JP2678754B2 - 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 - Google Patents
高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法Info
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造工業分野における高純度ガスの
供給機器に使用される高純度ガス供給用ステンレススチ
ール製マニホールドの製造方法に関する。 〔従来の技術〕 近年、半導体製造工業の発達に伴って、この分野で使
用される高純度ガスの純度も非常に厳しい値が要求され
るようになって来ている。例えば、高純度窒素中に含ま
れるダストパーティクルの数は0.1μｍ以下程度のダス
トが１立方フィート（約28316.8立方センチメートル）
中１個以下であること等が最近の半導体製造工場向高純
度窒素ガスの仕様となっている。 したがって、この高純度窒素ガスの製造装置，供給機
器にはあらゆる個所にこのようなダストの侵入する余地
の無いように対策が施されており、例えば、高純度液化
窒素を気化して高純度窒素ガスとして供給する場合に使
用される蒸発器の部品や配管の内面は電解研磨により平
滑に仕上げられている。 ところで、液化ガス蒸発器のヘッダーに使用される従
来の高純度ガス供給用マニホールドは、第２図に示すも
のが使用されていた。即ち、ヘッダー主管１の管壁に複
数の孔２を穿設し、これらの孔２にソケット３の下部を
夫々挿入して孔２の周囲の管壁とソケット３の当接部４
を隅肉溶接して固定し、該ソケット３の上部にフィン７
を付設した蒸発管５を挿入して該蒸発管５の外周とソケ
ット３上部の当接部６も同様に隅肉溶接を行ない固定し
ていた。 ところが、このヘッダーは、上述の如く、主管１とこ
れに隅肉溶接により固定したソケット３とで形成されて
いるが、この形式のヘッダーでは、主管１の孔２とソケ
ット３下部との間に形成される隙間及びソケット３と蒸
発管５との間に形成される隙間がダストパーティクルの
滞在するデッドスペースとなり、前記のような厳しい仕
様を要求される高純度ガス供給用の蒸発器としては不適
切となり改善の必要があった。 そこで、次に第３図に示す如きヘッダーが製作される
ようになった。即ち、前記主管１と同径の短管８の管壁
に１つの孔２を穿設し、この孔２の周辺部を膨出させて
膨出部を形成して、該膨出部９の先端面を平滑に仕上
げ、この先端面に、前記孔２の径と同径の短管10の平滑
に仕上げた一方の端部を突合せ溶接し、この突合せ溶接
部11の内面を研磨機により研磨して平滑にした上、さら
に、短管８及び短管10の内面全体を電解研磨したチーズ
12を単位部材とし、該チーズ12を複数個突合せ溶接を行
ってマニホールド13を形成し、各チーズ12の短管10の他
方の端面に蒸発管５を夫々突合せ溶接して蒸発器のヘッ
ダーを形成している。ここで、蒸発管５を膨出部９の平
滑な先端面に直接溶接しないのは、現在の溶接機では、
このような部分を溶接できないため手溶接によらざるを
得ず、手溶接によった場合は、溶接部11の裏ビートが荒
く仕上る上、これを研磨できないためである。 このため、短管10と蒸発管５との溶接部15は、溶接機
による機械溶接（Tig溶接）が行われる。溶接部15の両
側の短管10及び蒸発管５に充分な直管部がある場合は自
動溶接が可能であり、自動溶接によった場合は、裏ビー
トは粗面度１μｍ以下は保証できないまでも、均一で且
つダストパーティクルの滞在の発生の可能性の極めて少
ない仕上りとなる。 〔発明が解決しようとする課題〕 このように、第３図に示すヘッダーは、溶接部が全て
突合せ溶接であるため、第２図の場合のようなダストパ
ーティクルの滞在するデッドスペースが発生せず、ダス
トパーティクルの滞在個所が解消できる長所はあるが、
チーズ12同士の突合せ溶接部14が蒸発管５の数とほぼ同
数発生することとなり、溶接作業が多くなって溶接作業
上からも構造上からも好ましくない。しかも、管内面の
粗面度が１μｍ以下というような厳しい仕様に対しては
未研磨の粗面が残り易く好ましくなかった。 上記に鑑み、本発明は、溶接部分が少なく且つ内面に
研磨されていない部分がない高純度ガス供給用ステンレ
ススチール製マニホールドの製造方法の提供を目的とし
たものである。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、ステンレススチール製管の管壁に複数個の
孔を穿設し、該複数個の孔の周辺を管壁の外側に膨出さ
せて膨出部を形成し、該膨出部の先端面を平滑に仕上げ
ると共に、該膨出部の孔の径と同径の短管の端面を平滑
に仕上げ、前記膨出部の先端面に短管の端面を突合せ溶
接し、ステンレススチール製管及び短管の内面全体に電
解研磨仕上を施して該内面全体を１μｍ以下程度の面粗
さに仕上げることを特徴とするものである。 〔作用〕 上記方法により、溶接部分が少なく未研磨の部分が全
く無くなり、しかも、内面全体を１μｍ以下程度の面粗
さに仕上げた高純度ガス供給用ステンレススチール製マ
ニホールドを製造することができる。 〔実施例〕 本発明に係る高純度ガス供給用ステンレススチール製
マニホールドの製造方法の一実施例を、第１図に示すマ
ニホールドの断面図に基づいて説明する。 所定の径のステンレススチール製管20の管壁に所定径
の孔21を複数個穿設し、常法によって該孔21の周辺部を
膨出させて膨出部22を形成し、該膨出部22の先端面を平
滑に仕上げる。一方、膨出部22の孔21の径と同径の短管
23の両端面を平滑に仕上げる。そして、該膨出部22の平
滑な先端面と短管23の一方の平滑な端面とを突合せて手
溶接により溶接を行って枝管とし、突合せ溶接部24の裏
ビードを機械研磨によって平滑にした後、電解液中に浸
漬して管20,23の内面全体に電解研磨仕上げを施して粗
面度１μｍ以下の面に仕上げ、高純度ガス供給用マニホ
ールド25を製造する。 このようにして製造された高純度ガス供給用ステンレ
ススチール製マニホールドは、短管23で形成される技管
部の長さを充分長くとることができるため、その先に蒸
発管を溶接する場合に、その溶接を溶接裏ビードが平滑
に仕上る自動溶接による突合せ溶接を行うことができ、
しかも、溶接接続個所が少なく内面未研磨の部分が全く
無いと共に電解研磨により内面全体が１μｍ以下程度の
面粗さに仕上げられているため、極微細のダストパーテ
ィクルの滞在または付着する余地がない。 〔発明の効果〕 以上のように、本発明の高純度ガス供給用ステンレス
スチール製マニホールドの製造方法は、ステンレススチ
ール製管の管壁に複数個の孔を穿設し、該複数個の孔の
周辺を管壁の外側に膨出させて膨出部を形成し、該膨出
部の先端面を平滑に仕上げると共に、該膨出部の孔の径
と同径の短管の端面を平滑に仕上げ、膨出部の先端面に
短管の端面を突合せ溶接し、管内面全体を電解研磨によ
り１μｍ以下程度の面粗さに仕上げるので、内面を全面
電解研磨したチーズを複数個接続した形式の従来のこの
種のマニホールドに比して、溶接接続個所が少なく、か
つ管内面に未研磨の部分が全くなくなり、しかも、内面
を全面電解研磨を行って粗面度を１μｍ以下に仕上げる
から、極微細のダストパーティクルの滞在または付着す
る余地がない。 したがって、最近特に要求が厳しくなっている半導体
製造工程に使用される高純度ガスの供給用として適切な
高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドを
得ることができ、本マニホールドを使用した高純度ガス
供給機器は充分そのクリーン度を保証できるものであ
る。
供給機器に使用される高純度ガス供給用ステンレススチ
ール製マニホールドの製造方法に関する。 〔従来の技術〕 近年、半導体製造工業の発達に伴って、この分野で使
用される高純度ガスの純度も非常に厳しい値が要求され
るようになって来ている。例えば、高純度窒素中に含ま
れるダストパーティクルの数は0.1μｍ以下程度のダス
トが１立方フィート（約28316.8立方センチメートル）
中１個以下であること等が最近の半導体製造工場向高純
度窒素ガスの仕様となっている。 したがって、この高純度窒素ガスの製造装置，供給機
器にはあらゆる個所にこのようなダストの侵入する余地
の無いように対策が施されており、例えば、高純度液化
窒素を気化して高純度窒素ガスとして供給する場合に使
用される蒸発器の部品や配管の内面は電解研磨により平
滑に仕上げられている。 ところで、液化ガス蒸発器のヘッダーに使用される従
来の高純度ガス供給用マニホールドは、第２図に示すも
のが使用されていた。即ち、ヘッダー主管１の管壁に複
数の孔２を穿設し、これらの孔２にソケット３の下部を
夫々挿入して孔２の周囲の管壁とソケット３の当接部４
を隅肉溶接して固定し、該ソケット３の上部にフィン７
を付設した蒸発管５を挿入して該蒸発管５の外周とソケ
ット３上部の当接部６も同様に隅肉溶接を行ない固定し
ていた。 ところが、このヘッダーは、上述の如く、主管１とこ
れに隅肉溶接により固定したソケット３とで形成されて
いるが、この形式のヘッダーでは、主管１の孔２とソケ
ット３下部との間に形成される隙間及びソケット３と蒸
発管５との間に形成される隙間がダストパーティクルの
滞在するデッドスペースとなり、前記のような厳しい仕
様を要求される高純度ガス供給用の蒸発器としては不適
切となり改善の必要があった。 そこで、次に第３図に示す如きヘッダーが製作される
ようになった。即ち、前記主管１と同径の短管８の管壁
に１つの孔２を穿設し、この孔２の周辺部を膨出させて
膨出部を形成して、該膨出部９の先端面を平滑に仕上
げ、この先端面に、前記孔２の径と同径の短管10の平滑
に仕上げた一方の端部を突合せ溶接し、この突合せ溶接
部11の内面を研磨機により研磨して平滑にした上、さら
に、短管８及び短管10の内面全体を電解研磨したチーズ
12を単位部材とし、該チーズ12を複数個突合せ溶接を行
ってマニホールド13を形成し、各チーズ12の短管10の他
方の端面に蒸発管５を夫々突合せ溶接して蒸発器のヘッ
ダーを形成している。ここで、蒸発管５を膨出部９の平
滑な先端面に直接溶接しないのは、現在の溶接機では、
このような部分を溶接できないため手溶接によらざるを
得ず、手溶接によった場合は、溶接部11の裏ビートが荒
く仕上る上、これを研磨できないためである。 このため、短管10と蒸発管５との溶接部15は、溶接機
による機械溶接（Tig溶接）が行われる。溶接部15の両
側の短管10及び蒸発管５に充分な直管部がある場合は自
動溶接が可能であり、自動溶接によった場合は、裏ビー
トは粗面度１μｍ以下は保証できないまでも、均一で且
つダストパーティクルの滞在の発生の可能性の極めて少
ない仕上りとなる。 〔発明が解決しようとする課題〕 このように、第３図に示すヘッダーは、溶接部が全て
突合せ溶接であるため、第２図の場合のようなダストパ
ーティクルの滞在するデッドスペースが発生せず、ダス
トパーティクルの滞在個所が解消できる長所はあるが、
チーズ12同士の突合せ溶接部14が蒸発管５の数とほぼ同
数発生することとなり、溶接作業が多くなって溶接作業
上からも構造上からも好ましくない。しかも、管内面の
粗面度が１μｍ以下というような厳しい仕様に対しては
未研磨の粗面が残り易く好ましくなかった。 上記に鑑み、本発明は、溶接部分が少なく且つ内面に
研磨されていない部分がない高純度ガス供給用ステンレ
ススチール製マニホールドの製造方法の提供を目的とし
たものである。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、ステンレススチール製管の管壁に複数個の
孔を穿設し、該複数個の孔の周辺を管壁の外側に膨出さ
せて膨出部を形成し、該膨出部の先端面を平滑に仕上げ
ると共に、該膨出部の孔の径と同径の短管の端面を平滑
に仕上げ、前記膨出部の先端面に短管の端面を突合せ溶
接し、ステンレススチール製管及び短管の内面全体に電
解研磨仕上を施して該内面全体を１μｍ以下程度の面粗
さに仕上げることを特徴とするものである。 〔作用〕 上記方法により、溶接部分が少なく未研磨の部分が全
く無くなり、しかも、内面全体を１μｍ以下程度の面粗
さに仕上げた高純度ガス供給用ステンレススチール製マ
ニホールドを製造することができる。 〔実施例〕 本発明に係る高純度ガス供給用ステンレススチール製
マニホールドの製造方法の一実施例を、第１図に示すマ
ニホールドの断面図に基づいて説明する。 所定の径のステンレススチール製管20の管壁に所定径
の孔21を複数個穿設し、常法によって該孔21の周辺部を
膨出させて膨出部22を形成し、該膨出部22の先端面を平
滑に仕上げる。一方、膨出部22の孔21の径と同径の短管
23の両端面を平滑に仕上げる。そして、該膨出部22の平
滑な先端面と短管23の一方の平滑な端面とを突合せて手
溶接により溶接を行って枝管とし、突合せ溶接部24の裏
ビードを機械研磨によって平滑にした後、電解液中に浸
漬して管20,23の内面全体に電解研磨仕上げを施して粗
面度１μｍ以下の面に仕上げ、高純度ガス供給用マニホ
ールド25を製造する。 このようにして製造された高純度ガス供給用ステンレ
ススチール製マニホールドは、短管23で形成される技管
部の長さを充分長くとることができるため、その先に蒸
発管を溶接する場合に、その溶接を溶接裏ビードが平滑
に仕上る自動溶接による突合せ溶接を行うことができ、
しかも、溶接接続個所が少なく内面未研磨の部分が全く
無いと共に電解研磨により内面全体が１μｍ以下程度の
面粗さに仕上げられているため、極微細のダストパーテ
ィクルの滞在または付着する余地がない。 〔発明の効果〕 以上のように、本発明の高純度ガス供給用ステンレス
スチール製マニホールドの製造方法は、ステンレススチ
ール製管の管壁に複数個の孔を穿設し、該複数個の孔の
周辺を管壁の外側に膨出させて膨出部を形成し、該膨出
部の先端面を平滑に仕上げると共に、該膨出部の孔の径
と同径の短管の端面を平滑に仕上げ、膨出部の先端面に
短管の端面を突合せ溶接し、管内面全体を電解研磨によ
り１μｍ以下程度の面粗さに仕上げるので、内面を全面
電解研磨したチーズを複数個接続した形式の従来のこの
種のマニホールドに比して、溶接接続個所が少なく、か
つ管内面に未研磨の部分が全くなくなり、しかも、内面
を全面電解研磨を行って粗面度を１μｍ以下に仕上げる
から、極微細のダストパーティクルの滞在または付着す
る余地がない。 したがって、最近特に要求が厳しくなっている半導体
製造工程に使用される高純度ガスの供給用として適切な
高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドを
得ることができ、本マニホールドを使用した高純度ガス
供給機器は充分そのクリーン度を保証できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明に係る高純度ガス供給用ステンレスス
チール製マニホールドの製造方法の一実施例を説明する
ためのマニホールドの断面図、第２図は、従来のこの種
マニホールドの製造方法の一例を示す断面図、第３図
は、従来のこの種マニホールドの製造方法の別の例を示
す断面図である。 20…ステンレススチール製管、21…孔、22…膨出部、23
…短管、24…突合せ溶接部、25…マニホールド
チール製マニホールドの製造方法の一実施例を説明する
ためのマニホールドの断面図、第２図は、従来のこの種
マニホールドの製造方法の一例を示す断面図、第３図
は、従来のこの種マニホールドの製造方法の別の例を示
す断面図である。 20…ステンレススチール製管、21…孔、22…膨出部、23
…短管、24…突合せ溶接部、25…マニホールド
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭55−149721（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−236426（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−205220（ＪＰ，Ａ)
実開 昭59−148417（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．ステンレススチール製管の管壁に複数個の孔を穿設
し、該複数個の孔の周辺を管壁の外側に膨出させて膨出
部を形成し、該膨出部の先端面を平滑に仕上げると共
に、該膨出部の孔の径と同径の短管の端面を平滑に仕上
げ、前記膨出部の先端面に短管の端面を突合せ溶接し、
ステンレススチール製管及び短管の内面全体に電解研磨
仕上を施して該内面全体を１μｍ以下程度の面粗さに仕
上げることを特徴とする高純度ガス供給用ステンレスス
チール製マニホールドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62143547A JP2678754B2 (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62143547A JP2678754B2 (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63307300A JPS63307300A (ja) | 1988-12-14 |
| JP2678754B2 true JP2678754B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=15341283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62143547A Expired - Lifetime JP2678754B2 (ja) | 1987-06-09 | 1987-06-09 | 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2678754B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369691C (zh) * | 2005-12-06 | 2008-02-20 | 杜明乾 | 外翻边刀具装置 |
| KR102577905B1 (ko) * | 2022-11-24 | 2023-09-14 | 주식회사 부광테크 | 수직형 지관의 전해연마장치 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2683890A1 (fr) * | 1991-11-14 | 1993-05-21 | Air Liquide | Installation de distribution d'azote a tres haute purete et procede de mise en óoeuvre. |
| DE19949962A1 (de) * | 1999-10-16 | 2001-04-26 | Bosch Gmbh Robert | Kraftstoffhochdruckspeicher und Verfahren zur Herstellung eines Kraftstoffhochdruckspeichers |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149721A (en) * | 1979-05-12 | 1980-11-21 | Michio Naruse | Manufacture of pipe joint |
| JPS576180A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-13 | Tokyo Shibaura Electric Co | Manufacture of pipings header |
| DE3136187C2 (de) * | 1981-09-12 | 1988-08-18 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung der Innenwände von metallischen Leitungssystemen durch Elektropolieren mit Hilfe bewegter Elektroden |
| JPH0234685B2 (ja) * | 1982-07-22 | 1990-08-06 | Sumitomo Kinzoku Kogyo Kk | Tgatakantsugitenoseizohoho |
| JPS59148417U (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | 三菱自動車工業株式会社 | 内燃機関用排気マニホ−ルド |
| JPS59205220A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-20 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 電解研摩装置 |
| JPS6065990A (ja) * | 1983-09-17 | 1985-04-15 | 清水 賢治 | Ｔ管継手乃至回転管継手の製造方法 |
| JPS61236426A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 金属管内電解研磨法とその装置 |
-
1987
- 1987-06-09 JP JP62143547A patent/JP2678754B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100369691C (zh) * | 2005-12-06 | 2008-02-20 | 杜明乾 | 外翻边刀具装置 |
| KR102577905B1 (ko) * | 2022-11-24 | 2023-09-14 | 주식회사 부광테크 | 수직형 지관의 전해연마장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63307300A (ja) | 1988-12-14 |
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