JP2599800Y2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、半導体基板や液晶用ガ
ラス基板等の薄板状の被処理基板（以下単に基板と称す
る）を表面洗浄するのに用いられる浸漬型の基板洗浄装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、基板製造用クリーンルームは、
図７に示すように、中央通路の左右に拡散工程、ＣＶＤ
工程、メタライズ工程、リソグラフィー工程、洗浄工
程、検査工程などの各工程の保全用作業域３１(図７の
斜線部分)がレイアウトされ、中央通路から各保全用作
業域３１に向けて基板収容カセットＣの搬送路３３が分
岐状にレイアウトされてクリーンルーム作業域３０(図
７の白地部分)が形成される。上記基板の洗浄工程を実
施する従来の洗浄装置５０は、図８に示すように、分岐
搬送路３３の前後に分けてアルカリ洗浄、水洗、フッ化
水素洗浄、酸洗浄、水洗、最終リンスなどの各種の洗浄
処理をするための洗浄槽１を多数個直列状に並べ、この
洗浄槽群に基板を順次移動させて、各種洗浄液により複
数種の洗浄処理を実施するように構成される。

【０００３】

【従来技術の問題点】上記従来技術では、各種の洗浄液
処理数だけの基板洗浄槽１を配置する必要があるため、
洗浄工程が占有する作業域が広域化して、クリーンルー
ムの全体を有効に使用することができない。

【０００４】

【先提案技術】そこで、本出願人は、実願平３―９３６
３５号に係わる基板洗浄装置を先に提案した(図５及び
図６参照)。即ち、当該先提案技術は、基板洗浄槽１を
複数種の洗浄処理毎に洗浄液を置換可能に構成すること
により、上記従来技術のような多数種の洗浄槽１の数を
減らして(全処理を１つの洗浄槽で処理することも可能
である)、クリーンルームのスペースを有効利用すると
ともに、基板洗浄槽１の洗浄液を上方からオーバーフロ
ーさせて、洗浄液を全部排出せずとも複数種の洗浄処理
毎に洗浄液を置換可能に構成し、一連の洗浄処理が完了
するまで基板Ｗが空気に触れないようにして、基板表面
に酸化皮膜が形成されたり、空気中の不純物が付着した
りするのを防止するようにしたものである。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】上記先提案技術の洗浄
処理態様を図５により説明すると、例えば、左右に別れ
た４つの基板洗浄装置５０の各洗浄槽群で前記従来技術
の全洗浄処理をまとめて行い、４グループで並列処理す
るようにしても良いし、左・右の２つの基板洗浄装置５
０を１対として、この対の基板洗浄装置５０に対応する
前・後の２つの洗浄槽で全ての洗浄処理を行い、左・右の
２グループで並列処理するようにしても差し支えない。
いずれにせよ、前記従来技術の多数個の洗浄槽１を省略
して、洗浄工程の作業域をコンパクト化できるので、ク
リーンルームのスペースを有効利用できる。

【０００６】しかしながら、当該先提案技術の１つの基
板洗浄装置５０に着目すると、図６に示すように、基板
移載部６０、基板洗浄槽１及び基板乾燥部７０などの一
側に、各種洗浄用の薬液貯留容器６・６…と、これらを
基板洗浄槽１に結ぶ給排用配管室２０とから成る洗浄処
理部６５が大きな場所を占め、いわば、基板洗浄装置５
０の広い領域に亘りレイアウトされる。このため、実際
には、各基板洗浄装置５０の間、及び当該基板洗浄装置
５０と基板収容カセットＣの停留台３２との間にこの洗
浄処理部６５を保守点検するためのメンテナンス・スペ
ース９０が必要になり(図５参照)、クリーンルームのス
ペースの有効利用効率は必ずしも高いとは言えない。本
考案は、上記従来技術や先提案技術を問わず、クリーン
ルームのスペースの利用効率をより一層向上することを
技術的課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本考案は上記課題を解決
するものとして以下のように構成される。即ち、請求項
１の考案は、複数の基板を収容したカセットが載置され
る搬入搬出部、カセットから複数の基板を取り出し又は
カセット内へ複数の基板を装填する基板移載部、複数の
基板を一括して乾燥する基板乾燥部、複数の基板を一括
して洗浄する洗浄処理部を順に配置し、上記搬入搬出部
と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載
ロボットを設け、上記基板移載部、基板乾燥部、洗浄処
理部の並び方向に沿って基板搬送ロボットの移動部を形
成し、上記基板移載部でカセットから取り出した複数の
基板を一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬
送する基板搬送ロボットを設け、上記洗浄処理部に基板
洗浄槽と、洗浄液の給排用配管室と、洗浄用薬液貯留容
器と、を上下３段に配置し、上記搬入搬出部の長手方向
と、基板移載部、基板乾燥部、及び洗浄処理部の並び方
向とを交差させ、搬入搬出部と基板移載部、基板乾燥部
及び洗浄処理部とを四角形の設置面の互いに接する二辺
に沿ってＬ字状に配置し、その余の部分にメンテナンス
・スペースを形成したことを特徴とする基板洗浄装置で
ある。また、請求項２の考案は、請求項１に記載した基
板洗浄装置において、前記メンテナンス・スペースを洗
浄処理部に面した部分に形成した、ことを特徴とするも
のである。

【０００８】

【作用】請求項１の考案では、搬入搬出部と基板移載部
とカセット移載ロボットと洗浄処理部と基板乾燥部と基
板搬送ロボットとから成る基板洗浄装置において、上記
洗浄処理部に基板洗浄槽と、洗浄液の給排用配管室と、
洗浄用薬液貯留容器と、を上下３段に配置し、上記搬入
搬出部の長手方向と、基板移載部、基板乾燥部、及び洗
浄処理部の並び方向とを交差させ、搬入搬出部と基板移
載部、基板乾燥部及び洗浄処理部とを四角形の設置面の
互いに接する二辺に沿ってＬ字状に配置することによ
り、その余の部分にメンテナンス・スペースを確保でき
る。

【０００９】このため、各種洗浄液の洗浄槽が直列状に
多数並列した従来の基板洗浄装置に請求項１の考案を適
用した場合には、この直列状の洗浄槽の一側に臨ませて
メンテナンス・スペースを帯状にまとめることができ、
洗浄工程の作業域を従来のレイアウトのものよりコンパ
クトにできる。また、１つの洗浄槽で複数種の洗浄処理
を共通化する前記先提案技術の置換方式の基板洗浄装置
に請求項１の考案を適用した場合でも、複数の基板洗浄
装置間やカセットの貯留台との間にメンテナンス・スペ
ースを設ける必要がなく、基板洗浄装置内にメンテナン
ス・スペースを組み入れられるので、洗浄作業域をコン
パクト化できる。請求項２の考案では、請求項１に記載
した基板洗浄装置において、前記メンテナンス・スペー
スを洗浄処理部に面した部分に形成したことから、洗浄
処理部において上下３段に配置された基板洗浄槽、給排
用配管室、及び洗浄用薬液貯留容器はいずれもメンテナ
ンス・スペースに対面することとなる。これにより、こ
れらの基板洗浄槽、給排用配管室、及び洗浄用薬液貯留
容器の保守点検が行い易くなる。

【００１０】

【実施例】以下、本考案の実施例を図面に基づいて述べ
る。図１は浸漬型基板洗浄装置の概略斜視図、図２は同
洗浄装置の概略縦断面図、図３は同洗浄装置の基板洗浄
処理部の概略系統図、図４は同基板洗浄装置を複数配置
したレイアウト図である。この基板洗浄装置５０は、複
数種の基板洗浄槽を併設するのをやめて、単一の基板洗
浄槽１・１…内で複数種の一連の表面処理を成し、装置
全体のコンパクト化を意図したものである。即ち、図１
及び図２に示すように、上記基板洗浄装置５０は、基板
収容カセットＣの搬入搬出部５１と、カセットＣから基
板Ｗを取り出し又はカセットＣ内へ基板Ｗを装填する基
板移載部６０と、カセットＣの搬入搬出部５１と基板移
載部６０との間でカセットＣを移載するカセット移載ロ
ボット５５と、複数の基板を一括して洗浄する浸漬型基
板洗浄処理部６５と、基板Ｗの液切り基板乾燥部７０
と、基板移載部６０でカセットＣから取り出した複数の
基板Ｗを一括保持して上記洗浄処理部６５及び基板乾燥
部７０に搬送する基板搬送ロボット７５から構成され
る。

【００１１】上記カセット移載ロボット５５は、図１に
示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向に移動可
能に構成され、搬入搬出部５１に搬入されてきたカセッ
トＣを基板移載部６０のテーブル６１上に移載し、ま
た、洗浄済み基板を収容したカセットＣを当該テーブル
６１から搬入搬出部５１へ移載するように構成される。
上記基板搬送ロボット７５は、図１に示すように、矢印
Ｂ方向に移動可能に設けられ、上記基板移載部６０のリ
フターから受け取った複数の基板Ｗを基板搬送ロボット
７５の基板挟持アーム７６で保持し、移動部７７に沿っ
て洗浄処理部６５内及び基板乾燥部７０内へ順次搬送す
るように構成されている。

【００１２】上記浸漬型の基板洗浄処理部６５は、図１
〜図３に示すように、オーバーフロー型の洗浄処理部６
５ａと、オーバーフローさせないで酸洗浄を行う酸洗浄
処理部６５ｂの２つの別系統の処理部から成る。各洗浄
処理部６５ａ・６５ｂの基板洗浄槽１には昇降自在に設
けられた基板保持具６６を備え、基板搬送ロボット７５
から受け取った複数の基板Ｗを基板保持具６６で保持し
て基板洗浄槽１内に浸漬するように構成される。

【００１３】上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａ
は、図３(Ａ)に示すように、洗浄液中に複数の基板Ｗを
一括して浸漬して基板Ｗの表面洗浄を成す２つの基板洗
浄槽１ａ・１ａと、各基板洗浄槽１ａの下部より複数種
の洗浄液を供給する洗浄液供給部４と、各基板洗浄槽１
ａよりオーバーフローした洗浄液を排出する洗浄液排出
部４０とを具備して成る。このオーバーフロー型の基板
洗浄槽１ａは、図３(Ａ)に示すように、石英ガラス製で
側面視略Ｖ字状・平面視略矩形状に形成され、その下部
に純水供給管３を連結して成り、基板洗浄槽１ａ内に洗
浄液の均一な上昇流を形成して基板Ｗを表面処理すると
ともに、洗浄液を複数種の洗浄処理毎に、迅速に置換し
得るオーバーフロー槽として構成される。

【００１４】上記基板洗浄槽１ａは石英ガラス製に限ら
ず、例えば、洗浄液として石英ガラスを腐食させてしま
うフッ酸等を用いる場合には、これに耐食性を有する四
フッ化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したものでも
良い。また、上記基板処理槽１ａには洗浄液排出部４０
を構成するオーバーフロー液回収部４１が付設され、オ
ーバーフローした洗浄液は排液管４２を介して排液ドレ
ン４３へ流下するように構成される。

【００１５】上記酸洗浄処理部６５ｂは、図３(Ｂ)に示
すように、複数の基板Ｗを一括して酸洗浄する１つの酸
洗浄槽１ｂと、酸洗浄槽１ｂの下部より酸洗浄液を供給
する酸洗浄液供給部４ｂと、酸洗浄槽１ｂより酸洗浄液
を回収する酸洗浄液回収部４０ｂとを具備して成る。但
し、オーバーフロー型の処理部６５ａの基板洗浄槽１ａ
は複数の洗浄槽(図１では２つの洗浄槽)を直列状に組み
合わせたものに限らず、１つの洗浄槽から構成されたも
のでも良い。酸洗浄処理部６５ｂの酸洗浄槽１ｂも単槽
に限らず、複数槽であっても差し支えない。さらには、
洗浄処理部６５を、オーバーフロー型の処理部６５ａ又
は酸洗浄処理部６５ｂのいずれか一方のみで構成しても
よい。

【００１６】また、上記基板乾燥部７０は、例えば本出
願人の提案に係る特開平１−２５５２２７号公報に開示
したように、基板の主平面の中心近傍を回転中心とし
て、回転遠心力で液切り乾燥する乾燥処理槽で構成され
る。尚、この遠心式の基板乾燥部７０に代えて溶剤を用
いて乾燥を促進するものや、減圧方式により乾燥を促進
するものを採用することもできる。

【００１７】上記基板洗浄装置５０のレイアウトは図１
及び図４に示すように、クリーンルーム作業域３０に臨
む前方から保全用作業域３１に臨む後方に向かって前記
カセットＣの搬入搬出部５１、基板移載部６０、基板乾
燥部７０及び洗浄処理部６５を順番に配置する。また、
図２に示すように、当該洗浄処理部６５の３つの基板洗
浄槽１の下部に洗浄液の給排用配管室２０を、この給排
用配管室２０の下部に洗浄用薬液貯留容器６を上下３段
に配置するとともに、図１に示すように、上記基板移載
部６０・基板乾燥部７０・洗浄処理部６５の右側に基板搬
送ロボット７５の移動部７７を前後方向に形成し、これ
らの左側の空間で、上記基板移載部６０よりも後方の空
間をメンテナンス・スペース９０として形成する。尚、
図１及び図２に示すように、当該メンテナンス・スペー
ス９０の床部９１には複数の配管、バルブ等が敷設され
る。

【００１８】即ち、本実施例は、基板洗浄装置５０のう
ちの、洗浄処理部６５の基板洗浄槽１と、給排用配管室
２０と、洗浄用薬液貯留容器６とを上下３段に積み上げ
る（即ち、縦方向にレイアウトする）ことにより、これ
らの３段積み上げ部の左側に臨んだエリアにメンテナン
ス・スペース９０を確保したものである。換言すると、
カセットの搬入搬出部５１においてカセットが並べられ
る方向と、基板移載部６０、基板乾燥部７０、及び洗浄
処理部６５の並び方向とを交差させ、搬入搬出部５１と
基板移載部６０、基板乾燥部７０及び洗浄処理部６５と
を四角形の設置面の二辺に沿ってＬ字状に配置すること
により、その余の部分をメンテナンス・スペース９０に
形成してある。

【００１９】このため、薬液置換方式の前記先提案技術
の基板洗浄装置(図５参照)は、各種洗浄を行う洗浄槽１
が直列状に多数配置した従来の基板洗浄装置(図８参照)
に対して装置全体をコンパクトに改良できるが、本実施
例の基板洗浄装置(図４参照)は、この先提案技術のそれ
と比較しても、複数の基板洗浄装置５０間やカセットＣ
の停留台３２との間にメンテナンス・スペース９０を設
ける必要がなく、基板洗浄装置５０内にメンテナンス・
スペースを組み入れられるので、洗浄作業域をさらにコ
ンパクト化して、クリーンルーム全体の省スペース化を
一層有効に達成できる。このことは、基板洗浄装置５０
の設置数が増えるほど、クリーンルームのスペースの有
効利用効率が向上することを意味する。

【００２０】また、当該洗浄処理部６５の基板洗浄槽１
及び基板乾燥部７０のレイアウトに関しては、図１に示
すように、保全用作業域３１に臨む奥側からクリーンル
ーム作業域３０に臨む前側に向かって、１つの酸洗浄槽
１ｂと、２つのオーバーフロー型の基板洗浄槽１ａ・１
ａと、乾燥処理部７０とを順番に配置して、当該乾燥処
理部７０を前記基板移載部６０に臨ませる。通常、酸洗
浄処理には昇温した酸を使用するので、酸の蒸気やミス
トが発生し易いが、本実施例では、この酸洗浄槽１ｂを
クリーンルーム作業域３０から最も遠い奥側に配置する
ため、クリーンルーム作業域３０への悪影響を防止して
作業の安全性を確保できる。

【００２１】また、基板乾燥部７０が洗浄処理部６５と
基板移載部６０との間に位置するので、洗浄処理された
基板Ｗを可能な限り速く乾燥させ、カセットＣに戻して
搬入搬出部５１から効率良く搬出できる。その反面、当
該基板乾燥工程はカセットＣへの戻しに対する時間的制
約を強くは受けず、乾燥処理の完了から基板移載部６０
への戻しの間に待機時間を取れるので、隣接状に設けら
れた基板乾燥部７０は基板移載部６０に対して作業工程
の上でバッファ的な役目をも果すことができる。

【００２２】一方、酸洗浄を除く洗浄処理に関しては、
処理に比較的長い時間を要することより、２つのオーバ
ーフロー型の基板洗浄槽１ａ・１ａで分担して複数種の
洗浄処理を行うので、前記従来技術の直列型の洗浄処理
に比べても、処理速度は低下しない。しかも、酸洗浄処
理では、１つの酸洗浄槽１ｂに共用化するので、基板乾
燥部７０の共通化と合わせて洗浄処理効率と省スペース
化が一層向上する。

【００２３】他方、オーバーフロー型洗浄処理部６５ａ
では、洗浄液を基板洗浄槽１ａの上部からオーバーフロ
ーさせるように構成するので、基板洗浄槽１ａ内の洗浄
液を全部排出せずとも複数種の洗浄処理毎に洗浄液の置
換が可能であり、一連の洗浄処理が完了するまで基板Ｗ
は空気に触れない。このため、基板表面に酸化皮膜が形
成されたり、空気中の不純物が付着したりする虞れはな
い。また、基板洗浄槽１内の洗浄液を全部排出せずとも
基板Ｗの装填や取り出しができる。

【００２４】上記オーバーフロー型の洗浄処理部６５ａ
の洗浄液供給部４は、図３(Ａ)に示すように、各基板洗
浄槽１ａの下部に夫々連結した純水供給管３と、各純水
供給管４に夫々導入弁連結管１６を介して連結した複数
の薬液導入弁８と、各薬液導入弁８に夫々薬液圧送手段
２５を介して連結した複数の薬液貯留容器６とを備え、
各薬液導入弁８を選択的に開閉制御して所定の薬液を純
水供給管３に導入するように構成される。

【００２５】上記純水給液管３は、基板洗浄槽１ａより
上流側に向けて順次、給排液切換弁１３、スタティック
ミキサー１４、導入弁連結管１６及び開閉弁２７などを
付設配置して成り、常温の又は所定温度に加熱した純水
Ｄ_Wを供給する純水の主要通路として構成されている。
なお、純水Ｄ_Wは基板の表面酸化を防ぐうえで、脱酸素処
理を施したものを用いる方がより好ましい。上記給排液
切換弁１３は常時純水Ｄ_Wや処理液を基板洗浄槽１ａへ
供給し、必要に応じて基板洗浄槽１ａ内の処理液を排液
管４２を介して排液ドレン４３へ排出するように構成さ
れる。上記スタティックミキサー１４は、ミキサー管路
内に孔あきねじり板(図示省略)を固定し、純水Ｄ_Wと薬
液Ｑ_A〜Ｑ_Eとを均一に混合するように構成される。尚、
このスタティックミキサーに代えて他の混合器を用いて
も良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くこと
も出来る。

【００２６】上記薬液導入弁８_A〜８_Eは、図３(Ｃ)に示
すように、スタティックミキサー１４の上流側に配置し
た導入弁連結管１６に固定され、この導入弁連結管１６
を介して純水給液管３と連通連結される。この薬液導入
弁８は、本出願人が実願平３―９３６３４号で提案した
ものであり、弁本体８０内に薬液導入室８１と弁駆動室
(図示省略)を区画形成し、薬液導入室８１と弁駆動室に
亘り弁軸８３を貫通し、薬液導入室８１に前記薬液圧送
手段２５の薬液供給管７を接続するとともに、薬液導入
室８１内では弁軸８３の先端部に弁体８４ａを固定し
て、弁体８４ａを導入弁連結管１６に形成した弁座８４
ｂで受け止め、弁駆動室内に送られる圧縮エアと圧縮バ
ネとの組み合わせで弁体８４ａを弁座８４ｂに対して開
閉操作し、薬液Ｑを所定量だけ純水供給管３内へ圧送す
るように構成される。

【００２７】本実施例では、弁体８４ａを導入弁連結管
１６に形成した弁座８４ｂで受け止めて、弁体８４ａと
純水供給管３との間の空間がなくなるように構成した。
即ち、弁座８４ｂから純水通路までの距離を接近させ
て、実質的に死水域がなくなるようにした。このため、
各薬液導入弁８_A〜８_Eを閉じた場合、薬液Ｑの液切れが
良くなり、純水供給管３に不要な薬液が長時間混入する
ことはなくなり、純水Ｄ_Wの供給量に対する各薬液Ｑ_A〜
Ｑ_Eの供給量を正確に制御して所定の薬液濃度に調合す
ることができる。また、薬液供給後に引き続いて純水を
供給する場合に、純水の純度低下の問題がなくなり、基
板Ｗの表面洗浄品質が向上する。しかも、純水が停留し
てバクテリヤが発生することもなくなる。但し、薬液導
入弁８_A〜８_Eは圧縮エアで作動するものに限らず、適宜
電磁開閉弁等を用いることもできる。

【００２８】前記オーバーフロー型洗浄処理部６５ａの
洗浄液供給部４における各薬液圧送手段２５は、図３
(Ａ)に示すように、一種類の薬液貯留容器６_Aから導出
した薬液供給管７_Aに薬液の圧送ポンプ１５を１個設
け、圧送ポンプ１５の吐出側の薬液供給管７_Aを分岐
し、分岐した各薬液供給管７_A・７_Aの下流部を夫々前記
薬液導入弁８_Aを介して上記複数の基板洗浄槽１ａ・１
ａに接続し、上記圧送ポンプ１５の吐出側で薬液供給管
７_Aの分岐部１８の上流側に圧力検出器２６(具体的に
は、圧力計)を設けるとともに、この圧力検出器２６から
の検出信号に基づいて圧送ポンプ１５の回転数を増減制
御する薬液圧送制御手段１２を設け、所定の設定圧に対
する過不足を圧力検出器２６で検出し、当該制御手段１
２を介して圧送ポンプ１５の駆動源１９を駆動制御する
ことにより、複数の各基板洗浄槽１ａに所定の設定圧力
で薬液を圧送するように構成される。

【００２９】即ち、圧力検出器２６の検出圧力を受けた
制御手段１２が予め設定入力された搬送圧力に対応して
圧送ポンプ１５の回転数を増減制御する。これにより、
オーバーフロー型の２つの基板洗浄槽１ａ・１ａの両方
に薬液を供給する場合と、いずれか一方のみに供給する
場合のいずれの場合であっても、単一の圧送ポンプ１５
により、常に一定流量の薬液を所定の設定量供給でき
る。なお、図３(Ａ)で示した実施例では、薬液導入弁８
_Aにより導入される一種類の薬液Ｑ_Aに係る薬液圧送手段
２５について説明したが、他の種類の薬液Ｑ_B、Ｑ_C、Ｑ_D、
Ｑ_Eに係る薬液圧送手段についても同様に構成されてい
る。これにより、複数個の基板洗浄槽１ａ・１ａについ
て複数種の薬液貯溜容器を１セット配置すれば足り、重
複配置する必要はない。

【００３０】

【考案の効果】請求項１の考案では、基板洗浄装置にお
いて、洗浄処理部に基板洗浄槽と、洗浄液の給排用配管
室と、洗浄用薬液貯留容器とを上下３段に配置し、上記
搬入搬出部の長手方向と、基板移載部、基板乾燥部、及
び洗浄処理部の並び方向とを交差させ、搬入搬出部と基
板移載部、基板乾燥部及び洗浄処理部とを四角形の設置
面の互いに接する二辺に沿ってＬ字状に配置することに
より、その余の部分にメンテナンス・スペースを形成す
るので、次の効果を奏する。 (１) 複数種の薬液の洗浄槽を直列状に多数配置した冒
述の従来型の基板洗浄装置に本考案を適用した場合に
は、基板洗浄装置内にメンテナンス・スペースを確保で
きるので、洗浄工程のクリーンルーム作業域を従来より
小さくでき、ひいては、クリーンルームのスペースを有
効利用できる。

【００３１】 (２) １つの洗浄槽で複数種の薬液処理をする前記先提
案技術の置換方式の基板洗浄装置に請求項１の考案を適
用した場合には、上記(１)の従来技術に比べて洗浄槽の
数を低減できるために、クリーンルームのスペースを有
効利用できるが、さらに、本考案のようにメンテナンス
・スペースを基板洗浄装置内に組み込むことにより、基
板洗浄装置外にメンテナンス・スペースを設ける必要が
なくなるので、クリーンルームのスペースの利用効率が
一層向上する。また、本考案では基板洗浄装置を隙間な
く隣接配置できるので、基板洗浄装置の設置数が増える
ほど、スペースの有効利用効率がさらに向上する。(３) 請求項２の考案では、前記メンテナンス・スペー
スを洗浄処理部に面した部分に形成したことから、洗浄
処理部において上下３段に配置された基板洗浄槽、給排
用配管室、及び洗浄用薬液貯留容器はいずれもメンテナ
ンス・スペースに対面することとなるので、これらの保
守点検が行い易くなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る基板洗浄装置の概略斜視図であ
る。

【図２】同基板洗浄装置の概略縦断面図である。

【図３】同洗浄装置の基板洗浄処理部の概略系統図であ
る。

【図４】同基板洗浄装置を複数配置したレイアウト図で
ある。

【図５】先提案技術を示す図４相当図である。

【図６】同先提案技術を示す図１相当図である。

【図７】クリーンルームのレイアウト図である。

【図８】従来技術を示す図４相当図である。

【符号の説明】

１…基板洗浄槽、２…洗浄液、６…薬液貯留容器、７…
薬液供給管、２０…給排用配管室、３０…クリーンルー
ム作業域、３１…保全用作業域、５１…搬入搬出部、５
５…カセット移載ロボット、６０…基板移載部、６５…
洗浄処理部、７０…基板乾燥部、７５…基板搬送ロボッ
ト、９０…メンテナンス・スペース、Ｗ…基板、Ｃ…カ
セット。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 荒木 浩之 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会 社 野洲事業所内 (56)参考文献 特開 平４−233729（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−7830（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−164039（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−71440（ＪＰ，Ｕ)

Claims (2)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を収容したカセットが載置さ
   れる搬入搬出部、カセットから複数の基板を取り出し又
   はカセット内へ複数の基板を装填する基板移載部、複数
   の基板を一括して乾燥する基板乾燥部、複数の基板を一
   括して洗浄する洗浄処理部を順に配置し、 上記搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載す
   るカセット移載ロボットを設け、 上記基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部の並び方向に
   沿って基板搬送ロボットの移動部を形成し、 上記基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を
   一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する
   基板搬送ロボットを設け、 上記洗浄処理部に基板洗浄槽と、洗浄液の給排用配管室
   と、洗浄用薬液貯留容器と、を上下３段に配置し、 上記搬入搬出部の長手方向と、基板移載部、基板乾燥
   部、及び洗浄処理部の並び方向とを交差させ、搬入搬出
   部と基板移載部、基板乾燥部及び洗浄処理部とを四角形
   の設置面の互いに接する二辺に沿ってＬ字状に配置し、
   その余の部分にメンテナンス・スペースを形成したこと
   を特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載した基板洗浄装置におい
   て、 前記メンテナンス・スペースを洗浄処理部に面した部分
   に形成した、ことを特徴とする基板洗浄装置。