JP2581879B2 - 磁気光学探傷装置 - Google Patents

磁気光学探傷装置

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JP2581879B2
JP2581879B2 JP4259484A JP25948492A JP2581879B2 JP 2581879 B2 JP2581879 B2 JP 2581879B2 JP 4259484 A JP4259484 A JP 4259484A JP 25948492 A JP25948492 A JP 25948492A JP 2581879 B2 JP2581879 B2 JP 2581879B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼板,鋼片等々強磁性
体(以下対象材)に磁界を印加すると、対象材の表面に
傷があるとそこから磁束が漏れる現象を利用して、この
漏れ磁束を磁気光学効果素子(ファラデ−素子)を介し
て光学的に検出する探傷装置に関する。
【0002】
【従来技術】磁界を加えた対象材の表面に面対向したフ
ァラデ−素子の表面に偏光を照射し、該表面の反射光を
検光子を介して撮影すると、対象材がその表面に垂直な
磁束を発生しないときには、実質上均一な磁区模様(例
えば図4の(a)の、中央の白,黒縞を除く、ランダム
な白,黒模様)が表われた画像が得られる。対象材の表
面に傷があるとそこから磁束が漏れるので垂直磁界が生
じ、そこでは垂直磁界の方向に依存して、黒い磁区の幅
が太ると同時に白い磁区の幅が細る、あるいは白い磁区
の幅が太ると同時に黒い磁区の幅が細る。例えば図4の
(a)の中央部に示すように、白,黒縞が現われる。
白,黒縞の一方は、対象材表面から磁束が出ている箇所
であり他方は該磁束が対象材にまた入っている箇所であ
る。漏れ磁束(磁界)が強い程、白縞の白い面積の割合
が高く黒縞の黒い面積の割合が高くなる。図4の(a)
に見られるように、白縞領域および黒縞領域は磁気模様
に磁区模様の幅変調を施したようなものであるので、視
認では大要を認知しうるが、それらを電気的処理により
磁気模様から弁別することはかなり難かしい。一般的に
は、撮像カメラの画像信号の高周波分(磁区模様)を遮
断し低周波分(白縞領域および黒縞領域)を摘出する
が、傷サイズが小さいと、例えば磁区の幅に近くなる
と、傷信号(白,黒縞領域)まで減衰し、傷検出が困難
となるなど、小さい傷に対して所望の傷検出精度が得ら
れないという問題がある。
【0003】特開平2−227666号公報や特開平3
−245052号公報には、鋼板の圧延方向(鋼板圧延
時の鋼板移動方向)に長辺を合せたスリットを通してフ
ァラデ−素子の反射光を撮影することにより、圧延済鋼
板すなわち探傷対象材の、該圧延方向に延びている傷の
検出精度を高くすることが述べられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしスリットの幅が
狭いので、スリット幅方向すなわち鋼板の幅方向の探傷
範囲が極く狭く、探傷効率がきわめて低くなる。また、
左右方向の分解能が低下する。
【0005】本発明は、探傷効率を格別に下げることな
く検出精度を向上することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本願の第1番の発明(請
求項1;図2)の磁気光学探傷装置は、探傷対象材(1)
に、その表面に実質上平行な磁束を生起する励磁手段
(3,4);該励磁手段(3,4)が発生する磁界の方向を反転す
る励磁反転手段(38);前記表面に面対向する磁気光学効
果素子(2);磁気光学効果素子(2)の表面に偏光を投射す
る偏光照明手段(5,6);磁気光学効果素子(2)の表面を撮
影する一次元又は2次元イメ−ジカメラ(9);磁気光学
効果素子(2)の前記表面と前記イメ−ジカメラ(9)の間の
光路に介挿され、検光方向を回転しうる検光子(8a);該
検光子(8a)の検光方向を回転する回転付勢手段(8b,39);
および、前記イメ−ジカメラ(9)の画像信号出力周期よ
り短い周期で、前記励磁反転手段(38)を介した磁界方向
の交互反転と前記回転付勢手段(8b,39)を介した検光方
向の交互反転を同期して行なう反転制御手段(22,37);
を備える。
【0007】本願の第2番の発明(請求項4:図5)の
磁気光学探傷装置は、探傷対象材(1)に、その表面に実
質上平行な磁束を生起する励磁手段(3,4);該励磁手段
(3,4)が発生する磁界の方向を反転する励磁反転手段(3
8);前記表面に面対向する磁気光学効果素子(2);磁気光
学効果素子(2)の表面に偏光を投射する偏光照明手段(5,
6);光強度を電気信号レベルに変換する単位素子の2次
元配列でなる素子マトリクスを有する2次元イメ−ジカ
メラ(9A);磁気光学効果素子(2)の前記表面と前記イメ
−ジカメラ(9)の間の光路に介挿され、検光方向を回転
しうる検光子(8a);該検光子(8a)の検光方向を回転する
回転付勢手段(8b,39);前記イメ−ジカメラ(9A)の画像信
号出力周期より短い周期で、前記励磁反転手段(38)を介
した磁界方向の交互反転と前記回転付勢手段(8b,39)を
介した検光方向の交互反転を同期して行なう反転制御手
段(22,37);および、前記イメ−ジカメラ(9A)の素子マ
トリクスの、実質上同一直線上にある複数の単位素子の
電気信号レベルを加算し、和レベルを示す電気信号を発
生する積算手段(CPU3);を備える。
【0008】本願の第3番の発明(請求項5;図10)
の磁気光学探傷装置は、探傷対象材(1)に、その表面に
実質上平行な磁束を生起する励磁手段(3,4);該励磁手
段(3,4)が発生する磁界の方向を反転する励磁反転手段
(38);前記表面に面対向する磁気光学効果素子(2);磁気
光学効果素子(2)の表面に偏光を投射する偏光照明手段
(5,6);光強度を電気信号レベルに変換する単位素子の
一次元配列でなる素子列を有する一次元イメ−ジカメラ
(9L);磁気光学効果素子(2)の前記表面と前記イメ−ジ
カメラ(9L)の間の光路に介挿され、検光方向を回転しう
る検光子(8a);該検光子(8a)の検光方向を回転する回転
付勢手段(8b,39);前記イメ−ジカメラ(9L)の画像信号出
力周期より短い周期で、前記励磁反転手段(38)を介した
磁界方向の交互反転と前記回転付勢手段(8b,39)を介し
た検光方向の交互反転を同期して行なう反転制御手段(2
2,37);および、前記イメ−ジカメラ(9L)の素子列の、
同一単位素子の電気信号レベルを時系列で加算し、和レ
ベルを示す電気信号を発生する積算手段(CPU4);を備え
る。
【0009】なお、カッコ内の記号は、図面に示し後述
する各実施例の対応要素を示す。
【0010】
【作用】図1の(a)を参照する。探傷対象材(1)の表
面に欠陥10があるとすると、磁気光学効果素子(2)上
に、欠陥10対応の白,黒縞(例えば図4の(a)の中
央部に示す)すなわち欠陥像10eが表われる。探傷対
象材(1)がy方向に移動するとこの欠陥像10eも同じ
く移動するが、磁気光学効果素子(2)上の磁区模様は静
止である。
【0011】本願の第1〜3番の発明では、反転制御手
段(22,37)が、イメ−ジカメラ(9/9A/9L)の画像出力周期
(Svytの周期dt)より短い周期(Sevyの周期dt/2)で、励
磁反転手段(38)を介した磁界方向の交互反転と、回転付
勢手段(8b,39)を介した検光方向の交互反転を同期して
行なう。磁界方向の反転により欠陥像(10e)の白縞と黒
縞の面積の比率は反転するが磁区模様領域ではこのよう
な反転を生じない。ところが検光方向が反転すると、欠
陥像(10e)および磁区模様の両者の白,黒が共に反転す
る。したがって、反転制御手段(22,37)が磁界方向と検
光方向を同期して反転したとき、イメ−ジカメラ(9/9A/
9L)ヘの投影像では、欠陥像(10e)の白,黒縞の幅比は反
転しないが、磁区模様は白,黒が反転することになる。
反転制御手段(22,37)が、画像出力周期(Svytの周期dt)
より短い周期(Sevyの周期dt/2)で上述の如き反転を行
なうので、カメラ(9/9A/9L)が出力する電気信号レベル
(Sx)においては、磁区模様の明確な白,黒がこの反
転により平均化されて白と黒の中間値(灰色)となる。
これにより、欠陥10が無い領域では中間(灰色)レベ
ルで、欠陥10の位置で高レベルの白および高濃度の黒
を表わすピ−クが現われる、磁区模様対応の白,黒ピ−
クが無い電気信号レベル(Sx)が得られる。
【0012】本願の第2番の発明では、2次元イメ−ジ
カメラ(9A)が磁気光学効果素子(2)の表面を撮影し、積
算手段(CPU3)が、カメラ(9A)の光/電気変換素子マトリ
クスの、実質上同一直線上にある複数の単位素子の電気
信号レベル(ASx)を加算し、和レベルを示す電気信号(S
x)を発生する。素子マトリクス上に図4の(a)に示す
像が投影されており中央の白,黒縞が欠陥対応である場
合、y方向に延びる各ライン上の、単位素子受光レベル
の総和(平均値も同義)をとると、総和レベルは、x方
向で、磁区模様対応位置では白,黒の中間値(灰色)と
なり、欠陥領域の白縞部では高レベルの白,欠陥領域の
黒縞部では高濃度の黒となる。このように総和レベル
は、欠陥が無い領域では中間(灰色)レベルで、欠陥の
位置で高レベルの白および高濃度の黒を表わすピ−クと
なる。磁区模様対応の白,黒ピ−クが無い電気信号レベ
ル(Sx)が得られ、欠陥検出精度が高い。x方向に延びる
各ライン上の、単位素子受光レベルの総和をとると、x
方向に比較的に長い欠陥に対して精度が高い電気信号レ
ベルが得られる。xおよびy方向に対して45度傾斜し
た方向のライン上の、単位素子受光レベルの総和をとる
と、45度傾斜した方向に比較的に長い欠陥に対して精
度が高い電気信号レベル(Sx)が得られる。この第2番の
発明によれば、上述の、第1〜3番の発明に共通の作用
効果に加えて、積算手段(CPU3)が総和をとる方向に長い
欠陥の検出精度が高い、という付加の作用効果が得られ
る。
【0013】本願の第3番の発明では、一次元イメ−ジ
カメラ(9L)が磁気光学効果素子(2)の表面を撮影し、積
算手段(CPU3)が、カメラ(9L)の光/電気変換素子列の、
同一の単位素子の電気信号レベル(LSx)を時系列加算
し、和レベルを示す電気信号(Sx)を発生するので、光/
電変換素子列に直交する方向(y)に比較的に長い欠陥に
対して精度が高い電気信号レベル(Sx)が得られ、上述
の、第1〜3番の発明に共通の作用効果に加えて、光/
電変換素子列に直交する方向(y)にに長い欠陥の検出精
度が高い、という付加の作用効果が得られる。
【0014】単位素子受光レベルの総和をデジタル処理
に得る場合、マトリクスが大きい程、総和を表わすデ−
タビット数(桁数)が大きくなり、演算処理速度が低下
する。そこで第2番および第3番の発明の好ましい実施
例では、単位素子受光レベルを2値化(白:「1」,
黒:「0」)してから2値デ−タを加算する(白:
「1」のみをカウントアップする)。これによれば演算
処理用のデ−タビット数が大幅に低減し、演算処理速度
が高い。
【0015】本願の各発明の他の目的および特徴は図面
を参照した以下の実施例の説明より明らかになろう。
【0016】
【実施例】
(実施例1:図2)図1の(a)に、第1番の発明の一
実施例の外観概要を示す。鋼板1は実質上定速度でy方
向に送られる。鋼板1の下面には、小ギャップを置いて
マグネットコア3の極端面が対向している。コア3には
電気コイル4が巻回されており、この電気コイル4に、
マグネットドライバ38(図2)が、通電方向が所定周
期(後述)で反転する励磁電流を流す。これにより鋼板
1にはその幅方向すなわちx方向に交番磁界が加わる。
鋼板1の表面に、微小ギャップを置いてファラデ−素子
(磁気光学効果素子)2が面対向している。反射板の下
方の光源5がファラデ−素子2の全面を照明するが、光
源5とファラデ−素子2の間に偏光シ−ト6が配置され
ており、特定方向に偏向した光のみがファラデ−素子2
を照明する。ファラデ−素子2の表面は、ファラデ−素
子2の偏光作用を受けない長波長光を遮断する干渉フィ
ルタ7および検光装置8を通して、2次元イメ−ジカメ
ラ9で撮影される。鋼板1にはアィドルロ−ラ10が接
触しており、ロ−ラ10に連結されたロ−タリエンコ−
ダ11が、ロ−ラ10の所定小角度の回転につき1パル
スの電気パルスを発生する。この電気パルスの周波数
は、鋼板1のy方向の移動速度Vyoに比例する。
【0017】マグネットドライバ38(図2)が電気コ
イル4に正方向通電しているときには、カメラ9には例
えば図4の(a)に示す画像が投影される。ドライバ3
8が逆方向通電すると、図4の(a)の画像の、「欠陥
10の模様10e」と表記した領域の縦につながる白縞
および黒縞の白黒面積比が反転するが、磁区模様の白,
黒は反転しない。
【0018】図1の(b)に、干渉フィルタ7および検
光装置8の縦断面を拡大して示す。検光装置8は、磁界
が加わっていないときには偏光シ−ト6の偏向面に対し
て−45度回転した方向の検光方向であるが、磁界が加
わると偏光シ−ト6の偏向面に対して+45度回転した
検光方向となる検光子8と、この検光子8に磁界を加え
るための電気コイル8bで、構成されている。電気コイ
ル8bに接続されたコイルドライバ39(図2)が電気
コイル8bに通電すると、検光子8aを通った画像は、
通電していないときのものに対して、白,黒が反転す
る。すなわち、例えば図4の(a)に示す画像が、その
全画像中の黒を白に、白を黒に反転した画像がカメラ9
に投影される。
【0019】したがって、上記マグネットドライバ38
による電気コイル4の通電方向の切換えと、コイルドラ
イバ39による電気コイル8bの正電流/逆電流の切り
替えを同期させて同一時点に行なうと、検光装置8がカ
メラ9に投影する画像においては、磁区模様がこれらの
切換えに連動して白,黒反転するが、欠陥10対応の
白,黒縞はこのような反転をしない。その結果、時系列
平均では、磁区模様領域は中間濃度値となるが、欠陥1
0対応の白および黒縞はそれぞれ白レベルの積分および
黒レベルの積分となり、磁区模様領域に対して際立った
濃度差を生ずることになる。
【0020】イメ−ジカメラ9の、光/電気変換単位素
子を2次元配列した素子マトリクス上に、レンズ9Lを
通してファラデ-素子2の表面像が投影され、鋼板1上
の表面欠陥10に対応する、ファラデ−素子2上の白,
黒縞(図4の(a)の中央部に示す)すなわち欠陥像1
0eは、素子マトリクス上で、鋼板1のy方向移動速度
Vyoに比例した速度Vytで、右から左に向かって移動す
る。図1においてファラデ−素子2上の矩形領域90f
がイメ−ジカメラ9の素子マトリクス上に投影される。
後述するように、フレ−ム同期パルスSvytの周期dt
の1/2の周期で、電気コイル4の通電方向を反転しか
つ電気コイル8bの正電流/逆電流を切換える、上述
の、磁区模様のみの白,黒反転操作が行なわれるので、
欠陥像10eのある点Dtpが素子マトリクスのあるライ
ン上に露光されているdt間、該ライン上の磁区模様
は、dt/2の間はポジ露光、次のdt/2の間はネガ
露光となり、これらの露光のト−タルdtでは、磁区模
様はポジ/ネガ露光の相殺となって、時系列で見ると磁
区模様は白と黒を相殺した中間値(灰色)の露光と等価
となる。
【0021】欠陥像10eの各部は上述のように露光時
間dtとなるのに対して、磁区模様の各部はdtの露光
時間ではあるが同一部位の白,黒反転露光となるので、
出力信号Sxにおいては、図4の(b)に示すように、
磁区模様対応のレベル変動は無くなり、欠陥像10e対
応の際立った白ピ−クレベルおよび黒ピ−クレベルが現
われる。
【0022】図2に、図1の(a)に示す電気コイル4
および図1の(b)に示す電気コイル8bに通電し、し
かもイメ−ジカメラ9の出力信号を処理し欠陥判定を行
なう電気回路の概要を示す。ロ−タリエンコ−ダ11が
発生する電気パルスは信号処理回路20で増幅および波
形整形されてF/V変換器21に与えられ、F/V変換
器21が、エンコ−ダ11が発生するパルスの周波数に
比例する電圧すなわち鋼板1の移動速度Vyoにレベルが
比例する電圧を発生する。この電圧はV/F変換器22
に与えられ、V/F変換器22は与えられる電圧レベル
に比例する周波数のパルスSevy(周期がdt/2)を
発生する。
【0023】V/F変換器22が発生するパルスSevy
は、可変遅延器51を介してコイルドライバ39に与え
られると共にその反転信号が可変遅延器50を介してマ
グネットドライバ38に与えられる。可変遅延器50,
51は、コイル電流の立ち上がりの遅れを補正するもの
で、電流の反転がSevyの立ち上がり、立ち下がりに同
期するように設定する。またこのパルスSevyは、分周
器37に与えられる。分周器37は、パルスSevyの周
波数の整数e分の1の周波数のパルスSvytを発生しこ
れをフレ−ム同期パルスとしてイメ−ジカメラ9に与え
る。イメ−ジカメラ9は、このパルスSvytに同期して
画像出力(Svytの1パルスにつき1画面出力)を行な
い、1画面の露光時間が実質上パルスSvytの周期dt
となる。磁区模様の白,黒を平均化するには、イメ−ジ
カメラ9の画像出力一周期(dt)内に整数e回の、上
述の白,黒反転を行なえばよい。すなわちe=1,2,
3,・・・とするのが好ましく、この実施例では、e=
2に設定している。すなわちイメ−ジカメラ9に与える
フレ−ム同期パルスSvytの周期dtを、マグネットド
ライバ38およびコイルドライバ39に与える切換え同
期パルスSevyの周期(dt/2)の2倍に設定してい
る。
【0024】図3に、これらのパルスSevyおよびSvyt
と、電気コイル4および8に流れる電流との関係を示
す。
【0025】イメ−ジカメラ9は、分周器37が与える
フレ−ム同期パルス(速度指示パルス)Svytに同期し
て光/電気変換単位素子マトリクス9apgの、1画面の
画像出力を行なう。これにより、鋼板1の移動速度と、
イメ−ジカメラ9の画像(画面)出力速度とが比例関係
になっている。加えて、F/V変換器21の、入力周波
数に対する出力電圧レベルの比、ならびに、V/F変換
器22の入力電圧レベルに対する出力パルス周波数の
比、の調整により、鋼板1の移動速度に対して画像出力
速度を設定している。
【0026】イメ−ジカメラ9は、パルスSvytの周期
で画面情報(nライン分の電気信号Sx;図4のb)を
出力すると共に、ライン同期パルスPLsおよび画素同
期パルスPvxを出力する。
【0027】電気信号Sxはロ−パスフィルタ12を介
して3値化回路13に与えられる。ロ−パスフィルタ1
2は、圧延方向(y)に長い表面疵のx方向幅(検出し
ようとする最小幅)対応の信号Sxのレベル変動周波数
よりも高い周波数のレベル変動を平滑化(遮断)する。
3値化回路13は2個の比較器と論理素子でなり、信号
Sxのレベルが、第1基準値Rs1以下の第1領域,第
1基準値Rs1を越え第2基準値Rs2未満の第2領域
および第2基準値Rs2以上の第3領域(図4のb)
の、いずれにあるかを示す2ビットデ−タ(図4のc;
下位桁b1,上位桁b2)を出力する。すなわち、信号
Sxのレベルが第1領域にあると0(b2),0(b
1)、第2領域にあると0,1および第3領域にあると
1,0のデ−タを出力する。
【0028】鋼板1のy方向移動速度Vyoが高いとき、
イメ−ジカメラ9の画面出力速度が高く、ファラデ−素
子2上の鋼板1の欠陥10対応像10eの露光時間が短
い。鋼板1の移動速度の変動や、変更により該露光時間
が変化し信号Sxの欠陥対応レベルが変動するので、こ
の変動によっても3値化デ−タが実質上変動しないよう
に、鋼板1の速度Vyoを差動増幅器18,19のマイナ
ス入力端に与えて、差動増幅器18,19より、オペレ
−タ設定値より速度Vyo対応値を減算して第1基準値R
s1,第2基準値Rs2を生成し3値化回路13(の比
較器)に与えるようにしている。これにより、鋼板1の
移動速度Vyoの変化に連動(該変化による露光時間の変
化→信号Sxのレベルシフト、に対応)して、第1基準
値Rs1,第2基準値Rs2が信号Sxのレベルシフト
方向に同様にシフトし、3値化デ−タは鋼板1の移動速
度の変化によっては実質上変動しない。
【0029】3値化デ−タ(図4のc)の上位桁ビット
b2はR/Sフリップフロップ14のセット入力端S
に、下位桁ビットb1はリセット入力端に与えられる。
フリップフロップ14は、信号Sxのレベルが第2領域
から第3領域に変化したときにすなわち上位桁ビットが
0から1に立上ったときに、セットされてその出力b3
を0から1に反転する。そして信号Sxのレベルが第1
領域から第2領域に変化したときにすなわち下位桁ビッ
トが0から1に立上ったときに、リセットされてその出
力b3を1から0に反転する(図4のd)。このフリッ
プフロップ14の出力b3の「1」が欠陥有りを意味す
る。なお、フリップフロップ14は、ライン同期信号P
Lsが0から1に立上ったときにもリセットされる。
【0030】信号Sxを高周波分平滑化処理した信号
(図4のb相当),画素同期パルスPvxおよびライン同
期信号PLsはCRTディスプレイCRT1(4値以上
のデジタル階調表示)に与えられ、3値化デ−タ,同期
パルスPvx,同期信号PLsはCRTディスプレイCR
T2(3値表示)に与えられ、欠陥信号b3,同期パル
スPvx,同期信号PLsはCRTディスプレイCRT3
(2値表示)に与えられる。また、これらのディスプレ
イCRT1〜3の画面上像位置を整合させるために、画
面同期パルスPFsをディスプレイCRT1〜3に与え
る。
【0031】ディスプレイCRT1は画像メモリ(多階
調画像デ−タメモリ)を内蔵しており、画面同期パルス
PFsに応答して、また同期パルスPvx,同期信号PL
sに応答して一画面分の信号Sxの読込み(デジタル変
換,メモリへの書込み,CRTの表示更新)を行なう。
そして画像メモリのデ−タをCRTに更新表示する。C
RTには、背景が灰色で、欠陥部が白および黒縞の階調
画像(アナログ風)が表示される。
【0032】ディスプレイCRT2は画像メモリ(3値
画像デ−タメモリ)を内蔵しており、画面同期パルスP
Fsに応答して、また同期パルスPvx,同期信号PLs
に応答して3値化デ−タb2,b1の読込み(メモリへ
の書込み,CRTの表示更新)を行なう。そして画像メ
モリのデ−タをCRTに更新表示する。CRTには、背
景が灰色で、欠陥部が白および黒縞の3値画像が表示さ
れる。
【0033】ディスプレイCRT3は画像メモリ(2値
画像デ−タメモリ)を内蔵しており、画面同期パルスP
Fsに応答してまた同期パルスPvx,同期信号PLsに
応答して2値デ−タb3の読込み(メモリへの書込み,
CRTの表示更新)を行なう。そして画像メモリのデ−
タをCRTに更新表示する。CRTには、背景が黒で、
欠陥部が白の2値画像が表示される。
【0034】図2に示すマイクロプロセッサ(以下CP
U)1は、操作・表示ボ−ド25の入力読取および該ボ
−ド25への表示用の出力を行なう。オペレ−タはディ
スプレイCRT1の表示と、ディスプレイCRT2およ
び/又はディスプレイCRT3の表示とを対比して、し
かもこれらの表示に対応する鋼板1上の欠陥10の形状
等を参照して、基準値Rs1,Rs2のべ−ス値を操作
・表示ボ−ド25で調整しうる。すなわち、CPU1
は、電源オン直後にはプログラム上設定された固定値
(ベ−ス値の基準値)をD/Aコンバ−タ16,17へ
出力(ラッチ)し操作・表示ボ−ド25に表示するが、
その後操作・表示ボ−ド25よりそれらの値の変更入力
があるとそれに応じてベ−ス値を変更してD/Aコンバ
−タ16,17へ更新出力(更新ラッチ)し操作・表示
ボ−ド25に更新表示する。これにより3値化回路13
に与えられる第1基準値Rs1,第2基準値Rs2が変
更される。このように第1基準値Rs1,第2基準値R
s2を調整して、欠陥有無信号b3が示す欠陥幅(図4
の(d)に示すb3の高レベル幅)を、欠陥幅に対応す
るように調整しうる。
【0035】CPU1は、操作・表示ボ−ド25(又は
別途のホストコンピュ−タ)よりスタ−ト信号(鋼板1
先端到来信号)が到来すると、これをCPU2に転送す
る。CPU2は、この信号を受けるとyカウンタ36を
クリアして、yカウンタ36の、速度同期パルスPvy
のカウントアップをスタ−トする。これによりyカウン
タ36のカウントデ−タは、スタ−ト信号(鋼板1先
端)から鋼板1が移動した距離(鋼板1上の探傷位置)
を示すものとなる。CPU2は次いでライン同期パルス
PLsが立上るときにxカウンタ35をクリアして、x
カウンタ35の、画素同期パルスPvxのカウントアッ
プをスタ−トする。これによりxカウンタ35のカウン
ドデ−タは、探傷視野90f(図2)のx方向の走査始
端からの走査進行位置(x位置)を示すものとなる。C
PU2は更に、欠陥有無を示す信号b3をRAM1に書
込み、RAM1上に欠陥有無のビットマップを作成す
る。これはディスプレイ33の画像メモリへのデ−タの
書込みと同様である。CPU2は更に、RAM1(ビッ
トマップ)上で欠陥を示す1の存否をチェックし、それ
があるとそれが分布する領域を切出して、そのy方向長
さ(欠陥領域のy方向最大長)およびx方向幅(欠陥領
域のx方向最大幅)を算出し、これらのデ−タと欠陥始
端のx位置(ビットマップ上)およびそのときのyカウ
ンタ36のカウントデ−タをRAM2に書込み、CPU
1に「出力」を指示する。CPU1はこの指示に応答し
てRAM2のデ−タを操作・表示ボ−ド25に出力す
る。プリンタ等他の出力手段もあればこれにも出力す
る。これにより、ビットマップ(RAM1)上でCPU
2が検出した欠陥のx,y位置ならびに欠陥のy方向長
さおよびx方向幅が操作・表示ボ−ド25に表示され、
プリンタ等で印字される。
【0036】(実施例2:図5)図5に、本願の第2番
の発明の一実施例(実施例2)の、前述の実施例1と異
なる部分を示す。図5に示す撮像/信号処理装置40A
は、図2の撮像/信号処理装置40に置き換えられるも
のである。すなわち、図2より撮像/信号処理装置40
を削除し、そこに図5に示す撮像/信号処理装置40A
を挿入することにより、また図1に示すカメラ9を図5
に示すカメラ9Aと置換することにより、図1および図
2が、第2番の発明の一実施例(実施例2)を示すもの
となる。
【0037】図5に示す2次元イメ−ジカメラ9Aは、
V/F変換器22が発生するパルスSvytに同期して1画
面の画像信号を出力し(すなわち露光時間がSvytの周期
に比例)、アナログビデオ信号Asx,画素同期パルスA
Pvx,ライン同期パルスAPLsおよびフレ−ム同期信
号APFsを出力する。2値化回路42がアナログビデ
オ信号Asxを白(1),黒(0)に2値化する。まず概
要を説明すると、CPU3はこの2値化デ−タを、フレ
−ム同期信号APFs,ライン同期パルスAPLsおよ
び画素同期パルスAPvxに基づいて、カメラ9Aの1フ
レ−ム分、フレ−ムRAM1に書込む。すなわちフレ−
ムRAM1上に2値化デ−タのビットマップを展開す
る。
【0038】そしてビットマップ上の白(1)をy方向
でカウントしてy方向に延びる各ライン上の白(1)存
在個数をカウントする。すなわちy方向に積算する。y
方向に延びる各ラインのこのようなカウント値は、各ラ
インの白画素数を示し、撮影画像が図4の(a)に示す
ものであるときには、カウント値は図4のbに示すよう
に分布することになる。すなわち、磁区模様のみが存在
するy方向に延びるライン上では、図3に示す、1画面
露光時間dtの間の、磁界と検光方向の2回の反転切換
えにより、磁区模様の白,黒が2回反転して、信号Sx
が白レベルと黒レベルの略中間のレベルであるので、そ
の2値化で白と黒が略同程度存在するのでカウント値は
中位値となるが、y方向に延びる欠陥部の白縞部では白
の個数が格段に多いのでカウント値はきわめて高い値に
なり、欠陥部の黒縞部では黒の個数が格段に多いのでカ
ウント値はきわめて低い値になる。CPU3はこのカウ
ントデ−タを、D/Aコンバ−タ47でアナログ信号
(y方向欠陥検出信号)Sxに変換してロ−パスフィル
タ12に与える。
【0039】CPU3はまた、ビットマップ上の白
(1)をx方向でカウントしてx方向に延びる各ライン
上の白(1)存在個数をカウントする。すなわちx方向
に積算する。x方向に延びる各ラインのこのようなカウ
ント値は、各ラインの白画素数を示し、撮影画像が図4
の(a)に示すものであるときには、カウント値は図4
のbに示すように分布することになる。ただしこの場合
に図4の(a)は、x軸とy軸を入れ換えて解釈する。
すなわち、磁区模様のみが存在するx方向に延びるライ
ン上では、図3に示す、1画面露光時間dtの間の、磁
界と検光方向の2回の反転切換えにより、磁区模様の
白,黒が2回反転して、信号Sxが白レベルと黒レベル
の略中間のレベルであるので、その2値化で白と黒が略
同程度存在するのでカウント値は中位値となるが、x方
向に延びる欠陥部の白縞部では白の個数が格段に多いの
でカウント値はきわめて高い値になり、欠陥部の黒縞部
では黒の個数が格段に多いのでカウント値はきわめて低
い値になる。CPU3はこのカウントデ−タを、D/A
コンバ−タ47でアナログ信号(x方向欠陥検出信号)
に変換してロ−パスフィルタ12に与える。
【0040】CPU3はまた、ビットマップ上のビット
デ−タの内、y軸より時計方向に45度(+45度)傾
斜した線に平行な長方形領域のビットデ−タを摘出して
−45度回転し、そして上述のy方向積算処理と同様に
カウント処理を行なう。この場合には、前記+45度傾
斜した方向に長い欠陥においてカウント値が多くなりま
た小さくなる。CPU3はこのカウントデ−タを、D/
Aコンバ−タ47でアナログ信号(+45度方向欠陥検
出信号)に変換してロ−パスフィルタ12に与える。
【0041】CPU3は更に、ビットマップ上のビット
デ−タの内、y軸より反時計方向に45度(−45度)
傾斜した線に平行な長方形領域のビットデ−タを摘出し
て+45度回転し、そして上述のy方向積算処理と同様
にカウント処理を行なう。この場合には、前記−45度
傾斜した方向に長い欠陥においてカウント値が多くなり
また小さくなる。CPU3はこのカウントデ−タを、D
/Aコンバ−タ47でアナログ信号(−45度方向欠陥
検出信号)に変換してロ−パスフィルタ12に与える。
【0042】上述のy方向積算処理,+45度方向積算
処理,x方向積算処理および−45度方向積算処理の、
ライン長が異なるとそれぞれの欠陥検出信号レベルがば
らつくことになるので、ライン長は同一に設定するのが
良い。同一に設定しない場合には、欠陥幅に対する欠陥
有無信号b3の高レベル幅を同一規格化するために、こ
れら4種の信号を識別する情報をCPU3(図5)から
CPU1(図2)に与えて、CPU1により該識別情報
に対応してD/Aコンバ−タ16,17に与えるベ−ス
値を補正する。すなわち、ライン長が長いカウント処理
のデ−タの出力のときにはそのレベルが高くなるので、
基準値Rs1,Rs2をその分高く変更する。ライン長
が短いカウント処理のデ−タの出力のときにはそのレベ
ルが低くなるので、基準値Rs1,Rs2をその分低く
変更する。
【0043】図6に、CPU3の情報処理動作を示す。
CPU3はフレ−ム同期信号APFsが到来するのを待
ち(ステップ1;以下カツコ内ではステップという語を
省略し、番号のみを記す)、それが到来するとライン同
期パルスAPLsが到来するのを待つ(2)。ライン同
期パルスAPLsが到来すると、フレ−ムRAM1を書
込みに、RAM4を読出しに設定し(3,4)、ディス
プレイCRT1〜3等へのライン同期パルス出力端PL
sに高レベルHを設定して(5)、ライン同期パルスA
PLsおよび画素同期パルスAPvxに同期して、2値デ
−タ(42の出力)をフレ−ムRAM1に書込み、かつ
RAM4のデ−タ(後述するカウントデ−タ)を読出し
てD/Aコンバ−タ47に出力する(6)。RAM4の
デ−タの読出しを終了するとライン同期パルス出力端P
Lsを低レベルLに転換し(7,8)、RAM4の読出
しを停止する(9)。CPU3は次に、フレ−ムRAM
1の書込みが終了するのを待つ(10)。すなわちカメ
ラ9Aが出力する1フレ−ム分の画像信号Asxの2値
画像デ−タの、フレ−ムRAM1への書込の終了を待
つ。これが終了するとCPU3は、「y方向積算」(1
1),「+45°方向積算」(12),「x方向積算」
(13)および「−45°方向積算」(14)をこの順
に実行する。これらを終了すると次のフレ−ム同期信号
(APFs=H)が到来するのを待ち(15−1)、到
来すると同様に、ステップ1〜14の処理を行なう。以
下同様である。
【0044】図7に「y方向積算」(11)の内容を示
す。これにおいてはRAM4の第1領域のデ−タをクリ
アして、フレ−ムRAM1の読出しxアドレスを1(y
方向に延びる第1ライン)に定め(112)、このライ
ン上の白(Db=1)の個数をカウントする(114〜
118の繰返し)。カウント値はRAM4の第1領域の
第1ライン宛てのアドレスに書込む(116)。これを
終了すると、フレ−ムRAM1の読出しxアドレスを2
(y方向に延びる第2ライン)に定め(112)、この
ライン上の白(Db=1)の個数をカウントする(11
4〜118の繰返し)。カウント値はRAM4の第1領
域の第2ライン宛てのアドレスに書込む(116)。以
下同様に、最後の第mラインまでこれを繰返し実行する
(113〜120の繰返し)。以上により、RAM4の
第1領域には、図4の(b)に示す如きレベル分布を表
わすデ−タが格納されたことになる。
【0045】図6に示す「+45°方向積算」(12)
では、その内容は図示しないが、まずフレ−ムRAM1
のx=m,y=nでm×n2次元分布の2値デ−タよ
り、図8に示すようにy軸より時計方向に45度回転し
た直線に平行に延びる長さがmの長辺を有し、前記m×
nマトリクス内にある長方形領域Meのものを摘出し、
この長方形領域をその中のデ−タごと−45度回転させ
る形で、一時格納用のメモリに格納する。なお、m=n
(カメラ9Aの光/電気変換単位素子の2次元マトリク
スは正方形)である。そしてこの摘出デ−タに関して、
図7に示す「y方向積算」(11)と同様な処理を行な
う(図8)。ただし、図7の第1領域は第2領域と、図
7のmは前記長方形領域の短辺幅(図8の(m√2)−
m)と読み替える。
【0046】図6に示す「x方向積算」(13)は、そ
の内容は図示しないが、図7中の「第1領域」を「第3
領域」に、xをyに、そしてyをxに置換したものであ
る。「x方向積算」(13)により、RAM4の第3領
域には、図4の(b)に示す如きレベル分布(ただし図
4の(b)のx軸はy軸と読替える)を表わすデ−タが
格納されたことになる。
【0047】図6に示す「−45°方向積算」(14)
では、その内容は図示しないが、「+45°方向積算」
(12)と同様な処理を、回転角を−45度として行な
う。この処理で得るカウント値はRAM4の第4領域に
書込む。
【0048】以上によりRAM4の第1領域〜第4領域
に書込まれた4組のデ−タは、図6のステップ6で、組
単位(領域単位=ライン区分)で出力される。すなわち
第1領域のデ−タ(y方向に長い欠陥検出信号)が、カ
メラ9Aからの第1ラインの2値画像デ−タをフレ−ム
RAM1の第1ラインに書込んでいる間に、RAM4か
ら読出されてD/A変換器47に出力され、アナログ信
号に変換されてロ−パスフィルタ12(図2)に与えら
れる。第2領域のデ−タ(y軸より時計方向に45度回
転した方向に長い欠陥検出信号)は、カメラ9Aからの
第2ラインの2値画像デ−タをフレ−ムRAM1の第2
ラインに書込んでいる間に、RAM4から読出されてD
/A変換器47に出力され、アナログ信号に変換されて
ロ−パスフィルタ12(図2)に与えられる。第3領域
のデ−タ(x方向に長い欠陥検出信号)は、カメラ9A
からの第3ラインの2値画像デ−タをフレ−ムRAM1
の第3ラインに書込んでいる間に、RAM4から読出さ
れてD/A変換器47に出力され、アナログ信号に変換
されてロ−パスフィルタ12(図2)に与えられる。そ
して、第4領域のデ−タ(y軸より反時計方向に45度
回転した方向に長い欠陥検出信号)は、カメラ9Aから
の第4ラインの2値画像デ−タをフレ−ムRAM1の第
4ラインに書込んでいる間に、RAM4から読出されて
D/A変換器47に出力され、アナログ信号に変換され
てロ−パスフィルタ12(図2)に与えられる。これら
4組(各1ライン分、計4ライン分)のデ−タの区分
を、CPU2およびディスプレイCRT1〜CRT3
は、PLsが1になってからのAPLsの到来数をカウ
ントして認識する。CPU2は、RAM1の4領域に、
それぞれ領域対応でデ−タを書込み、RAM1の各領域
(ビットマップ)上で欠陥を示す1の存否をチェック
し、それがあるとそれが分布する領域を切出して、その
長さおよび幅を算出し、これらのデ−タと欠陥始端の位
置およびそのときのyカウンタ36のカウントデ−タ
を、領域情報(欠陥の長手方向情報)を付してRAM2
に書込み、CPU1に「出力」を指示する。CPU1は
この指示に応答してRAM2のデ−タを操作・表示ボ−
ド25に出力する。プリンタ等他の出力手段もあればこ
れにも出力する。これにより、ビットマップ(RAM
1)上でCPU2が検出した欠陥の方向および位置なら
びに欠陥の長さおよび幅が操作・表示ボ−ド25に表示
され、プリンタ等で印字される。
【0049】CRTディスプレイCRT1〜CRT3
は、この実施例2では、画面4分割で上述の4組(各1
ライン分、計4ライン分)のデ−タの、各組を各分割面
に表示する。1画面対応の画像メモリ上では、デ−タは
2次元分布で表わすと図9に示すように、画像メモリC
RTmの各分割画像対応の、第1領域90fm1には前
述の「y方向積算」(11)で算出した第1領域のデ−
タ(y方向に長い欠陥検出信号)が書込まれ、第2領域
90fm2には前述の「+45°方向積算」(12)で
算出した第2領域のデ−タ(y軸より時計方向に45度
回転した方向に長い欠陥検出信号)が書込まれ、第3領
域90fm3には前述の「x方向積算」(13)で算出
した第3領域のデ−タ(x方向に長い欠陥検出信号)が
書込まれ、また、第4領域90fm4には前述の「−4
5°方向積算」(14)で算出した第4領域のデ−タ
(y軸より反時計方向に45度回転した方向に長い欠陥
検出信号)が書込まれる。各領域への一ライン分のデ−
タの書込みにおいて、第1領域90mf1では、図9に
矢印A1で示すy方向に一ライン分デ−タをシフトした
後に新たな信号を該領域の先頭のラインに書込む。第2
領域90mf2では、図9に矢印A2で示すy軸より+
45°傾斜した方向に一ライン(x,y方向共に1画
素)分デ−タをシフトした後に新たな信号を該領域の先
頭のラインのx=aから、y軸より+135°傾斜した
方向に書込む。第3領域90mf3では、図9に矢印A
3で示すx方向に一ライン分デ−タをシフトした後に新
たな信号(原信号ではx方向1ライン分)を90度回転
させてy方向の連なりとして書込む。第4領域90mf
4では、図9に矢印A4で示すy軸より−45°傾斜し
た方向に一ライン(x,y方向共に1画素)分デ−タを
シフトした後に新たな信号を該領域のy=b,x=1か
ら、y軸より+45°傾斜した方向に書込む。以上の書
込処理により、CRT画面上には、鋼板1上の表面欠陥
が伸びる方向と同じ方向に欠陥像(欠陥部が白で背景が
黒)が表示される。
【0050】この実施例2では、ビデオ信号Asxを回路
42で2値化してから2値化デ−タの加算(図7の11
4〜116)するようにしている。ビデオ信号Asxを多
階調デジタル変換し、このデ−タを加算しても図4の
(b)に示すようなレベル分布を示す信号を得ることが
できるが、このように単位素子受光レベルの総和をデジ
タル処理で得る場合、マトリクスが大きい程、総和を表
わすデ−タビット数(桁数)が大きくなり、演算処理速
度が低下する。したがって上述の実施例2では、ビデオ
信号Asxをまず2値化してデ−タビット数を大幅に少
くしている。これにより、演算処理用のデ−タビット数
が大幅に低減し、演算処理速度が高い。
【0051】(実施例3:図10)図10に、本願の第
3番の発明の一実施例(実施例3)の、前述の実施例1
と異なる部分を示す。図10に示す撮像/信号処理装置
40Lは、図2の撮像/信号処理装置40に置き換えら
れるものである。すなわち、図2より撮像/信号処理装
置40を削除し、そこに図10に示す撮像/信号処理装
置40Lを挿入することにより、また図1に示すカメラ
9を図10に示す一次元(リニア)イメ−ジカメラ9L
と置換することにより、図1および図2が、第3番の発
明の一実施例(実施例3)を示すものとなる。
【0052】図10に示す一次元イメ−ジカメラ9L
は、V/F変換器22が発生するパルスSvytに同期し
て1ラインの画像信号を出力し(すなわち露光時間がSvy
tの周期に比例)、アナログビデオ信号Lsx,画素同期パ
ルスLPvxおよびライン同期パルスLPLsを出力す
る。2値化回路42がアナログビデオ信号Lsxを白
(1),黒(0)に2値化する。まず概要を説明する
と、CPU4はこの2値化デ−タを、ライン同期パルス
LPLsおよび画素同期パルスLPvxに基づいて、カメ
ラ9Lの1ライン分を、nライン分の領域を有するエリ
アRAM1に書込む。すなわちエリアRAM1上に最新
の1ライン分の2値化デ−タを更新書込みし、エリアR
AM1上には常時nラインのビットマップを保持する。
【0053】そして最新の1ライン分のデ−タを書込む
毎に、ビットマップ上の白(1)をy方向でカウントし
てy方向に延びる各ライン上の白(1)存在個数をカウ
ントする。すなわちy方向に積算する。y方向に延びる
各ラインのこのようなカウント値は、各ラインの白画素
数を示し、撮影画像が図4の(a)に示すものであると
きには、カウント値は図4のbに示すように分布するこ
とになる。すなわち、磁区模様のみが存在するy方向に
延びるライン上では、図3に示す、1画面露光時間dt
の間の、磁界と検光方向の2回の反転切換えにより、磁
区模様の白,黒が2回反転して、信号Sxが白レベルと
黒レベルの略中間のレベルであるので、その2値化で白
と黒が略同程度存在するのでカウント値は中位値となる
が、y方向に延びる欠陥部の白縞部では白の個数が格段
に多いのでカウント値はきわめて高い値になり、欠陥部
の黒縞部では黒の個数が格段に多いのでカウント値はき
わめて低い値になる。CPU4はこのカウントデ−タ
を、D/Aコンバ−タ47でアナログ信号(y方向欠陥
検出信号)Sxに変換してロ−パスフィルタ12に与え
る。
【0054】図11に、CPU4の情報処理動作を示
す。CPU4はライン同期信号LPLsが到来するのを
待ち(21)、それが到来すると、エリアRAM1を書
込みに、RAM4を読出しに設定し(22,23)、デ
ィスプレイCRT1〜3等へのライン同期パルス出力端
PLsに高レベルHを設定して(24)、画素同期パル
スAPvxに同期して、2値デ−タ(42の出力)をエリ
アRAM1の第nラインに書込み、かつRAM4のデ−
タ(後述するカウントデ−タ)を読出してD/Aコンバ
−タ47に出力する(25)。これらを終了するとライ
ン同期パルス出力端PLsを低レベルLに転換する(2
6,27)。CPU4は次に、「y方向積算」(28)
を実行する。この内容は、前述の、図7に示す「y方向
積算」(11)の内容と同様である。この「y方向積
算」(28)で、x方向各位置の、時系列で連なるサン
プリングn回分の2値デ−タの白(1)の数がカウント
され、x方向位置対応でRAM4に書込まれ、次の、ス
テップ25(前述)で読出されてD/A変換器47でア
ナログ信号Sxに変換されて図2に示すロ−パスフィル
タ12に出力される。「y方向積算」(28)を終了す
るとエリアRAM1のデ−タを、第nラインに今度到来
する1ライン分のデ−タを書込むために、1ライン分シ
フトする(29)。そしてライン同期パルスLPsが到
来するのを待つ(30−21)。ライン同期パルスLP
sが到来すると同様に、ステップ22〜29の処理を行
なう。以下同様である。
【0055】この実施例3では、一次元イメ−ジセンサ
9Lの露光時間(一ライン)dt(ライン同期パルスS
vytの周期)の間に鋼板1に加えられる磁界と検光方向が
2回反転切換えされる(図3で「フレ−ム転送周期」を
「ライン転送周期」と読み替える)ので、露光時間の間
に磁気模様は白,黒が反転して、その領域では画像濃度
が大略中間値となり、欠陥10eの識別精度が高い。更
には、y方向に移動する鋼板1の欠陥像10eの濃度値
を時系列で積算するので、y方向に長い欠陥の検出精度
が高い。この実施例3でもビデオ信号Lsxを回路42で
2値化してから2値化デ−タの加算(図11の28)す
るようにしている。ビデオ信号Lsxを多階調デジタル変
換し、このデ−タをそのまま加算しても図4の(b)に
示すようなレベル分布を示す信号を得ることができる
が、このように単位素子受光レベルの総和をデジタル処
理で得る場合、マトリクス(n×m)が大きい程、総和
を表わすデ−タビット数(桁数)が大きくなり、演算処
理速度が低下する。したがって上述の実施例3でも、ビ
デオ信号Lsxをまず2値化してデ−タビット数を大幅
に少くしている。これにより、演算処理用のデ−タビッ
ト数が大幅に低減し、演算処理速度が高い。
【0056】
【発明の効果】本願の各発明によれば、イメ−ジカメラ
9,9A,9Lの画像信号Sxが、欠陥10が無い領域
では中間(灰色)レベルで、欠陥10の位置で高レベル
の白および高濃度の黒を表わすピ−クが現われ、磁区模
様対応の白,黒ピ−クが実質無く、欠陥検出精度が高
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a)は、第1番の発明の一実施例(実施例
1)の外観概要を示す、一部は破断して示す斜視図、
(b)は(a)に示す干渉フィルタ7および検光装置8
の拡大縦断面図である。
【図2】 図1に示すイメ−ジカメラ9の欠陥有無信号
Sx等より欠陥有無および欠陥位置を判別する電気回路
の構成概要(実施例1)を示すブロック図である。
【図3】 図2に示すV/F変換器22の出力パルスSe
vyおよび分周器37の出力パルスSvytと電気コイル4お
よび8bに流れる電流との関係を示すタイムチャ−トで
ある。
【図4】 図2に示すファラデ−素子2上の画像を示す
平面図であり、イメ−ジカメラ9の出力信号Sxならび
に図2に示す3値化回路13およびフリップフロップ1
4の出力信号をも示す。
【図5】 第2番の発明の一実施例(実施例2)の主要
部の構成を示すブロック図である。
【図6】 図5に示すCPU3の演算処理動作を示すフ
ロ−チャ−トである。
【図7】 図6に示す「y方向積算」(11)の内容を
示すフロ−チャ−トである。
【図8】 図6に示す「+45°方向積算」(12)に
おける画像デ−タの切出し領域Meを示す平面図であ
る。
【図9】 実施例2におけるCRTディスプレイCRT
1〜CRT3それぞれの画像メモリ上のデ−タ領域区分
を示す平面図である。
【図10】 第3番の発明の一実施例(実施例3)の主
要部の構成を示すブロック図である。
【図11】 図10に示すCPU4の演算処理動作を示
すフロ−チャ−トである。
【符号の説明】
1:鋼板(探傷対象材) 2:ファラデ−素
子(磁気光学効果素子 ) 3:マグネットコア 4:電気コイ
ル 5:光源 6:偏光シ−ト 7:干渉フィルタ 8:検光子 9,9A:2次元イメ−ジセンサ 9L:一次元イメ
−ジセンサ 10:アイドルロ−ラ 11:ロ−タリエ
ンコ−ダ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−142453(JP,A) 特開 平2−40580(JP,A) 特開 平4−162215(JP,A) 特公 平8−20421(JP,B2)

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】探傷対象材に、その表面に実質上平行な磁
    束を生起する励磁手段;該励磁手段が発生する磁界の方
    向を反転する励磁反転手段;前記表面に面対向する磁気
    光学効果素子;磁気光学効果素子の表面に偏光を投射す
    る偏光照明手段;磁気光学効果素子の表面を撮影する一
    次元又は二次元イメ−ジカメラ;磁気光学効果素子の前
    記表面と前記イメ−ジカメラの間の光路に介挿され、検
    光方向を回転しうる検光子;該検光子の検光方向を回転
    する回転付勢手段;および、 前記イメ−ジカメラの画像信号出力周期より短い周期
    で、前記励磁反転手段を介した磁界方向の交互反転と前
    記回転付勢手段を介した検光方向の交互反転を同期して
    行なう反転制御手段;を備える磁気光学探傷装置。
  2. 【請求項2】イメ−ジカメラが出力する電気信号レベル
    が、第1基準レベルRs1以下の第1領域にあるか、第
    1基準レベルRs1より高い第2基準レベルRs2以上
    の第3領域にあるかを検出するレベル検出手段、およ
    び、前記電気信号レベルが第1領域および第3領域にあ
    る間傷有りを示す信号を発生しこれらの傷有りの区間の
    間の信号区間にも同じく傷有りを示す信号を発生する傷
    信号発生手段、を更に備える請求項1記載の磁気光学探
    傷装置。
  3. 【請求項3】探傷対象材の移動速度に対応してそれが高
    いと低光強度側に、低いと高光強度側に第1基準レベル
    Rs1および第2基準レベルRs2をシフトする基準レ
    ベル調整手段を更に備える請求項2記載の磁気光学探傷
    装置。
  4. 【請求項4】探傷対象材に、その表面に実質上平行な磁
    束を生起する励磁手段;該励磁手段が発生する磁界の方
    向を反転する励磁反転手段;前記表面に面対向する磁気
    光学効果素子;磁気光学効果素子の表面に偏光を投射す
    る偏光照明手段;光強度を電気信号レベルに変換する単
    位素子の2次元配列でなる素子マトリクスを有する2次
    元イメ−ジカメラ;磁気光学効果素子の前記表面と前記
    イメ−ジカメラの間の光路に介挿され、検光方向を回転
    しうる検光子;該検光子の検光方向を回転する回転付勢
    手段;前記イメ−ジカメラの画像信号出力周期より短い
    周期で、前記励磁反転手段を介した磁界方向の交互反転
    と前記回転付勢手段を介した検光方向の交互反転を同期
    して行なう反転制御手段;および、 前記イメ−ジカメラの素子マトリクスの、実質上同一直
    線上にある複数の単位素子の電気信号レベルを加算し、
    和レベルを示す電気信号を発生する積算手段;を備える
    磁気光学探傷装置。
  5. 【請求項5】探傷対象材に、その表面に実質上平行な磁
    束を生起する励磁手段;該励磁手段が発生する磁界の方
    向を反転する励磁反転手段;前記表面に面対向する磁気
    光学効果素子;磁気光学効果素子の表面に偏光を投射す
    る偏光照明手段;光強度を電気信号レベルに変換する単
    位素子の一次元配列でなる素子列を有する一次元イメ−
    ジカメラ;磁気光学効果素子の前記表面と前記イメ−ジ
    カメラの間の光路に介挿され、検光方向を回転しうる検
    光子;該検光子の検光方向を回転する回転付勢手段;前
    記イメ−ジカメラの画像信号出力周期より短い周期で、
    前記励磁反転手段を介した磁界方向の交互反転と前記回
    転付勢手段を介した検光方向の交互反転を同期して行な
    う反転制御手段;および、 前記イメ−ジカメラの素子列の、同一単位素子の電気信
    号レベルを時系列で加算し、和レベルを示す電気信号を
    発生する積算手段;を備える磁気光学探傷装置。
  6. 【請求項6】積算手段は、単位素子の電気信号レベルを
    2値化して加算する請求項4又は請求項5記載の磁気光
    学探傷装置。
  7. 【請求項7】積算手段が発生する電気信号レベルが、第
    1基準レベルRs1以下の第1領域にあるか、第1基準
    レベルRs1より高い第2基準レベルRs2以上の第3
    領域にあるかを検出するレベル検出手段、および、前記
    電気信号レベルが第1領域および第3領域にある間傷有
    りを示す信号を発生しこれらの傷有りの区間の間の信号
    区間にも同じく傷有りを示す信号を発生する傷信号発生
    手段、を更に備える請求項4,請求項5又は請求項6記
    載の磁気光学探傷装置。
  8. 【請求項8】反転制御手段は、イメ−ジカメラの露光時
    間の整数分の1の周期で交互反転を行なう、請求項1,
    請求項2,請求項3,請求項4,請求項5,請求項6又
    は請求項7記載の磁気光学探傷装置。
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CN102313748A (zh) * 2011-08-30 2012-01-11 成都四星液压制造有限公司 一种磁瓦在线检测装置、控制***及其控制方法
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