JP2648124B2 - 薬液塗布装置 - Google Patents
薬液塗布装置Info
- Publication number
- JP2648124B2 JP2648124B2 JP7571795A JP7571795A JP2648124B2 JP 2648124 B2 JP2648124 B2 JP 2648124B2 JP 7571795 A JP7571795 A JP 7571795A JP 7571795 A JP7571795 A JP 7571795A JP 2648124 B2 JP2648124 B2 JP 2648124B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- chemical
- wafer
- chemical liquid
- coating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板であるウェ
ハに薬液を滴下しウェハ面に薬液を塗布する薬液塗布装
置に関する。
ハに薬液を滴下しウェハ面に薬液を塗布する薬液塗布装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体装置の製造におけるリソグ
ラフィ工程では、ウェハのレジスト膜に転写されたパタ
ーンを現像するために薬液である現像液をウェハのレジ
スト面に滴下しパターンの現像を行なっていた。この現
像に使用される薬液塗布装置は、現像むらやパターンの
形の歪みなど起きないように種々の工夫および改善がな
されてきた。
ラフィ工程では、ウェハのレジスト膜に転写されたパタ
ーンを現像するために薬液である現像液をウェハのレジ
スト面に滴下しパターンの現像を行なっていた。この現
像に使用される薬液塗布装置は、現像むらやパターンの
形の歪みなど起きないように種々の工夫および改善がな
されてきた。
【０００３】図２（ａ）および（ｂ）は従来の薬液塗布
装置の例を示す斜視図である。この種の薬液塗布装置
は、例えば、図２（ａ）に示すように、パイプ状のノズ
ル１４ａより薬液を滴下しチャック１５の回転により滴
下された薬液を遠心力で飛散させウェハ１６の表面に薬
液を一様の厚さで塗布していた。
装置の例を示す斜視図である。この種の薬液塗布装置
は、例えば、図２（ａ）に示すように、パイプ状のノズ
ル１４ａより薬液を滴下しチャック１５の回転により滴
下された薬液を遠心力で飛散させウェハ１６の表面に薬
液を一様の厚さで塗布していた。
【０００４】また、他の薬液塗布装置では、図２（ｂ）
に示すように、スプレー状のノズル１４ｂでウェハ１６
のある範囲に多量の薬液を滴下し、チャック１５を回転
させウェハ１６に迅速に薬液を一様の厚さで塗布するこ
とを特徴としていた。
に示すように、スプレー状のノズル１４ｂでウェハ１６
のある範囲に多量の薬液を滴下し、チャック１５を回転
させウェハ１６に迅速に薬液を一様の厚さで塗布するこ
とを特徴としていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の薬液塗
布装置では、薬液の滴下する範囲の大小があるものの、
滴下された薬液が一様にウェハ面に拡げられるようにウ
ェハを回転させその遠心力で薬液を飛散させているの
で、一部の薬液はウェハ外に流れ落ち無駄になる欠点が
ある。このことにより高価な薬液を廃棄することになり
運用コストが高くなるという欠点がある。
布装置では、薬液の滴下する範囲の大小があるものの、
滴下された薬液が一様にウェハ面に拡げられるようにウ
ェハを回転させその遠心力で薬液を飛散させているの
で、一部の薬液はウェハ外に流れ落ち無駄になる欠点が
ある。このことにより高価な薬液を廃棄することになり
運用コストが高くなるという欠点がある。
【０００６】また、上述した装置以外で、静止したウェ
ハの全面にスプレー状のノズルで吹きつける方法も考え
られるが、全面に吹きつけるにしてもウェハの大きさに
合せて広範囲で薬液を吹きつけなければならず、薬液が
ウェハ外に吹きつけられることは否めない。また、この
方法であると、ウェハ全面に薬液を一様に塗布すること
が困難で、その結果、現像むらとなる新たに問題を引起
すことになる。
ハの全面にスプレー状のノズルで吹きつける方法も考え
られるが、全面に吹きつけるにしてもウェハの大きさに
合せて広範囲で薬液を吹きつけなければならず、薬液が
ウェハ外に吹きつけられることは否めない。また、この
方法であると、ウェハ全面に薬液を一様に塗布すること
が困難で、その結果、現像むらとなる新たに問題を引起
すことになる。
【０００７】従って、本発明の目的は、薬液をウェハ外
に飛散させることなく一様に塗布できる薬液塗布装置を
提供することである。
に飛散させることなく一様に塗布できる薬液塗布装置を
提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、薬液を
噴出する複数の穴が先端部の中心から外側に向って複数
の円周上に等間隔に並べ形成されるとともに該中心にし
て回転する筒状のノズルと、前記薬液が塗布される円板
状の半導体ウェハと前記ノズルとの間隔を調整する間隔
調整機構とを備える薬液塗布装置である。また、前記ノ
ズルの先端部の内外壁が球状面をもつことが望ましい。
噴出する複数の穴が先端部の中心から外側に向って複数
の円周上に等間隔に並べ形成されるとともに該中心にし
て回転する筒状のノズルと、前記薬液が塗布される円板
状の半導体ウェハと前記ノズルとの間隔を調整する間隔
調整機構とを備える薬液塗布装置である。また、前記ノ
ズルの先端部の内外壁が球状面をもつことが望ましい。
【０００９】
【実施例】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の薬液塗布
装置の一実施例を示す部分断面図およびノズルの先端部
の拡大図である。この薬液塗布装置は、図１に示すよう
に、薬液を噴出する複数の穴１ｂが先端部１ａの中心か
ら外側に向って複数の円周上に等間隔Ｓに並べ形成され
るとともに中心にして回転する筒状のノズル１と、薬液
が塗布される円板状のウェハ１６とノズル１との間隔を
調整する間隔調整機構２とを備えている。
装置の一実施例を示す部分断面図およびノズルの先端部
の拡大図である。この薬液塗布装置は、図１に示すよう
に、薬液を噴出する複数の穴１ｂが先端部１ａの中心か
ら外側に向って複数の円周上に等間隔Ｓに並べ形成され
るとともに中心にして回転する筒状のノズル１と、薬液
が塗布される円板状のウェハ１６とノズル１との間隔を
調整する間隔調整機構２とを備えている。
【００１０】薬液供給管７とノズル１とを接続するロー
タリジョイント３は薬液供給管７のフランジとパッキン
グ６と水密に接触しボールベアリングでノズル１を回転
し得る構造になっている。また、ノズル１の後端のプリ
ーはタイミングベルト４を介してモータ５で回転され
る。
タリジョイント３は薬液供給管７のフランジとパッキン
グ６と水密に接触しボールベアリングでノズル１を回転
し得る構造になっている。また、ノズル１の後端のプリ
ーはタイミングベルト４を介してモータ５で回転され
る。
【００１１】ノズル１とウェハ１６の間隔を調節する間
隔調整機構２はブラケット８を支持するポスト９の下部
の送りねじ１０に噛み合うナットを歯車を介して回転す
ることによりノズル１が上下動し間隔を調整できる構造
になっている。ナットの歯車と噛み合う歯車の軸は、図
示されていないハンドルあるいは回転用のモータと連結
している。
隔調整機構２はブラケット８を支持するポスト９の下部
の送りねじ１０に噛み合うナットを歯車を介して回転す
ることによりノズル１が上下動し間隔を調整できる構造
になっている。ナットの歯車と噛み合う歯車の軸は、図
示されていないハンドルあるいは回転用のモータと連結
している。
【００１２】ノズル１の先端部１ａの外壁および内壁面
は、図１（ｂ）に示すように、一定の圧力で圧送され穴
１ｂから噴出する薬液が穴１ｂの表面に垂直に出るよう
に球状面をもつことが望ましい。そして、ノズル１の先
端部１ａにおける最外周の穴１ｂから噴出される薬滴が
飛散距離Ｌとなりウェハ１６の最外周部に滴下するよう
に、間隔調整機構２でノズル１とウェハ１６の間隔Ｈを
設定することである。勿論、ノズル１の回転こよる遠心
力で飛散距離が変りウェハ１６外に薬滴が飛び散ること
がないように間隔Ｈを設定する。また、逆に、遠心力に
よる薬滴の飛散角度が変らないようにノズル１の回転数
を低く抑えることである。
は、図１（ｂ）に示すように、一定の圧力で圧送され穴
１ｂから噴出する薬液が穴１ｂの表面に垂直に出るよう
に球状面をもつことが望ましい。そして、ノズル１の先
端部１ａにおける最外周の穴１ｂから噴出される薬滴が
飛散距離Ｌとなりウェハ１６の最外周部に滴下するよう
に、間隔調整機構２でノズル１とウェハ１６の間隔Ｈを
設定することである。勿論、ノズル１の回転こよる遠心
力で飛散距離が変りウェハ１６外に薬滴が飛び散ること
がないように間隔Ｈを設定する。また、逆に、遠心力に
よる薬滴の飛散角度が変らないようにノズル１の回転数
を低く抑えることである。
【００１３】このように、ウェハ１６の全面に薬滴を吹
き付ける穴１ｂをもつノズル１と、ウェハ１６とノズル
１の先端部１ａの間隔を調整する間隔調整機構２を設け
ることによって、薬液が噴出する穴１ｂが等間隔Ｓで配
置されていることとノズル１が回転することでウェハ１
６の全面にむらなく薬液を滴下させることができ一様に
塗布できる。また、ウェハ１６から外側に飛散する薬液
がなくなり、供給する薬液を１０パーセント以上節約す
ることができた。
き付ける穴１ｂをもつノズル１と、ウェハ１６とノズル
１の先端部１ａの間隔を調整する間隔調整機構２を設け
ることによって、薬液が噴出する穴１ｂが等間隔Ｓで配
置されていることとノズル１が回転することでウェハ１
６の全面にむらなく薬液を滴下させることができ一様に
塗布できる。また、ウェハ１６から外側に飛散する薬液
がなくなり、供給する薬液を１０パーセント以上節約す
ることができた。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェハ全
面に薬滴を同時に吹き付ける複数の穴をもつとともに回
転し得るノズルと、飛散範囲をウェハ面内に設定するウ
ェハとノズルの先端部１ａの間隔を調整する間隔調整機
構２とを設けることによって、薬液をウェハ外に飛散さ
せることなく有効に消費でき、かつウェハ全面に一様に
薬液を塗布できるという効果がある。
面に薬滴を同時に吹き付ける複数の穴をもつとともに回
転し得るノズルと、飛散範囲をウェハ面内に設定するウ
ェハとノズルの先端部１ａの間隔を調整する間隔調整機
構２とを設けることによって、薬液をウェハ外に飛散さ
せることなく有効に消費でき、かつウェハ全面に一様に
薬液を塗布できるという効果がある。
【図１】本発明の薬液塗布装置の一実施例を示す部分断
面図およびノズルの先端部の拡大図である。
面図およびノズルの先端部の拡大図である。
【図２】従来の薬液塗布装置の例を示す斜視図である。
１，１４ａ，１４ｂ ノズル １ａ 先端部 １ｂ 穴 ２ 間隔調整機構 ３ ロータリージョイント ４ タイミングベルト ５ モータ ６ パッキング ７ 薬液供給管 ８ ブラケット ９ ポスト １０ 送りねじ １５ チャック １６ ウェハ
Claims (2)
- 【請求項１】 薬液を噴出する複数の穴が先端部の中心
から外側に向って複数の円周上に等間隔に並べ形成され
るとともに該中心にして回転する筒状のノズルと、前記
薬液が塗布される円板状の半導体ウェハと前記ノズルと
の間隔を調整する間隔調整機構とを備えることを特徴と
する薬液塗布装置。 - 【請求項２】 前記ノズルの先端部の内外壁が球状面を
もつことを特徴とする請求項１記載の薬液塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571795A JP2648124B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 薬液塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571795A JP2648124B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 薬液塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08274011A JPH08274011A (ja) | 1996-10-18 |
| JP2648124B2 true JP2648124B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=13584293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7571795A Expired - Lifetime JP2648124B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 薬液塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2648124B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105607434A (zh) * | 2016-04-05 | 2016-05-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影设备和显影方法 |
| JP7356896B2 (ja) * | 2019-12-24 | 2023-10-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP7571795A patent/JP2648124B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08274011A (ja) | 1996-10-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970401 |