフィン生成物を反応域から抜き出すことを
含む方法を指向する。
【0020】前に簡単に述べた通りに、気相重合反応は
流動床反応装置、撹拌式或はパドル−タイプ反応系にお
いて行なうことができる。下記の検討は、本発明が好適
であり、特に有利であることが認められた流動床系を特
徴とするが、好適な流動床系に関連して検討する液状形
態の遷移金属オレフィン重合用触媒を使用することに関
する一般的な概念はまた撹拌式或はパドル−タイプ反応
系にも同様に適用し得ることは理解されるべきである。
本発明は特定のタイプの気相反応系になんら限定されな
い。
流動床反応装置、撹拌式或はパドル−タイプ反応系にお
いて行なうことができる。下記の検討は、本発明が好適
であり、特に有利であることが認められた流動床系を特
徴とするが、好適な流動床系に関連して検討する液状形
態の遷移金属オレフィン重合用触媒を使用することに関
する一般的な概念はまた撹拌式或はパドル−タイプ反応
系にも同様に適用し得ることは理解されるべきである。
本発明は特定のタイプの気相反応系になんら限定されな
い。
【0021】極めて一般的に表現すると、樹脂を製造す
る慣用の流動床プロセスは、一種又はそれ以上のモノマ
ーを含むガス状流を連続して流動床反応装置の中に反応
性条件下で及び触媒の存在において固体粒子の床を懸濁
された状態に保つ程の速度で通すことによって行う。未
反応ガス状モノマーを含有するガス状流を連続して反応
装置から抜き出し、圧縮し、冷却して反応装置に循環さ
せる。生成物を反応装置から抜き出し、メークアップモ
ノマーを循環流に加える。
る慣用の流動床プロセスは、一種又はそれ以上のモノマ
ーを含むガス状流を連続して流動床反応装置の中に反応
性条件下で及び触媒の存在において固体粒子の床を懸濁
された状態に保つ程の速度で通すことによって行う。未
反応ガス状モノマーを含有するガス状流を連続して反応
装置から抜き出し、圧縮し、冷却して反応装置に循環さ
せる。生成物を反応装置から抜き出し、メークアップモ
ノマーを循環流に加える。
【0022】基本の慣用の流動床系を図1に例示する。
反応装置10は反応域12及び速度減小域14からな
る。拡張されたセクションの下に流動床を包含する全体
に円筒形の領域を含む反応装置構造を図1に示すが、全
体に或は部分的にテーパーを付けた反応装置を含む反応
装置構造のような別の構造もまた用いてよい。このよう
な構造では、流動床は、テーパーを付けた反応域内であ
るが、図1に示す一層慣用の反応装置構造の速度減小域
として働く断面積の一層大きい領域より下に置く。反応
域の高さ対直径の比は、通常約2.7:1〜約5:1の
範囲で変えることができる。その範囲は一層大きい或は
一層小さい比に変えてよく、所望の生産容量に依存す
る。速度減小域14の断面積は、反応域12の断面積に
約2.5〜約2.9を乗じた範囲内にするのが典型的で
ある。
反応装置10は反応域12及び速度減小域14からな
る。拡張されたセクションの下に流動床を包含する全体
に円筒形の領域を含む反応装置構造を図1に示すが、全
体に或は部分的にテーパーを付けた反応装置を含む反応
装置構造のような別の構造もまた用いてよい。このよう
な構造では、流動床は、テーパーを付けた反応域内であ
るが、図1に示す一層慣用の反応装置構造の速度減小域
として働く断面積の一層大きい領域より下に置く。反応
域の高さ対直径の比は、通常約2.7:1〜約5:1の
範囲で変えることができる。その範囲は一層大きい或は
一層小さい比に変えてよく、所望の生産容量に依存す
る。速度減小域14の断面積は、反応域12の断面積に
約2.5〜約2.9を乗じた範囲内にするのが典型的で
ある。
【0023】反応域12は生長ポリマー粒子、形成され
たポリマー粒子及び従たる量の触媒の床をすべて、メー
クアップ原料及び循環流体の形態のイナートを含む重合
性及び改質用ガス状成分の反応域を通る連続流れによっ
て流動させて含む。実施可能な流動床を保つためには、
床を通る空塔ガス速度は、典型的には約0.2〜約0.
5ft/秒(0.06〜0.15m/秒)である流動化
に要する最少流量を越えなければならない。空塔ガス速
度は、流動させるための最少流量より少なくとも0.2
ft/秒(0.06m/秒)大きくする或は約0.4〜
約0.7ft/秒(0.12〜0.21m/秒)にする
のが好ましい。空塔ガス速度は5.0ft/秒(1.5
m/秒)を越えないのが普通でありかつ約2.5ft/
秒(0.76m/秒)より大きくしないのが普通であ
る。
たポリマー粒子及び従たる量の触媒の床をすべて、メー
クアップ原料及び循環流体の形態のイナートを含む重合
性及び改質用ガス状成分の反応域を通る連続流れによっ
て流動させて含む。実施可能な流動床を保つためには、
床を通る空塔ガス速度は、典型的には約0.2〜約0.
5ft/秒(0.06〜0.15m/秒)である流動化
に要する最少流量を越えなければならない。空塔ガス速
度は、流動させるための最少流量より少なくとも0.2
ft/秒(0.06m/秒)大きくする或は約0.4〜
約0.7ft/秒(0.12〜0.21m/秒)にする
のが好ましい。空塔ガス速度は5.0ft/秒(1.5
m/秒)を越えないのが普通でありかつ約2.5ft/
秒(0.76m/秒)より大きくしないのが普通であ
る。
【0024】運転開始時、ガス流れを開始する前に、反
応装置に粒状ポリマー粒子の床を装入する。このような
粒子は、触媒供給を開始する際に、局所「ホットスポッ
ト」の形成を防止する働きをする。かかる粒子は生成す
るポリマーと同じでもよく或は異なってもよい。かかる
粒子は、異なる場合、所望の新しく生成されるポリマー
粒子と共に、最初の生成物として抜き出される。終局的
に、所望のポリマー粒子から成る流動床が運転開始の床
に取って代わる。流動は、床への或は床を通る高速流体
循環、代表的にはメークアップ流体の供給速度の約50
倍程で達成される。この高速循環は、流動床を保つのに
必要な必須空塔速度をもたらす。流動床は、床を通るガ
スのパーコレーションによって作り出される通りの個々
に移動する粒子の濃密マスの全般的な様相を有する。床
の圧力損失は、床の重量を断面積で割ったものに等しい
か或はそれよりわずかに大きい。
応装置に粒状ポリマー粒子の床を装入する。このような
粒子は、触媒供給を開始する際に、局所「ホットスポッ
ト」の形成を防止する働きをする。かかる粒子は生成す
るポリマーと同じでもよく或は異なってもよい。かかる
粒子は、異なる場合、所望の新しく生成されるポリマー
粒子と共に、最初の生成物として抜き出される。終局的
に、所望のポリマー粒子から成る流動床が運転開始の床
に取って代わる。流動は、床への或は床を通る高速流体
循環、代表的にはメークアップ流体の供給速度の約50
倍程で達成される。この高速循環は、流動床を保つのに
必要な必須空塔速度をもたらす。流動床は、床を通るガ
スのパーコレーションによって作り出される通りの個々
に移動する粒子の濃密マスの全般的な様相を有する。床
の圧力損失は、床の重量を断面積で割ったものに等しい
か或はそれよりわずかに大きい。
【0025】メークアップ流体を循環路22の点18に
供給する。循環流の組成をガス分析計21で測定し、次
いでそれでメークアップ流の組成及び量を適宜調整して
本質的に定常状態のガス状組成を反応域内に保つ。ガス
分析計21は速度減小域14と熱交換器24との間の
点、好ましくは圧縮機30と熱交換器24との間の点か
らガスを受け入れるように位置させることができる。完
全な流動を確実にするために、循環流及び所望の場合、
メークアップ流の少なくとも一部を循環路22より反応
装置の床より下の点26に戻す。ガス分配板28を戻り
点の上に置いて床を均一に流動化するのを助成させかつ
運転開始前或は系を運転停止する際に、固体粒子を支持
させる。床を上方向に通過して出る流れは、発熱の重合
反応によって発生する反応熱を取り去る。
供給する。循環流の組成をガス分析計21で測定し、次
いでそれでメークアップ流の組成及び量を適宜調整して
本質的に定常状態のガス状組成を反応域内に保つ。ガス
分析計21は速度減小域14と熱交換器24との間の
点、好ましくは圧縮機30と熱交換器24との間の点か
らガスを受け入れるように位置させることができる。完
全な流動を確実にするために、循環流及び所望の場合、
メークアップ流の少なくとも一部を循環路22より反応
装置の床より下の点26に戻す。ガス分配板28を戻り
点の上に置いて床を均一に流動化するのを助成させかつ
運転開始前或は系を運転停止する際に、固体粒子を支持
させる。床を上方向に通過して出る流れは、発熱の重合
反応によって発生する反応熱を取り去る。
【0026】床において反応しなかった、流動床を通っ
て流れるガス状流の一部は循環流となり、反応域12を
出て床より上の速度減小域14に通り、そこで同伴粒子
の大部分が落下して床に戻り、それにより固体粒子のキ
ャリオーバーを減少させる。次いで、循環流を圧縮機3
0で圧縮して熱交換器24を通過させ、そこで循環流か
ら反応熱を取り去った後に循環流を床に戻す。熱交換器
域を出る循環流を、次いで反応装置の底部26に戻し、
そこからガス分配板28を通して流動床に戻す。流体流
れディフレクター32を反応装置の入り口に設置して含
有されるポリマー粒子が沈降しかつ凝集して固体マスに
なるのを防止し並びに沈降し或は離脱されるようになり
得る粒子或は液体を再伴されたままにし或は再同伴させ
るのが好ましい。
て流れるガス状流の一部は循環流となり、反応域12を
出て床より上の速度減小域14に通り、そこで同伴粒子
の大部分が落下して床に戻り、それにより固体粒子のキ
ャリオーバーを減少させる。次いで、循環流を圧縮機3
0で圧縮して熱交換器24を通過させ、そこで循環流か
ら反応熱を取り去った後に循環流を床に戻す。熱交換器
域を出る循環流を、次いで反応装置の底部26に戻し、
そこからガス分配板28を通して流動床に戻す。流体流
れディフレクター32を反応装置の入り口に設置して含
有されるポリマー粒子が沈降しかつ凝集して固体マスに
なるのを防止し並びに沈降し或は離脱されるようになり
得る粒子或は液体を再伴されたままにし或は再同伴させ
るのが好ましい。
【0027】粒状ポリマー生成物を管路44から排出さ
せる。図に示さないが、生成物から流体を分離させて反
応装置容器10に戻すのが望ましい。本発明に従えば、
重合触媒は液状形態で管路48により反応装置の点42
に入る。触媒が、通常実情であるが、一種又はそれ以上
の助触媒を用いることを必要とするならば、一種又はそ
れ以上の助触媒を別々に反応域に導入し、そこで助触媒
と触媒とを反応させて触媒的に活性な反応生成物を形成
させてもよい。しかし、助触媒と触媒とを予備混合した
後に反応域に導入するのが慣用的である。
せる。図に示さないが、生成物から流体を分離させて反
応装置容器10に戻すのが望ましい。本発明に従えば、
重合触媒は液状形態で管路48により反応装置の点42
に入る。触媒が、通常実情であるが、一種又はそれ以上
の助触媒を用いることを必要とするならば、一種又はそ
れ以上の助触媒を別々に反応域に導入し、そこで助触媒
と触媒とを反応させて触媒的に活性な反応生成物を形成
させてもよい。しかし、助触媒と触媒とを予備混合した
後に反応域に導入するのが慣用的である。
【0028】例えば、メタロセンを触媒としてかつアル
ミノオキサンを助触媒として含む触媒系では、オレフィ
ンを重合させるのに要する触媒的に活性な物質を形成す
るのはメタロセンとアルミノオキサンとの反応生成物で
ある。メタロセンとアルミノオキサンとを互いに混合
し、依然液状形態である反応した混合物を反応域に導入
してもよい。別法として、液状形態のメタロセンと、ま
た液状形態のアルミノオキサンとを独立に反応域に加え
てもよい。メタロセンとアルミノオキサンとが反応して
触媒的に活性な物質を形成する場所は反応域においてで
ある。好適ではないが、更にそれ以上の実施態様では、
メタロセンとアルミノオキサンとのように、触媒と助触
媒とを反応させ、それらの固体反応生成物を分離するこ
ともまた本発明の範囲内である。この触媒的に活性な固
体反応生成物を、次いで所望の場合に適した溶媒に溶解
して溶液として反応域に導入する。重合触媒を反応域に
導入するための前に検討した種々の実施態様のすべてが
広く一層一般的な遷移金属オレフィン重合用触媒及びオ
ルガノ金属助触媒に同様に適用し得ることは理解される
べきである。
ミノオキサンを助触媒として含む触媒系では、オレフィ
ンを重合させるのに要する触媒的に活性な物質を形成す
るのはメタロセンとアルミノオキサンとの反応生成物で
ある。メタロセンとアルミノオキサンとを互いに混合
し、依然液状形態である反応した混合物を反応域に導入
してもよい。別法として、液状形態のメタロセンと、ま
た液状形態のアルミノオキサンとを独立に反応域に加え
てもよい。メタロセンとアルミノオキサンとが反応して
触媒的に活性な物質を形成する場所は反応域においてで
ある。好適ではないが、更にそれ以上の実施態様では、
メタロセンとアルミノオキサンとのように、触媒と助触
媒とを反応させ、それらの固体反応生成物を分離するこ
ともまた本発明の範囲内である。この触媒的に活性な固
体反応生成物を、次いで所望の場合に適した溶媒に溶解
して溶液として反応域に導入する。重合触媒を反応域に
導入するための前に検討した種々の実施態様のすべてが
広く一層一般的な遷移金属オレフィン重合用触媒及びオ
ルガノ金属助触媒に同様に適用し得ることは理解される
べきである。
【0029】図1に示す実施態様では、触媒と助触媒と
を混合した後に、反応域に導入する。タンク50からの
可溶性の遷移金属を管路45により混合ティー62に供
給し、そこで可溶性の遷移金属を管路43により混合テ
ィー62に供給するタンク60からの一種又はそれ以上
の助触媒と混合する。触媒及び助触媒は液状形態で供す
る。一旦、混合物が管路46に入ると、触媒/助触媒混
合物は互いに反応して所望の触媒反応生成物を現場で形
成する。管路46の長さは、触媒/助触媒が互いに反応
して溶解状態のままの所望の反応生成物を形成するのに
十分な滞留時間をもたらすようにするのが普通である。
このようにして、一旦触媒が管路48に達しかつ反応装
置の点42に入ると、触媒/助触媒の実質的にすべてが
反応しており、現場で形成した触媒的に反応性の反応生
成物が望ましいことに液状形態で反応域に導入されるこ
とになる。
を混合した後に、反応域に導入する。タンク50からの
可溶性の遷移金属を管路45により混合ティー62に供
給し、そこで可溶性の遷移金属を管路43により混合テ
ィー62に供給するタンク60からの一種又はそれ以上
の助触媒と混合する。触媒及び助触媒は液状形態で供す
る。一旦、混合物が管路46に入ると、触媒/助触媒混
合物は互いに反応して所望の触媒反応生成物を現場で形
成する。管路46の長さは、触媒/助触媒が互いに反応
して溶解状態のままの所望の反応生成物を形成するのに
十分な滞留時間をもたらすようにするのが普通である。
このようにして、一旦触媒が管路48に達しかつ反応装
置の点42に入ると、触媒/助触媒の実質的にすべてが
反応しており、現場で形成した触媒的に反応性の反応生
成物が望ましいことに液状形態で反応域に導入されるこ
とになる。
【0030】可溶性の遷移金属重合触媒化合物の溶液を
形成するのに用いるのが望ましい溶媒は不活性な溶媒、
好ましくは非官能性炭化水素溶媒であり、下記を含むこ
とができる:ブタン、イソブタン、エタン、プロパン、
ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、オクタン、デカ
ン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、等のよう
な脂肪族炭化水素;シクロペンタン、メチルシクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロオクタン、ノルボルナ
ン、エチルシクロヘキサン、等のような脂環式炭化水
素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、キシレン、等のような芳香族
炭化水素;ガソリン、ケロシン、軽油、等のような石油
留分。同様に、塩化メチレン、クロロベンゼン、等のよ
うなハロゲン化炭化水素もまた用いてよい。「非官能
性」とは、溶媒が活性な遷移金属部位を失活させること
ができる極性の強い基のような基を含有しない溶媒を意
味する。
形成するのに用いるのが望ましい溶媒は不活性な溶媒、
好ましくは非官能性炭化水素溶媒であり、下記を含むこ
とができる:ブタン、イソブタン、エタン、プロパン、
ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、オクタン、デカ
ン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、等のよう
な脂肪族炭化水素;シクロペンタン、メチルシクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロオクタン、ノルボルナ
ン、エチルシクロヘキサン、等のような脂環式炭化水
素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、キシレン、等のような芳香族
炭化水素;ガソリン、ケロシン、軽油、等のような石油
留分。同様に、塩化メチレン、クロロベンゼン、等のよ
うなハロゲン化炭化水素もまた用いてよい。「非官能
性」とは、溶媒が活性な遷移金属部位を失活させること
ができる極性の強い基のような基を含有しない溶媒を意
味する。
【0031】溶解状態で供する触媒或は助触媒の反応域
に導入される際の濃度は、使用する特定の溶媒の飽和点
程に高くするのがよい。濃度は約0.01〜約10,0
00ミリモル/リットルの範囲が好ましい。助触媒をそ
の純形態、すなわち溶媒を用いないその液体状態で用い
るならば、助触媒は本質的に純な助触媒で構成されるこ
とになるのはもちろんである。下記の明細書中で、「液
状形態の触媒」になす言及はかかる液状形態の触媒及び
助触媒並びに両方の混合物を含むことは理解されるべき
である。触媒を反応装置に導入する際に形成される液滴
の寸法は、触媒を導入する方法及び場所によって決めら
れるのが普通である。望ましくは粒子寸法約500〜約
5,000ミクロンの範囲を有するポリマー生成物を形
成するように、約5〜約1000ミクロンの範囲、好ま
しくは約50〜約500ミクロンの範囲内の平均直径を
有する液滴を反応装置内に供することができる導入手段
を用いるのが望ましい。
に導入される際の濃度は、使用する特定の溶媒の飽和点
程に高くするのがよい。濃度は約0.01〜約10,0
00ミリモル/リットルの範囲が好ましい。助触媒をそ
の純形態、すなわち溶媒を用いないその液体状態で用い
るならば、助触媒は本質的に純な助触媒で構成されるこ
とになるのはもちろんである。下記の明細書中で、「液
状形態の触媒」になす言及はかかる液状形態の触媒及び
助触媒並びに両方の混合物を含むことは理解されるべき
である。触媒を反応装置に導入する際に形成される液滴
の寸法は、触媒を導入する方法及び場所によって決めら
れるのが普通である。望ましくは粒子寸法約500〜約
5,000ミクロンの範囲を有するポリマー生成物を形
成するように、約5〜約1000ミクロンの範囲、好ま
しくは約50〜約500ミクロンの範囲内の平均直径を
有する液滴を反応装置内に供することができる導入手段
を用いるのが望ましい。
【0032】液状形態の触媒(助触媒を用いる或は用い
ない)は、単に液状形態の触媒を加圧下で反応装置の中
に延在する導管を通すことによって反応域に導入しても
よく、これを所望の液滴寸法をもたらすように噴霧を助
成するために不活性なガス(例えば窒素)及び/又は不
活性な液(例えばイソペンタン、プロパン、等)によっ
て助成してもよい。液状形態の触媒は、例えば容量形ポ
ンプを使用する、保持タンクを不活性ガスで加圧する、
等のような慣用の手段によって導入してよい。加圧の程
度、導管の直径、噴霧ノズル(使用する場合)のタイプ
及び寸法、触媒を反応装置に導入する際の速度、反応装
置内の流体の空塔ガス速度、並びに反応域内の圧力はす
べて形成される液滴寸法に影響を与えることになる。こ
れらのパラメーターの内の1つ又はそれ以上を所望の程
度に変更し、なおその他を反応域内で所望の液滴寸法を
得るように調整することは当業者の知識の十分範囲内で
ある。
ない)は、単に液状形態の触媒を加圧下で反応装置の中
に延在する導管を通すことによって反応域に導入しても
よく、これを所望の液滴寸法をもたらすように噴霧を助
成するために不活性なガス(例えば窒素)及び/又は不
活性な液(例えばイソペンタン、プロパン、等)によっ
て助成してもよい。液状形態の触媒は、例えば容量形ポ
ンプを使用する、保持タンクを不活性ガスで加圧する、
等のような慣用の手段によって導入してよい。加圧の程
度、導管の直径、噴霧ノズル(使用する場合)のタイプ
及び寸法、触媒を反応装置に導入する際の速度、反応装
置内の流体の空塔ガス速度、並びに反応域内の圧力はす
べて形成される液滴寸法に影響を与えることになる。こ
れらのパラメーターの内の1つ又はそれ以上を所望の程
度に変更し、なおその他を反応域内で所望の液滴寸法を
得るように調整することは当業者の知識の十分範囲内で
ある。
【0033】液状形態の触媒は、不活性ガスを使用して
触媒の噴霧を助成する慣用の2流体スプレーノズルによ
って反応装置に導入するのが好ましい。このようなスプ
レーノズルを使用することは、反応域において高い噴霧
容量によって生成される液滴寸法の一層大きな調節を可
能にする。反応装置内の反応条件並びに触媒の流量を考
慮に入れて、所望の平均液滴寸法をもたらすために液状
形態の触媒に関して用いるための特定のスプレーノズル
/チップを選定することは、当業者の知識の十分範囲内
である。スプレーノズル/チップのオリフィス直径は約
0.01〜約0.15インチ(0.3〜3.8mm)の
範囲が普通であり、約0.02〜約0.05インチ
(0.5〜1.3mm)の範囲が好ましい。
触媒の噴霧を助成する慣用の2流体スプレーノズルによ
って反応装置に導入するのが好ましい。このようなスプ
レーノズルを使用することは、反応域において高い噴霧
容量によって生成される液滴寸法の一層大きな調節を可
能にする。反応装置内の反応条件並びに触媒の流量を考
慮に入れて、所望の平均液滴寸法をもたらすために液状
形態の触媒に関して用いるための特定のスプレーノズル
/チップを選定することは、当業者の知識の十分範囲内
である。スプレーノズル/チップのオリフィス直径は約
0.01〜約0.15インチ(0.3〜3.8mm)の
範囲が普通であり、約0.02〜約0.05インチ
(0.5〜1.3mm)の範囲が好ましい。
【0034】液状形態の触媒は、分配板28より上の反
応域の点42に所望の速度で間欠的に或は連続して導入
することができる。間欠的な触媒供給を用いて独立に所
望の平均触媒供給速度を保ちながら、触媒溶液流量を最
適なノズル性能についての適当な範囲に保つのを助成す
ることができる。不活性なキャリヤーを、それが液体で
あろうと或はガスであろうとノズルを通す連続流れを、
注入ノズルのファウリングを防ぐ程の速度で保つのが望
ましい。精確な流量の触媒を反応域に送出するために、
慣用の計量バルブ或はポンプを使用することができる。
慣用のシリンジ或は容量形ポンプを使用して調節された
間欠的な触媒流れを反応域に送出してもよい。
応域の点42に所望の速度で間欠的に或は連続して導入
することができる。間欠的な触媒供給を用いて独立に所
望の平均触媒供給速度を保ちながら、触媒溶液流量を最
適なノズル性能についての適当な範囲に保つのを助成す
ることができる。不活性なキャリヤーを、それが液体で
あろうと或はガスであろうとノズルを通す連続流れを、
注入ノズルのファウリングを防ぐ程の速度で保つのが望
ましい。精確な流量の触媒を反応域に送出するために、
慣用の計量バルブ或はポンプを使用することができる。
慣用のシリンジ或は容量形ポンプを使用して調節された
間欠的な触媒流れを反応域に送出してもよい。
【0035】液状形態の触媒を反応装置に注入すること
は、均一な分配をもたらしかつ触媒が循環管路にキャリ
オーバーしてそこで重合が開始して循環管路及び熱交換
器の閉塞が終局的に起こり得るのを最少にするために、
流動床の上部に行うのが好ましい。触媒が循環管路にキ
ャリオーバーすると、重合が反応装置の反応域の外側で
起こることになり、循環管路の閉塞及び熱交換器のファ
ウリングを引き起こすことになり得る。しかし、所望の
場合、液状形態の触媒は、反応装置の流動床より完全に
上の、触媒注入点における反応装置の断面積、流動床を
通過するガス状流の速度、触媒の反応装置への入口点及
び触媒の液滴寸法を考慮に入れて、循環管路への触媒の
キャリオーバーを最少にするように依然十分に低い点に
導入してもよい。
は、均一な分配をもたらしかつ触媒が循環管路にキャリ
オーバーしてそこで重合が開始して循環管路及び熱交換
器の閉塞が終局的に起こり得るのを最少にするために、
流動床の上部に行うのが好ましい。触媒が循環管路にキ
ャリオーバーすると、重合が反応装置の反応域の外側で
起こることになり、循環管路の閉塞及び熱交換器のファ
ウリングを引き起こすことになり得る。しかし、所望の
場合、液状形態の触媒は、反応装置の流動床より完全に
上の、触媒注入点における反応装置の断面積、流動床を
通過するガス状流の速度、触媒の反応装置への入口点及
び触媒の液滴寸法を考慮に入れて、循環管路への触媒の
キャリオーバーを最少にするように依然十分に低い点に
導入してもよい。
【0036】床におけるポリマーの生産速度は、特定の
反応条件における触媒注入速度、触媒の活性及び循環流
中のモノマーの濃度に依存する。反応装置に導入する触
媒内に含有される遷移金属1ポンドにつきポリオレフィ
ン約100,000〜約1,000,000ポンドが生
産されるのが普通である。生産速度は、単に触媒導入速
度を調整することによって簡便に調節される。所定の一
連の運転条件下で、床の一部を粒状ポリマー生成物の形
成速度に本質的に等しい速度で生成物として抜き出すこ
とによって流動床は本質的に一定の高さに保たれる。
反応条件における触媒注入速度、触媒の活性及び循環流
中のモノマーの濃度に依存する。反応装置に導入する触
媒内に含有される遷移金属1ポンドにつきポリオレフィ
ン約100,000〜約1,000,000ポンドが生
産されるのが普通である。生産速度は、単に触媒導入速
度を調整することによって簡便に調節される。所定の一
連の運転条件下で、床の一部を粒状ポリマー生成物の形
成速度に本質的に等しい速度で生成物として抜き出すこ
とによって流動床は本質的に一定の高さに保たれる。
【0037】流動反応装置は、確実に焼結が起きないよ
うにするために、ポリマー粒子の焼結温度より低い温度
で運転する。焼結は樹脂密度の関数になる。よって、密
度約0.91〜約0.95g/cm3 を有するエチレン
コポリマーを製造するには温度約75°〜約95℃を用
いるのがよく、密度約0.95〜約0.97g/cm3
を有するエチレンコポリマー或はホモポリマーを製造す
るには温度約90°〜約115℃を用いるのがよい。液
状形態の触媒を反応域に導入する際の温度は臨界的なも
のではない。典型的には、液状形態の触媒の温度は単に
周囲温度にするのがよい。
うにするために、ポリマー粒子の焼結温度より低い温度
で運転する。焼結は樹脂密度の関数になる。よって、密
度約0.91〜約0.95g/cm3 を有するエチレン
コポリマーを製造するには温度約75°〜約95℃を用
いるのがよく、密度約0.95〜約0.97g/cm3
を有するエチレンコポリマー或はホモポリマーを製造す
るには温度約90°〜約115℃を用いるのがよい。液
状形態の触媒を反応域に導入する際の温度は臨界的なも
のではない。典型的には、液状形態の触媒の温度は単に
周囲温度にするのがよい。
【0038】流動床反応装置は約1,000psig
(70kg/cm2G)までの圧力で運転するのが典型的であ
る。ポリオレフィン樹脂を生産するためには、反応装置
は、圧力約250〜約500psig(18〜35kg/c
m2G)で運転するのが好ましく、圧力を増大させるにつ
れてガスの単位容積熱容量が増大することにより、一層
大きい熱伝達を経験するので、かかる範囲の高い方の圧
力で運転するのが好都合である。本発明において用いる
ことができる触媒プリカーサー化合物は、炭化水素溶媒
に可溶性の周期表の第IIIB〜VIII族からの遷移
金属化合物を含む。好適な遷移金属化合物の中に第IV
B〜VIB族からの化合物がある。有用なマグネシウム
/チタン電子供与体錯体をベースにした化合物が、例え
ば米国特許第4,302,565号及び同第4,30
2,566号に記載されている。MgTiCl6 (エチ
ルアセテート)4 誘導体が特に好適である。英国特許出
願第2,105,355号は、また適している炭化水素
可溶性バナジウム化合物の範囲を記載している。
(70kg/cm2G)までの圧力で運転するのが典型的であ
る。ポリオレフィン樹脂を生産するためには、反応装置
は、圧力約250〜約500psig(18〜35kg/c
m2G)で運転するのが好ましく、圧力を増大させるにつ
れてガスの単位容積熱容量が増大することにより、一層
大きい熱伝達を経験するので、かかる範囲の高い方の圧
力で運転するのが好都合である。本発明において用いる
ことができる触媒プリカーサー化合物は、炭化水素溶媒
に可溶性の周期表の第IIIB〜VIII族からの遷移
金属化合物を含む。好適な遷移金属化合物の中に第IV
B〜VIB族からの化合物がある。有用なマグネシウム
/チタン電子供与体錯体をベースにした化合物が、例え
ば米国特許第4,302,565号及び同第4,30
2,566号に記載されている。MgTiCl6 (エチ
ルアセテート)4 誘導体が特に好適である。英国特許出
願第2,105,355号は、また適している炭化水素
可溶性バナジウム化合物の範囲を記載している。
【0039】本発明の重合方法を行なうために液状形態
で用いることができるバナジウム化合物は炭化水素可溶
性バナジウム塩である。これらのバナジウム化合物の混
合物もまた用いてよいのはもちろんである。これらの化
合物の具体例は下記の通りであり、これらに限定されな
い: A.バナジルトリハライド、アルコキシハライド及びア
ルコキシド、例えばVOCl3 、VOCl2 (OBu)
(式中、Bu=ブチル)及びVO(OC2 H5)3 。 B.バナジウムテトラハライド及びバナジウムアルコキ
シハライド、例えばVCl4 及びVCl3 (OBu)。 C.バナジウム及びバナジルアセチルアセトネート並び
にクロロアセチルアセトネート、例えばV(AcAc)
3 及びVOCl2 (AcAc)(式中、(AcAc)は
アセチルアセトネートである)。
で用いることができるバナジウム化合物は炭化水素可溶
性バナジウム塩である。これらのバナジウム化合物の混
合物もまた用いてよいのはもちろんである。これらの化
合物の具体例は下記の通りであり、これらに限定されな
い: A.バナジルトリハライド、アルコキシハライド及びア
ルコキシド、例えばVOCl3 、VOCl2 (OBu)
(式中、Bu=ブチル)及びVO(OC2 H5)3 。 B.バナジウムテトラハライド及びバナジウムアルコキ
シハライド、例えばVCl4 及びVCl3 (OBu)。 C.バナジウム及びバナジルアセチルアセトネート並び
にクロロアセチルアセトネート、例えばV(AcAc)
3 及びVOCl2 (AcAc)(式中、(AcAc)は
アセチルアセトネートである)。
【0040】好適なバナジウム化合物はVOCl3 、V
Cl4 及びVOCl2 −OR(式中、Rは炭化水素ラジ
カル、好ましくはC1 〜C10脂肪族或は芳香族炭化水素
ラジカル、例えばエチル、フェニル、イソプロピル、ブ
チル、プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチ
ル、ヘキシル、シクロヘキシル、ナフチル、等である)
及びバナジウムアセチルアセトネートである。本発明に
おいて液状形態で用いるのに適した炭化水素可溶性クロ
ム化合物は、例えば米国特許第3,242,099号及
び同3,231,550号に開示されているクロミルク
ロリド(CrO2 Cl2 )、クロム2−エチルヘキサノ
エート、クロムアセチルアセトネート(Cr(AcA
c)3 )、等である。
Cl4 及びVOCl2 −OR(式中、Rは炭化水素ラジ
カル、好ましくはC1 〜C10脂肪族或は芳香族炭化水素
ラジカル、例えばエチル、フェニル、イソプロピル、ブ
チル、プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチ
ル、ヘキシル、シクロヘキシル、ナフチル、等である)
及びバナジウムアセチルアセトネートである。本発明に
おいて液状形態で用いるのに適した炭化水素可溶性クロ
ム化合物は、例えば米国特許第3,242,099号及
び同3,231,550号に開示されているクロミルク
ロリド(CrO2 Cl2 )、クロム2−エチルヘキサノ
エート、クロムアセチルアセトネート(Cr(AcA
c)3 )、等である。
【0041】本発明において用いるのに適した更に他の
遷移金属重合触媒は米国特許第4,124,532号、
同第4,302,565号及び同第4,302,566
号並びに公表されたヨーロッパ特許出願第0 416
815 A2号及び同第0420 436 A12号に
開示されている。このようなそれ以上の化合物は下記の
一般式を有する:
遷移金属重合触媒は米国特許第4,124,532号、
同第4,302,565号及び同第4,302,566
号並びに公表されたヨーロッパ特許出願第0 416
815 A2号及び同第0420 436 A12号に
開示されている。このようなそれ以上の化合物は下記の
一般式を有する:
【化3】M’t M”X2tY.uE (III) 式中、M’=Mg、Mn及び/又はCa; t=0.5〜2の数である; M”=Cl、Br或はI; Y=同じでも或は異なってもよく、下記である:ハロゲ
ン単独或は酸素と組み合わされ、−NR2 、−OR、−
SR、化4或は化5:
ン単独或は酸素と組み合わされ、−NR2 、−OR、−
SR、化4或は化5:
【化4】
【化5】 (式中、Rは炭化水素ラジカル、特にアルキル、アリー
ル、シクロアルキル或はアラルキルラジカルである)、
アセチルアセトネートアニオン;アセチルアセトネート
アニオンはM’の原子価を満足するような量で存在す
る; u=0.5m〜20mの数; E=下記の化合物の群から選ぶ電子供与体化合物; (a)有機カルボン酸のエステル; (b)アルコール; (c)エーテル; (d)アミン; (e)炭酸のエステル; (f)ニトリル; (g)ホスホルアミド; (h)リン酸及び亜リン酸のエステル; (j)オキシ塩化リン。
ル、シクロアルキル或はアラルキルラジカルである)、
アセチルアセトネートアニオン;アセチルアセトネート
アニオンはM’の原子価を満足するような量で存在す
る; u=0.5m〜20mの数; E=下記の化合物の群から選ぶ電子供与体化合物; (a)有機カルボン酸のエステル; (b)アルコール; (c)エーテル; (d)アミン; (e)炭酸のエステル; (f)ニトリル; (g)ホスホルアミド; (h)リン酸及び亜リン酸のエステル; (j)オキシ塩化リン。
【0042】上記の一般式の範囲内の複合物は下記を含
む: MgTiCl5 .2CH3 COOC2 H5 Mg3 Ti2 Cl12.7CH3 COOC2 H5 MgTiCl5 .6C2 H5 OH MgTiCl5 .10OCH3 OH MgTiCl5 .テトラヒドロフラン MgTi2 Cl12.7C6 H5 CN Mg3 Ti2 Cl12.6C6 H5 COOC2 H5 MgTiCl6 .2CH3 COOC2 H5 化6
む: MgTiCl5 .2CH3 COOC2 H5 Mg3 Ti2 Cl12.7CH3 COOC2 H5 MgTiCl5 .6C2 H5 OH MgTiCl5 .10OCH3 OH MgTiCl5 .テトラヒドロフラン MgTi2 Cl12.7C6 H5 CN Mg3 Ti2 Cl12.6C6 H5 COOC2 H5 MgTiCl6 .2CH3 COOC2 H5 化6
【化6】 MgTiCl6 .6C6 H5 N MgTiCl5 (OCH3 ).2CH3 COOC2 H5 MgTiCl5 N(C6 H5 )2 .3CH3 COOC2
H5 MgTiBr2 Cl4 .2(C2 H5 )2 O MnTiCl5 .4C2 H5 OH Mg3 V2 Cl12.7CH3 COOC2 H5 MgZrCl6 .4テトラヒドロフラン
H5 MgTiBr2 Cl4 .2(C2 H5 )2 O MnTiCl5 .4C2 H5 OH Mg3 V2 Cl12.7CH3 COOC2 H5 MgZrCl6 .4テトラヒドロフラン
【0043】本発明に従って液状形態で用いることがで
きる別のタイプの遷移金属オレフィン重合触媒プリカー
サーは、下記式(化7)に一致する金属配位複合物であ
る:
きる別のタイプの遷移金属オレフィン重合触媒プリカー
サーは、下記式(化7)に一致する金属配位複合物であ
る:
【化7】 式中、Mは元素の周期表の第IIIB〜VIII族の金
属である;CpはMにη5 結合様式で結合されたシクロ
ペンタジエニル或は置換されたシクロペンタジエニ基で
ある;Zはホウ素、或は元素の周期表の第IVB族の構
成要素及び随意にイオウ或は酸素を含む成分であり、該
成分は非水素原子20までを有し、随意にCpとZとは
一緒になって縮合環系を形成し;X’はアニオン性リガ
ンド基或は非水素原子30までを有する中性ルイス塩基
リガンド基であり;aはMの原子価に応じて0、1、
2、3或は4であり;Y’はZ及びにMに結合されたア
ニオン性或は非アニオン性リガンド基であり、非水素原
子20までを有する窒素、リン、酸素或はイオウであ
り、随意にYとZとは一緒になって縮合環系を形成す
る。
属である;CpはMにη5 結合様式で結合されたシクロ
ペンタジエニル或は置換されたシクロペンタジエニ基で
ある;Zはホウ素、或は元素の周期表の第IVB族の構
成要素及び随意にイオウ或は酸素を含む成分であり、該
成分は非水素原子20までを有し、随意にCpとZとは
一緒になって縮合環系を形成し;X’はアニオン性リガ
ンド基或は非水素原子30までを有する中性ルイス塩基
リガンド基であり;aはMの原子価に応じて0、1、
2、3或は4であり;Y’はZ及びにMに結合されたア
ニオン性或は非アニオン性リガンド基であり、非水素原
子20までを有する窒素、リン、酸素或はイオウであ
り、随意にYとZとは一緒になって縮合環系を形成す
る。
【0044】このような金属配位複合物は当業者に良く
知られており、例えば米国特許第5,026,798
号、同第5,055,438号及び公表されたヨーロッ
パ特許出願第0 416 815 A2号に開示されて
いる。上記式によって表わされる化合物の具体例は下記
(表1)であり、これらに限定されない:
知られており、例えば米国特許第5,026,798
号、同第5,055,438号及び公表されたヨーロッ
パ特許出願第0 416 815 A2号に開示されて
いる。上記式によって表わされる化合物の具体例は下記
(表1)であり、これらに限定されない:
【0045】
【表1】
【0046】本発明の目的で液状形態で適したアルミノ
オキサンの他の代表的なオルガノ金属助触媒は下記の一
般式の化合物の内の任意のものである:
オキサンの他の代表的なオルガノ金属助触媒は下記の一
般式の化合物の内の任意のものである:
【化8】M3 M4 vX2 cR3 b-c (V) 式中、M3 は周期表の第IA、IIA及びIIIA族の
金属であり;M4 は周期表の第IA族の金属であり;v
は0〜1の数であり;各々のX2 は任意のハロゲンであ
り;各々のR3 は一価の炭化水素ラジカル或は水素であ
り;bは1〜4の数であり;b−cは少なくとも1であ
る。
金属であり;M4 は周期表の第IA族の金属であり;v
は0〜1の数であり;各々のX2 は任意のハロゲンであ
り;各々のR3 は一価の炭化水素ラジカル或は水素であ
り;bは1〜4の数であり;b−cは少なくとも1であ
る。
【0047】発明を実施するために適した第IA、II
A或はIIIA族の金属を1つだけ有する化合物は下記
式を有する化合物を含む:
A或はIIIA族の金属を1つだけ有する化合物は下記
式を有する化合物を含む:
【化9】M3 R3 k (VI) 式中、M3 は第IA、IIA或はIIIA族金属、例え
ばリチウム、ナトリウム、ベリリウム、バリウム、ホウ
素、アルミニウム、亜鉛、カドミウム及びガリウムであ
り;kはM3 の原子価に応じて0、1、2或は3に等し
く、立ち代わってM3 の原子価は通常M3 が属する特定
の基(すなわちIA、IIA或はIIIA)に依存し;
各々のR3 は任意の一価の炭化水素ラジカルでよい。適
したR3 基の例は(V)式に関連して前述したR3 基の
内の任意のものを含む。
ばリチウム、ナトリウム、ベリリウム、バリウム、ホウ
素、アルミニウム、亜鉛、カドミウム及びガリウムであ
り;kはM3 の原子価に応じて0、1、2或は3に等し
く、立ち代わってM3 の原子価は通常M3 が属する特定
の基(すなわちIA、IIA或はIIIA)に依存し;
各々のR3 は任意の一価の炭化水素ラジカルでよい。適
したR3 基の例は(V)式に関連して前述したR3 基の
内の任意のものを含む。
【0048】本発明の目的に完全に適しているのは第I
A、IIA及びIIIA族のオルガノ金属化合物、例え
ばメチル及びブチルリチウム、ジヘキシル水銀、ブチル
マグネシウム、ジエチルカドミウム、ベンジルカリウ
ム、ジエチル亜鉛、トリ−n−ブチルアルミニウム、ジ
イソブチルエチルホウ素、ジエチルカドミウム、ジ−n
−ブチル亜鉛及びトリ−n−アミルホウ素、特にアルミ
ニウムアルキル、例えばトリヘキシルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウムである。
A、IIA及びIIIA族のオルガノ金属化合物、例え
ばメチル及びブチルリチウム、ジヘキシル水銀、ブチル
マグネシウム、ジエチルカドミウム、ベンジルカリウ
ム、ジエチル亜鉛、トリ−n−ブチルアルミニウム、ジ
イソブチルエチルホウ素、ジエチルカドミウム、ジ−n
−ブチル亜鉛及びトリ−n−アミルホウ素、特にアルミ
ニウムアルキル、例えばトリヘキシルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウムである。
【0049】加えて、一般式(VI)に一致する第II
A族金属のモノ−オルガノハライド及びヒドリド、並び
に第IIIA族金属のモノ−或はジ−オルガノハライド
及びヒドリドもまた適している。このような化合物の特
定の例は下記の通りである:ジイソブチルアルミニウム
ブロミド、イソブチルホウ素ジクロリド、メチルマグネ
シウムクロリド、エチルベリリウムクロリド、エチルカ
ルシウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド、メチルカドミウムヒドリド、ジエチルホウ素ヒドリ
ド、ヘキシルベリリウムヒドリド、ジプロピルホウ素ヒ
ドリド、オクチルマグネシウムヒドリド、ブチル亜鉛ヒ
ドリド、ジクロロホウ素ヒドリド、ジブロモアルミニウ
ムヒドリド及びブロモカドミウムヒドリド。このような
オルガノ金属助触媒化合物は当業者に良く知られてお
り、これらの化合物の一層完全な検討は米国特許第3,
221,002号及び同第5,093,415号に見る
ことができる。
A族金属のモノ−オルガノハライド及びヒドリド、並び
に第IIIA族金属のモノ−或はジ−オルガノハライド
及びヒドリドもまた適している。このような化合物の特
定の例は下記の通りである:ジイソブチルアルミニウム
ブロミド、イソブチルホウ素ジクロリド、メチルマグネ
シウムクロリド、エチルベリリウムクロリド、エチルカ
ルシウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ド、メチルカドミウムヒドリド、ジエチルホウ素ヒドリ
ド、ヘキシルベリリウムヒドリド、ジプロピルホウ素ヒ
ドリド、オクチルマグネシウムヒドリド、ブチル亜鉛ヒ
ドリド、ジクロロホウ素ヒドリド、ジブロモアルミニウ
ムヒドリド及びブロモカドミウムヒドリド。このような
オルガノ金属助触媒化合物は当業者に良く知られてお
り、これらの化合物の一層完全な検討は米国特許第3,
221,002号及び同第5,093,415号に見る
ことができる。
【0050】本発明の好適な実施態様では、一種又はそ
れ以上のメタロセンとアルミノオキサンとの触媒的に活
性な反応生成物を用い、これを液状形態で気相流動床反
応装置に導入してポリオレフィンを製造する。メタロセ
ンは周期表の第IVB、VB、VIB或はVIII族金
属のシクロペンタジエニル誘導体であり、遷移金属のモ
ノ、ジ及びトリシクロペンタジエニル並びにそれらの誘
導体を含む。特に望ましいのはチタン、ジルコニウム、
ハフニウム及びバナジウムのような第IVB及びVB族
金属のメタロセン複合体である。
れ以上のメタロセンとアルミノオキサンとの触媒的に活
性な反応生成物を用い、これを液状形態で気相流動床反
応装置に導入してポリオレフィンを製造する。メタロセ
ンは周期表の第IVB、VB、VIB或はVIII族金
属のシクロペンタジエニル誘導体であり、遷移金属のモ
ノ、ジ及びトリシクロペンタジエニル並びにそれらの誘
導体を含む。特に望ましいのはチタン、ジルコニウム、
ハフニウム及びバナジウムのような第IVB及びVB族
金属のメタロセン複合体である。
【0051】アルミノオキサンは当分野で良く知られて
おり、オリゴマー性の線状アルミノオキサンについて下
記式(化10)及びオリゴマー性の環状アルミノオキサ
ンについて下記式(化11)によって表わされるオリゴ
マー性の線状及び/又は環状アルキルアルミノオキサン
を含む:
おり、オリゴマー性の線状アルミノオキサンについて下
記式(化10)及びオリゴマー性の環状アルミノオキサ
ンについて下記式(化11)によって表わされるオリゴ
マー性の線状及び/又は環状アルキルアルミノオキサン
を含む:
【化10】
【化11】 式中、sは1〜40、好ましくは10〜20であり、p
は3〜40、好ましくは3〜20であり、R”はC1 〜
C12アルキル基、好ましくはメチル及び置換された或は
未置換のフェニル或はナフチルラジカルのようなアリー
ルラジカルである。アルミノオキサンを、例えばアルミ
ニウムトリメチルと水とから調製する場合、線状化合物
と環状化合物との混合物が得られるのが普通である。
は3〜40、好ましくは3〜20であり、R”はC1 〜
C12アルキル基、好ましくはメチル及び置換された或は
未置換のフェニル或はナフチルラジカルのようなアリー
ルラジカルである。アルミノオキサンを、例えばアルミ
ニウムトリメチルと水とから調製する場合、線状化合物
と環状化合物との混合物が得られるのが普通である。
【0052】アルミノオキサンは種々の方法で調製する
ことができる。例えば、アルミニウムアルキルを湿り溶
媒の形で水で処理してもよい。別法として、アルミニウ
ムトリメチルのようなアルミニウムアルキルを水和硫酸
第一鉄のような水和塩と接触させてもよい。この後者の
方法は、例えばトルエン中のアルミニウムトリメチルの
希薄溶液を硫酸第一鉄7水和物の懸濁液で処理すること
を含む。また、C2 又はそれより高級のアルキル基を含
有するテトラアルキルジアルミノオキサンとトリメチル
アルミニウムとを、化学量論的過剰より少ない量のトリ
メチルアルミニウムを用いて反応させることによりメチ
ルアルミノオキサンを形成することも可能である。メチ
ルアルミノオキサンの合成は、またC2 又はそれより高
級のアルキル基を含有するトリアルキルアルミニウム化
合物或はテトラアルキルジアルミノオキサンと水とを反
応させてポリアルキルアルミノオキサンを形成し、次い
でこれにトリメチルアルミニウムを反応させることによ
っても達成することができる。更に、改質されたアルミ
ノオキサンとしても知られているメチルアルミノオキサ
ンは、例えば米国特許第5,041,584号に開示さ
れている通りにして、C2 又はそれより高級のアルキル
基を含有するポリアルキルアルミノオキサンにトリメチ
ルアルミニウム、次いで水を反応させることによって合
成してもよい。
ことができる。例えば、アルミニウムアルキルを湿り溶
媒の形で水で処理してもよい。別法として、アルミニウ
ムトリメチルのようなアルミニウムアルキルを水和硫酸
第一鉄のような水和塩と接触させてもよい。この後者の
方法は、例えばトルエン中のアルミニウムトリメチルの
希薄溶液を硫酸第一鉄7水和物の懸濁液で処理すること
を含む。また、C2 又はそれより高級のアルキル基を含
有するテトラアルキルジアルミノオキサンとトリメチル
アルミニウムとを、化学量論的過剰より少ない量のトリ
メチルアルミニウムを用いて反応させることによりメチ
ルアルミノオキサンを形成することも可能である。メチ
ルアルミノオキサンの合成は、またC2 又はそれより高
級のアルキル基を含有するトリアルキルアルミニウム化
合物或はテトラアルキルジアルミノオキサンと水とを反
応させてポリアルキルアルミノオキサンを形成し、次い
でこれにトリメチルアルミニウムを反応させることによ
っても達成することができる。更に、改質されたアルミ
ノオキサンとしても知られているメチルアルミノオキサ
ンは、例えば米国特許第5,041,584号に開示さ
れている通りにして、C2 又はそれより高級のアルキル
基を含有するポリアルキルアルミノオキサンにトリメチ
ルアルミニウム、次いで水を反応させることによって合
成してもよい。
【0053】好適なメタロセンは下記の一般式によって
表わすことができる:
表わすことができる:
【化12】 (C5 Rx )y R’z (C5 Rm )MQn-y-1 (I) 式中、Mは元素の周期表の第IIIB〜VIII族の金
属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合さ
れた同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換され
たシクロペンタジエニルであり;Rは同じであり或は異
なり、水素もしくは炭素原子1〜20を含有するアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルキルアリール、或はア
リールアルキルラジカルのようなヒドロカルビルラジカ
ルでありもしくは2つの炭素原子が一緒に結合されてC
4 〜C6 環を形成し;R’は2つの(C5 Rx )及び
(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換された或は未
置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或はジアリール
ゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル或はアリー
ルホスフィン或はアミンラジカルであり;Qは炭素原子
1〜20を有するアリール、アルキル、アルケニル、ア
ルキルアリール、或はアリールアルキルラジカルのよう
なヒドロカルビルラジカル、炭素原子1〜20を有する
ヒドロカルボキシラジカル或はハロゲンであり、互いに
同じになり或は異なることができ;zは0或は1であ
り;yは0、1或は2であり;zは、yが0である時、
0であり;nは、Mの原子価状態に応じて0、1、2、
3或は4であり;n−yは≧1である。
属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合さ
れた同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換され
たシクロペンタジエニルであり;Rは同じであり或は異
なり、水素もしくは炭素原子1〜20を含有するアルキ
ル、アルケニル、アリール、アルキルアリール、或はア
リールアルキルラジカルのようなヒドロカルビルラジカ
ルでありもしくは2つの炭素原子が一緒に結合されてC
4 〜C6 環を形成し;R’は2つの(C5 Rx )及び
(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換された或は未
置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或はジアリール
ゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル或はアリー
ルホスフィン或はアミンラジカルであり;Qは炭素原子
1〜20を有するアリール、アルキル、アルケニル、ア
ルキルアリール、或はアリールアルキルラジカルのよう
なヒドロカルビルラジカル、炭素原子1〜20を有する
ヒドロカルボキシラジカル或はハロゲンであり、互いに
同じになり或は異なることができ;zは0或は1であ
り;yは0、1或は2であり;zは、yが0である時、
0であり;nは、Mの原子価状態に応じて0、1、2、
3或は4であり;n−yは≧1である。
【0054】上記の式によって表わされるメタロセンの
具体例は下記の通りであり、これらに限定されない:ジ
アルキルメタロセン、例えばビス(シクロペンタジエニ
ル)チタンジメチル、ビス(シクロペンタジエニル)チ
タンジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジメチル及びジフェニル、ビス(シクロペンタジ
エニル)チタンジ−ネオペンチル、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジ−ネオペンチル、ビス(シク
ロペンタジエニル)チタンジベンジル、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、ビス(シクロ
ペンタジエニル)バナジウムジメチル;
具体例は下記の通りであり、これらに限定されない:ジ
アルキルメタロセン、例えばビス(シクロペンタジエニ
ル)チタンジメチル、ビス(シクロペンタジエニル)チ
タンジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)ハフ
ニウムジメチル及びジフェニル、ビス(シクロペンタジ
エニル)チタンジ−ネオペンチル、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジ−ネオペンチル、ビス(シク
ロペンタジエニル)チタンジベンジル、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジベンジル、ビス(シクロ
ペンタジエニル)バナジウムジメチル;
【0055】モノアルキルメタロセン、例えばビス(シ
クロペンタジエニル)チタンメチルクロリド、ビス(シ
クロペンタジエニル)チタンエチルクロリド、ビス(シ
クロペンタジエニル)チタンフェニルクロリド、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロリ
ド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムエチル
クロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
フェニルクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)チタ
ンメチルブロミド;
クロペンタジエニル)チタンメチルクロリド、ビス(シ
クロペンタジエニル)チタンエチルクロリド、ビス(シ
クロペンタジエニル)チタンフェニルクロリド、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメチルクロリ
ド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムエチル
クロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
フェニルクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)チタ
ンメチルブロミド;
【0056】トリアルキルメタロセン、例えばシクロペ
ンタジエニルチタントリメチル、シクロペンタジエニル
ジルコニウムトリフェニル、シクロペンタジエニルジル
コニウムトリネオペンチル、シクロペンタジエニルジル
コニウムトリメチル、シクロペンタジエニルハフニウム
トリフェニル、シクロペンタジエニルハフニウムトリネ
オペンチル、シクロペンタジエニルハフニウムトリメチ
ル;モノシクロペンタジエニルスチタノセン、例えばペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド、
ペンタエチルシクロペンタジエニルチタントリクロリ
ド;ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタン
ジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)チタン=C
H2 式によって表わされるカルベン及びこの試薬の誘導
体;置換されたビス(シクロペンタジエニル)チタン
(IV)、例えばビス(インデニル)チタンジフェニル
或はジクロリド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)
チタンジフェニル或はジハライド;
ンタジエニルチタントリメチル、シクロペンタジエニル
ジルコニウムトリフェニル、シクロペンタジエニルジル
コニウムトリネオペンチル、シクロペンタジエニルジル
コニウムトリメチル、シクロペンタジエニルハフニウム
トリフェニル、シクロペンタジエニルハフニウムトリネ
オペンチル、シクロペンタジエニルハフニウムトリメチ
ル;モノシクロペンタジエニルスチタノセン、例えばペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド、
ペンタエチルシクロペンタジエニルチタントリクロリ
ド;ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタン
ジフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)チタン=C
H2 式によって表わされるカルベン及びこの試薬の誘導
体;置換されたビス(シクロペンタジエニル)チタン
(IV)、例えばビス(インデニル)チタンジフェニル
或はジクロリド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)
チタンジフェニル或はジハライド;
【0057】ジアルキル、トリアルキル、テトラアルキ
ル及びペンタアルキルシクロペンタジエニルチタン化合
物、例えばビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)チタンジフェニル或はジクロリド、ビス(1,2−
ジエチルシクロペンタジエニル)チタンジフェニル或は
ジクロリド;ケイ素、ホスフィン、アミン或は炭素ブリ
ッジドシクロペンタジエニル複合体、例えばジメチルシ
リルジシクロペンタジエニルチタンジフェニル或はジク
ロリド、メチルホスフィンジシクロペンタジエニルチタ
ンジフェニル或はジクロリド、メチレンジシクロペンタ
ジエニルチタンジフェニル或はジクロリド及びその他の
ジハライド複合体、等;
ル及びペンタアルキルシクロペンタジエニルチタン化合
物、例えばビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)チタンジフェニル或はジクロリド、ビス(1,2−
ジエチルシクロペンタジエニル)チタンジフェニル或は
ジクロリド;ケイ素、ホスフィン、アミン或は炭素ブリ
ッジドシクロペンタジエニル複合体、例えばジメチルシ
リルジシクロペンタジエニルチタンジフェニル或はジク
ロリド、メチルホスフィンジシクロペンタジエニルチタ
ンジフェニル或はジクロリド、メチレンジシクロペンタ
ジエニルチタンジフェニル或はジクロリド及びその他の
ジハライド複合体、等;
【0058】並びにブリッジドメタロセン化合物、例え
ばイソプロピル(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピル(シクロペ
ンタジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
イソプロピルメチレン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、ジイソブチルメチ
レン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジイソプロピル
メチレン(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
ル(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウ
ムジクロリド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロリド、ジイソ
プロピルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロリド、ジイソブチルメチレン
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウム
ジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロリド、シク
ロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ハフニウムジクロリド、ジイソプロピルメチレン
(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロリド、
ばイソプロピル(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピル(シクロペ
ンタジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
イソプロピルメチレン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、ジイソブチルメチ
レン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、シクロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジイソプロピル
メチレン(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
ル(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウ
ムジクロリド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロリド、ジイソ
プロピルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロリド、ジイソブチルメチレン
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウム
ジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ハフニウムジクロリド、シク
ロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ハフニウムジクロリド、ジイソプロピルメチレン
(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ハフニウムジクロリド、
【0059】イソプロピル(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)チタンジクロリド、ジフェニルメチレ
ン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジ
クロリド、ジイソプロピルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)チタンジクロリド、ジイソブチ
ルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
チタンジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロリド、シ
クロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)チタンジクロリド、ジイソプロピルメチレン
(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)チタンジクロリド、ラセミ−エチレンビス(1−
インデニル)ジルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ
−エチレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−
インデニル)ジルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ
−ジメチルシリルビス(1−インデニル)ジルコニウム
(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリルビス
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジ
ルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,
2−テトラメチルシラニレンビス(1−インデニル)ジ
ルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,
2−テトラメチルシラニレンビス(4,5,6,7−テ
トラヒドロ−1−インデニル)ジルコニウム(IV)ジ
クロリド、エチリデン(1−インデニルテトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(IV)ジクロリ
ド、ラセミ−ジメチルシリルビス(2−メチル−4−t
−ブチル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(IV)ジクロリド、
(フルオレニル)チタンジクロリド、ジフェニルメチレ
ン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジ
クロリド、ジイソプロピルメチレン(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)チタンジクロリド、ジイソブチ
ルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
チタンジクロリド、ジ−t−ブチルメチレン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロリド、シ
クロヘキシリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)チタンジクロリド、ジイソプロピルメチレン
(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)チタンジクロリド、ラセミ−エチレンビス(1−
インデニル)ジルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ
−エチレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−
インデニル)ジルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ
−ジメチルシリルビス(1−インデニル)ジルコニウム
(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリルビス
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジ
ルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,
2−テトラメチルシラニレンビス(1−インデニル)ジ
ルコニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,
2−テトラメチルシラニレンビス(4,5,6,7−テ
トラヒドロ−1−インデニル)ジルコニウム(IV)ジ
クロリド、エチリデン(1−インデニルテトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(IV)ジクロリ
ド、ラセミ−ジメチルシリルビス(2−メチル−4−t
−ブチル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(IV)ジクロリド、
【0060】ラセミ−エチレンビス(1−インデニル)
ハフニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−エチレンビス
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ハ
フニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリル
ビス(1−インデニル)ハフニウム(IV)ジクロリ
ド、ラセミ−ジメチルシリルビス(4,5,6,7−テ
トラヒドロ−1−インデニル)ハフニウム(IV)ジク
ロリド、ラセミ−1,1,2,2−テトラメチルシラニ
レンビス(1−インデニル)ハフニウム(IV)ジクロ
リド、ラセミ−1,1,2,2−テトラメチルシラニレ
ンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニ
ル)ハフニウム(IV)ジクロリド、エチリデン(1−
インデニル−2,3,4,5−テトラメチル−1−シク
ロペンタジエニル)ハフニウム(IV)ジクロリド、ラ
セミ−エチレンビス(1−インデニル)チタン(IV)
ジクロリド、ラセミ−エチレンビス(4,5,6,7−
テトラヒドロ−1−インデニル)チタン(IV)ジクロ
リド、ラセミ−ジメチルシリルビス(1−インデニル)
チタン(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリルビ
ス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)
チタン(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,2−
テトラメチルシラニレンビス(1−インデニル)チタン
(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,2−テトラ
メチルシラニレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ
−1−インデニル)チタン(IV)ジクロリド、及びエ
チリデン(1−インデニル−2,3,4,5−テトラメ
チル−1−シクロペンタジエニル)チタン(IV)ジク
ロリド。
ハフニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−エチレンビス
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ハ
フニウム(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリル
ビス(1−インデニル)ハフニウム(IV)ジクロリ
ド、ラセミ−ジメチルシリルビス(4,5,6,7−テ
トラヒドロ−1−インデニル)ハフニウム(IV)ジク
ロリド、ラセミ−1,1,2,2−テトラメチルシラニ
レンビス(1−インデニル)ハフニウム(IV)ジクロ
リド、ラセミ−1,1,2,2−テトラメチルシラニレ
ンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニ
ル)ハフニウム(IV)ジクロリド、エチリデン(1−
インデニル−2,3,4,5−テトラメチル−1−シク
ロペンタジエニル)ハフニウム(IV)ジクロリド、ラ
セミ−エチレンビス(1−インデニル)チタン(IV)
ジクロリド、ラセミ−エチレンビス(4,5,6,7−
テトラヒドロ−1−インデニル)チタン(IV)ジクロ
リド、ラセミ−ジメチルシリルビス(1−インデニル)
チタン(IV)ジクロリド、ラセミ−ジメチルシリルビ
ス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)
チタン(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,2−
テトラメチルシラニレンビス(1−インデニル)チタン
(IV)ジクロリド、ラセミ−1,1,2,2−テトラ
メチルシラニレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロ
−1−インデニル)チタン(IV)ジクロリド、及びエ
チリデン(1−インデニル−2,3,4,5−テトラメ
チル−1−シクロペンタジエニル)チタン(IV)ジク
ロリド。
【0061】メタロセンとアルミノオキサンとの反応生
成物は、脂肪族溶媒において製造する場合、通常固体物
質であり、芳香族溶媒において製造する場合、通常油で
あり、これらは任意のよく知られた技術によって回収す
ることができる。例えば、固体物質は液体から真空ろ過
或はデカンテーションによって回収することができる。
油はデカンテーションによって回収することができ、乾
燥させた場合、ガラス状の固形分になる。回収された物
質を次いで純乾燥窒素流下で乾燥させ、真空下で、或は
任意の他の簡便な方法で乾燥させる。回収された固体は
触媒的に活性な物質である。
成物は、脂肪族溶媒において製造する場合、通常固体物
質であり、芳香族溶媒において製造する場合、通常油で
あり、これらは任意のよく知られた技術によって回収す
ることができる。例えば、固体物質は液体から真空ろ過
或はデカンテーションによって回収することができる。
油はデカンテーションによって回収することができ、乾
燥させた場合、ガラス状の固形分になる。回収された物
質を次いで純乾燥窒素流下で乾燥させ、真空下で、或は
任意の他の簡便な方法で乾燥させる。回収された固体は
触媒的に活性な物質である。
【0062】この触媒的に活性な物質を、本発明に従っ
て、溶液として反応域に供するように、適した溶媒に溶
解してよい。上述した通りに、メタロセンとアルミノオ
キサンとの反応生成物である触媒的に活性な物質は、メ
タロセン触媒とアルミノオキサン助触媒とを混合物を反
応装置に導入する直前に、反応が触媒的に活性な物質を
形成するように行なわれるのに十分な時間を供しながら
混合することによって現場で形成させるのが最も好まし
くかつ簡便であるのはもちろんである。この実施態様
は、初めに固体反応生成物を形成しかつ分離し、次いで
その溶液を形成し、それを反応域に導入するのに比べて
一層望ましいが、この後者の実施態様は依然本発明の範
囲内である。
て、溶液として反応域に供するように、適した溶媒に溶
解してよい。上述した通りに、メタロセンとアルミノオ
キサンとの反応生成物である触媒的に活性な物質は、メ
タロセン触媒とアルミノオキサン助触媒とを混合物を反
応装置に導入する直前に、反応が触媒的に活性な物質を
形成するように行なわれるのに十分な時間を供しながら
混合することによって現場で形成させるのが最も好まし
くかつ簡便であるのはもちろんである。この実施態様
は、初めに固体反応生成物を形成しかつ分離し、次いで
その溶液を形成し、それを反応域に導入するのに比べて
一層望ましいが、この後者の実施態様は依然本発明の範
囲内である。
【0063】触媒的に活性な物質を調製する際に用いる
メタロセン及びアルミノオキサンの有用な量は、活性な
物質を気相反応装置に導入しながら現場で形成させよう
と或は十分前もって形成し液状形態の間にそのまま導入
しようと、広い範囲にわたって変えることができる。ア
ルミノオキサンに含有されるアルミニウム原子対メタロ
センに含有される金属原子のモル比は約2:1〜約10
0,000:1の範囲が普通であり、約10:1〜約1
0,000:1の範囲が好ましく、約50:1〜約2,
000:1の範囲が一層好ましい。
メタロセン及びアルミノオキサンの有用な量は、活性な
物質を気相反応装置に導入しながら現場で形成させよう
と或は十分前もって形成し液状形態の間にそのまま導入
しようと、広い範囲にわたって変えることができる。ア
ルミノオキサンに含有されるアルミニウム原子対メタロ
センに含有される金属原子のモル比は約2:1〜約10
0,000:1の範囲が普通であり、約10:1〜約1
0,000:1の範囲が好ましく、約50:1〜約2,
000:1の範囲が一層好ましい。
【0064】メタロセンは、前に検討したアルミノオキ
サンのようなイオン化剤により活性な触媒に転化される
のが典型的である。そのようなイオン化剤は中性のメタ
ロセンと反応してカチオン性メタロセンを形成し、これ
が活性な触媒として作動する。イオン化剤はアルミノオ
キサンのような助触媒化合物にすることができ或はカチ
オン性メタロセンと化学的に非反応性のアニオンを形成
するイオン化イオン性化合物でもよい。アニオンはカチ
オン性メタロセンと配位されない或はゆるく配位され
る。未反応性アニオンを含有するかかるイオン化剤の使
用は、例えばヨーロッパ特許出願公表第0 426 6
37号、同第0 426 638号及び同第0 427
697号に開示されている。カチオン性メタロセンを
生成する方法は、また下記の刊行物にも開示されてい
る:ヨーロッパ特許出願公表第0 277 003号及
び同第0 277 004号;「Ethylene P
olymerization by a Cation
ic Dicyclopentadienylzirc
oniuum(IV) Alkyl Comple
x」,R.F.Jordan,C.S.Bajgur,
R.Willet,B.Scott,J.Am.Che
m.Soc.,7410〜7411頁、108巻(19
86);「Synthesis and Insert
ion Reactions of Cationic
Alkylbis(cyclopentadieny
l)titanium Complexs」,M.Bo
chmann,L.M.Wilson,J.Chem.
Soc.Commun.,1610〜1611頁(19
86);「Insertion Reactions
of Nitriles in Cationic A
lkylbis(cyclopentadienyl)
titanium Complexs」,M.Boch
mann,L.M.Wilson,Organomet
allics,1147〜1154頁、7巻(198
7);「Multiple Metal−Carbon
Bonds」,R.R.Schrock,P.P.S
harp,J.Am.Chem.Soc.,2389〜
2399頁、100巻(1978)。
サンのようなイオン化剤により活性な触媒に転化される
のが典型的である。そのようなイオン化剤は中性のメタ
ロセンと反応してカチオン性メタロセンを形成し、これ
が活性な触媒として作動する。イオン化剤はアルミノオ
キサンのような助触媒化合物にすることができ或はカチ
オン性メタロセンと化学的に非反応性のアニオンを形成
するイオン化イオン性化合物でもよい。アニオンはカチ
オン性メタロセンと配位されない或はゆるく配位され
る。未反応性アニオンを含有するかかるイオン化剤の使
用は、例えばヨーロッパ特許出願公表第0 426 6
37号、同第0 426 638号及び同第0 427
697号に開示されている。カチオン性メタロセンを
生成する方法は、また下記の刊行物にも開示されてい
る:ヨーロッパ特許出願公表第0 277 003号及
び同第0 277 004号;「Ethylene P
olymerization by a Cation
ic Dicyclopentadienylzirc
oniuum(IV) Alkyl Comple
x」,R.F.Jordan,C.S.Bajgur,
R.Willet,B.Scott,J.Am.Che
m.Soc.,7410〜7411頁、108巻(19
86);「Synthesis and Insert
ion Reactions of Cationic
Alkylbis(cyclopentadieny
l)titanium Complexs」,M.Bo
chmann,L.M.Wilson,J.Chem.
Soc.Commun.,1610〜1611頁(19
86);「Insertion Reactions
of Nitriles in Cationic A
lkylbis(cyclopentadienyl)
titanium Complexs」,M.Boch
mann,L.M.Wilson,Organomet
allics,1147〜1154頁、7巻(198
7);「Multiple Metal−Carbon
Bonds」,R.R.Schrock,P.P.S
harp,J.Am.Chem.Soc.,2389〜
2399頁、100巻(1978)。
【0065】イオン化剤に等モル量のメタロセンの中性
誘導体を混合して下記式(化13)を生じるのが典型的
である:
誘導体を混合して下記式(化13)を生じるのが典型的
である:
【化13】 式中、[C]はカルボニウム、オキソニウム、或はスル
ホニウムカチオンであり、[A]はアニオンであり、カ
チオン性メタロセンと配位されない或はゆるく配位され
るだけであり、カチオン性メタロセンと化学的に非反応
性であるR及びR”は同じであり或は異なり、水素もし
くは炭素原子1〜20を含有するアルキル、アルケニ
ル、アリール、アルキルアリール、或はアリールアルキ
ルラジカルのようなヒドロカルビルラジカルでありもし
くは2つの炭素原子が一緒に結合されてC4 〜C6 環を
形成し;Mは元素の周期表の第IIIB〜VIII族の
金属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合
された同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換さ
れたシクロペンタジエニルであり;R’は2つの(C5
Rx )及び(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換さ
れた或は未置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或は
ジアリールゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル
或はアリールホスフィン或はアミンラジカルであり;z
は0或は1であり;yは0、1或は2であり;zは、y
が0である時、0であり;カルボニウム、オキソニウ
ム、或はスルホニウムカチオンを含有するイオン化イオ
ン性化合物が適用可能である。トリフェニルメチルテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好適であ
る。
ホニウムカチオンであり、[A]はアニオンであり、カ
チオン性メタロセンと配位されない或はゆるく配位され
るだけであり、カチオン性メタロセンと化学的に非反応
性であるR及びR”は同じであり或は異なり、水素もし
くは炭素原子1〜20を含有するアルキル、アルケニ
ル、アリール、アルキルアリール、或はアリールアルキ
ルラジカルのようなヒドロカルビルラジカルでありもし
くは2つの炭素原子が一緒に結合されてC4 〜C6 環を
形成し;Mは元素の周期表の第IIIB〜VIII族の
金属であり;(C5 Rx )及び(C5 Rm )はMに結合
された同じ或は異なるシクロペンタジエニル或は置換さ
れたシクロペンタジエニルであり;R’は2つの(C5
Rx )及び(C5 Rm )環をつなぐC1 〜C4 の置換さ
れた或は未置換のアルキレンラジカル、ジアルキル或は
ジアリールゲルマニウム或はケイ素、もしくはアルキル
或はアリールホスフィン或はアミンラジカルであり;z
は0或は1であり;yは0、1或は2であり;zは、y
が0である時、0であり;カルボニウム、オキソニウ
ム、或はスルホニウムカチオンを含有するイオン化イオ
ン性化合物が適用可能である。トリフェニルメチルテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好適であ
る。
【0066】アルミノオキサンを必要としない触媒系は
一負の(uninegative)シクロペンタジエニ
ルリガンドに代えて一種又はそれ以上の二負の(din
egative)リガンドとのメタロセン複合体を含
む。このような化合物の使用は、本出願人が1991年
12月31日に出願した米国特許出願第814,809
号及び同第814,810号に開示されている。このよ
うなポリオレフィン触媒の例は下記を含む:
一負の(uninegative)シクロペンタジエニ
ルリガンドに代えて一種又はそれ以上の二負の(din
egative)リガンドとのメタロセン複合体を含
む。このような化合物の使用は、本出願人が1991年
12月31日に出願した米国特許出願第814,809
号及び同第814,810号に開示されている。このよ
うなポリオレフィン触媒の例は下記を含む:
【化14】 [C5 (CH3 )5 ][C2 B9 H11]ZrCH3 及び
【化15】 [[C5 (CH3 )5 ][C2 B9 H11]Zr]2 −μ−CH2
【0067】検討した通りに、本発明は、二種又はそれ
以上のメタロセン化合物を用いる場合に、特に有利であ
る。米国特許第4,530,914号は少なくとも二種
の異なるメタロセン化合物の混合物を用いて分子量分布
を調節することを開示している。モノ或はビスシクロペ
ンタジエニル遷移金属化合物触媒は均一であるので、狭
い分子量分布及び狭い組成分布を有するポリオレフィン
を生成する。モノ或はビスシクロペンタジエニル遷移金
属化合物のリガンド置換基或は金属成分を変更すること
は重合生長反応及び停止速度定数に影響を与えることが
知られており、これらは立ち代わって生成するポリオレ
フィン生成物の分子量及びコモノマー分布に影響を与え
る。異なるモノ或はビスシクロペンタジエニル遷移金属
化合物の混合物を適当に選定することは、重合プロセス
において分子量分布及び組成分布を直接調節することを
可能にし、重合の後にエネルギー集約的ブレンディング
技術を必要としない。
以上のメタロセン化合物を用いる場合に、特に有利であ
る。米国特許第4,530,914号は少なくとも二種
の異なるメタロセン化合物の混合物を用いて分子量分布
を調節することを開示している。モノ或はビスシクロペ
ンタジエニル遷移金属化合物触媒は均一であるので、狭
い分子量分布及び狭い組成分布を有するポリオレフィン
を生成する。モノ或はビスシクロペンタジエニル遷移金
属化合物のリガンド置換基或は金属成分を変更すること
は重合生長反応及び停止速度定数に影響を与えることが
知られており、これらは立ち代わって生成するポリオレ
フィン生成物の分子量及びコモノマー分布に影響を与え
る。異なるモノ或はビスシクロペンタジエニル遷移金属
化合物の混合物を適当に選定することは、重合プロセス
において分子量分布及び組成分布を直接調節することを
可能にし、重合の後にエネルギー集約的ブレンディング
技術を必要としない。
【0068】本発明の方法によって形成されるポリオレ
フィンは随意にジエンを含有してよい。適した非共役ジ
エンの例は下記の通りである:直鎖非環式ジエン、例え
ば1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、1,
7−オクタジエン、1,9−デカジエン、及び1,6−
オクタジエン;枝分れ鎖非環式ジエン、例えば5−メチ
ル−1,4−ヘキサジエン、3,7−ジメチル−1,6
−オクタジエン、3,7−ジメチル−1,7−オクタジ
エン及びジヒドロミルセンとジヒドロシネンとの混合異
性体;単環脂環式ジエン、例えば1,3−シクロペンタ
ジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,5−シクロ
オクタジエン及び1,5−シクロドデカジエン;多環脂
環式縮合及びブリッジド環ジエン、例えばテトラヒドロ
インデン、メチルテトラヒドロインデン、ジシクロペン
タジエン、ビシクロ−(2,2,1)−ヘプタ−2,5
−ジエン、アルケニル、アルキリデン、シクロアルケニ
ル及びシクロアルキリデンノルボルネン、例えば5−メ
チレン−2−ノルボルネン、5−プロペニル−2−ノル
ボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボルネン、
5−(4−シクロペンテニル)−2−ノルボルネン、5
−シクロヘキシリデン−2−ノルボルネン、5−ビニル
−2−ノルボルネン及びノルボルナジエン。
フィンは随意にジエンを含有してよい。適した非共役ジ
エンの例は下記の通りである:直鎖非環式ジエン、例え
ば1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、1,
7−オクタジエン、1,9−デカジエン、及び1,6−
オクタジエン;枝分れ鎖非環式ジエン、例えば5−メチ
ル−1,4−ヘキサジエン、3,7−ジメチル−1,6
−オクタジエン、3,7−ジメチル−1,7−オクタジ
エン及びジヒドロミルセンとジヒドロシネンとの混合異
性体;単環脂環式ジエン、例えば1,3−シクロペンタ
ジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,5−シクロ
オクタジエン及び1,5−シクロドデカジエン;多環脂
環式縮合及びブリッジド環ジエン、例えばテトラヒドロ
インデン、メチルテトラヒドロインデン、ジシクロペン
タジエン、ビシクロ−(2,2,1)−ヘプタ−2,5
−ジエン、アルケニル、アルキリデン、シクロアルケニ
ル及びシクロアルキリデンノルボルネン、例えば5−メ
チレン−2−ノルボルネン、5−プロペニル−2−ノル
ボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボルネン、
5−(4−シクロペンテニル)−2−ノルボルネン、5
−シクロヘキシリデン−2−ノルボルネン、5−ビニル
−2−ノルボルネン及びノルボルナジエン。
【0069】慣用の触媒添加剤を、それらが触媒溶液の
所望の噴霧を妨げない限り、触媒溶液の一部として反応
域に導入してよい。かかる添加剤を触媒溶液の一部とし
て反応域に加えるためには、それらは液体或は触媒溶液
に溶解することができなければならない。添加剤が固体
ならば、それらは触媒溶液に関係なく反応域に導入する
ことができる。
所望の噴霧を妨げない限り、触媒溶液の一部として反応
域に導入してよい。かかる添加剤を触媒溶液の一部とし
て反応域に加えるためには、それらは液体或は触媒溶液
に溶解することができなければならない。添加剤が固体
ならば、それらは触媒溶液に関係なく反応域に導入する
ことができる。
【0070】かかる添加剤はプロモーター、連鎖移動
剤、スキャベンジャー剤、等を含むことができる。典型
的なプロモーターはCHCl3 、CFCl3 、CH3 C
Cl3、CF2 ClCCl3 、及びエチルトリクロロア
セテートのようなハロゲン化炭化水素を含む。このよう
なプロモーターは当業者に良く知られており、例えば米
国特許第4,988,783号に開示されている。連鎖
移動剤を用いてポリマー分子量を調節してよい。これら
の化合物の例は水素及び下記の一般式の金属アルキルで
ある:
剤、スキャベンジャー剤、等を含むことができる。典型
的なプロモーターはCHCl3 、CFCl3 、CH3 C
Cl3、CF2 ClCCl3 、及びエチルトリクロロア
セテートのようなハロゲン化炭化水素を含む。このよう
なプロモーターは当業者に良く知られており、例えば米
国特許第4,988,783号に開示されている。連鎖
移動剤を用いてポリマー分子量を調節してよい。これら
の化合物の例は水素及び下記の一般式の金属アルキルで
ある:
【化16】M3 R5 g (IX) 式中、M3 は第IA、IIA或はIIIA族金属であ
り、R5 はアルキル或はアリールであり、gは1、2、
或は3である。M3 R5 gは亜鉛アルキルであるのが好ま
しく、ジエチル亜鉛であるのが最も好ましい。また、被
毒用捕捉剤のようなその他のオルガノ金属化合物を用い
て触媒活性を増大させてもよい。これらの化合物の例も
また上述したのと同じ一般式(V)を有する金属アルキ
ルであり、アルミニウムアルキルが好ましく、トリイソ
ブチルアルミニウムが最も好ましい。これらの添加剤の
使用及びそうする方法は当業者の技術の十分範囲内であ
る。
り、R5 はアルキル或はアリールであり、gは1、2、
或は3である。M3 R5 gは亜鉛アルキルであるのが好ま
しく、ジエチル亜鉛であるのが最も好ましい。また、被
毒用捕捉剤のようなその他のオルガノ金属化合物を用い
て触媒活性を増大させてもよい。これらの化合物の例も
また上述したのと同じ一般式(V)を有する金属アルキ
ルであり、アルミニウムアルキルが好ましく、トリイソ
ブチルアルミニウムが最も好ましい。これらの添加剤の
使用及びそうする方法は当業者の技術の十分範囲内であ
る。
【0071】本発明に従って液状形態の触媒を使用して
製造されるポリマーは優れた性質を有し、慣用の担持さ
れた触媒を用いて得ることが可能な性質に比べて一層良
好ではないにしても、少なくともそれらに等しい。これ
らのポリマーはゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーによって測定して狭い分子量分布を有し、Mw /Mn
値が2〜4の範囲でありかつメルトフロー比が20〜4
0の範囲である。分子量を変えてメルトインデックスお
よそ0.1〜1000dg/min.を得ることができ
る。重合において用いるコモノマーの量を変えることに
より密度0.86〜0.97g/mlの範囲のポリマー
を製造することができる。本発明の触媒について得られ
るn−ヘキサン抽出分値は慣用の担持された触媒につい
て予想される値に比べて小さいのが典型的である。ポリ
マーのフィルム外観レーティング及び機械的性質は高々
慣用の触媒のものに等しい。ポリマーを加工するために
必要なメルト温度及びヘッド圧力もまた高々慣用の担持
された触媒に等しい。液状形態の触媒を使用して製造さ
れるポリプロピレンの立体規則性は担持された触媒のも
のに匹敵し得る。13CNMRによって測定して0.85
rrrrより多い五価元素(pentad)フラクショ
ンを有するシンジオタクチック及び0.85mmmmよ
り多い五価元素フラクションを有するアイソタクチック
が得られる。触媒活性もまた少なくとも慣用の担持され
た触媒に等しい。
製造されるポリマーは優れた性質を有し、慣用の担持さ
れた触媒を用いて得ることが可能な性質に比べて一層良
好ではないにしても、少なくともそれらに等しい。これ
らのポリマーはゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーによって測定して狭い分子量分布を有し、Mw /Mn
値が2〜4の範囲でありかつメルトフロー比が20〜4
0の範囲である。分子量を変えてメルトインデックスお
よそ0.1〜1000dg/min.を得ることができ
る。重合において用いるコモノマーの量を変えることに
より密度0.86〜0.97g/mlの範囲のポリマー
を製造することができる。本発明の触媒について得られ
るn−ヘキサン抽出分値は慣用の担持された触媒につい
て予想される値に比べて小さいのが典型的である。ポリ
マーのフィルム外観レーティング及び機械的性質は高々
慣用の触媒のものに等しい。ポリマーを加工するために
必要なメルト温度及びヘッド圧力もまた高々慣用の担持
された触媒に等しい。液状形態の触媒を使用して製造さ
れるポリプロピレンの立体規則性は担持された触媒のも
のに匹敵し得る。13CNMRによって測定して0.85
rrrrより多い五価元素(pentad)フラクショ
ンを有するシンジオタクチック及び0.85mmmmよ
り多い五価元素フラクションを有するアイソタクチック
が得られる。触媒活性もまた少なくとも慣用の担持され
た触媒に等しい。
【0072】
I.命名法 下記の用語及び化学略号を実施例において用いる: MAO − メチルアルミノキサンのトルエン溶液(ア
ルミニウム約1.8モル濃度)(ルイジアナ州、Baton
Rouge 在 Ethyl Corporationより入手)
ルミニウム約1.8モル濃度)(ルイジアナ州、Baton
Rouge 在 Ethyl Corporationより入手)
【0073】MMAO(イソペンタン中) − イソブ
チル基を含む改質メチルアルミノキサンのイソペンタン
溶液(アルミニウム約2.3モル濃度)(イリノイ州、
Chicago 在 Akzo Chemicals Inc.より「MMAO−3
A」として入手)
チル基を含む改質メチルアルミノキサンのイソペンタン
溶液(アルミニウム約2.3モル濃度)(イリノイ州、
Chicago 在 Akzo Chemicals Inc.より「MMAO−3
A」として入手)
【0074】MMAO(ヘプタン中) − イソブチル
基を含む改質メチルアルミノキサンのヘプタン溶液(ア
ルミニウム約2.3モル濃度)(イリノイ州、Chicago
在 Akzo Chemicals Inc.より「MMAO−3A」として
入手)
基を含む改質メチルアルミノキサンのヘプタン溶液(ア
ルミニウム約2.3モル濃度)(イリノイ州、Chicago
在 Akzo Chemicals Inc.より「MMAO−3A」として
入手)
【0075】iPrCp(Flu)ZrCl2 − イ
ソプロピル(シクロペンタジエニル−9−フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド MeC(Cp)(Flu)ZrCl2
ソプロピル(シクロペンタジエニル−9−フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド MeC(Cp)(Flu)ZrCl2
【0076】DPZ − ジフェニルメチレン(シクロ
ペンタジエニル−9−フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド及び塩化リチウム Φ2 C(Cp)(Flu)ZrCl2 /2LiCl
ペンタジエニル−9−フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド及び塩化リチウム Φ2 C(Cp)(Flu)ZrCl2 /2LiCl
【0077】Me2 Si(Ind)2 ZrCl2 −
ジメチルシリル(ビス−インデニル)ジルコニウムジク
ロリド
ジメチルシリル(ビス−インデニル)ジルコニウムジク
ロリド
【0078】(MeCp)2 ZrCl2 − 1,1’
−ビス−メチルシクロペンタジエニルジルコニウムジク
ロリド(オハイオ州、Dublin在、Schering Berlin Poly
mers Inc. より入手) (CH3 C5 H4 )2 ZrCl2
−ビス−メチルシクロペンタジエニルジルコニウムジク
ロリド(オハイオ州、Dublin在、Schering Berlin Poly
mers Inc. より入手) (CH3 C5 H4 )2 ZrCl2
【0079】Cp − C5 H5 シクロペンタジエニル
リガンド Flu − C13H8 フルオレニルリガンド Ind − C9 H7 インデニルリガンド sPP − シンジオタクチックポリプロピレン LLDPE − 線状低密度ポリエチレン EPDM − エチレンプロピレンエチリデンノルボル
ネンターポリマー EBDM − エチレンブテンエチリデンノルボルネン
ターポリマー THF − テトラヒドロフラン TIBA − トリイソブチルアルミニウム ENB − 5−エチリデン−2−ノルボルネン
リガンド Flu − C13H8 フルオレニルリガンド Ind − C9 H7 インデニルリガンド sPP − シンジオタクチックポリプロピレン LLDPE − 線状低密度ポリエチレン EPDM − エチレンプロピレンエチリデンノルボル
ネンターポリマー EBDM − エチレンブテンエチリデンノルボルネン
ターポリマー THF − テトラヒドロフラン TIBA − トリイソブチルアルミニウム ENB − 5−エチリデン−2−ノルボルネン
【0080】「Std管」は、触媒/助触媒混合溶液
が、慣用の容量形ポンプ及び連続窒素源を用いて、1/
8″(3.2mm)Swagelok Teeから1/8″注入管を
通して窒素と共に反応装置に導入されたことを意味す
る。遷移金属触媒容量形ポンプは、所望の触媒供給速度
に応じて、4〜12秒毎に0.1mlずつの鋭いショッ
トを送出する。MMAO容量形ポンプは、半正弦パルス
型の注入を1パルス当り約3秒間送出する。
が、慣用の容量形ポンプ及び連続窒素源を用いて、1/
8″(3.2mm)Swagelok Teeから1/8″注入管を
通して窒素と共に反応装置に導入されたことを意味す
る。遷移金属触媒容量形ポンプは、所望の触媒供給速度
に応じて、4〜12秒毎に0.1mlずつの鋭いショッ
トを送出する。MMAO容量形ポンプは、半正弦パルス
型の注入を1パルス当り約3秒間送出する。
【0081】「ノズル」は、慣用の容量形ポンプ及び連
続窒素源に関して空気ノズルを利用することを意味す
る。
続窒素源に関して空気ノズルを利用することを意味す
る。
【0082】「パルス」は、触媒ポンプからの鋭いパル
スに加えて、MMAOが、触媒ポンプショットと一致し
て(遅い半正弦流よりもむしろ)鋭いショットでポンプ
注入されたことを意味する。更に、約3.5lb/時
(1.6kg/時)の窒素のバーストを、ポンプストロ
ークに合わせて注入装置に供給した。このパルス供給技
術を、ノズル注入装置及び管注入装置の両者に関して用
いた。
スに加えて、MMAOが、触媒ポンプショットと一致し
て(遅い半正弦流よりもむしろ)鋭いショットでポンプ
注入されたことを意味する。更に、約3.5lb/時
(1.6kg/時)の窒素のバーストを、ポンプストロ
ークに合わせて注入装置に供給した。このパルス供給技
術を、ノズル注入装置及び管注入装置の両者に関して用
いた。
【0083】II.試験方法及び用語 C3 (重量%) − 1HNMRにより求めたプロピレ
ン含量 ENB(重量%) − 1HNMRにより求めた5−エ
チリデン−2−ノルボルネン含量 MF − メルトフロー − ASTM D−123
8、荷重2160gで230℃にて測定する条件L(g
/10分で記録) MI − メルトインデックス − ASTM D−1
238、190℃にて測定する条件E(g/10分で記
録) FI − フローインデックス − ASTM D−1
238、荷重21.6kgで190℃にて測定する条件
F MFR − メルトフロー比 − FI/MI ICP − 金属残留物の電磁結合式プラズマ分析 APS − 平均粒子サイズ
ン含量 ENB(重量%) − 1HNMRにより求めた5−エ
チリデン−2−ノルボルネン含量 MF − メルトフロー − ASTM D−123
8、荷重2160gで230℃にて測定する条件L(g
/10分で記録) MI − メルトインデックス − ASTM D−1
238、190℃にて測定する条件E(g/10分で記
録) FI − フローインデックス − ASTM D−1
238、荷重21.6kgで190℃にて測定する条件
F MFR − メルトフロー比 − FI/MI ICP − 金属残留物の電磁結合式プラズマ分析 APS − 平均粒子サイズ
【0084】密度 − プラックを作り、100℃で1
時間状態調節して平衡結晶化度に近づけ、次いで、密度
測定を密度勾配カラム中で行なう
時間状態調節して平衡結晶化度に近づけ、次いで、密度
測定を密度勾配カラム中で行なう
【0085】嵩密度 − 樹脂を、直径3/8″(9.
5mm)の漏斗を介して100mlのメスシリンダーに
揺らさずに100mlの線まで注ぎ、差を秤量する
5mm)の漏斗を介して100mlのメスシリンダーに
揺らさずに100mlの線まで注ぎ、差を秤量する
【0086】分子量分布(Mw /Mn ) − ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー;架橋ポリスチレンカ
ラム、細孔サイズ配列:1000Åより小さい1カラ
ム、混合5×107 Åの3カラム;140℃で屈折率検
出を用いる1,2,4−トリクロロベンゼン溶媒
ミエーションクロマトグラフィー;架橋ポリスチレンカ
ラム、細孔サイズ配列:1000Åより小さい1カラ
ム、混合5×107 Åの3カラム;140℃で屈折率検
出を用いる1,2,4−トリクロロベンゼン溶媒
【0087】フィルムレーティング − フィルムのサ
ンプルを裸眼で見て、標準フィルムサンプルと比較して
ゲル又は他の外来粒子のサイズ及び分布を記録する;こ
うして標準サンプルと比較したフィルムの外観に、次い
で、−100(非常に悪い)〜+100(優れている)
のレーティングを与える
ンプルを裸眼で見て、標準フィルムサンプルと比較して
ゲル又は他の外来粒子のサイズ及び分布を記録する;こ
うして標準サンプルと比較したフィルムの外観に、次い
で、−100(非常に悪い)〜+100(優れている)
のレーティングを与える
【0088】n−ヘキサン抽出分 − (食品接触用途
用に意図するポリエチレンフィルムについて用いるFD
A試験);1.5ミル(0.038mm)ゲージフィル
ムの200平方インチ(1300cm2 )のサンプルを
1″×6″(2.5cm×15cm)の大きさでかつ重
さ0.1mgに最も近いストリップに切断する;これら
のストリップを容器内に入れ、300mlのn−ヘキサ
ンで50±1℃にて2時間抽出する;次いで、エキスト
ラクトを風袋控除した培養皿中にデカントする;エキス
トラクトを真空デシケーター中で乾燥した後、培養皿を
0.1mgに最も近く秤量する;次いで、元のサンプル
重量に関して標準化した抽出分をn−ヘキサン抽出分物
の重量フラクションとして記録する
用に意図するポリエチレンフィルムについて用いるFD
A試験);1.5ミル(0.038mm)ゲージフィル
ムの200平方インチ(1300cm2 )のサンプルを
1″×6″(2.5cm×15cm)の大きさでかつ重
さ0.1mgに最も近いストリップに切断する;これら
のストリップを容器内に入れ、300mlのn−ヘキサ
ンで50±1℃にて2時間抽出する;次いで、エキスト
ラクトを風袋控除した培養皿中にデカントする;エキス
トラクトを真空デシケーター中で乾燥した後、培養皿を
0.1mgに最も近く秤量する;次いで、元のサンプル
重量に関して標準化した抽出分をn−ヘキサン抽出分物
の重量フラクションとして記録する
【0089】立体規則性 − 13CNMRにより測定;
計算は、「Polymer Conformation and Configuratio
n」、Academic Press, NewYork, 1969における F.A. Bo
vey の研究に従う
計算は、「Polymer Conformation and Configuratio
n」、Academic Press, NewYork, 1969における F.A. Bo
vey の研究に従う
【0090】III.合成 下記は、実施例において用いた触媒の合成を示す: 1.イソプロピル(シクロペンタジエニルフルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリドの合成 イソプロピル(シクロペンタジエニルフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリドを下記の通りにして製造した。リ
ガンドを、窒素下で、118mlの1.6Mブチルリチ
ウムヘキサン溶液を−20℃の攪拌している30.6g
のフルオレンの溶液(サイドアーム及び滴下漏斗を付け
た1リットルの丸底フラスコ中で300mlTHFに溶
解)に5分間にわたって滴下して製造した。その暗橙色
溶液を、2時間にわたって攪拌しながら周囲温度までゆ
っくりと暖め且つその期間中ガスの蒸発が止んだ。その
溶液を−78℃に冷却し、200mlのTHFに溶解し
た20.4gの6,6−ジメチルフルベンの溶液を30
分間にわたって滴下して加えた。赤色のTHF溶液を周
囲温度まで徐々に暖めて一晩攪拌した。次いで、その溶
液を300mlの水と混合して10分間攪拌した。TH
Fをロータリーエバポレーターにより除去し、スラリー
を600mlヘキサンで抽出した。有機層を分離し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、ヘキサンをロータリーエバ
ポレーターにより除去し、そして300mlの無水エタ
ノールからの再結晶により31g(収率70%)のイソ
プロピル(シクロペンタジエン−9−フルオレン)の淡
黄色の針状結晶が得られた。ろ液を濃縮しかつ冷却する
ことにより更に15%の収率が得られた。
ル)ジルコニウムジクロリドの合成 イソプロピル(シクロペンタジエニルフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリドを下記の通りにして製造した。リ
ガンドを、窒素下で、118mlの1.6Mブチルリチ
ウムヘキサン溶液を−20℃の攪拌している30.6g
のフルオレンの溶液(サイドアーム及び滴下漏斗を付け
た1リットルの丸底フラスコ中で300mlTHFに溶
解)に5分間にわたって滴下して製造した。その暗橙色
溶液を、2時間にわたって攪拌しながら周囲温度までゆ
っくりと暖め且つその期間中ガスの蒸発が止んだ。その
溶液を−78℃に冷却し、200mlのTHFに溶解し
た20.4gの6,6−ジメチルフルベンの溶液を30
分間にわたって滴下して加えた。赤色のTHF溶液を周
囲温度まで徐々に暖めて一晩攪拌した。次いで、その溶
液を300mlの水と混合して10分間攪拌した。TH
Fをロータリーエバポレーターにより除去し、スラリー
を600mlヘキサンで抽出した。有機層を分離し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、ヘキサンをロータリーエバ
ポレーターにより除去し、そして300mlの無水エタ
ノールからの再結晶により31g(収率70%)のイソ
プロピル(シクロペンタジエン−9−フルオレン)の淡
黄色の針状結晶が得られた。ろ液を濃縮しかつ冷却する
ことにより更に15%の収率が得られた。
【0091】メタロセンを、初めに、74mlの1.6
M ブチルリチウムヘキサン溶液を、400mlのTH
Fに溶解した16.2gのリガンドの−30℃の溶液
(サイドアームを付けた500mlの丸底フラスコ中)
に滴下シリンジで加えてイソプロピル(シクロペンタジ
エニル−9−フルオレニル)ジアニオンを生成すること
により製造した。溶媒を高真空下で除去し、固体の赤色
のジリチオ(dilithio)塩を−100℃に冷却して40
0mlのジクロロメタンを加えた。70mlのジクロロ
メタン中の13.8gのZrCl4 のスラリーを、ジア
ニオンの攪拌しているスラリー中に急速にカニューレ挿
入した。混合物を−100℃で2時間攪拌し、その後、
ゆっくりと周囲温度まで暖めさせ、そして一晩攪拌し
た。白色のLiCl、赤色固体及び赤色溶液を遠心分離
により分離した。4.7g(収率18%)のiPr[C
pFlu]ZrCl2 を、上清液を濃縮することによっ
て得た。赤色の液体をジクロロメタンで抽出して更なる
20%の収率を得た。
M ブチルリチウムヘキサン溶液を、400mlのTH
Fに溶解した16.2gのリガンドの−30℃の溶液
(サイドアームを付けた500mlの丸底フラスコ中)
に滴下シリンジで加えてイソプロピル(シクロペンタジ
エニル−9−フルオレニル)ジアニオンを生成すること
により製造した。溶媒を高真空下で除去し、固体の赤色
のジリチオ(dilithio)塩を−100℃に冷却して40
0mlのジクロロメタンを加えた。70mlのジクロロ
メタン中の13.8gのZrCl4 のスラリーを、ジア
ニオンの攪拌しているスラリー中に急速にカニューレ挿
入した。混合物を−100℃で2時間攪拌し、その後、
ゆっくりと周囲温度まで暖めさせ、そして一晩攪拌し
た。白色のLiCl、赤色固体及び赤色溶液を遠心分離
により分離した。4.7g(収率18%)のiPr[C
pFlu]ZrCl2 を、上清液を濃縮することによっ
て得た。赤色の液体をジクロロメタンで抽出して更なる
20%の収率を得た。
【0092】2.ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリドの合
成 ヘキサン中のn−ブチルリチウムの溶液(75ml、1
87.5ミリモル)を窒素下で、攪拌している30.4
5g(183ミリモル)のフルオレンの225mlのT
HF溶液(冷水浴に浸漬することにより周囲温度に保っ
てある)に滴下した。その結果生じた深赤色の混合物を
1.5時間攪拌した。
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリドの合
成 ヘキサン中のn−ブチルリチウムの溶液(75ml、1
87.5ミリモル)を窒素下で、攪拌している30.4
5g(183ミリモル)のフルオレンの225mlのT
HF溶液(冷水浴に浸漬することにより周囲温度に保っ
てある)に滴下した。その結果生じた深赤色の混合物を
1.5時間攪拌した。
【0093】42.76g(186ミリモル)のジフェ
ニルフルベンの200mlTHF中の溶液をこのフルオ
レニルアニオン溶液に添加漏斗により加えた。混合物を
室温で40時間攪拌した。
ニルフルベンの200mlTHF中の溶液をこのフルオ
レニルアニオン溶液に添加漏斗により加えた。混合物を
室温で40時間攪拌した。
【0094】反応混合物を、300mlの塩化アンモニ
ウム飽和水溶液を注意深く加えることにより冷却した。
有機フラクションを集め、水性フラクションのエーテル
洗液と合わせ、溶媒のほとんどをロータリーエバポレー
ターにて飛ばして橙色のスラリーが残った。250ml
のジエチルエーテルをこのスラリーに加え、混合物をろ
過し、固体を更なるエーテルで洗った。その固体を真空
下で一晩乾燥して、31.09gの(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジフェニルメタン(43%)を
生成した。
ウム飽和水溶液を注意深く加えることにより冷却した。
有機フラクションを集め、水性フラクションのエーテル
洗液と合わせ、溶媒のほとんどをロータリーエバポレー
ターにて飛ばして橙色のスラリーが残った。250ml
のジエチルエーテルをこのスラリーに加え、混合物をろ
過し、固体を更なるエーテルで洗った。その固体を真空
下で一晩乾燥して、31.09gの(シクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジフェニルメタン(43%)を
生成した。
【0095】ジエチルエーテル中のメチルリチウムの溶
液(115ml、161ミリモル)を、0℃に維持した
500mlのTHF中にスラリー化した30.98g
(78ミリモル)の(シクロペンタジエニル)(フルオ
レニル)ジフェニルメタンに滴下して加えた。その添加
に続いて、その溶液を周囲温度まで暖めさせせた。2時
間後、溶媒のほとんどを真空下で濃赤色の溶液から除去
して、400mlのヘキサンを赤色スラリーと共に一晩
攪拌した。褐色の固体をフィルター上に集め、真空下で
3時間乾燥した。38.99gのジリチオ(シクロペン
タジエニル)(フルオレニル)ジフェニルメタンビス
(テトラヒドロフラン)を得た(90%)。
液(115ml、161ミリモル)を、0℃に維持した
500mlのTHF中にスラリー化した30.98g
(78ミリモル)の(シクロペンタジエニル)(フルオ
レニル)ジフェニルメタンに滴下して加えた。その添加
に続いて、その溶液を周囲温度まで暖めさせせた。2時
間後、溶媒のほとんどを真空下で濃赤色の溶液から除去
して、400mlのヘキサンを赤色スラリーと共に一晩
攪拌した。褐色の固体をフィルター上に集め、真空下で
3時間乾燥した。38.99gのジリチオ(シクロペン
タジエニル)(フルオレニル)ジフェニルメタンビス
(テトラヒドロフラン)を得た(90%)。
【0096】16.6g(71ミリモル)の固体のジル
コニウムテトラクロリドを、アルゴン下で、250ml
ヘキサン中のジリチオ(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジフェニルメタンビス(テトラヒドロフラ
ン)(71ミリモル)の38.99g(71ミリモル)
のスラリーにゆっくりと加えた。そのスラリーを室温で
一晩攪拌した。その結果生じたスラリーを遠心分離して
固形分を沈殿させた。上清をカニューレにより除去して
捨て、他方、固体残留物を真空下で3.25時間乾燥し
た。その結果は、ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド及び
塩化リチウムの混合物、45.57g(100%)であ
った。
コニウムテトラクロリドを、アルゴン下で、250ml
ヘキサン中のジリチオ(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジフェニルメタンビス(テトラヒドロフラ
ン)(71ミリモル)の38.99g(71ミリモル)
のスラリーにゆっくりと加えた。そのスラリーを室温で
一晩攪拌した。その結果生じたスラリーを遠心分離して
固形分を沈殿させた。上清をカニューレにより除去して
捨て、他方、固体残留物を真空下で3.25時間乾燥し
た。その結果は、ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド及び
塩化リチウムの混合物、45.57g(100%)であ
った。
【0097】3.ジメチルシリルビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリドの合成 200mlTHF中の51g(440ミリモル)のイン
デンの溶液をN2 下で氷浴中で冷却した。185mlの
n−BuLi/ヘキサン(2.5M)をゆっくりと加え
て、淡黄色溶液を赤褐色に変えた。その溶液を2.5時
間攪拌し、次いで、−78℃に冷却した。この溶液に、
27.1g(210ミリモル)のジクロロジメチルシラ
ンを加えた。この赤色溶液を周囲温度で64時間攪拌
し、その後、1時間還流した。リガンド溶液を0.6M
NaCl水溶液で洗い、分離し、エーテル洗液と合わ
せ、無水MgSO4 を用いて乾燥し、ろ過し、そして真
空下で暗褐色油に濃縮した。この油を100mlのヘキ
サンに溶解して、シリカゲル/ヘキサンのカラムに流下
させた。すべての黄色フラクションを回収して粘性の橙
色液体に濃縮し、それから16.5gを取り出して25
0mlTHFに溶解した。この溶液に、48ml(12
0ミリモル)の2.5M n−BuLi/ヘキサンを、
0℃で、加えた。この溶液を周囲温度で1.5時間攪拌
して、褐色〜黒色に変えた。この溶液を、200mlT
HF中の21.3g(56ミリモル)のジルコニウムテ
トラクロリド−THF溶媒化合物を収容するフラスコに
移した。その結果生じた橙褐色スラリーを一晩攪拌し
た。そのスラリーを、次いで、真空下で、250mlに
濃縮し、次いで、700mlの乾燥ヘキサンと合わせて
約0.5時間攪拌し、底に黒色タールを生じた。上清を
デカントし、すべての溶媒を飛ばした。このタール質の
橙色のマスを、次いで、100mlのヘキサン中で壊し
て一晩攪拌し、その後、ろ過して乾燥した。別の1.7
gのメタロセンを、ヘキサン/THF洗浄工程を繰り返
すことにより回収した。粗製ジメチルシリルビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリドの合わせた収量:5.
0g(20%)。
ルコニウムジクロリドの合成 200mlTHF中の51g(440ミリモル)のイン
デンの溶液をN2 下で氷浴中で冷却した。185mlの
n−BuLi/ヘキサン(2.5M)をゆっくりと加え
て、淡黄色溶液を赤褐色に変えた。その溶液を2.5時
間攪拌し、次いで、−78℃に冷却した。この溶液に、
27.1g(210ミリモル)のジクロロジメチルシラ
ンを加えた。この赤色溶液を周囲温度で64時間攪拌
し、その後、1時間還流した。リガンド溶液を0.6M
NaCl水溶液で洗い、分離し、エーテル洗液と合わ
せ、無水MgSO4 を用いて乾燥し、ろ過し、そして真
空下で暗褐色油に濃縮した。この油を100mlのヘキ
サンに溶解して、シリカゲル/ヘキサンのカラムに流下
させた。すべての黄色フラクションを回収して粘性の橙
色液体に濃縮し、それから16.5gを取り出して25
0mlTHFに溶解した。この溶液に、48ml(12
0ミリモル)の2.5M n−BuLi/ヘキサンを、
0℃で、加えた。この溶液を周囲温度で1.5時間攪拌
して、褐色〜黒色に変えた。この溶液を、200mlT
HF中の21.3g(56ミリモル)のジルコニウムテ
トラクロリド−THF溶媒化合物を収容するフラスコに
移した。その結果生じた橙褐色スラリーを一晩攪拌し
た。そのスラリーを、次いで、真空下で、250mlに
濃縮し、次いで、700mlの乾燥ヘキサンと合わせて
約0.5時間攪拌し、底に黒色タールを生じた。上清を
デカントし、すべての溶媒を飛ばした。このタール質の
橙色のマスを、次いで、100mlのヘキサン中で壊し
て一晩攪拌し、その後、ろ過して乾燥した。別の1.7
gのメタロセンを、ヘキサン/THF洗浄工程を繰り返
すことにより回収した。粗製ジメチルシリルビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリドの合わせた収量:5.
0g(20%)。
【0098】実施例1〜25 実施例1〜25において、ポリプロピレン、LLDP
E、EPDM及びEBDMを、水平混合反応装置におい
て、種々のメタロセン触媒溶液を用いて製造した。図2
は、水平混合反応装置システムを示す。この反応装置
は、2相(気/固)攪拌床、逆混合反応装置であった。
4つの「プラウ(plow)」100のセットは、200r
pmで回転する中心回転軸上に水平に装着されて、粒子
を反応装置110中で機械的に流動させ続けた。これら
のプラウがスイープする反応装置シリンダーは、長さ4
0.6cm(16インチ)、直径39.7cm(15.
6インチ)の寸法であり、その結果、機械的に流動化し
得る体積は46リットル(ft3 )であった。気体容積
は、垂直シリンダー型チャンバーによる機械的流動可能
な容積より大きく、全部で54.6リットル(1.93
ft3 )であった。離脱(disengager)容器120を反
応装置110の頂部に装着した。この容器は、68リッ
トル(2.41ft3 )のガス容積を有し、反応装置の
ガス容積の2倍より大きかった。ガスは、ガス組成が全
体にわたり均一になるように、反応装置と離脱装置の両
方を、ブロアー130により連続に循環させた。
E、EPDM及びEBDMを、水平混合反応装置におい
て、種々のメタロセン触媒溶液を用いて製造した。図2
は、水平混合反応装置システムを示す。この反応装置
は、2相(気/固)攪拌床、逆混合反応装置であった。
4つの「プラウ(plow)」100のセットは、200r
pmで回転する中心回転軸上に水平に装着されて、粒子
を反応装置110中で機械的に流動させ続けた。これら
のプラウがスイープする反応装置シリンダーは、長さ4
0.6cm(16インチ)、直径39.7cm(15.
6インチ)の寸法であり、その結果、機械的に流動化し
得る体積は46リットル(ft3 )であった。気体容積
は、垂直シリンダー型チャンバーによる機械的流動可能
な容積より大きく、全部で54.6リットル(1.93
ft3 )であった。離脱(disengager)容器120を反
応装置110の頂部に装着した。この容器は、68リッ
トル(2.41ft3 )のガス容積を有し、反応装置の
ガス容積の2倍より大きかった。ガスは、ガス組成が全
体にわたり均一になるように、反応装置と離脱装置の両
方を、ブロアー130により連続に循環させた。
【0099】用いた反応圧力は、典型的には300〜4
00psig(21〜28kg/cm2G)であった。モノマー及
び水素(分子量調節用)を、管路140を通って制御バ
ルブを介して反応装置に連続に供給した。モノマーの分
圧は、典型的には150〜300psi (11〜21kg/c
m2)の範囲であった。コモノマー(有るとすれば)を、
管路150及びべーパライザー160を通って制御バル
ブを介して導入し、そのポリマー中の含量を、供給流量
を調節して気相中の一定のコモノマー/モノマーモル比
を維持することにより制御した。ガス組成を、4〜6分
間隔で、ガスクロマトグラフ分析計によって測定した。
このポリマーの分子量を、水素供給流量を調節して気相
中の水素のモノマーに対する一定のモル比を維持するこ
とにより制御した。窒素は、ガス組成の残りの大部分を
占め、触媒を伴って管路170を通って入り、揮発した
溶媒を含む反応装置ガスを伴って小ベント180から出
た。この小ベントの開口は、反応装置内の全圧を一定に
維持するためにコンピューターにより調節した。
00psig(21〜28kg/cm2G)であった。モノマー及
び水素(分子量調節用)を、管路140を通って制御バ
ルブを介して反応装置に連続に供給した。モノマーの分
圧は、典型的には150〜300psi (11〜21kg/c
m2)の範囲であった。コモノマー(有るとすれば)を、
管路150及びべーパライザー160を通って制御バル
ブを介して導入し、そのポリマー中の含量を、供給流量
を調節して気相中の一定のコモノマー/モノマーモル比
を維持することにより制御した。ガス組成を、4〜6分
間隔で、ガスクロマトグラフ分析計によって測定した。
このポリマーの分子量を、水素供給流量を調節して気相
中の水素のモノマーに対する一定のモル比を維持するこ
とにより制御した。窒素は、ガス組成の残りの大部分を
占め、触媒を伴って管路170を通って入り、揮発した
溶媒を含む反応装置ガスを伴って小ベント180から出
た。この小ベントの開口は、反応装置内の全圧を一定に
維持するためにコンピューターにより調節した。
【0100】反応装置を、冷却グリコールの外部ジャケ
ットにより冷却した。ベッド温度を、プラウの内部セッ
トの間で、水平面下で角度60°でベッド内に突き出た
サーモウェル内の温度プローブを用いて測定した。反応
装置温度を、LLDPE及びポリプロピレン生産につい
て50〜85℃が典型的であるが、10〜110℃の範
囲の値に制御した。
ットにより冷却した。ベッド温度を、プラウの内部セッ
トの間で、水平面下で角度60°でベッド内に突き出た
サーモウェル内の温度プローブを用いて測定した。反応
装置温度を、LLDPE及びポリプロピレン生産につい
て50〜85℃が典型的であるが、10〜110℃の範
囲の値に制御した。
【0101】溶液触媒を、管路190を介してショット
ごとに計量しかつ管路200を介して導入されるメチル
アルミノキサン助触媒溶液の連続流と混合した。この混
合物を、成分が典型的に2〜10分間反応する1/8″
チュービングのコイル210を通して供給する。この予
備接触コイルを去る際に、混合溶液供給を、定速窒素流
により反応装置内にスプレーする。このスプレーは、所
望により、ベッド内に向けるか或はベッド上に向けるこ
とができる。
ごとに計量しかつ管路200を介して導入されるメチル
アルミノキサン助触媒溶液の連続流と混合した。この混
合物を、成分が典型的に2〜10分間反応する1/8″
チュービングのコイル210を通して供給する。この予
備接触コイルを去る際に、混合溶液供給を、定速窒素流
により反応装置内にスプレーする。このスプレーは、所
望により、ベッド内に向けるか或はベッド上に向けるこ
とができる。
【0102】この反応装置における粒状ポリマーの典型
的バッチ収量は、20〜25lbs (9〜11kg)であ
り、30〜35lbs (14〜16kg)が上限である。
バッチ運転は、典型的には3〜6時間続く。或は、反応
装置を連続モードで運転することができ、その場合、粒
状ポリマーを典型的には220で0.4lb(0.2k
g)ずつ抜き出し、その間重合は進行する。連続モード
では、床重量が典型的には15〜25lbs (7〜11k
g)になった後に、生成物排出系を可動化させ、排出流
量を一定のベッド重量を維持するように変える。
的バッチ収量は、20〜25lbs (9〜11kg)であ
り、30〜35lbs (14〜16kg)が上限である。
バッチ運転は、典型的には3〜6時間続く。或は、反応
装置を連続モードで運転することができ、その場合、粒
状ポリマーを典型的には220で0.4lb(0.2k
g)ずつ抜き出し、その間重合は進行する。連続モード
では、床重量が典型的には15〜25lbs (7〜11k
g)になった後に、生成物排出系を可動化させ、排出流
量を一定のベッド重量を維持するように変える。
【0103】典型的な運転は、モノマーを反応装置に充
填しかつ原料を所望の気体組成に達するまで調整するこ
とにより開始する。助触媒の初期充填を、反応装置内に
存在するすべての触媒毒を除去するために、触媒供給を
開始する前に加える。触媒供給が開始した後、モノマー
を、ガス濃度及び比を維持するのに十分なだけ反応装置
に加える。触媒インベントリーが増すにつれて、ポリマ
ー生産速度は増大して5〜10lbs /時(2〜4.5k
g/時)になり、その点で、触媒供給を調整して一定の
ポリマー生産速度を維持する。助触媒供給速度は、触媒
供給速度に比例させて維持する。メタロセンのような長
命の触媒を用いるならば、触媒及び助触媒供給は、数時
間重合を続けるのに十分な活性が維持されるのがしばし
ばであるので、バッチ重量目標に達するずっと前に止め
ることができる。所望のバッチ重量が行なわれた後に、
反応装置を急速にベントさせ、モノマーを樹脂から窒素
でパージする。次いで、バッチをバルブ220を通して
開放大気へ排出させる。上記の結果を下記の表I〜VI
IIに示す。
填しかつ原料を所望の気体組成に達するまで調整するこ
とにより開始する。助触媒の初期充填を、反応装置内に
存在するすべての触媒毒を除去するために、触媒供給を
開始する前に加える。触媒供給が開始した後、モノマー
を、ガス濃度及び比を維持するのに十分なだけ反応装置
に加える。触媒インベントリーが増すにつれて、ポリマ
ー生産速度は増大して5〜10lbs /時(2〜4.5k
g/時)になり、その点で、触媒供給を調整して一定の
ポリマー生産速度を維持する。助触媒供給速度は、触媒
供給速度に比例させて維持する。メタロセンのような長
命の触媒を用いるならば、触媒及び助触媒供給は、数時
間重合を続けるのに十分な活性が維持されるのがしばし
ばであるので、バッチ重量目標に達するずっと前に止め
ることができる。所望のバッチ重量が行なわれた後に、
反応装置を急速にベントさせ、モノマーを樹脂から窒素
でパージする。次いで、バッチをバルブ220を通して
開放大気へ排出させる。上記の結果を下記の表I〜VI
IIに示す。
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【表8】
【表9】
【0104】実施例26〜28 実施例26〜28では、LLDPEを流動床反応装置中
でDPZ溶液を用いて製造した。図1は、これらの実施
例につい用いた反応システムを示す。この反応装置は、
高さ10フィート(3)及び内直径13.5インチ(3
4.3cm)の下部セクション並びに高さ16フィート
(4.9m)及び内直径23.5インチ(59.7c
m)の上部セクションを有していた。橙色の7ミリモル
濃度のDPZ触媒溶液(塩化メチレン中)及び無色の2
モル濃度のAkzo MMAO Type 3A 助触媒溶液(イソペンタ
ン中)をシリンジポンプを用いて1/8″チュービング
のコイルを通して供給した。これらの成分は、典型的に
はこの予備接触コイル中で2分間反応した。このコイル
を去る際に、紫色の混合溶液供給を、窒素とイソペンタ
ンの定速流により反応装置内にスプレーした。このスプ
レーは、所望により、床内或は床より上の種々の場所に
向けた。TIBAの5%溶液を、別に、床のガス分配板
より4フィート(1.2m)上方のレベルに供給した。
結果を下記の表IXに示す。
でDPZ溶液を用いて製造した。図1は、これらの実施
例につい用いた反応システムを示す。この反応装置は、
高さ10フィート(3)及び内直径13.5インチ(3
4.3cm)の下部セクション並びに高さ16フィート
(4.9m)及び内直径23.5インチ(59.7c
m)の上部セクションを有していた。橙色の7ミリモル
濃度のDPZ触媒溶液(塩化メチレン中)及び無色の2
モル濃度のAkzo MMAO Type 3A 助触媒溶液(イソペンタ
ン中)をシリンジポンプを用いて1/8″チュービング
のコイルを通して供給した。これらの成分は、典型的に
はこの予備接触コイル中で2分間反応した。このコイル
を去る際に、紫色の混合溶液供給を、窒素とイソペンタ
ンの定速流により反応装置内にスプレーした。このスプ
レーは、所望により、床内或は床より上の種々の場所に
向けた。TIBAの5%溶液を、別に、床のガス分配板
より4フィート(1.2m)上方のレベルに供給した。
結果を下記の表IXに示す。
【表10】
【0105】実施例29及び30 実施例29及び30は、iPrCp(Flu)ZrCl
2 とMAOとの反応生成物を用いてポリオレフィン樹脂
を製造することの比較をシリカ担体上と未担持の液体形
態との場合で行って、触媒的に活性な反応生成物の活性
が、本発明に従う未担持の液体形態で用いる場合の方が
大きいことを立証する。
2 とMAOとの反応生成物を用いてポリオレフィン樹脂
を製造することの比較をシリカ担体上と未担持の液体形
態との場合で行って、触媒的に活性な反応生成物の活性
が、本発明に従う未担持の液体形態で用いる場合の方が
大きいことを立証する。
【0106】実施例29 − 比較例 シリカ上に担持されたiPrCp(Flu)ZrCl2
及びMAOの製造:真空大気乾燥ボックスで、0.01
71gのiPrCp(Flu)ZrCl2を14.5g
の蒸留したトルエン中に溶解した。11.3gの橙色の
溶液(0.0308ミリモルのZr)を、Ethyl Corpor
ation から得たメチルアルミノキサン(30.6ミリモ
ルのAl)の17mlの無色のトルエン溶液に加えた。
その結果生じた紫色の溶液を5分間攪拌し、次いで、6
00℃で脱水した20.04gのDavison 955 シリカに
加えた。この混合物を攪拌して易流動性物質を生成し、
次いで、0.3mmHgで2.5時間排気した。桃色の
重量21.2gの固体が回収された(0.00145ミ
リモル Zr/g及び1.4ミリモル Al/g)。
及びMAOの製造:真空大気乾燥ボックスで、0.01
71gのiPrCp(Flu)ZrCl2を14.5g
の蒸留したトルエン中に溶解した。11.3gの橙色の
溶液(0.0308ミリモルのZr)を、Ethyl Corpor
ation から得たメチルアルミノキサン(30.6ミリモ
ルのAl)の17mlの無色のトルエン溶液に加えた。
その結果生じた紫色の溶液を5分間攪拌し、次いで、6
00℃で脱水した20.04gのDavison 955 シリカに
加えた。この混合物を攪拌して易流動性物質を生成し、
次いで、0.3mmHgで2.5時間排気した。桃色の
重量21.2gの固体が回収された(0.00145ミ
リモル Zr/g及び1.4ミリモル Al/g)。
【0107】シリカ上に担持されたiPrCp(Fl
u)ZrCl2 及びMAOの液体プロピレン重合:真空
大気乾燥ボックスで、シリカ上に担持されたiPrCp
(Flu)ZrCl2 及びMAO2.06g(0.00
299ミリモルのZr)を蒸留したトルエン20ml及
びMAO(Al 1.8M)のトルエン溶液0.5ml
からなる撹拌溶液に加えた。
u)ZrCl2 及びMAOの液体プロピレン重合:真空
大気乾燥ボックスで、シリカ上に担持されたiPrCp
(Flu)ZrCl2 及びMAO2.06g(0.00
299ミリモルのZr)を蒸留したトルエン20ml及
びMAO(Al 1.8M)のトルエン溶液0.5ml
からなる撹拌溶液に加えた。
【0108】1リットル撹拌式オートクレーブ反応装置
を96℃より高い温度で窒素を流しながら20分間加熱
することにより乾燥させた。反応装置を21℃に冷却し
た後に、担持された触媒を含有するスラリーをカニュー
レを経て反応装置に移し、次いで液体プロピレン800
mlを続けた。反応装置をシールし、22℃で5分間撹
拌し、次いでちょっとの間83℃に加熱した後に40℃
で30分間重合させて、シリカ31%及び活性1530
g sPP/1ミリモルZrに一致する生成物6.63
gが得られた。
を96℃より高い温度で窒素を流しながら20分間加熱
することにより乾燥させた。反応装置を21℃に冷却し
た後に、担持された触媒を含有するスラリーをカニュー
レを経て反応装置に移し、次いで液体プロピレン800
mlを続けた。反応装置をシールし、22℃で5分間撹
拌し、次いでちょっとの間83℃に加熱した後に40℃
で30分間重合させて、シリカ31%及び活性1530
g sPP/1ミリモルZrに一致する生成物6.63
gが得られた。
【0109】実施例30 iPrCp(Flu)ZrCl2 の液体プロピレン重
合:真空大気乾燥ボック内で、iPrCp(Flu)Z
rCl2 0.0143g(0.0331ミリモルのZ
r)を蒸留したトルエン12.39gに溶解した。この
溶液0.9714g(0.00259ミリモルのZr)
及び1.5MAO(2.70ミリモル)を5分間撹拌し
た。
合:真空大気乾燥ボック内で、iPrCp(Flu)Z
rCl2 0.0143g(0.0331ミリモルのZ
r)を蒸留したトルエン12.39gに溶解した。この
溶液0.9714g(0.00259ミリモルのZr)
及び1.5MAO(2.70ミリモル)を5分間撹拌し
た。
【0110】1リットル撹拌式オートクレーブ反応装置
を96℃より高い温度で窒素を流しながら20分間加熱
することにより乾燥させた。反応装置を21℃に冷却し
た後に、液状形態の触媒を含有するスラリーをシリンジ
を経て反応装置に移し、次いで液体プロピレン800m
lを続けた。反応装置をシールし、22℃で5分間撹拌
し、次いでちょっとの間66℃に加熱した後に40℃で
30分間重合させて、活性13,400g sPP/1
ミリモルZrに一致する生成物34.83gが得られ
た。この活性値は、同じ触媒を担体上で用いた比較例2
9で得られたものに比べて約9倍大きい。
を96℃より高い温度で窒素を流しながら20分間加熱
することにより乾燥させた。反応装置を21℃に冷却し
た後に、液状形態の触媒を含有するスラリーをシリンジ
を経て反応装置に移し、次いで液体プロピレン800m
lを続けた。反応装置をシールし、22℃で5分間撹拌
し、次いでちょっとの間66℃に加熱した後に40℃で
30分間重合させて、活性13,400g sPP/1
ミリモルZrに一致する生成物34.83gが得られ
た。この活性値は、同じ触媒を担体上で用いた比較例2
9で得られたものに比べて約9倍大きい。
【図1】重合触媒を液状形態で供給するオレフィンの連
続気相流動床重合を示す本発明の好適な実施態様の略図
である。
続気相流動床重合を示す本発明の好適な実施態様の略図
である。
【図2】オレフィン重合をバッチ或は連続攪拌式床様式
の運転で行うことができる本発明の別の実施態様の略図
である。
の運転で行うことができる本発明の別の実施態様の略図
である。
12 反応域 14 速度減小域 21 ガス分析計 24 熱交換器 28 ガス分配板 100 プラウ 110 反応装置 120 脱離容器 160 べーパライザー
フロントページの続き (72)発明者 ティモシ・ロジャー・リン アメリカ合衆国ニュージャージー州ハケ ッツタウン、アールディー3、ボックス 23 (72)発明者 ロバート・ジェイムズ・ジョーゲンセン アメリカ合衆国ニュージャージー州サマ セット、バンカー・ドライブ38 (72)発明者 スンチュエ・カオ アメリカ合衆国ニュージャージー州ベル ミード、ダラム・コート7 (72)発明者 エリク・ポール・ワッサマン アメリカ合衆国ニュージャージー州ホー プウェル、フェザベッド・レイン110 (56)参考文献 特開 昭48−68685(JP,A) 特開 昭54−75609(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 4/60 - 4/70 C08F 2/00 - 2/34
Claims (9)
- 【請求項1】 気相重合反応でポリマーを製造する方法
であって、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化
合物及び(ii)オルガノ金属化合物を含み、(i)及
び(ii)が液状形態である1〜1,000ミクロンの
範囲の液滴寸法を有する未担持かつ可溶性の重合触媒を
反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む方法。 - 【請求項2】 気相重合反応でポリマーを製造する方法
であって、 a)炭素原子2〜12を有する一種又はそれ以上のアル
ファ−オレフィンモノマーを含むガス状流を連続して反
応域に導入し; b)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化合物と
オルガノ金属化合物との反応生成物の溶液を含む1〜
1,000ミクロンの範囲の液滴寸法を有する未担持か
つ可溶性の重合触媒を反応域に導入し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出す ことを含む方法。 - 【請求項3】 生長ポリマー粒子の床を収容する反応
域、下部ガス拡散域、上部ガス速度減小域、ガス拡散域
へのガス入口、及びガス速度減小域より上部のガス出口
を有するガス流動床反応装置においてアルファ−オレフ
ィンモノマーからポリマーを製造する方法であって、 a)アルファ−オレフィンモノマーを含有するガス状流
を連続してガス拡散域を通して反応域の中に粒子を懸濁
された及びガス流動された状態に保つ程の上方向速度で
通し; b) 1〜1,000ミクロンの範囲の液滴寸法を有す
る液状形態の未担持かつ可溶性の触媒を反応域に導入
し; c)ポリマー生成物を反応域から抜き出し; d)アルファ−オレフィンモノマーを含む未反応ガス流
れを連続して反応域から抜き出し、該流れを圧縮及び冷
却し; e)該流れを連続してガス拡散域に導入することを含む
方法。 - 【請求項4】 前記液状触媒を直接前記生長粒子の床に
注入する請求項3の方法。 - 【請求項5】 前記液状触媒を前記反応装置の前記生長
粒子の床より上の位置にスプレーする請求項3の方法。 - 【請求項6】 前記液状触媒を前記生長粒子の床より上
の前記速度減小域の前記出口より充分に低い位置にスプ
レーし、それで反応装置を出る未反応モノマーの流れに
よって液状触媒がほとんど或は本質的になんら反応装置
から取り出されないようにする請求項3の方法。 - 【請求項7】 液状形態の未担持かつ可溶性の触媒が第
IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化合物及びオル
ガノ金属化合物を含む請求項3の方法。 - 【請求項8】 液状形態の未担持かつ可溶性の触媒が第
IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属化合物とオルガ
ノ金属化合物との反応生成物を含む請求項3の方法。 - 【請求項9】 液状形態の未担持かつ可溶性の触媒が
(i)第IIIB〜VIII族から選ぶ遷移金属を含有
する少なくとも一種のメタロセン化合物及びアルミノオ
キサン、(ii)これらの反応生成物、もしくは(i)
と(ii)との混合物を含む請求項3の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US962119 | 1992-10-16 | ||
US07/962,119 US5317036A (en) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | Gas phase polymerization reactions utilizing soluble unsupported catalysts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06192311A JPH06192311A (ja) | 1994-07-12 |
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Family
ID=25505443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5283994A Expired - Fee Related JP2762025B2 (ja) | 1992-10-16 | 1993-10-18 | 可溶性の未担持触媒を用いた気相重合反応 |
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KR (1) | KR0164617B1 (ja) |
CN (1) | CN1054859C (ja) |
AT (1) | ATE137509T1 (ja) |
AU (1) | AU657076B2 (ja) |
BR (1) | BR9304244A (ja) |
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CZ (1) | CZ289298B6 (ja) |
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MY (1) | MY109142A (ja) |
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NZ (1) | NZ248961A (ja) |
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TW (1) | TW303371B (ja) |
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US5332706A (en) * | 1992-12-28 | 1994-07-26 | Mobil Oil Corporation | Process and a catalyst for preventing reactor fouling |
US5602067A (en) * | 1992-12-28 | 1997-02-11 | Mobil Oil Corporation | Process and a catalyst for preventing reactor fouling |
AU682821B2 (en) * | 1993-04-26 | 1997-10-23 | Exxon Chemical Patents Inc. | Process for polymerizing monomers in fluidized beds |
JPH08509773A (ja) * | 1993-04-26 | 1996-10-15 | エクソン・ケミカル・パテンツ・インク | 流動床におけるモノマーの重合プロセス |
US5462999A (en) * | 1993-04-26 | 1995-10-31 | Exxon Chemical Patents Inc. | Process for polymerizing monomers in fluidized beds |
US6468936B1 (en) * | 1993-04-28 | 2002-10-22 | Fina Technology, Inc. | Solid MAO/metallocene catalyst complex for propylene polymerization |
ZA943399B (en) * | 1993-05-20 | 1995-11-17 | Bp Chem Int Ltd | Polymerisation process |
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FI95276C (fi) * | 1993-12-03 | 1996-01-10 | Borealis As | Olefiinien polymerointikatalyytti ja menetelmä sen valmistamiseksi |
JP2895408B2 (ja) † | 1993-12-21 | 1999-05-24 | ユニオン・カーバイド・ケミカルズ・アンド・プラスティックス・テクノロジー・コーポレイション | 気相方法による長鎖枝を含有するポリオレフィンの製造 |
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AU706309B2 (en) * | 1994-02-17 | 1999-06-17 | Univation Technologies Llc | Spray dried metallocene catalyst composition for use in polyolefin manufacture |
CA2142669C (en) * | 1994-02-17 | 1999-11-23 | Eric Paul Wasserman | Spray dried metallocene catalyst composition for use in polyolefin manufacture |
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