JP2589986B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2589986B2 JP2589986B2 JP19802987A JP19802987A JP2589986B2 JP 2589986 B2 JP2589986 B2 JP 2589986B2 JP 19802987 A JP19802987 A JP 19802987A JP 19802987 A JP19802987 A JP 19802987A JP 2589986 B2 JP2589986 B2 JP 2589986B2
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- Japan
- Prior art keywords
- glass
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体に関するものである。
［従来の技術］ 磁気ディスク用基板と、その上にスパッタ，メッキ，
蒸着等のプロセスにより形成した磁性膜及び保護膜から
なる構成体は、磁気記録媒体（以下、メディアと称す
る）と呼ばれる。
蒸着等のプロセスにより形成した磁性膜及び保護膜から
なる構成体は、磁気記録媒体（以下、メディアと称す
る）と呼ばれる。
磁気記憶装置は、このメディアと記録再生磁気ヘッド
（以下ヘッドと称する）を主構成部とし、操作開始時に
はヘッドとメディアは接触状態でセットしたあと、前記
のメディアに所要の回転を与えることにより、前記ヘッ
ドとメディア面との間に空気層分の空間を作り、この状
態で記録再生動作を行う。又、操作終了時にはメディア
の回転が止まり、この時ヘッドとメディアは操作開始時
と同様に接触状態に戻る（このような起動・停止の方式
をコンタクト・スタート・ストップCSSと云う）。
（以下ヘッドと称する）を主構成部とし、操作開始時に
はヘッドとメディアは接触状態でセットしたあと、前記
のメディアに所要の回転を与えることにより、前記ヘッ
ドとメディア面との間に空気層分の空間を作り、この状
態で記録再生動作を行う。又、操作終了時にはメディア
の回転が止まり、この時ヘッドとメディアは操作開始時
と同様に接触状態に戻る（このような起動・停止の方式
をコンタクト・スタート・ストップCSSと云う）。
このように、装置の起動時及び停止時にヘッドとメデ
ィアの間に生ずる接触摩擦力は、ヘッドおよびメディア
を摩耗させ磁気特性の劣化原因となる。
ィアの間に生ずる接触摩擦力は、ヘッドおよびメディア
を摩耗させ磁気特性の劣化原因となる。
又、多湿雰囲気中でメディアを放置してメディア表面
に水分が吸着している状態では、ヘッドとメディアの間
に水が入り込み、凝着現象を引き起こす。したがって、
この状態で起動すると、ヘッドおよびメディアに大きな
抵抗力を生じ、ヘッドの損傷やメディアの破壊を招くこ
とがある（これをヘッド・スティックあるいはヘッド・
クラッシュと通称している）。
に水分が吸着している状態では、ヘッドとメディアの間
に水が入り込み、凝着現象を引き起こす。したがって、
この状態で起動すると、ヘッドおよびメディアに大きな
抵抗力を生じ、ヘッドの損傷やメディアの破壊を招くこ
とがある（これをヘッド・スティックあるいはヘッド・
クラッシュと通称している）。
一般にガラスは表面の平滑性に優れ、硬く、変形抵抗
が大きく、かつ表面欠陥が少ない等の理由から高密度化
に適した磁気ディスク用基板として注目されている（特
開昭49−122707号、特開昭52−18002号）。
が大きく、かつ表面欠陥が少ない等の理由から高密度化
に適した磁気ディスク用基板として注目されている（特
開昭49−122707号、特開昭52−18002号）。
しかしながら、上述した耐CSS性およびヘッドスティ
ック性に対しては、ガラスは鏡面性が優れているが故
に、ガラス基板を用いたメディアは、他の平滑性の劣る
基板を用いたメディアに比べ、ヘッドとメディアの接触
面積が増大するため摩擦抵抗の増加や凝着力の増大を招
くことから問題があった。
ック性に対しては、ガラスは鏡面性が優れているが故
に、ガラス基板を用いたメディアは、他の平滑性の劣る
基板を用いたメディアに比べ、ヘッドとメディアの接触
面積が増大するため摩擦抵抗の増加や凝着力の増大を招
くことから問題があった。
このような欠点を解消するために、表面に機械的方法
あるいは化学的方法あるいはそれらを併用する方法によ
り微小な凹凸を形成させたガラス基板を用いることによ
り、ヘッドとメディアの間に生ずる摩擦力および凝着力
を低減させる方法が提案されている。
あるいは化学的方法あるいはそれらを併用する方法によ
り微小な凹凸を形成させたガラス基板を用いることによ
り、ヘッドとメディアの間に生ずる摩擦力および凝着力
を低減させる方法が提案されている。
またガラス基板として比較的安価なアルカリを含むガ
ラス例えばソーダライムシリカガラスを用いた場合、多
湿環境下において磁性膜のピンホール部あるいは磁性膜
の周縁部などガラスが露出した部分からアルカリイオン
が溶出しこれが引き金となって磁性膜が腐食あるいは変
質することが見出されている。
ラス例えばソーダライムシリカガラスを用いた場合、多
湿環境下において磁性膜のピンホール部あるいは磁性膜
の周縁部などガラスが露出した部分からアルカリイオン
が溶出しこれが引き金となって磁性膜が腐食あるいは変
質することが見出されている。
また一方ガラス基板は従来のアルミニウム合金等の基
板に比べ破壊強度が低い。従ってスピンドルへの装着そ
の他取扱い時における破損などに対する防止策として強
度の高いガラス基板、例えば強化処理したガラス基板を
用いることが望ましい。
板に比べ破壊強度が低い。従ってスピンドルへの装着そ
の他取扱い時における破損などに対する防止策として強
度の高いガラス基板、例えば強化処理したガラス基板を
用いることが望ましい。
［発明の解決しようとする問題点］ 前述のようにガラス基板には（１）多湿環境下あるい
はエイジングによる磁性膜の劣化を生起させないこと、
（２）実用上充分な強度を有すること、（３）表面に均
一な凹凸を形成し得ることが要求される。
はエイジングによる磁性膜の劣化を生起させないこと、
（２）実用上充分な強度を有すること、（３）表面に均
一な凹凸を形成し得ることが要求される。
前記したようにガラス基板として比較的安価なアルカ
リを含むガラスを用いた場合には、アルカリイオンのガ
ラス表面における存在あるいは多湿環境もしくは長期使
用によるガラス内部からのアルカリイオンの表面への移
動・析出が磁性膜劣化を誘起するから、これを回避する
ためにはアルカリ含有量の極めて低いガラス例えばノン
アルカリガラスを用いればよい訳であるが、その場合ガ
ラス製造時の溶解性が低下するなどの問題があり、安価
なガラスが得られにくい。
リを含むガラスを用いた場合には、アルカリイオンのガ
ラス表面における存在あるいは多湿環境もしくは長期使
用によるガラス内部からのアルカリイオンの表面への移
動・析出が磁性膜劣化を誘起するから、これを回避する
ためにはアルカリ含有量の極めて低いガラス例えばノン
アルカリガラスを用いればよい訳であるが、その場合ガ
ラス製造時の溶解性が低下するなどの問題があり、安価
なガラスが得られにくい。
一方実用上充分な強度を得るために施すガラスの強化
処理としては風冷強化、液冷強化あるいはイオン交換強
化がある。厚さの薄いディスク用ガラス基板の平坦性を
損う危険性の低い強化処理としては、いわゆる低温型イ
オン交換処理が好ましい。Naを含むガラスの低温型イオ
ン交換処理とは、ガラスの転移温度以下の温度でガラス
中のNa+イオンをそれよりイオン半径の大きいK+イオン
と交換する処理である。
処理としては風冷強化、液冷強化あるいはイオン交換強
化がある。厚さの薄いディスク用ガラス基板の平坦性を
損う危険性の低い強化処理としては、いわゆる低温型イ
オン交換処理が好ましい。Naを含むガラスの低温型イオ
ン交換処理とは、ガラスの転移温度以下の温度でガラス
中のNa+イオンをそれよりイオン半径の大きいK+イオン
と交換する処理である。
ガラスに含有されるアルカリは上記したようにイオン
交換される成分であるから、ノンアルカリガラスはイオ
ン交換強化の対象になり得ない。またアルカリを含むガ
ラスであってもアルカリの含有量が低いと、イオン交換
によってガラス表面に充分な厚さの圧縮応力層や充分な
圧縮応力が得られず、実用上充分な強度が得られない。
従って低温型イオン交換処理を行う以上は基板ガラスは
アルカリを含むガラスでなければならない。
交換される成分であるから、ノンアルカリガラスはイオ
ン交換強化の対象になり得ない。またアルカリを含むガ
ラスであってもアルカリの含有量が低いと、イオン交換
によってガラス表面に充分な厚さの圧縮応力層や充分な
圧縮応力が得られず、実用上充分な強度が得られない。
従って低温型イオン交換処理を行う以上は基板ガラスは
アルカリを含むガラスでなければならない。
また前述したガラス基板の表面の凹凸は極端に大きい
凹凸を含まず、微小で均一性が要求され、凹凸加工につ
いても再現性、安定性が求められる。また凹凸形成後の
ガラス表面のピットや微細なクラックの存在もでき得る
限り少ないことが要求される。
凹凸を含まず、微小で均一性が要求され、凹凸加工につ
いても再現性、安定性が求められる。また凹凸形成後の
ガラス表面のピットや微細なクラックの存在もでき得る
限り少ないことが要求される。
［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであ
り、化学組成が重量％表示で実質的にSiO2 65〜75,Al2
O3 ４〜9,B2O3 ５〜10,Na2O ５〜9.5,K2O ０〜3,Ba
O ３〜6,ZnO 0.5〜３であるガラスからなり、主表面
に均一で微小な凹凸が形成されたガラス基板上に磁性膜
が設けられていることを特徴とする磁気記録媒体を提供
するものである。
り、化学組成が重量％表示で実質的にSiO2 65〜75,Al2
O3 ４〜9,B2O3 ５〜10,Na2O ５〜9.5,K2O ０〜3,Ba
O ３〜6,ZnO 0.5〜３であるガラスからなり、主表面
に均一で微小な凹凸が形成されたガラス基板上に磁性膜
が設けられていることを特徴とする磁気記録媒体を提供
するものである。
本発明におけるガラス基板の各化学成分の限定理由は
次の通りである。
次の通りである。
SiO2はガラスのネットワークフォーマーであり、65％
未満では化学的耐久性が低下し、75％を越えると溶解が
困難となるので、いずれも好ましくない。Al2O3はガラ
スの化学的耐久性を向上させると同時に、ガラス表層部
のアルカリ金属をよりイオン半径の大きいアルカリ金属
で置換するイオン交換の速度を増大させ、而して、深い
圧縮応力層を形成させやすくする作用があり、４％以上
は必須である。一方、９％を越えると、溶解が困難とな
るため、好ましくない。B2O3はガラスの粘性を下げ、溶
解性、成形性を向上させるために、５％以上は必要であ
り、また、10％を越えると、ガラスが分相しやすくな
り、また、化学的耐久性が低下するので好ましくない。
Na2Oはガラス溶解時のフラックスとして作用すると同時
に、イオン交換を行う時に、イオン交換される主たる成
分である。５％未満では、ガラスの溶解性が低下すると
同時に、イオン交換により十分な厚さの圧縮応力層が得
られないので好ましくなく、また、9.5％を越えると化
学的耐久性が低下するだけでなく、Na+イオンのガラス
基板表面への析出量の増加に基づき磁性膜劣化の傾向が
増大するので好ましくない。K2Oは必須成分ではない
が、添加することにより、ガラスの溶解性を向上させ、
更に、イオン交換の速度を向上させることができる。し
かしながら、過度の添加はバッチコストを上昇させ、か
つ、化学的耐久性を低下させるので、３％以内にすべき
である。BaOはガラス溶解時にフラックスとして作用
し、また、化学的耐久性を向上させるので、３％以上含
ませるべきだが、６％を越えると失透しやすくなり、更
に、イオン交換速度が低下するので好ましくない。ZnO
は化学的耐久性を向上させる効果がある。0.5％未満で
は該効果が不十分であり、一方、３％を越えると溶解
性、イオン交換速度が低下するので、いずれも好ましく
ない。したがって、ZnOは0.5〜３％の範囲がより望まし
い。CaOおよびMgOは通常の原料、工程中より混入する不
純物としていずれも0.5％以下であれば、あっても構わ
ないが、それを越えると、イオン交換速度が低下するの
で好ましくない。
未満では化学的耐久性が低下し、75％を越えると溶解が
困難となるので、いずれも好ましくない。Al2O3はガラ
スの化学的耐久性を向上させると同時に、ガラス表層部
のアルカリ金属をよりイオン半径の大きいアルカリ金属
で置換するイオン交換の速度を増大させ、而して、深い
圧縮応力層を形成させやすくする作用があり、４％以上
は必須である。一方、９％を越えると、溶解が困難とな
るため、好ましくない。B2O3はガラスの粘性を下げ、溶
解性、成形性を向上させるために、５％以上は必要であ
り、また、10％を越えると、ガラスが分相しやすくな
り、また、化学的耐久性が低下するので好ましくない。
Na2Oはガラス溶解時のフラックスとして作用すると同時
に、イオン交換を行う時に、イオン交換される主たる成
分である。５％未満では、ガラスの溶解性が低下すると
同時に、イオン交換により十分な厚さの圧縮応力層が得
られないので好ましくなく、また、9.5％を越えると化
学的耐久性が低下するだけでなく、Na+イオンのガラス
基板表面への析出量の増加に基づき磁性膜劣化の傾向が
増大するので好ましくない。K2Oは必須成分ではない
が、添加することにより、ガラスの溶解性を向上させ、
更に、イオン交換の速度を向上させることができる。し
かしながら、過度の添加はバッチコストを上昇させ、か
つ、化学的耐久性を低下させるので、３％以内にすべき
である。BaOはガラス溶解時にフラックスとして作用
し、また、化学的耐久性を向上させるので、３％以上含
ませるべきだが、６％を越えると失透しやすくなり、更
に、イオン交換速度が低下するので好ましくない。ZnO
は化学的耐久性を向上させる効果がある。0.5％未満で
は該効果が不十分であり、一方、３％を越えると溶解
性、イオン交換速度が低下するので、いずれも好ましく
ない。したがって、ZnOは0.5〜３％の範囲がより望まし
い。CaOおよびMgOは通常の原料、工程中より混入する不
純物としていずれも0.5％以下であれば、あっても構わ
ないが、それを越えると、イオン交換速度が低下するの
で好ましくない。
本発明によるガラスは上記成分で97％以上を占めるも
のであり、残り３％未満については、Li2O、あるいは通
常用いられる清澄剤、着色剤等を含有することができ
る。Li2Oは、上記した本発明の組成のガラスに対し添加
することによってガラスの溶解性を向上させることがで
きるが、高価であるため、添加するにしても0.5％以
内、即ち０〜0.5％が望ましい。本発明における上記し
た化学組成のガラスは例えばフロート法により製造する
ことができる。
のであり、残り３％未満については、Li2O、あるいは通
常用いられる清澄剤、着色剤等を含有することができ
る。Li2Oは、上記した本発明の組成のガラスに対し添加
することによってガラスの溶解性を向上させることがで
きるが、高価であるため、添加するにしても0.5％以
内、即ち０〜0.5％が望ましい。本発明における上記し
た化学組成のガラスは例えばフロート法により製造する
ことができる。
本発明におけるガラス基板は、上記した化学組成をも
つ板状のガラス（これをガラス素板という）の主表面に
均一で微小な凹凸が形成されたものである。
つ板状のガラス（これをガラス素板という）の主表面に
均一で微小な凹凸が形成されたものである。
上記した微小な凹凸は、該凹凸からなる表面粗さの最
大高さ（Rmax）が基準長さ250μｍにおいて700Å以下で
あり、かつ基準長さ50μｍにおいて50Å以上であること
が望ましい。ここに表面粗さは、JIS B 0601［表面粗
さ］に準拠しており、触針式の表面粗さ計で触針の公称
半径2.5μｍのものを用い、針荷重25mg、充分遅い走査
速度で測定して得られるものを採用することにする。
大高さ（Rmax）が基準長さ250μｍにおいて700Å以下で
あり、かつ基準長さ50μｍにおいて50Å以上であること
が望ましい。ここに表面粗さは、JIS B 0601［表面粗
さ］に準拠しており、触針式の表面粗さ計で触針の公称
半径2.5μｍのものを用い、針荷重25mg、充分遅い走査
速度で測定して得られるものを採用することにする。
Rmaxが50Å未満の場合、メディアの静止摩擦特性やCS
S特性および磁気ヘッドの安定した浮上性に問題が生じ
る。一方、メディアに要求されるS/N比、ディフェクト
等の磁気特性および磁気ヘッドの低浮上化を満足させる
ためにはRmaxが1000Å程度以下、望ましくは700Å以下
がよい。
S特性および磁気ヘッドの安定した浮上性に問題が生じ
る。一方、メディアに要求されるS/N比、ディフェクト
等の磁気特性および磁気ヘッドの低浮上化を満足させる
ためにはRmaxが1000Å程度以下、望ましくは700Å以下
がよい。
該凹凸の形成方法としては、フッ酸水溶液、アルカリ
フッ化物、アルカリケイフッ化物等のフッ素を含む薬液
またはフッ化水素ガスを用いる化学的エッチング法、Si
C、Al2O3などの自由砥粒と定盤による研磨やラッピング
テープによる研磨等の機械的方法または化学的方法と機
械的方法の併用などが挙げられる。
フッ化物、アルカリケイフッ化物等のフッ素を含む薬液
またはフッ化水素ガスを用いる化学的エッチング法、Si
C、Al2O3などの自由砥粒と定盤による研磨やラッピング
テープによる研磨等の機械的方法または化学的方法と機
械的方法の併用などが挙げられる。
本発明の磁気記録媒体は上記ガラス基板の主表面にス
パッタ、メッキ、蒸着等のプロセスにより形成した磁性
膜および保護膜からなる。また該保護膜の上部を潤滑剤
で被覆することもできる。また必要によりガラス基板と
磁性膜の間にCrなどの下地層を設けることがある。磁性
膜としては、Co合金、Co−Ni合金、Co−Cr合金、Co−Pt
合金、Co−Pt−Ni合金等、保護膜としてはC,TiC,SiO2な
ど、また潤滑剤としてはパーフルオロポリエーテル、パ
ーフルオロカルボン酸、パーフルオロカルボン酸のアル
キルエステルなどが使用できる。
パッタ、メッキ、蒸着等のプロセスにより形成した磁性
膜および保護膜からなる。また該保護膜の上部を潤滑剤
で被覆することもできる。また必要によりガラス基板と
磁性膜の間にCrなどの下地層を設けることがある。磁性
膜としては、Co合金、Co−Ni合金、Co−Cr合金、Co−Pt
合金、Co−Pt−Ni合金等、保護膜としてはC,TiC,SiO2な
ど、また潤滑剤としてはパーフルオロポリエーテル、パ
ーフルオロカルボン酸、パーフルオロカルボン酸のアル
キルエステルなどが使用できる。
［実施例］ 実施例1.板状ガラスの作成 第１表に示したNO.1〜NO.6の６種類の組成のガラスが
得られるように常法に従い調合・混合し、ガラスバッチ
を調整した。次いで容量約500mlのPt−Rh10％坩堝に該
ガラスバッチを入れ、1500℃で均質化のための約１時間
の撹拌を含め約４時間溶融し、カーボン板上に流し出し
て板状とし徐冷後常法に従い切截・研磨して約1.9mm厚
の板状ガラスサンプルを得た。
得られるように常法に従い調合・混合し、ガラスバッチ
を調整した。次いで容量約500mlのPt−Rh10％坩堝に該
ガラスバッチを入れ、1500℃で均質化のための約１時間
の撹拌を含め約４時間溶融し、カーボン板上に流し出し
て板状とし徐冷後常法に従い切截・研磨して約1.9mm厚
の板状ガラスサンプルを得た。
上記板状ガラスサンプルおよび同じ厚さのソーダライ
ムシリカガラス（NO.7、比較例）より切り出した試料を
KNO3熔融塩浴に12時間浸漬することによりイオン交換強
化処理を行った後、該試料の小片を切り出し、偏光顕微
鏡により圧縮応力層の深さを測定した。その値を第１表
に示す。またNO.1〜NO.7試料の歪点の測定値も第１表に
示した。
ムシリカガラス（NO.7、比較例）より切り出した試料を
KNO3熔融塩浴に12時間浸漬することによりイオン交換強
化処理を行った後、該試料の小片を切り出し、偏光顕微
鏡により圧縮応力層の深さを測定した。その値を第１表
に示す。またNO.1〜NO.7試料の歪点の測定値も第１表に
示した。
実施例2.磁気記録媒体の耐湿テスト（１） 実施例１で得たNO.1〜NO.6の板状ガラスサンプルおよ
びNO.7の板状ガラスを切截・研磨して外径130×内径40
×厚さ1.9mmのガラスディスクを作成した。ガラスディ
スクNO.1〜NO.7を洗浄・乾燥させた後フッ化カリウムと
フッ酸を含む水溶液を用いて化学エッチング処理するこ
とにより該ディスクの主表面に凹凸の形成されたガラス
基板NO.1〜NO.7をそれぞれ複数枚つくった（未強化品あ
るいは未強化品NO.1〜NO.7と呼ぶ）。
びNO.7の板状ガラスを切截・研磨して外径130×内径40
×厚さ1.9mmのガラスディスクを作成した。ガラスディ
スクNO.1〜NO.7を洗浄・乾燥させた後フッ化カリウムと
フッ酸を含む水溶液を用いて化学エッチング処理するこ
とにより該ディスクの主表面に凹凸の形成されたガラス
基板NO.1〜NO.7をそれぞれ複数枚つくった（未強化品あ
るいは未強化品NO.1〜NO.7と呼ぶ）。
これらのガラス基板NO.1〜NO.7の表面粗さの最大高さ
（Rmax）は基準長さ250μｍで測定して500Å以内、基準
長さ50μｍで測定して100Å以上の範囲に入っていた。
なお、この表面粗さの測定に当っては半径2.5μｍの触
針を使用し針荷重25mg、十分遅い走査速度で測定した。
（Rmax）は基準長さ250μｍで測定して500Å以内、基準
長さ50μｍで測定して100Å以上の範囲に入っていた。
なお、この表面粗さの測定に当っては半径2.5μｍの触
針を使用し針荷重25mg、十分遅い走査速度で測定した。
またかくして得られた未強化品NO.1〜NO.7の各一部に
KNO3浴（460℃×12時間）による低温型イオン交換処理
を施し、強化されたガラス基板NO.1〜NO.7を作成した
（強化品あるいは強化品NO.1〜NO.7と呼ぶ）。
KNO3浴（460℃×12時間）による低温型イオン交換処理
を施し、強化されたガラス基板NO.1〜NO.7を作成した
（強化品あるいは強化品NO.1〜NO.7と呼ぶ）。
上記未強化品および強化品のそれぞれの主面上にスパ
ッタ法により厚さ約1500ÅのCrから成る下地層を形成し
たのち厚さ約600ÅのCo−30原子％Ni合金磁性層を形成
し、その上に厚さ約300Åのカーボン保護層を形成しさ
らにその上にプラズマ重合法により固体の潤滑層を形成
することにより磁気記録媒体を得た（未強化品磁気記録
媒体あるいは強化品磁気記録媒体と呼ぶ）。
ッタ法により厚さ約1500ÅのCrから成る下地層を形成し
たのち厚さ約600ÅのCo−30原子％Ni合金磁性層を形成
し、その上に厚さ約300Åのカーボン保護層を形成しさ
らにその上にプラズマ重合法により固体の潤滑層を形成
することにより磁気記録媒体を得た（未強化品磁気記録
媒体あるいは強化品磁気記録媒体と呼ぶ）。
これらについて80℃90％RHの雰囲気条件で耐湿テスト
を実施したところ、100時間後NO.7未強化品磁気記録媒
体はディスクの内周および外周の周縁部から１〜2mmの
範囲にわたってCo−Ni合金層のカーボン層との界面に変
色が認められた。NO.7強化品磁気記録媒体は同様に上記
周縁部から0.5〜1.5mmの範囲にわたって変色が認められ
た。これに対しNO.1〜NO.6磁気記録媒体は未強化品、強
化品共に変色が全く認められなかった。
を実施したところ、100時間後NO.7未強化品磁気記録媒
体はディスクの内周および外周の周縁部から１〜2mmの
範囲にわたってCo−Ni合金層のカーボン層との界面に変
色が認められた。NO.7強化品磁気記録媒体は同様に上記
周縁部から0.5〜1.5mmの範囲にわたって変色が認められ
た。これに対しNO.1〜NO.6磁気記録媒体は未強化品、強
化品共に変色が全く認められなかった。
実施例3.磁気記録媒体の耐湿テスト（２） 実施例２と同様にして作成したガラスディスクNO.1〜
NO.7を洗浄・乾燥させた後＃3000SiCラッピングテープ
を用いて該ディスクの主表面に同心円状の凹部および凸
部を形成させることによりガラス基板NO.1〜NO.7をそれ
ぞれ複数枚つくった（未強化品あるいは未強化品NO.1〜
NO.7と呼ぶ）。
NO.7を洗浄・乾燥させた後＃3000SiCラッピングテープ
を用いて該ディスクの主表面に同心円状の凹部および凸
部を形成させることによりガラス基板NO.1〜NO.7をそれ
ぞれ複数枚つくった（未強化品あるいは未強化品NO.1〜
NO.7と呼ぶ）。
これらのガラス基板NO.1〜NO.7の表面粗さの最大高さ
（Rmax）は基準長さ250μｍで測定して500Å以下、基準
長さ50μｍで測定して100Å以上の範囲に入っていた。
なお、この表面粗さの測定に当っては半径2.5μｍの触
針を使用し、針荷重25mg、十分遅い走査速度で測定し
た。
（Rmax）は基準長さ250μｍで測定して500Å以下、基準
長さ50μｍで測定して100Å以上の範囲に入っていた。
なお、この表面粗さの測定に当っては半径2.5μｍの触
針を使用し、針荷重25mg、十分遅い走査速度で測定し
た。
かくして得られた未強化品NO.1〜NO.7の各一部から実
施例２と同様なイオン交換処理により強化されたガラス
基板NO.1〜NO.7を作成した（強化品あるいは強化品NO.1
〜NO.7と呼ぶ）。
施例２と同様なイオン交換処理により強化されたガラス
基板NO.1〜NO.7を作成した（強化品あるいは強化品NO.1
〜NO.7と呼ぶ）。
上記未強化品および強化品のそれぞれの主表面に実施
例２と同様な方法によりほぼ同じ厚さのCrからなる下地
層、Co−Ni合金磁性層さらにカーボン保護層を形成し、
その上にパーフルオロポリエーテルから成る液体潤滑層
を設け磁気記録媒体を得た（それぞれ未強化品磁気記録
媒体あるいは強化品磁気記録媒体と呼ぶ）。
例２と同様な方法によりほぼ同じ厚さのCrからなる下地
層、Co−Ni合金磁性層さらにカーボン保護層を形成し、
その上にパーフルオロポリエーテルから成る液体潤滑層
を設け磁気記録媒体を得た（それぞれ未強化品磁気記録
媒体あるいは強化品磁気記録媒体と呼ぶ）。
かくして得られた磁気記録媒体について実施例２と同
様の条件で耐湿テストを実施した。NO.7は未強化品およ
び強化品共にディスクの内周および外周の周縁部の変色
と主表面内のテクスチャに沿ってほぼ全面に青色の変色
が認められた。これに対してNO.1〜NO.6磁気記録媒体は
未強化品、強化品何れも内外周、面内共に変色が全く認
められなかった。
様の条件で耐湿テストを実施した。NO.7は未強化品およ
び強化品共にディスクの内周および外周の周縁部の変色
と主表面内のテクスチャに沿ってほぼ全面に青色の変色
が認められた。これに対してNO.1〜NO.6磁気記録媒体は
未強化品、強化品何れも内外周、面内共に変色が全く認
められなかった。
実施例4.ガラス基板の強度テスト 前記した凹凸の形成されたガラス基板の未強化品およ
び強化品についてディスクの外周全周を支持し、内周部
に荷重をかける曲げ強度テストを行った。NO.7の曲げ強
度は、未強化品が約14.5kg/mm2であるのに対し、深さ約
20μｍの圧縮応力層をもつ強化品は、約45kg/mm2であっ
た。
び強化品についてディスクの外周全周を支持し、内周部
に荷重をかける曲げ強度テストを行った。NO.7の曲げ強
度は、未強化品が約14.5kg/mm2であるのに対し、深さ約
20μｍの圧縮応力層をもつ強化品は、約45kg/mm2であっ
た。
これに比べ、NO.1〜NO.6の未強化品は約14.5kg/mm2で
あるのに対し、同じく強化品は460℃×12Hrs.処理品が
約35kg/mm2,480℃×12Hrs.処理品が約36kg/mm2であっ
た。
あるのに対し、同じく強化品は460℃×12Hrs.処理品が
約35kg/mm2,480℃×12Hrs.処理品が約36kg/mm2であっ
た。
ディスク状磁気記録媒体（磁気ディスク）の高速度回
転に基づく応力は、内周部で最大であり切線方向の引張
応力である。5 1/4インチサイズのソーダライムガラスN
O.7のディスクの場合、この引張応力は3600r.p.m.で0.1
25kg/mm2程度である。傷のあるガラスの平均引張強度約
7kg/mm2に比べこの値は著しく低いので、単なる回転に
よりガラスが破損する可能性が低いと云える。
転に基づく応力は、内周部で最大であり切線方向の引張
応力である。5 1/4インチサイズのソーダライムガラスN
O.7のディスクの場合、この引張応力は3600r.p.m.で0.1
25kg/mm2程度である。傷のあるガラスの平均引張強度約
7kg/mm2に比べこの値は著しく低いので、単なる回転に
よりガラスが破損する可能性が低いと云える。
ガラス基板磁気ディスクが破損するとしたら、それは
該磁気ディスクをドライブ装置に組込むまでの工程中に
その可能性があると云える。ガラスは実際上塑性変形を
しないので集中的な応力が働くとA1ディスクに比べて破
損し易いため、そのような力が作用しないよう強い力が
加わる可能性のあるドライブシャフト，スペーサ，締結
金具等との接触部分にプラスチック等の材料を介在させ
るか強い力が加わらない工夫が望ましい。一方、Alディ
スクも高い精度の寸法を維持する必要性から塑性変形を
伴うような取扱いは好ましくない。
該磁気ディスクをドライブ装置に組込むまでの工程中に
その可能性があると云える。ガラスは実際上塑性変形を
しないので集中的な応力が働くとA1ディスクに比べて破
損し易いため、そのような力が作用しないよう強い力が
加わる可能性のあるドライブシャフト，スペーサ，締結
金具等との接触部分にプラスチック等の材料を介在させ
るか強い力が加わらない工夫が望ましい。一方、Alディ
スクも高い精度の寸法を維持する必要性から塑性変形を
伴うような取扱いは好ましくない。
この点からガラス基板磁気ディスクに要求される強度
としてAlの降伏強度10Kg/mm2以上が目安になる。
としてAlの降伏強度10Kg/mm2以上が目安になる。
前記実施例４の結果によれば、本発明の磁気記録媒体
の強度は上記10Kg/mm2に比べて数倍高く、実用上必要な
強度をもつものと認められる。
の強度は上記10Kg/mm2に比べて数倍高く、実用上必要な
強度をもつものと認められる。
実施例5.CSSテスト 実施例２および実施例３で得た本発明NO.1〜NO.6およ
び比較例NO.7の磁気記録媒体についてCSS特性，ヘッド
スティック性,S/N比およびミッシングパルスを評価し
た。その結果を第２表に示す。
び比較例NO.7の磁気記録媒体についてCSS特性，ヘッド
スティック性,S/N比およびミッシングパルスを評価し
た。その結果を第２表に示す。
［発明の効果］ １） 本発明の磁気記録媒体は汎用のソーダライムシリ
カガラスを基板とした磁気記録媒体に比べ、耐湿性、耐
エージング性が極めて優れている。
カガラスを基板とした磁気記録媒体に比べ、耐湿性、耐
エージング性が極めて優れている。
２） 本発明の磁気記録媒体は実際使用上充分な機械的
強度を有する。
強度を有する。
３） 本発明におけるガラス基板は再現性，安定性のあ
る表面凹凸形成加工ができ、該基板の主面に均一な凹凸
を設けることができる。
る表面凹凸形成加工ができ、該基板の主面に均一な凹凸
を設けることができる。
４） 本発明の磁気記録媒体はCSS特性，ヘッドスティ
ック性,S/N比およびディフェクト評価において汎用のソ
ーダライムシリカガラスを基板とした磁気記録媒体に比
べ同等以上である。
ック性,S/N比およびディフェクト評価において汎用のソ
ーダライムシリカガラスを基板とした磁気記録媒体に比
べ同等以上である。
５） 本発明は、耐湿・耐エイジング性，機械的強度な
らびに磁気ディスク記録媒体に要求される諸特性が実用
上バランスよく総合された優れた磁気記録媒体を提供す
るものである。
らびに磁気ディスク記録媒体に要求される諸特性が実用
上バランスよく総合された優れた磁気記録媒体を提供す
るものである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−77638（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−65954（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−63542（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−43819（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】化学組成が重量％表示で実質的にSiO2 65
〜75、Al2O3 ４〜９、B2O3 ５〜10、Na2O ５〜9.5、
K2O ０〜３、BaO ３〜６、ZnO 0.5〜３であるガラス
からなり、主表面に均一で微小な凹凸が形成されたガラ
ス基板上に磁性膜が設けられていることを特徴とする磁
気記録媒体。 - 【請求項２】化学組成が重量％表示で実質的にSiO2 65
〜75、Al2O3 ４〜９、B2O3 ５〜10、Na2O ５〜9.5、
K2O ０〜３、BaO ３〜６、ZnO 0.5〜３であるガラス
からなり主表面に均一で微小な凹凸が形成されたガラス
基板にイオン交換強化処理を施して得られたガラス基板
上に磁性膜が設けられていることを特徴とする特許請求
の範囲第１項の磁気記録媒体。 - 【請求項３】上記した均一で微小な凹凸からなる表面粗
さの最大高さが、基準長さ250μｍにおいて700Å以下で
あり、かつ基準長さ50μｍにおいて50Å以上であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項の磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19802987A JP2589986B2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19802987A JP2589986B2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6442025A JPS6442025A (en) | 1989-02-14 |
| JP2589986B2 true JP2589986B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=16384339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19802987A Expired - Lifetime JP2589986B2 (ja) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2589986B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0692263B2 (ja) * | 1989-02-16 | 1994-11-16 | 伊藤忠商事株式会社 | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
| JPH03113823A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-15 | Itochu Shoji Kk | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
| JPH067410B2 (ja) * | 1989-10-02 | 1994-01-26 | 伊藤忠商事株式会社 | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスクの製造方法 |
| JP4071309B2 (ja) * | 1995-11-14 | 2008-04-02 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法、並びに磁気ディスクメディアの製造方法 |
| FR2744440B1 (fr) * | 1996-02-07 | 1998-03-20 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
| US6187441B1 (en) | 1996-12-26 | 2001-02-13 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic recording medium having the substrate |
| AU2473601A (en) | 2000-01-05 | 2001-07-16 | Schott Glass Technologies, Inc. | Glass substrates for magnetic media and magnetic media based on such glass substrates |
| JP4034056B2 (ja) | 2000-09-13 | 2008-01-16 | 日本板硝子株式会社 | 非晶質材料の加工方法 |
| DE10133963B4 (de) * | 2001-07-17 | 2006-12-28 | Schott Ag | Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen |
| JP4185266B2 (ja) | 2001-07-25 | 2008-11-26 | Ｈｏｙａ株式会社 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
| US8341976B2 (en) | 2009-02-19 | 2013-01-01 | Corning Incorporated | Method of separating strengthened glass |
| US9670088B2 (en) | 2014-05-20 | 2017-06-06 | Corning Incorporated | Scratch resistant glass and method of making |
| JP2019512444A (ja) | 2016-03-04 | 2019-05-16 | コーニング インコーポレイテッド | 表面圧縮応力が高いイオン交換可能なガラス |
-
1987
- 1987-08-10 JP JP19802987A patent/JP2589986B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6442025A (en) | 1989-02-14 |
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