JP2657597B2 - 光記録ディスク - Google Patents
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- Y10S430/146—Laser beam
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Description
録層を有する光記録ディスクに関する。
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。追記型光記録ディスクのうち、色素を主成分
とする記録層を用いるものは、記録層が塗布により形成
できるため低コストにて製造可能である。
ディスクとしては、従来、記録層上に空気層を設けたい
わゆるエアーサンドイッチ構造のものが用いられていた
が、最近、記録層表面に反射層を密着して設けることに
より、コンパクトディスク(CD)規格に対応した再生
が可能な光記録ディスクが提案されている(日経エレク
トロニクス1989年1月23日号,No.465,P
107、社団法人近畿化学協会機能性色素部会,198
9年3月3日,大阪科学技術センター、PROCEEDINGS SP
IE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERI
NG VOL.1078 PP80-87,"OPTICAL DATA STORAGE TOPICAL
MEETING"17-19,JANUARY 1989 LOS ANGELES等)。この光
記録ディスクは、透明基板上に、色素層、反射層および
保護膜をこの順に設層して形成され、反射層を色素層に
密着して設けることにより、CD規格のディスク全厚
1.2mmの構成が可能となっている。
Dプレーヤで再生するためには、通常のCDにおいて用
いられているAl反射層では反射率が不十分であるた
め、上記提案ではAu反射層を用いている。Auは反射
率が高くしかも耐食性が良好であるが、高価である。こ
のため、Au以外の高反射率金属で安価なもの、例え
ば、Ag−Cu合金やCu−Al合金等の各種合金の使
用が考えられている。
は、記録層中に一重項酸素クエンチャーとして金属錯体
を含有させることが知られている。また、色素として金
属錯体を用いることもある。
射層中の金属と記録層中の金属とが反応し、色素の劣化
や記録信号出力の低下が生じ、十分な信頼性が得られな
い。
分とする記録層を有する光記録ディスクであって、安価
でしかも信頼性の高い光記録ディスクを実現することを
主な目的とする。
(1)〜(5)の本発明により達成される。
層を有し、前記記録層上に反射層を有する光記録ディス
クであって、前記記録層が金属錯体を含有し、前記反射
層が少なくとも2種の金属元素を含む合金であり、記録
層に含まれる金属錯体の中心金属のうちイオン化傾向の
最も小さな金属元素をMC とし、イオン化傾向がMC 以
上である金属元素をMR としたとき、前記反射層中にお
けるMR の合計含有量が0〜10重量%であることを特
徴とする光記録ディスク。
が、色素および/またはクエンチャーである上記(1)
の光記録ディスク。
る上記(1)または(2)の光記録ディスク。
れるMR がCuを主体とする上記(3)の光記録ディス
ク。
れるMR がAlを主体とする上記(3)の光記録ディス
ク。
に、色素を含む記録層および反射層を順次有し、CD規
格に対応可能な密着型の光記録ディスクである。
化傾向が同じかM C よりイオン化傾向の大きい金属MR
の反射層中の含有量を10重量%以下とするため、反射
層中の金属と記録層中の金属との反応などによる色素の
劣化や記録信号出力の低下が抑えられ、高い信頼性が得
られる。
のある場合に有用である。
層のAuの代替品として耐食性および反射率の点からA
gを選択し、かつ反射層の色彩をAuと同様とするため
にCuを添加してAg−Cu合金の反射層とする場合に
有用である。この場合、MCはCuであり、反射層中に
MR としてCuが含まれていることになる。
のAuの代替品として色彩および反射率の点からCuを
選択し、かつ反射層の耐食性を向上させるためにAlを
添加してCu−Al合金の反射層とする場合にも有用で
ある。この場合、MC はNiであり、反射層中にMR と
してAlが含まれていることになる。
に説明する。
とする記録層上に反射層を密着して有し、CD規格に対
応した再生が可能な光記録ディスクである。本発明の光
記録ディスクの一実施例を図1に示す。
2表面に、色素を主成分とする記録層3を有し、記録層
3に密着して、反射層4および有機保護コート5を有す
る密着型光記録ディスクである。
0〜900nm程度、特に波長770〜800nm程度の半
導体レーザー光、特に780nm)に対し、実質的に透明
(好ましくは透過率88%以上)な樹脂あるいはガラス
から形成される。これにより、基板裏面側からの記録お
よび再生が可能となる。
って、記録可能なCDとして用いる場合、厚さは1.2
mm程度、直径は80〜120mm程度とする。
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、TPX等の各種熱可塑性樹脂が
好適である。基板2は射出成形等の公知の方法に従い製
造すればよい。また、その際、トラッキング用やアドレ
ス用等のために、グルーブ21等の所定のパターンを基
板表面に形成することが好ましい。なお、基板2製造後
に、2P法等によりグルーブ等の所定のパターンを有す
る樹脂層を形成してもよい。
ることが好ましく、深さは500〜3000A 、幅は
0.2〜1.1μm 、特に0.3〜0.6μm 、ランド
(隣り合うグルーブ同士の間の部分)幅は0.5〜1.
4μm 、特に1.0〜1.3μm であることが好まし
い。グルーブをこのような構成とすることにより、グル
ーブ部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキ
ング信号を得ることができる。なお、グルーブには、ア
ドレス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録
光は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成される
ことが好ましい。
もよく、あるいは2種以上の色素が相溶した構成であっ
てもよい。
記録光および再生光波長における消衰係数(複素屈折率
の虚部)kは、0.03〜0.25であることが好まし
い。kが0.03未満となると記録層の吸収率が低下
し、通常の記録パワーで記録を行うことが困難となる。
また、kが0.25を超えると、反射率が60%を下回
ってしまい、CD規格による再生を行うことが困難とな
る。なお、kが0.03〜0.20、特に0.03〜
0.15であると、きわめて好ましい結果が得られる。
部)nは、1.8〜4.0、より好ましくは、2.0〜
3.0であることが好ましい。n<1.8では反射率が
低下し、また信号変調度が小さくなり、CDプレーヤに
よる再生が困難となる傾向にある。また、n>4.0と
するためには、原料色素の入手が難しい。
は、吸収極大が600〜900nm、好ましくは600〜
800nm、より好ましくは650〜750nmであれば、
他に特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、金属
錯体色素系等から1種ないし2種以上を目的に応じて適
宜選択すればよい。シアニン系色素としては、芳香族縮
合環を有してもよいインドレニン環、特にベンゾインド
レニン環を有するシアニン色素が好ましい。
もよく、特に、シアニン系色素を用いる場合には、記録
層中にクエンチャーが含有されることが好ましい。クエ
ンチャーは耐光性向上効果を有する。クエンチャーを含
ませる場合、光吸収色素にクエンチャーを混合してもよ
く、色素カチオンとクエンチャーアニオンとのイオン結
合体を光吸収色素として用いてもよい。クエンチャー
は、光吸収色素の総計の1モルに対し1モル以下、特に
0.05〜0.5モル程度添加することが好ましい。
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。
てはインドレニン環を有するシアニン色素が、またクエ
ンチャーとしてはビスフェニルジチオール金属錯体等の
金属錯体色素が好ましい。
される。この金属錯体は、光吸収性色素であってもクエ
ンチャーであってもよい。
例えば、ベンゼンジチオール系Ni錯体を含む色素膜
(特開昭57−11090号公報)、アリールAl塩、
各種金属錯体を含有する記録層(特開昭57−1953
36号公報)、ビス(ジイミノサクシノニトリロ)金属
錯体(金属としてNi、Pd、Pt、Co)を含むシー
ト状記録膜(特開昭58−2833号公報)、Co、N
i、Pd、Pt金属錯体とニトロセルロースを含む記録
膜(特開昭58−16888号公報)、銅錯体を含むフ
ィルム状記録層(特開昭58−199194号公報)、
マンガンフタロシアニンを含む記録層(特開昭59−6
7093号公報)、遷移金属錯体およびシアニン色素を
含む記録層(特開昭60−44390号公報)、ナフト
キノン色素またはこれらの金属錯体を主成分とする記録
層(特開昭60−161192〜161195号公
報)、有機色素膜を記録層とする光情報記録媒体の記録
層、下引層、保護層のうち1層以上にNi、Pt、Pd
の金属錯体を含有させたもの(特開昭60−24603
8号公報)、色素およびNi、Cu、Co、Pd、Pt
の金属錯体を含む記録層(特開昭63−231987号
公報)、多価金属塩がFe(II)塩である記録シート
(特開昭63−144084号公報)などが挙げられ
る。
ンチャー、結合体の詳細については、例えば、特開昭5
9−24692号、同59−55794号、同59−5
5795号、同59−81194号、同59−8369
5号、同60−18387号、同60−19586号、
同60−19587号、同60−35054号、同60
−36190号、同60−36191号、同60−44
554号、同60−44555号、同60−44389
号、同60−44390号、同60−47069号、同
60−20991号、同60−71294号、同60−
54892号、同60−71295号、同60−712
96号、同60−73891号、同60−73892
号、同60−73893号、同60−83892号、同
60−85449号、同60−92893号、同60−
159087号、同60−162691号、同60−2
03488号、同60−201988号、同60−23
4886号、同60−234892号、同61−168
94号、同61−11292号、同61−11294
号、同61−16891号、同61−8384号、同6
1−14988号、同61−163243号、同61−
210539号、特願昭60−54013号、特開昭6
2−30088号、同62−32132号、同62−3
1792号、CMC出版刊「機能性色素の化学」P74
〜76等に記載されている。
吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−クエ
ンチャー結合体から上記範囲のnおよびkを有するもの
を選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成して
もよい。
kは、その骨格や置換基により0〜2程度まで種々変化
しているため、例えばkが0.03〜0.25の色素を
選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。
このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっ
ては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できな
いこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設
計および合成に大きな労力を必要とする。
上の色素を含有する混合色素層のkは、用いる各色素単
独から構成される色素層のkに応じ、その混合比にほぼ
対応する値になることが判明した。従って、本発明で
は、記録層3は2種以上の色素を相溶して形成されても
よい。
にほぼ比例したkが得られるものである。すなわち、i
種の色素の混合分率およびkをそれぞれCiおよびki
としたとき、kは、ほぼΣCikiとなる。従って、k
の異なる色素同士を、混合比を制御して混合することに
より、k=0.03〜0.25の色素層を得ることがで
きる。このため、きわめて広い範囲の色素群の中から用
いる色素を選択することができる。
きる。半導体レーザーの波長は通常±10nmの範囲にあ
り、市販のCDプレーヤにおいては、770nmから79
0nmの範囲で70%以上の反射率を確保する必要があ
る。一般に色素のk値は大きな波長依存性をもつものが
多く、780nmでは適切な値であっても、770nmある
いは790nmでは大きくはずれてしまう場合が多い。こ
のような場合には、第二の色素を混合することによっ
て、780±10nmの範囲で常に適切なnおよびk値が
得られるように設定することができる。
緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特
性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能
とすることができる。
色素は、n=1.6〜6.5、k=0〜2の範囲内のも
のから選択すればよい。
の透明基板上に記録層を例えば400〜1000A 程度
の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サンプルを作
製する。次いで、この測定用サンプルの基板を通しての
反射率あるいは記録層側からの反射率を測定する。反射
率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射(5°程度)に
て測定する。また、サンプルの透過率を測定する。これ
らの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三P
168〜178に準じ、n、kを算出すればよい。
塗布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗布
するスピンコート法により形成されることが好ましい。
記録形成のための塗布液に用いる有機溶剤としては、ア
ルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香
族系、ハロゲン化アルキル系等から、用いる色素に応じ
て適宜選択すればよいが、一分子中に2つ以上の官能基
を有する有機溶剤が好適である。スピンコート後、必要
に応じて塗膜を乾燥させる。
は、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるもの
であるが、通常、1000〜3000A 程度である。
いはフィルム状の記録層としてもよい。この場合、シー
ト状やフィルム状に成形した色素膜を基板上に貼りつけ
てもよく、シート状やフィルム状の色素膜自体を基板と
して用いてもよい。
設層される。反射層4は、少なくとも2種の金属を含む
合金から構成される。記録層に含まれる金属元素のうち
イオン化傾向の最も小さな金属元素をMC とし、イオン
化傾向がMC 以上である金属元素をMR としたとき、反
射層中におけるMR の合計含有量は0〜10重量%とさ
れる。MR の合計含有量が前記範囲を超えると、MC と
MR との反応により記録層の特性が著しく劣化してしま
う。
中にMR が含まれる場合、MR の合計含有量の下限は合
金組成の選択理由によっても異なるが、通常、1重量%
程度以上である。
れていてもよい。この場合、全ての中心金属中における
MC の比率は特に限定されない。ただし、記録層中の色
素の劣化を防ぐためには、記録層に含まれるMC 以外の
中心金属のイオン化傾向よりも、反射層のMR 以外の金
属元素のイオン化傾向が小さくなるように、反射層の組
成を選択することが好ましい。
ら構成されていてもよい。反射層にMR が含まれる場
合、MR 以外の金属元素として2種以上が含まれる構成
や、MR として2種以上の金属元素が反射層中に含まれ
る構成であってもよい。
組み合わせは、目的に応じて適宜選択すればよい。例え
ば、金属錯体の中心金属としては、Cu、Ni、Co、
Pd、Pt、Mn、Li、Na、Fe、Al、Zn、T
i、V、Cr、Zr等の1種以上から、また、反射層を
構成する金属元素としては、Zn、Sn、Ag、Cu、
Ti、V、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、
Rh、Ni、Pd、Pt、Au、Al等の1種以上から
適宜選択して、反射層中のMR の含有量が上記関係とな
るように組み合わせればよい。具体的には、作用および
効果の項において述べた組み合わせ、すなわち、Cu錯
体を含む記録層とAg−Cu合金の反射層との組み合わ
せ(MC およびMR のいずれもがCu)や、Ni錯体を
含む記録層とCu−Al合金の反射層との組み合わせ
(MC がNi、MR がAl)などが好ましいが、これら
の他、各種組み合わせが可能である。
等の各種気相成膜法を用いればよい。
とが好ましい。反射層の厚さが前記範囲未満となると、
反射層の強度が不十分となる傾向にある。反射層の厚さ
に特に上限は設けないが、2000A を超える厚さとす
る必要はない。
層単独では90%以上の反射率が得られ、また、光記録
ディスクとしたときの基板を通しての反射率(未記録
部)は、60%以上、特に70%以上が得られる。
コート5が設けられることが好ましい。
けるためにスピンコート法により形成されることが好ま
しいが、スクリーン印刷法、ディッピング法またはスプ
レーコート法等を用いてもよい。有機保護コート5の形
成条件は特に限定されず、塗布液の粘度や目的とする厚
さなどに応じて適宜決定すればよい。
とすることが好ましい。厚さが前記範囲未満となると、
設けたことによる効果が不十分となる傾向にある。厚さ
が前記範囲を超えると、硬化の際の収縮によりクラック
が生じたり、ディスクに反りが発生しやすくなってく
る。
以上の多層構成としてもよい。
構成することが好ましい。具体的には、放射線硬化型化
合物やその重合用組成物を放射線硬化させた物質から構
成されることが好ましい。このようなものとしては、イ
オン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽
和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸、あるい
はそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結
合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の放
射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中に含有
または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマー等
を挙げることができる。これらは多官能、特に3官能以
上であることが好ましく、1種のみ用いても2種以上併
用してもよい。
000未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量20
00〜10000のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート(メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート(メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート(メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート(メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにCOOH等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート(メタクリレート) 、特願昭62−072888号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
(メタクリル基)またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭62−072888号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび/またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにCOOH等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(P
VPオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常0.5〜5重量%程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。
化型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂お
よび光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用
される。
脂が好ましく、特に、分子内に2個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4
−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−
3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテ
ル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の1種以上が好
ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限
はないが、良好な硬化性が得られることから、60〜3
00、特に100〜200であることが好ましい。
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、1種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス(ペルフルオロアルキルスルホニル)メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、6A族元素の芳香族
オニウム塩、5A族元素の芳香族オニウム塩、3A族〜
5A族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、MF6 アニオン(ただしMは、P、AsまたはS
b)を有する6A族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、3A族元素、5A族元素および
6A族元素の芳香族オニウム塩の1種以上を用いること
が好ましい。
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、
Ni、Cu、Zn、Al 、Zr等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、o−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。
は、エポキシ樹脂100重量部に対し、0.05〜0.
7重量部、特に0.1〜0.5重量部であることが好ま
しい。
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。
たような重合用組成物の塗膜に紫外線を照射して硬化す
るが、場合によっては、加熱後に紫外線を照射してもよ
く、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。塗膜
に照射する紫外線強度は、通常、50mW/cm2程度以上、
照射量は、通常、500〜2000mJ/cm2程度とすれば
よい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のも
のを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化合物
はラジカル重合する。
各種顔料粒子が含まれていてもよい。
も1層の印刷層から構成されるレーベル印刷層が設けら
れてもよい。レーベル印刷層は、各種顔料を含有する放
射線硬化樹脂組成物を印刷し、これを硬化して形成する
ことが好ましいが、この他、熱硬化性インキを用いても
よい。
ないし追記を行なうには、例えば780nmの記録光を、
基板2を通してパルス状に照射し、照射部の光反射率を
変化させる。なお、記録光を照射すると、記録層3が光
を吸収して発熱し、同時に基板2も加熱される。この結
果、基板2と記録層3との界面近傍において、色素等の
記録層材質の融解や分解が生じ、記録層3と基板2との
界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を変形させ
ることがある。
をさらに詳細に説明する。
プルを作製した。まず、渦巻状の連続グルーブを有する
直径120mm、厚さ1.2mmのポリカーボネート樹脂基
板2上に、スピンコート法により色素を含有する記録層
3を形成した。この記録層3上に、反射層4を形成し、
さらに、有機保護コート5を形成した。
び有機溶剤を含有するものであり、色素としては、下記
化1の色素A1およびA2ならびに一重項酸素クエンチ
ャーを用いた。色素中のA1含有率は60重量%、A2
含有率は30重量%、一重項酸素クエンチャー含有率は
10重量%とした。
2のQ1(Cu錯体)またはQ2(Ni錯体)を用い
た。
を用いた。そして、塗布液中の色素含有率は5重量%と
した。また、記録層の厚さは200nmとした。
合金とし、スパッタ法により厚さ85nmに形成した。反
射層の組成を下記表1に示す。
日本インキ製SD−17)をスピンコートにより塗工
し、紫外線硬化を行なって形成した。硬化後の有機保護
コートの厚さは5μm であった。
トディスクプレーヤで再生を行ない、BLER(ブロッ
クエラーレート)を測定した。また、80℃、80%R
Hの環境で100時間保存後にも同様な測定を行なっ
た。これらの結果を表1に示す。BLERは10分間測
定し、1秒あたりの平均値を示した。なお、BLERの
CD規格は、220(カウント/秒)以下である。
明らかである。
図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 基板上に、色素を主成分とする記録層を
有し、前記記録層上に反射層を有する光記録ディスクで
あって、 前記記録層が金属錯体を含有し、前記反射層が少なくと
も2種の金属元素を含む合金であり、記録層に含まれる
金属錯体の中心金属のうちイオン化傾向の最も小さな金
属元素をMC とし、イオン化傾向がMC 以上である金属
元素をMR としたとき、前記反射層中におけるMR の合
計含有量が0〜10重量%であることを特徴とする光記
録ディスク。 - 【請求項2】 前記記録層に含有される金属錯体が、色
素および/またはクエンチャーである請求項1の光記録
ディスク。 - 【請求項3】 前記反射層中にMR が含有されている請
求項1または2の光記録ディスク。 - 【請求項4】 MC がCuであり、反射層中に含まれる
MR がCuを主体とする請求項3の光記録ディスク。 - 【請求項5】 MC がNiであり、反射層中に含まれる
MR がAlを主体とする請求項3の光記録ディスク。
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