JP2591907B2 - 読み出し専用半導体記憶装置のデコード回路 - Google Patents

読み出し専用半導体記憶装置のデコード回路

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はデコード回路に係わり、
特に読み出し専用半導体記憶装置のデコード回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来この種の読み出し専用半導体記憶装
置は、一般的な例の等価回路を示した図7(a)および
その平面図を示した図7(b)を参照すると、n個のメ
モリセルを縦に接続してなるNAND型セル構造をとっ
ている。プログラムの1方式としてイオン注入により、
“0”データをデプレッション・トランジスタ、“1”
データをエンハンスメント・トランジスタとしてデータ
を書き込む方法があり、その場合のデータの読み出し方
法について説明する。
【0003】選択するメモリセルのゲート電圧をワード
選択回路の出力X1 〜Xn の1出力により“L”レベル
状態とし、非選択のメモリセルのゲート電圧をワード選
択回路の出力により“H”レベルとする。今、選択され
るベきメモリセルがエンハンスメント・トランジスタE
jnの場合、ゲート電圧は“L”レベルのためトランジス
タはオフ状態となり、n個のメモリセルを縦に接続して
なるNAND型セル列Yj に電流は流れない。一方選択
されるべきメモリセルがデプレッション・トランジスタ
j1の場合は、常にオン状態のためNAND型セル列Y
j に電流が流れる。このように電流の状態を検出するこ
とで、書き込まれたデータを読み出すことができる。
【0004】大容量化の要請により、メモリセルの微細
化が進むにつれ、ゲート酸化膜も薄くなってきている。
そのためスタンバイ状態及び通常読み出し状態時に、常
に非選択のワード線を“H”レベルの状態にしなければ
ならないため、ゲート酸化膜破壊を起こし、メモリセル
のデータが読み出し不能に至ったり、スタンバイ時のリ
ーク電流の増大を引き起こしていた。
【0005】そこで、選択するべきメモリセルを含めた
NAND型セルを複数ブロックに分割し、選択すべきセ
ルが含まれる非選択ワード選択信号をすべて“H”レベ
ルとし、それ以外のセルブロックはすべてのワード線を
“L”レベルにするデコード回路を採用した一例が特開
平2−211977号公報に記載されている。ところが
同公報記載のデコード回路では、選択ブロックを非選択
状態に、非選択ブロックを選択状態に切り換えるさい、
ワード選択信号に寄生する寄生容量(メモリセルのゲー
ト容量)を一時に充放電するため、寄生容量を充電する
ための充電電流により電源配線にノイズが発生し、ま
た、寄生容量を放電するため放電電流によりGND配線
にノイズが発生する。このノイズにより、デコード回路
自身の特性悪化、ならびに、電源配線やGND配線を通
じてセンスアンプ回路のなどに影響を与え、スピード特
性の悪化を引き起こしていた。
【0006】この問題を解決するための一例が特開平5
−347094号公報に記載されている。同公報記載の
デコード回路全体を示した図8を参照すると、セレクト
部16とワード線X11、X12、〜、X1nに対応するデコ
ード部171、〜、17nと、ワード線X11、X12
〜、X1nに対応するプリデコード部18とからなり、メ
モリセルの数に応じてこれらを含むデコードブロック回
路(191、192、〜、19j)は複数個配置され、
ワード線駆動装置を構成する。
【0007】プリデコード部18は、外部アドレス信号
A,B,C,Dをデコードして信号XP1 T〜XPn
およびXP1 B〜XPn Bを生成する。
【0008】デコードブロック部191は、セレクト部
16とデコード部17〜17nを有し、デコード部17
1は、Pチャネル型MOSトランジスタ(以下、P型ト
ランジスタと称す)P11のドレインと接地電位にソー
スが接続されたNチャネル型MOSトランジスタ(以
下、N型トランジスタと称す)N11およびN12のそ
れぞれのドレインとが共通接続され出力端とするととも
に、P型トランジスタP11およびN型トランジスタN
11のゲートはセレクト部16のS1信号の出力端に接
続する。
【0009】なお、デコード部171〜17nは同一の
回路構成をとり、構成要素の符号P11とP21〜Pn
1、N11とN21〜Nn1、N12とN22〜Nn2
とがそれぞれ対応し、かつ各出力端は出力端子X11〜X
1nにそれぞれ接続され、P型トランジスタP11〜Pn
1の各ソースまたはドレインはプリデコード部18のX
1 B〜XPn B信号の出力端にそれぞれ接続され、N
型トランジスタN12〜Nn2のゲートはプリデコード
部18のXP1 T〜XPn T信号の出力端にそれぞれ接
続される。一方、デコードブロック部191〜19jも
それぞれ同一回路構成をとり、各セレクト部16にはセ
レクト信号E、FおよびGがそれぞれ共通に供給され、
それぞれの出力信号が供給される出力端子X11〜X1n
21〜X2nとXj1〜Xjnとがそれぞれ対応する。
【0010】いま、デコードブロック部191が外部ア
ドレス信号E,F,Gにより活性化されたとする。セレ
クト部16の出力S1は“L”レベルとなり、それぞれ
のデコード回路171〜17nのトランジスタP11と
N11、P21とN21、〜、Pn1とNn1にそれぞ
れ供給され、P型トランジスタP11〜Pn1をオン状
態、N型トランジスタN11〜Nn1をオフ状態とす
る。ここでトランジスタN11、N21、〜、Nn1を
ブロックセレクト・トランジスタと呼ぶことにする。
【0011】外部アドレス信号A,B,C,Dによりプ
リデコード部18のうち出力XP2T及びXP2 Bが活
性化され、出力XP2Tは“H”レベル、XP2Bは
“L”レベルとなる。他のプリデコード部出力XP
1 T、XP3 T、〜、XPn Tはすべて“L”レベルX
1 B、XP3 B、〜、XPn Bはすべて“H”レベル
となている。
【0012】デコード部171において、P型トランジ
スタP11および出力XP1 Tが供給されるトランジス
タN12がオン状態であるため、ワード選択信号X11
“L”レベルに引き下げられる。
【0013】また、他のデコード部172、173、
〜、17nはそれぞれ対応するN型トランジスタN2
2、N32、〜、Nn2はオフ状態、またP型トランジ
スタP21、P31、〜、Pn1はオン状態のため、こ
れらのP型トランジスタを通してそれぞれに対応するワ
ード選択信号X12、X13、〜、X1nはプリデコード部出
力により電源電位が供給され、“H”レベルに引き上げ
られる。
【0014】次に外部アドレス信号E,F,Gにより、
デコードブロック部191が非活性状態になった場合、
セレクト部出力S1は“H”レベルとなり、この信号が
それぞれのデコード部のP11とN11、P21とN2
1、〜、Pn1とNn1にそれぞれ供給され、P型トラ
ンジスタP11〜Pn1をオフ状態、N型トランジスタ
をN11〜Nn1をオン状態とする。
【0015】そのため、すべてのワード選択信号X11
〜、X1nは“L”レベルに引き下げられる。このときブ
ロックセレクト・トランジスタN11〜Nn1は、N1
2、N22、〜、Nn2より駆動能力が劣るものを用い
て、放電速度を遅くしている。
【0016】以上のように、従来はデコード部の電源電
位をプリデコード部から供給し、プリデコード部のトラ
ンジスタのオン抵抗により、電源ノイズの低減をはか
り、また、ブロックセレクト・トランジスタを設け、放
電時間を遅らせGNDノイズの低減をはかるデコード部
を採用していた。
【0017】従来技術におけるこの種のデコード部の一
例のマスク・パターンの平面図を図9に示す。このマス
ク・パターンの平面図は、斜線で示す部分がアルミ配線
を、網目状の部分がポリシリコン配線を、太実線で囲ま
れた部分が拡散層をそれぞれ表わし、拡散層を横切るポ
リシリコン部分がゲート電極を、このポリシリコンを境
に一方の拡散層部分がドレイン電極を、他方がソース電
極をそれぞれ形成し、トランジスタN11およびN1
2、N21およびN22を形成する。また、点線で囲ま
れた領域はPウェル領域を表し、同様に拡散層を横切る
ポリシリコン部分がゲート電極を、このポリシリコンを
境に一方の拡散層部分がドレイン電極を、他方がソース
電極をそれぞれ形成し、P型トランジスタP21を形成
することにより、デコード部171、及び172を構成
してなるものである。ここで仮に信号配線として用いら
れる斜線を施したアルミ配線の幅を1μm、アルミ配線
相互の間隔を1μmとして設計基準に従い設計したとす
る。また、トランジスタサイズはチャネル幅6μm、チ
ャネル長1μmで構成されているものとしている。この
デコード回路171および172のブロックはX=17
μm、Y=41μmのブロックサイズとなる。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体記憶装置
においては大容量化と高速化の要求は強く、また、低価
格で供給していく必要がある。特に、半導体記憶装置に
おいては高速化の点において、ワード選択信号の遅延が
問題になっている。また、多層配線技術により、ワード
選択信号の遅延を抑える方法もあるが、製造コストがか
かり、また製造工程も長くなることから、製品単価の高
騰と製品出荷が遅くなると言う問題がある。
【0019】さらに、多層配線技術を用いない場合、配
線長が長くなると、高速化の点からワード選択信号遅延
の対策としてワード線駆動装置をp個複数個配置し、ワ
ード選択信号線に分布する寄生容量および寄生抵抗を削
減する必要がある。ワード線駆動装置を複数個配置した
場合、ワード線駆動装置の面積、特にX方向のサイズは
チップ面積に大きく影響している。
【0020】ところが、図9に示したレイアウト・ブロ
ックと接続出来るように配置する場合、従来例のデコー
ド部を実現するためには、少なくとも1本のGND配線
用アルミ配線と、プリデコード信号用アルミ配線が4本
必要であり、あるメモリセルブロックの高さがY(一例
としてこの場合は41μmとする)であった場合、この
高さにおいてすべてのワード選択信号に対応するn個の
信号線を配置できるようにデコード部を配置するために
は、X方向に連続して配置しなければならない。
【0021】図9のレイアウト・ブロックに従えば、2
つのデコード回路でX方向が17μmであり、図8に対
応するデコードブロック部191を実現するためには、
X方向で17μm×n/2のサイズになる。
【0022】そのため従来の製品においては、チップ全
体に占める単位ワード線駆動装置の面積占有率がおよそ
Xs=10%程度になり、ワード線駆動装置の配置個数
pを4とした場合、そのチップ面積は、Xs×p=Xs
×4=40%の割合で増大し、単位チップ全体の面積で
は1.4倍になっていた。
【0023】従って上述した従来のデコード回路は、プ
リデコード部からの信号配線の数が多いので、信号配線
として用いるアルミ配線の本数に大きく依存し、チップ
面積の増大をまねいていた。
【0024】本発明の目的は、上述した欠点に鑑みなさ
れたものであり、読み出し専用半導体記憶装置におい
て、ワード線選択信号を駆動するデコード部のブロック
レイアウトが小さくなるような回路構成を工夫し、デコ
ード回路全体としてのチップサイズの縮小化を図ること
にある。
【0025】
【課題を解決するための手段】本発明の読み出し専用半
導体記憶装置のデコード回路の特徴は、第1のアドレス
信号群から第1のワード選択用制御信号を発生するセレ
クト部と、第2のアドレス信号群からワード選択用駆動
号を発生するプリデコード部と、前記第1のワード選
択用制御信号に応答して前記ワード選択用駆動信号のハ
イレベルおよびロウレベルの一方の電圧により所定のメ
モリセルのワード線を活性化し他方の電圧により前記所
定のメモリセル以外のメモリセルのワード線を非活性化
する複数のデコード部とを有する読み出し専用半導体記
憶装置のデコード回路において;前記第1のワード選択
用制御信号および前記第2のアドレス信号群の所定の1
信号を第2のワード選択用制御信号とした時のその逆
性信号を第3のワード選択用制御信号として第1のNA
NDゲートに供給し、この第1のNANDゲートの出力
の第4のワード選択用制御信号とこの出力を反転した第
のワード選択用制御信号とを出力する第1のワードセ
レクト部と、前記第1のワード選択用制御信号および前
第2のワード選択用制御信号を第2のNANDゲート
供給し、この第2のNANDゲートの出力の第6のワ
ード選択用制御信号とこの出力を反転した第7のワード
選択用制御信号を出力する第2のワードセレクト部とを
有し、前記デコード部は、前記ワード選択用駆動信号お
よび前記第1のワード選択用制御信号が供給され、前記
第1のワードセレクト部の前記第のワード選択用制御
信号に応答して選択的に前記ワード選択用駆動信号を前
記活性化の信号として第1のワード選択信号出力端子か
ら出力するとともに前記第2のワードセレクト部の前
のワード選択用制御信号に応答して選択的に前記第
1のワード選択用制御信号を前記非活性化の信号として
第2のワード選択信号出力端子から出力し、前記第1の
ワードセレクト部の前記第のワード選択用制御信号に
応答して選択的に前記第1のワード選択用制御信号を前
記非活性化の信号として前記第1のワード選択信号出力
端子から出力するとともに前記第2のワードセレクト部
の前記第のワード選択用制御信号に応答して選択的に
前記ワード選択用駆動信号を前記活性化の信号として前
記第2のワード選択信号出力端子から出力することによ
り、前記デコード部のブロックサイズが小面積でレイア
ウトきるように構成したことにある。
【0026】また、前記デコード部は、第1、第2、第
3および第4のNチャネル型トランジスタをそれぞれ直
列に接続してなる第1の直列接続回路を含み、この直列
接続回路の両端の電極はそれぞれ前記ワード選択用駆動
信号の信号線に接続され、前記第1のNチャネル型トラ
ンジスタのゲートは前記第1のワードセレクト部の前
のワード選択用制御信号出力端に接続され、前記第
2のNチャネル型トランジスタのゲートは前記第1のワ
ードセレクト部の前記第のワード選択用制御信号出力
端に接続され、前記第3のNチャネル型トランジスタの
ゲートは前記第2のワードセレクト部の前記第のワー
ド選択用制御信号出力端に接続され、前記第4のNチャ
ネル型トランジスタのゲートは前記第2のワードセレク
ト部の前記第のワード選択用制御信号出力端に接続さ
れ、前記第2および前記第3のNチャネル型トランジス
タを直列接続する接続点は前記第1のワード選択用制御
信号の信号線に接続され、前記第1および前記第2のN
チャネル型トランジスタを直列接続する接続点は前記第
1のワード選択信号出力端子に接続され、前記第3およ
び前記第4のNチャネル型トランジスタを直列接続する
接続点は前記第2のワード選択信号出力端子に接続する
ことができる。
【0027】さらに、前記デコード部は、前記第1の直
列接続回路と、第1,第2、第3および第4のPチャネ
ル型トランジスタを直列に接続してなる第2の直列接続
回路とを含み、これら第1および第2の直列接続回路が
互に並列状態で接続され、前記第1のNチャネル型トラ
ンジスタおよび前記第2のPチャネル型トランジスタの
ゲートはそれぞれ前記第1のワードセレクト部の前記第
のワード選択用制御信号出力端に接続され、前記第2
のNチャネル型トランジスタのゲートおよび前記第1の
Pチャネル型トランジスタのゲートはそれぞれ前記第1
のワードセレクト部の前記第のワード選択用制御信号
出力端に接続され、前記第3のNチャネル型トランジス
タおよび前記第4のPチャネル型トランジスタのゲート
はそれぞれ前記第2のワードセレクト部の前記第のワ
ード選択用制御信号出力端に接続され、前記第4のNチ
ャネル型トランジスタおよび前記第3のPチャネル型ト
ランジスタのゲートはそれぞれ前記第2のワードセレク
ト部の前記第のワード選択用制御信号出力端に接続さ
れ、前記第2および前記第3のNチャネル型トランジス
タを直列接続する接続点と前記第2および前記第3のP
チャネル型トランジスタを直列接続する接続点とは前記
第1のワード選択用制御信号の信号線にそれぞれ接続さ
れ、前記第1および前記第2のNチャネル型トランジス
タを直列接続する接続点と前記第1および前記第2のP
チャネル型トランジスタを直列接続する接続点とは前記
第1のワード選択信号出力端子にそれぞれ接続され、前
記第3および前記第4のNチャネル型トランジスタを直
列接続する接続点と前記第および前記第のPチャネ
ル型トランジスタを直列接続する接続点とは前記第2の
ワード選択信号出力端子にそれぞれ接続することもでき
る。
【0028】さらにまた、前記第2および前記第3のN
型トランジスタを直列接続する接続点および前記第2お
よび前記第3のP型トランジスタを直列接続する接続点
の少なくとも一方を電源電位または接地電位のいずれか
一方のみに接続することもできる。
【0029】また、前記第1の直列接続回路の両端およ
び前記第2の直列接続回路の両端が接続される前記ワー
ド選択用駆動信号の信号線に替えて逆極性の前記ワード
選択用駆動信号の信号線が用いられ、前記第1および前
記第2のN型トランジスタを直列接続する接続点および
前記第1および前記第2のP型トランジスタを直列接続
する接続点の少なくとも一方がインバータを介して前記
第1のワード選択信号出力端子にそれぞれ接続され、前
記第2および前記第3のN型トランジスタを直列接続す
る接続点および前記第3および前記第4のP型トランジ
スタを直列接続する接続点の少なくとも一方をインバー
タを介して前記第2のワード選択信号出力端子にそれぞ
れ接続することもできる。
【0030】
【実施例】次に、本発明を図面を参照して説明する。
【0031】図1は本発明の第1の実施例のデコード回
路全体を示す回路図である。図1を参照すると、本実施
例のデコードブロック部51は、3入力NAND及びイ
ンバータで構成され、第1のワード選択用制御信号S1
(以下、単にS1と称す)を出力するセレクト部1、2
入力NAND及びインバータで構成され、第3のワード
選択用制御信号SW1TおよびSW1B(以下、正極性
の信号をSW1T、逆極性の信号をSW1Bと称す)る
ワードセレクト部21と第4のワード選択用制御信号S
W2TおよびSW2B(以下、正極性の信号をSW2
T、逆極性の信号をSW2Bと称す)るワードセレクト
部22、N型トランジスタN11、N12、N21およ
びN22からなり、1メモリセルブロックに必要なワー
ド選択信号X11からX1nの本数に応じて複数個(31、
〜、3n/2)配置されるデコード部31と、これらを
含みメモリセルの数に応じて複数個配置されるデコード
ブロック部51、52、〜、5jと、プリデコード部4
とを備える。 プリデコード部4は、外部アドレス信号
B,C,Dをデコードしてワード選択用駆動信号XP1
〜XPn/2 (以下、単にXP1 〜XPn/2 と称す)を生
成する。なお、本発明では従来例で使用したプリデコー
ド部の他方の出力信号のXP1 B〜XPn B(第2のワ
ード選択用制御信号)は不要である。
【0032】デコードブロック部51は、セレクト部1
とワードセレクト部21および22とデコード部31〜
3n/2とを有し、セレクト部1の出力端がワードセレ
クタ部21および22のそれぞれ一方の入力端に接続さ
れ、ワードセレクタ部21の他方の入力端には外部デコ
ード信号Aの反転信号が、ワードセレクタ部22の他方
の入力端には外部デコード信号Aの正転信号がそれぞれ
供給される。
【0033】デコード部31は、N型トランジスタN1
1,N12,N22,N21をそれぞれ直列に接続して
なり、N型トランジスタN11およびN21のドレイン
またはソースはそれぞれアドレス信号の信号線XP1
接続され、N型トランジスタN11のゲートはワードセ
レクト部21のSW1T信号出力端に接続され、N型ト
ランジスタN12のゲートはワードセレクト部21のS
W1B信号出力端に接続され、N型トランジスタN22
のゲートはワードセレクト部22のWS2B信号出力端
に接続され、N型トランジスタN21のゲートはワード
セレクト部22のSW2T信号出力端に接続され、N型
トランジスタN12およびN22を直列接続する接続点
はセレクト信号の信号線S1に接続され、N型トランジ
スタN11およびN12を直列接続する接続点はワード
選択信号X11の出力端子に接続され、N型トランジスタ
N22およびN21を直列接続する接続点はワード選択
信号X12の出力端子に接続されてなる。
【0034】デコード部32〜3,n/2は同一構成で
あり、構成要素の符号N11とN31〜N(n−1),
1、N12とN32〜N(n−1),2、N22とN4
2〜Nn2、N21とN41〜Nn1、X11〜X1nと
21〜X2nとXj1〜Xjnとがそれぞれ対応し、N型トラ
ンジスタN31〜N(n−1),1とN41〜N2n1
のドレインにはプリデコード部のXP2 〜XPn/2 がそ
れぞれ接続され、各セレクト部1には外部デコード信号
E,F,Gの3種類の信号による8通りの組み合わせの
信号がそれぞれ1組ずつ割り当てられて供給され、ワー
ド線駆動装置を構成する。
【0035】再び図1を参照すると、1メモリセルブロ
ックに必要なワード選択信号X11からX1nまでは、外部
アドレス信号A,B,C,Dの数Kは決定され、n=2
k の関係がある。いま、信号Aを仮に下位のアドレス信
号とする。信号B,C,Dが供給されるプリデコード部
4からの出力信号は必要なワード選択信号の本数nの1
/2の信号XP1 ,XP2 2、〜、XPn/2 を出力し、
それぞれに対応するデコード部31〜3n/2のワード
線駆動部のトランジスタN11とN21、N31とN4
1、〜、Nn−1,1とNn1のソースに供給する。
【0036】一方、下位アドレス信号Aは、セレクト部
1の出力信号S1を1入力とするワードセレクト部21
および22に供給され、それぞれに対応する信号WS1
T及び反転関係の信号WS1Bと、WS2T及び反転関
係の信号WS2Bを出力する。信号WS1Tは信号XP
1 、XP2 、〜、XPn/2 がドレインに供給されるN型
トランジスタN11、N31、〜、Nn−1のゲートに
共通入力され、またセレクト部1の出力S1をソース電
源としWS1B信号を共通に入力するN12、N32、
〜、Nn−1のドレインからそれぞれ対応するワード選
択信号X11、X13、〜、X1 n-1 を出力端子から外部
出力する。同様にN型トランジスタN21とN22、N
41とN42、〜、Nn1とNn1とからワード選択信
号X12、X14、〜、X1nが外部出力される。
【0037】いま外部アドレス信号E,F,Gによりデ
コードブロック部51が活性化される場合、信号S1は
“H”レベルとなる。ワード選択信号X11、X23、〜、
1nを選択する外部アドレス信号の上位アドレスB,
C,Dによりプリデコード部4のうち信号XP1 が活性
化されXP1 信号は“L”レベルとなり、XP2 からX
n/2 は全て“H”レベルとなる。
【0038】次に下位アドレスAが“L”レベルの場
合、ワードセレクト部21が活性化され、その出力信号
WS1Tは“H”レベル、WS1Bは“L”レベルとな
る。このときトランジスタN11はオン状態となり、N
12はオフ状態になるため、ワード選択信号X11はト
ランジスタN11を通してXP1 信号により“L”レベ
ルに引き下げられる。このとき共通に入力するWSIT
信号によりそれぞれN31、〜、Nn−1,1はオン状
態となり、対応するワード選択信号X13、〜、X1
n-1 はそれぞれに対応するXP2 、〜、XPn/2 が全て
“H”レベルのため、トランジスタN31、〜、Nn−
1,1を通して“H”レベルに引き上げられる。
【0039】一方のワードセレクト部22は非活性状態
になるため、WS2Tは“L”レベル、WS2Bは
“H”レベルとなり、トランジスタN21はオフ状態、
トランジスタN22はオン状態となり、ワード選択信号
12はトランジスタN22を通し、セレクト部1の出力
信号S1により“H”レベルに引き上げられる。
【0040】同様に、X14、〜、X1nにおいては、トラ
ンジスタN42、〜、Nn2がオン状態のため信号S1
により“H”レベルが供給される。
【0041】次に下位アドレスAが“H”レベルに変化
した場合、ワードセレクト部21は非活性状態となり、
ワードセレクト部22が活性化されるので、WS2Tは
“H”レベル、WS2Bは“L”レベル、WS1Tは
“H”レベル、WS1Bは“L”レベルとなり、トラン
ジスタN11はオフ状態、N12はオン状態、またN2
1がオン状態、N22がオフ状態となるため、ワード選
択信号X11はトランジスタN12を通してセレクト部1
の出力信号S1により“H”レベルに引き上げられ、ワ
ード選択信号X12はトランジスタN21を通してXP1
信号により“L”レベルに引き下げられる。同様の動作
により、X11からXn の1ワード選択信号のみを“L”
レベルとし、他のワード選択信号を全て“H”レベルに
することができる。
【0042】次に、外部アドレス信号E,F,Gにより
デコードブロック部51が非活性状態になる場合、セレ
クト部1の出力S1は“L”レベルとなり、ワードセレ
クト部21及び22は共に下位アドレスAによらず非活
性状態となり、それぞれ信号WS1BとWS2Bが
“H”レベルとなり、WS1T及びWS2Tは“L”レ
ベルとなる。
【0043】このため、トランジスタN11、N21、
N31、〜、Nn1はオフ、N12、N22、〜、Nn
2はオン状態となるため、プリデコード部4からの信号
XP1 、XP2 、〜、XPn/2 によらずワード選択信号
11、X12、〜、X1nは全てトランジスタN12、N2
2、〜、Nn2を通し、信号S1により“L”レベルに
引き下げられる。以上説明したように、従来例と同様の
動作が可能である。
【0044】図2は本発明の第1の実施例のマスクパタ
ーン図である。ここで仮に信号配線として用いられるア
ルミ配線の幅を1μm、アルミ配線相互の間隔を1μm
とした設計基準に従い設計したとする。また、トランジ
スタサイズは従来例と同様にチャネル幅6μmチャネル
長1μmで形成されているものとし、デコード部31の
みについて示している。
【0045】従来例と比較すると、2本のワード選択信
号X11とX12を実現する場合、プリデコード部4の出力
信号配線用のアルミ配線の配置本数は4本から1本に削
減することができ、そのためデコード部31のみで8μ
mとなる。また、メモリセルブロックの高さ(図2のY
方向)は一律同様であるため、全てワード選択信号を出
力するためにデコード部を横方向(図2のX方向)に連
続配置した場合、従来例の約47%にX方向のサイズが
縮小できる。
【0046】ここで従来例と比較すると、ワード線駆動
装置がp個複数配置されてなるチップ面積をおよそ0.
5×Xs×pの割合で縮小化ができ、p=4のときチッ
プ面積は従来1.4であったものが0.8となり、約6
0%のチップ面積に縮小化が可能である。
【0047】図3は本発明の第2の実施例を示す回路図
である。同図を参照すると、第1の実施例と異なる部分
は、デコード部31のトランジスタ素子を相補型で構成
したことである。すなわち、N型トランジスタN11,
N12,N22,N21をそれぞれ直列に接続した直列
接続回路と、P型トランジスタP11,P12,P2
2,P21を直列に接続した直列接続回路とからなり、
これら2つの直列接続回路が互に並列状態で接続され
る。N型トランジスタN11およびP型トランジスタP
12のゲートはそれぞれワードセレクト部21のインバ
ータ212の信号出力端に接続され、N型トランジスタ
N12のゲートおよびP型トランジスタP11のゲート
はそれぞれワードセレクト部21のNAND211の信
号出力端に接続され、N型トランジスタN22およびP
型トランジスタP21のゲートはそれぞれワードセレク
ト部22のインバータ222の信号出力端に接続され、
N型トランジスタN21およびP型トランジスタP22
のゲートはそれぞれワードセレクト部22のセレクト2
2のNAND221の信号出力端に接続される。
【0048】N型トランジスタN12およびN22を直
列接続する接続点とP型トランジスタP12およびP2
2を直列接続する接続点とはセレクト信号線S1にそれ
ぞれ接続され、N型トランジスタN11およびN12を
直列接続する接続点とP型トランジスタP11およびP
12を直列接続する接続点とはワード選択信号出力端子
11にそれぞれ接続され、N型トランジスタN22およ
びN21を直列接続する接続点とP型トランジスタP1
1およびP12を直列接続する接続点とはワード選択信
号出力端子X12にそれぞれ接続されてなる。それ以外の
構成は第1の実施例と同様であり説明を省略する。
【0049】この構成において、P型トランジスタP1
1とN型トランジスタN11はソース電位をプリデコー
ド部出力XP1 から供給され、ドレインはワード選択信
号X11が供給される。また、P型トランジスタP12と
N型トランジスタN12はソース電位がセレクト部出力
S1より供給される。トランジスタN11のゲート入力
は第1の実施例と同様にワードセレクト部21の出力信
号WS1Tが供給され、P型トランジスタP11のゲー
トは信号WS1Tの反転信号WS1Bが供給される。
【0050】また、N型トランジスタN12のゲートも
前述と同様に信号WS1Bが供給され、P型トランジス
タP12のゲートは信号WS1Tが供給される。この状
態でプリデコード部出力XP1 が選択状態となって
“L”レベルとなり、信号WS1Tが“H”レベル、W
S1Bが“L”レベルになったときトランジスタP11
とN11とがオンし、これらのトランジスタを通してワ
ード選択信号X11はプリデコード部出力XP1 により
“L”レベルに引き下げられる。
【0051】また、信号WS1Tが“L”レベル、信号
WS1Bが“H”レベルになったとき、トランジスタN
12とP12がオン状態となり、ワード選択信号X11
これらのトランジスタを通しセレクト部1の出力S1に
より“H”レベルに引き上げられ、第1の実施例と同様
の動作をする。
【0052】本実施例のマスクパターン図を示した図4
を参照すると、ブロックサイズのY方向のサイズはP型
トランジスタを構成要素に加えた分だけ大きくなるが、
X方向のサイズは同等である。
【0053】以上に示した実施例は、複数ワード選択信
号のうち1ワード選択信号を“L”レベルに選択するも
のについて述べたが、複数ワード選択信号のうち1ワー
ド選択信号を“H”レベルに選択する実施例について図
5に示す。
【0054】図5は本発明の第3の実施例の回路図であ
る。本実施例が第1の実施例と異なる点は、第1の実施
例で述べたN12およびN22のそれぞれのトランジス
タが、セレクト部6の出力信号S1をソース電源とせ
ず、GNDレベルを供給され、また、プリデコード部9
は正論理とし、選択されるプリデコード部出力XP1
1本のみ“H”レベルとなり、ワード選択信号の1本X
11のみにN11トランジスタを通して、プリデコード部
出力の“H”レベルが供給されるようにし、1ワード選
択信号のみを“H“レベルにすることが可能である。
【0055】また第4の実施例の回路図を示した図6を
参照すると、第1の実施例で示す回路と異なる点は、ワ
ード選択信号X11、X12、〜、X1nのあいだにインバー
タ151、152、〜を新たに設けたことであり、1ワ
ード選択信号のみを“H”レベルにすることが可能であ
る。第3および第4の実施例ともデコード部の素子は図
2に示すよう配置されるため、デコード回路のX方向の
サイズは第1の実施例と同様になる。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、n本の
ワード選択信号を選択するために必要なK個のアドレス
信号からなるデコード回路において、少なくとも1つの
アドレス信号と、(K−1)個のアドレス信号をプリデ
コードした信号と、セレクト部により特定電源を供給す
るデコード部を構成することにより、n個のワード選択
信号を選択するために必要なプリデコード部の信号配線
の本数を1/2に減少することができる。そのため従来
のデコード回路のデコード部のチップ上における面積の
半分とすることが可能となる。従って複数のデコード回
路から構成されるワード線駆動装置がp個複数配置され
てなるチップ面積を0.5×Xs×pの割合で縮小化で
き、p=4のとき従来1.4であったチップ面積は0.
8となり、従来のデコード部を用いた場合と比較しおよ
そ60%にチップ面積を縮小化できるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例のデコー回路全体を示す
回路図である。
【図2】本発明の第1の実施例のマスクパターン図であ
る。
【図3】本発明の第2の実施例を示す回路図である。
【図4】本発明の第2の実施例のマスクパターン図であ
る。
【図5】本発明の第3の実施例を示す回路図である。
【図6】本発明の第4の実施例を示す回路図である。
【図7】(a)従来の読み出し専用半導体記憶装置の主
要部の回路図である。(b)その平面図である。
【図8】従来例のデコード回路全体を示す回路図であ
る。
【図9】従来例のマスクパターン図である。
【符号の説明】
1,6,10,16 セレクト部 21,22,71,72,111,112 ワードセ
レクト部 31,32,3n/2,8,13,171,172,
〜,17n デコード部 4,9,14,18 プリデコード部 51,52,〜,5j デコードブロック部 151,152 インバーター A,B,C,D,E,F,G 外部アドレス信号 S1 セレクト部出力信号(第1のワード選択用制御
信号) WS1T,WS1B,WS2T,WS2B ワードセ
レクト部出力信号(第3および第4ののワード選択用制
御信号) XP1 ,XP2 ,〜,XPn プリデコード部出力信
号(ワード選択用駆動信号) X11,X12,〜,Xjn ワード選択信号 N11,N12,〜,Nn1 N型トランジスタ P11,P12,〜,Pn1 P型トランジスタ

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1のアドレス信号群から第1のワード
    選択用制御信号を発生するセレクト部と、第2のアドレ
    ス信号群からワード選択用駆動信号を発生するプリデコ
    ード部と、前記第1のワード選択用制御信号に応答して
    前記ワード選択用駆動信号のハイレベルおよびロウレベ
    ルの一方の電圧により所定のメモリセルのワード線を活
    性化し他方の電圧により前記所定のメモリセル以外のメ
    モリセルのワード線を非活性化する複数のデコード部と
    を有する読み出し専用半導体記憶装置のデコード回路に
    おいて; 前記第1のワード選択用制御信号および前記第2のアド
    レス信号群の所定の1信号を第2のワード選択用制御信
    号とした時のその逆極性信号を第3のワード選択用制御
    信号として第1のNANDゲートに供給し、この第1の
    NANDゲートの出力の第4のワード選択用制御信号と
    この出力を反転した第5のワード選択用制御信号とを出
    する第1のワードセレクト部と、前記第1のワード選
    択用制御信号および前記第2のワード選択用制御信号を
    第2のNANDゲート供給し、この第2のNANDゲ
    ートの出力の第6のワード選択用制御信号とこの出力を
    反転した第7のワード選択用制御信号を出力する第2の
    ワードセレクト部とを有し、前記デコード部は、前記ワ
    ード選択用駆動信号および前記第1のワード選択用制御
    信号が供給され、前記第1のワードセレクト部の前記第
    のワード選択用制御信号に応答して選択的に前記ワー
    ド選択用駆動信号を前記活性化の信号として第1のワー
    ド選択信号出力端子から出力するとともに前記第2のワ
    ードセレクト部の前記第のワード選択用制御信号に応
    答して選択的に前記第1のワード選択用制御信号を前記
    非活性化の信号として第2のワード選択信号出力端子か
    ら出力し、前記第1のワードセレクト部の前記第のワ
    ード選択用制御信号に応答して選択的に前記第1のワー
    ド選択用制御信号を前記非活性化の信号として前記第1
    のワード選択信号出力端子から出力するとともに前記第
    2のワードセレクト部の前記第のワード選択用制御信
    号に応答して選択的に前記ワード選択用駆動信号を前記
    活性化の信号として前記第2のワード選択信号出力端子
    から出力することにより、前記デコード部のブロックサ
    イズが小面積でレイアウトきるように構成したことを特
    徴とする読み出し専用半導体記憶装置のデコード回路。
  2. 【請求項2】 前記デコード部は、第1、第2、第3お
    よび第4のNチャネル型トランジスタをそれぞれ直列に
    接続してなる第1の直列接続回路を含み、この直列接続
    回路の両端の電極はそれぞれ前記ワード選択用駆動信号
    の信号線に接続され、前記第1のNチャネル型トランジ
    スタのゲートは前記第1のワードセレクト部の前記第
    のワード選択用制御信号出力端に接続され、前記第2の
    Nチャネル型トランジスタのゲートは前記第1のワード
    セレクト部の前記第のワード選択用制御信号出力端に
    接続され、前記第3のNチャネル型トランジスタのゲー
    トは前記第2のワードセレクト部の前記第のワード選
    択用制御信号出力端に接続され、前記第4のNチャネル
    型トランジスタのゲートは前記第2のワードセレクト部
    の前記第のワード選択用制御信号出力端に接続され、
    前記第2および前記第3のNチャネル型トランジスタを
    直列接続する接続点は前記第1のワード選択用制御信号
    の信号線に接続され、前記第1および前記第2のNチャ
    ネル型トランジスタを直列接続する接続点は前記第1の
    ワード選択信号出力端子に接続され、前記第3および前
    記第4のNチャネル型トランジスタを直列接続する接続
    点は前記第2のワード選択信号出力端子に接続されるこ
    とを特徴とする請求項1記載の読み出し専用半導体記憶
    装置のデコード回路。
  3. 【請求項3】 前記デコード部は、前記第1の直列接続
    回路と、第1,第2、第3および第4のPチャネル型ト
    ランジスタを直列に接続してなる第2の直列接続回路と
    を含み、これら第1および第2の直列接続回路が互に並
    列状態で接続され、前記第1のNチャネル型トランジス
    タおよび前記第2のPチャネル型トランジスタのゲート
    はそれぞれ前記第1のワードセレクト部の前記第のワ
    ード選択用制御信号出力端に接続され、前記第2のNチ
    ャネル型トランジスタのゲートおよび前記第1のPチャ
    ネル型トランジスタのゲートはそれぞれ前記第1のワー
    ドセレクト部の前記第のワード選択用制御信号出力端
    に接続され、前記第3のNチャネル型トランジスタおよ
    び前記第4のPチャネル型トランジスタのゲートはそれ
    ぞれ前記第2のワードセレクト部の前記第のワード選
    択用制御信号出力端に接続され、前記第4のNチャネル
    型トランジスタおよび前記第3のPチャネル型トランジ
    スタのゲートはそれぞれ前記第2のワードセレクト部
    記第のワード選択用制御信号出力端に接続され、前
    記第2および前記第3のNチャネル型トランジスタを直
    列接続する接続点と前記第2および前記第3のPチャネ
    ル型トランジスタを直列接続する接続点とは前記第1の
    ワード選択用制御信号の信号線にそれぞれ接続され、前
    記第1および前記第2のNチャネル型トランジスタを直
    列接続する接続点と前記第1および前記第2のPチャネ
    ル型トランジスタを直列接続する接続点とは前記第1の
    ワード選択信号出力端子にそれぞれ接続され、前記第3
    および前記第4のNチャネル型トランジスタを直列接続
    する接続点と前記第および前記第のPチャネル型ト
    ランジスタを直列接続する接続点とは前記第2のワード
    選択信号出力端子にそれぞれ接続されることを特徴とす
    る請求項2記載の読み出し専用半導体記憶装置のデコー
    ド回路。
  4. 【請求項4】 前記第2および前記第3のNチャネル型
    トランジスタを直列接続する接続点および前記第2およ
    び前記第3のPチャネル型トランジスタを直列接続する
    接続点の少なくとも一方が電源電位または接地電位のい
    ずれか一方のみに接続されることを特徴とする請求項2
    または3記載の読み出し専用半導体記憶装置のデコード
    回路。
  5. 【請求項5】 前記第1の直列接続回路の両端および前
    記第2の直列接続回路の両端が接続される前記ワード選
    択用駆動信号の信号線に替えて逆極性の前記ワード選択
    用駆動信号の信号線が用いられ、前記第1および前記第
    2のNチャネル型トランジスタを直列接続する接続点お
    よび前記第1および前記第2のPチャネル型トランジス
    タを直列接続する接続点の少なくとも一方がインバータ
    を介して前記第1のワード選択信号出力端子にそれぞれ
    接続され、前記第2および前記第3のNチャネル型トラ
    ンジスタを直列接続する接続点および前記第3および前
    記第4のPチャネル型トランジスタを直列接続する接続
    点の少なくとも一方がインバータを介して前記第2のワ
    ード選択信号出力端子にそれぞれ接続されることを特徴
    とする請求項2または3の読み出し専用半導体記憶装置
    のデコード回路。
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