JP2574679B2 - アセタール化合物の製法 - Google Patents
アセタール化合物の製法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はヒドロキシピバルアルデヒドとペンタエリス
リトールとをアセタール化反応させて粒径が改善された
β，β，β′，β′−テトラメチル−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ［5,5］ウンデカン−3,9−ジエタノール
（以下スピログリコールという）を製造する方法に関す
る。
リトールとをアセタール化反応させて粒径が改善された
β，β，β′，β′−テトラメチル−2,4,8,10−テトラ
オキサスピロ［5,5］ウンデカン−3,9−ジエタノール
（以下スピログリコールという）を製造する方法に関す
る。
スピログリコールはウレタン、エステル、チオール、
エーテル化合物などの低分子化合物の合成中間体とし
て、又はポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテルポ
リオール、エポキシ樹脂などの高分子化合物の中間体と
して、更に合成潤滑油、架橋剤、反応性希釈剤、可塑
剤、接着剤、改質剤、及び光硬化性、耐薬品性、耐熱
性、耐摩耗性、耐候性、耐衝撃性樹脂等の原料として有
用である。
エーテル化合物などの低分子化合物の合成中間体とし
て、又はポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテルポ
リオール、エポキシ樹脂などの高分子化合物の中間体と
して、更に合成潤滑油、架橋剤、反応性希釈剤、可塑
剤、接着剤、改質剤、及び光硬化性、耐薬品性、耐熱
性、耐摩耗性、耐候性、耐衝撃性樹脂等の原料として有
用である。
（従来技術並びに本発明が解決しようとする問題点） 従来スピログリコールはヒドロキシピバルアルデヒド
とペンタエリスリトールとを酸触媒の存在下水溶液中に
て一度に混合してアセタール化反応させてなる製造方法
が取られている（米国特許第3,092,640、特開昭59−148
776）。しかしこの方法では得られるスピログリコール
が１〜100ミクロンの非常に細かな粉末となり粉立ちし
やすいため作業上取扱い難い。又、スピログリコールは
非常に静電気を帯び易いためかかる粒径では粉塵爆発の
起こる危険性が高い等、種々の問題がある。更にスピロ
グリコールの粒径について記載されている既知文献は無
い。
とペンタエリスリトールとを酸触媒の存在下水溶液中に
て一度に混合してアセタール化反応させてなる製造方法
が取られている（米国特許第3,092,640、特開昭59−148
776）。しかしこの方法では得られるスピログリコール
が１〜100ミクロンの非常に細かな粉末となり粉立ちし
やすいため作業上取扱い難い。又、スピログリコールは
非常に静電気を帯び易いためかかる粒径では粉塵爆発の
起こる危険性が高い等、種々の問題がある。更にスピロ
グリコールの粒径について記載されている既知文献は無
い。
従って粒径の大きなスピログリコールを製造する方法
の開発が望まれている。
の開発が望まれている。
（問題点を解決するための手段） 本発明者等は上記問題点を解決するためにペンタエリ
スリトールとヒドロキシピバルアルデヒドとのアセター
ル化反応によるスピログリコールの製法について種々検
討を行った結果、意外にも、ペンタエリスリトール及び
ヒドロキシピバルアルデヒドの内の何れか一方に他方を
添加しながらアセタール化反応を行なえば粒径の大きな
スピログリコールが得られることを見出し、本発明を完
成するに至った。
スリトールとヒドロキシピバルアルデヒドとのアセター
ル化反応によるスピログリコールの製法について種々検
討を行った結果、意外にも、ペンタエリスリトール及び
ヒドロキシピバルアルデヒドの内の何れか一方に他方を
添加しながらアセタール化反応を行なえば粒径の大きな
スピログリコールが得られることを見出し、本発明を完
成するに至った。
即ち本発明は、酸触媒の存在下にペンタエリスリトー
ルとヒドロキシピバルアルデヒドとを反応させてスピロ
グリコールを製造するに当たり、ペンタエリスリトール
及びヒドロキシピバルアルデヒドの内の何れか一方を他
方の成分へ添加しながら反応させることを特徴とするス
ピログリコールの製造方法である。
ルとヒドロキシピバルアルデヒドとを反応させてスピロ
グリコールを製造するに当たり、ペンタエリスリトール
及びヒドロキシピバルアルデヒドの内の何れか一方を他
方の成分へ添加しながら反応させることを特徴とするス
ピログリコールの製造方法である。
ヒドロキシピバルアルデヒドとペンタエリスリトール
とからスピログリコールを製造する反応は所謂アセター
ル化反応であり、触媒としては酸触媒が使用される。酸
触媒には特に制限はないが、一般的には硫酸、燐酸、塩
酸、硝酸等の鉱酸、又はｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸等の有機酸が有用である。酸触媒の添加量
は酸触媒の種類によりそれぞれ異なるが、例えば鉱酸を
用いた場合にはペンタエリスリトールの仕込み量に対し
て５〜40重量％、好ましくは10〜20重量％である。又、
複数の酸触媒を組み合わせて使用しても良い。
とからスピログリコールを製造する反応は所謂アセター
ル化反応であり、触媒としては酸触媒が使用される。酸
触媒には特に制限はないが、一般的には硫酸、燐酸、塩
酸、硝酸等の鉱酸、又はｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸等の有機酸が有用である。酸触媒の添加量
は酸触媒の種類によりそれぞれ異なるが、例えば鉱酸を
用いた場合にはペンタエリスリトールの仕込み量に対し
て５〜40重量％、好ましくは10〜20重量％である。又、
複数の酸触媒を組み合わせて使用しても良い。
反応温度は50〜70℃の範囲が好ましく、更に好ましく
は60〜70℃である。50℃以下では反応速度が遅く工業的
ではなく、又スピログリコールの収率、純度共に極端に
低下する。75℃以上では副反応生成物の生成量が増加し
好ましくない。
は60〜70℃である。50℃以下では反応速度が遅く工業的
ではなく、又スピログリコールの収率、純度共に極端に
低下する。75℃以上では副反応生成物の生成量が増加し
好ましくない。
ペンタエリスリトール及びヒドロキシピバルアルデヒ
ドの内の何れか一方を他方に添加する方法としては、通
常（１）予め反応温度（50〜70℃）と同程度の温度にし
ておいたペンタエリスリトールの水溶液中にヒドロキシ
ピバルアルデヒド溶液と酸触媒とを連続的又は断続的に
併注する方法、（２）予め反応温度と同程度の温度にし
ておいたペンタエリスリトールと酸触媒とを混合した酸
性水溶液中にヒドロキシピバルアルデヒド溶液を連続的
又は断続的に添加する方法、（３）予め反応温度と同程
度の温度にしておいたヒドロキシピバルアルデヒド溶液
中にペンタエリスリトール水溶液と酸触媒とを連続的又
は断続的に併注する方法、（４）予め反応温度と同程度
の温度にしておいたヒドロキシピバルアルデヒド溶液中
にペンタエリスリトールと酸触媒とを混合した酸性水溶
液を連続的又は断続的に添加する方法の何れかの方法で
行なえば良い。
ドの内の何れか一方を他方に添加する方法としては、通
常（１）予め反応温度（50〜70℃）と同程度の温度にし
ておいたペンタエリスリトールの水溶液中にヒドロキシ
ピバルアルデヒド溶液と酸触媒とを連続的又は断続的に
併注する方法、（２）予め反応温度と同程度の温度にし
ておいたペンタエリスリトールと酸触媒とを混合した酸
性水溶液中にヒドロキシピバルアルデヒド溶液を連続的
又は断続的に添加する方法、（３）予め反応温度と同程
度の温度にしておいたヒドロキシピバルアルデヒド溶液
中にペンタエリスリトール水溶液と酸触媒とを連続的又
は断続的に併注する方法、（４）予め反応温度と同程度
の温度にしておいたヒドロキシピバルアルデヒド溶液中
にペンタエリスリトールと酸触媒とを混合した酸性水溶
液を連続的又は断続的に添加する方法の何れかの方法で
行なえば良い。
ペンタエリスリトールの仕込み量はヒドロキシピバル
アルデヒド１モルに対して0.7〜1.0モルが良く、好まし
くは0.85〜0.95モルが良い。この範囲を外れる時は副反
応生成物の生成量が増加し好ましくない。
アルデヒド１モルに対して0.7〜1.0モルが良く、好まし
くは0.85〜0.95モルが良い。この範囲を外れる時は副反
応生成物の生成量が増加し好ましくない。
原料及び酸触媒の添加時間は0.5〜５時間が良く、こ
の範囲内であれば特に添加時間に制限は無い。
の範囲内であれば特に添加時間に制限は無い。
反応時間は添加時間も含めて５〜10時間行えば良い。
反応時間は添加時間、使用する酸触媒の種類、反応温度
等を考慮して適宜収率及び純度の最も良い時間を設定す
れば良い。
反応時間は添加時間、使用する酸触媒の種類、反応温度
等を考慮して適宜収率及び純度の最も良い時間を設定す
れば良い。
反応圧力には特に制限は無いが、工業的には常圧化で
行うのが実際的である。
行うのが実際的である。
（発明の効果） 本発明の方法によれば従来方法と比較して粒径の大き
なスピログリコールを得ることが出来、粉立ちがなくな
り作業上取扱い易く、静電気による粉塵爆発等の危険性
が激減し、又、簡単な濾過と乾燥のみで製品とすること
が出来る。
なスピログリコールを得ることが出来、粉立ちがなくな
り作業上取扱い易く、静電気による粉塵爆発等の危険性
が激減し、又、簡単な濾過と乾燥のみで製品とすること
が出来る。
本発明の方法によれば簡単な方法で粒径が大きいスピ
ログルコールを高収率で製造することが出来るので、本
発明方法は工業的に極めて有用なものである。
ログルコールを高収率で製造することが出来るので、本
発明方法は工業的に極めて有用なものである。
以下の実施例において％及び部は特にことわらない限
りそれぞれ重量％及び重量部を意味する。
りそれぞれ重量％及び重量部を意味する。
実施例 １ トリエチルアミンを触媒にしてイソブチルアルデヒド
とホルムアルデヒドとを反応させて得られたアルドール
反応生成液（ヒドロキシピバルアルデヒドを58％含む）
306.3部を70℃の温水で保温した均圧二重管式滴下漏斗
に入れた。予めペンタエリスリトール115.6部を水1,000
部に加えて、70℃加温して均一にしたペンタエリスリト
ール水溶液にアルドール反応生成液306.3部と98％硫酸2
2部をそれぞれ約５時間かけて併注し、反応温度70℃で
併注時間も含めて８時間反応を行った。反応終了後、48
％カセイソーダ水溶液を使用し、反応液のpHが7.5にな
るまで中和を行った。中和後、反応液を濾過した後、残
った濾過ケーキを80℃の熱水で２回シャワーリング洗浄
を行った。濾過ケーキを取り出し、乾燥後220部のスピ
ログリコールを得た。これは85モル％（ペンタエリスリ
トール基準）の収率に相当する。得られたスピログリコ
ールの粒径は0.1〜1.5ミリの大きさであった。
とホルムアルデヒドとを反応させて得られたアルドール
反応生成液（ヒドロキシピバルアルデヒドを58％含む）
306.3部を70℃の温水で保温した均圧二重管式滴下漏斗
に入れた。予めペンタエリスリトール115.6部を水1,000
部に加えて、70℃加温して均一にしたペンタエリスリト
ール水溶液にアルドール反応生成液306.3部と98％硫酸2
2部をそれぞれ約５時間かけて併注し、反応温度70℃で
併注時間も含めて８時間反応を行った。反応終了後、48
％カセイソーダ水溶液を使用し、反応液のpHが7.5にな
るまで中和を行った。中和後、反応液を濾過した後、残
った濾過ケーキを80℃の熱水で２回シャワーリング洗浄
を行った。濾過ケーキを取り出し、乾燥後220部のスピ
ログリコールを得た。これは85モル％（ペンタエリスリ
トール基準）の収率に相当する。得られたスピログリコ
ールの粒径は0.1〜1.5ミリの大きさであった。
実施例 ２ 実施例１と同様の方法で得たアルドール反応生成液30
6.3部と40％Ｐ−トルエンスルホン酸95部をそれぞれ約
１時間かけて、予め60℃に保温しておいた均一なペンタ
エリスリトール水溶液中に併注し、反応温度60℃で併注
時間も含めて６時間反応を行った。反応後の後処理も実
施例１と同様の操作で行った。乾燥後215部のスピログ
リコールを得た。これは83モル％（ペンタエリスリトー
ル基準）の収率に相当する。得られたスピログリコール
の粒径は実施例１と同じく0.1〜1.5ミリであった。
6.3部と40％Ｐ−トルエンスルホン酸95部をそれぞれ約
１時間かけて、予め60℃に保温しておいた均一なペンタ
エリスリトール水溶液中に併注し、反応温度60℃で併注
時間も含めて６時間反応を行った。反応後の後処理も実
施例１と同様の操作で行った。乾燥後215部のスピログ
リコールを得た。これは83モル％（ペンタエリスリトー
ル基準）の収率に相当する。得られたスピログリコール
の粒径は実施例１と同じく0.1〜1.5ミリであった。
実施例 ３ 実施例１と同様の方法で得たアルドール反応生成液30
6.3部を反応器に入れ予め60℃に保温しておいた。そこ
へペンタエリスリトール115.6部を水600部に溶かして均
一にした60℃のペンタエリスリトール水溶液と98％硫酸
22部とを約５時間かけて併注し、反応温度60℃で併注時
間も含めて10時間反応を行なった。反応後の後処理も実
施例１と同様の操作で行なった。乾燥後228部のスピロ
グリコールを得た。これは88モル％（ペンタエリスリト
ール基準）の収率に相当する。得られたスピログリコー
ルの粒径は0.1〜1.5ミリであった。
6.3部を反応器に入れ予め60℃に保温しておいた。そこ
へペンタエリスリトール115.6部を水600部に溶かして均
一にした60℃のペンタエリスリトール水溶液と98％硫酸
22部とを約５時間かけて併注し、反応温度60℃で併注時
間も含めて10時間反応を行なった。反応後の後処理も実
施例１と同様の操作で行なった。乾燥後228部のスピロ
グリコールを得た。これは88モル％（ペンタエリスリト
ール基準）の収率に相当する。得られたスピログリコー
ルの粒径は0.1〜1.5ミリであった。
実施例 ４ 実施例１と同様の方法で得たアルドール反応生成液30
6.3部を反応器に入れ予め60℃に保温しておいた。そこ
へ水1000部にペンタエリスリトール115.6部と98％硫酸2
2部を混合、溶解した60℃の酸性水溶液を約３時間かけ
て添加し、反応温度60℃で滴下時間も含めて６時間反応
を行なった。反応後の後処理も実施例１と同様の操作で
行なった。乾燥後220部のスピログリコールを得た。こ
れは85モル％（ペンタエリスリトール基準）の収率に相
当する。得られたスピログリコールの粒径は1.0〜1.5ミ
リであった。
6.3部を反応器に入れ予め60℃に保温しておいた。そこ
へ水1000部にペンタエリスリトール115.6部と98％硫酸2
2部を混合、溶解した60℃の酸性水溶液を約３時間かけ
て添加し、反応温度60℃で滴下時間も含めて６時間反応
を行なった。反応後の後処理も実施例１と同様の操作で
行なった。乾燥後220部のスピログリコールを得た。こ
れは85モル％（ペンタエリスリトール基準）の収率に相
当する。得られたスピログリコールの粒径は1.0〜1.5ミ
リであった。
実施例 ５ ペンタエリスリトール115.6部と98％硫酸22部を水500
部に溶かして均一にした酸性水溶液を予め70℃に保温し
ておいた。そこへ純度98％のヒドロキシピバルアルデヒ
ド188部を水600部に溶かして均一にした65℃のヒドロキ
シピバルアルデヒド水溶液を約１時間かけて添加し、反
応温度70℃で添加時間も含めて６時間反応を行なった。
反応後の後処理は、実施例１と同様の操作で行なった。
乾燥後238部のスピログリコールを得た。これは92モル
％（ペンタエリスリトール基準）の収率に相当する。得
られたスピログリコールの粒径は実施例１と同じく0.1
〜1.5ミリであった。
部に溶かして均一にした酸性水溶液を予め70℃に保温し
ておいた。そこへ純度98％のヒドロキシピバルアルデヒ
ド188部を水600部に溶かして均一にした65℃のヒドロキ
シピバルアルデヒド水溶液を約１時間かけて添加し、反
応温度70℃で添加時間も含めて６時間反応を行なった。
反応後の後処理は、実施例１と同様の操作で行なった。
乾燥後238部のスピログリコールを得た。これは92モル
％（ペンタエリスリトール基準）の収率に相当する。得
られたスピログリコールの粒径は実施例１と同じく0.1
〜1.5ミリであった。
比較例１ 実施例１と同様の方法で得たアルドール反応生成液30
6.3部とペンタエリスリトール115.6部を水1000部に溶解
した水溶液と混合し70℃に加温、撹拌して均一な溶液と
した。そこへ98％硫酸22部を一度に加えて70℃で６時間
反応を行なった。反応後の後処理も実施例１と同様の操
作で行なった。乾燥後213部のスピログリコールを得
た。これは83モル％（ペンタエリスリトール基準）の収
率に相当する。得られたスピログリコールの粒径は50ミ
クロン以下であった。
6.3部とペンタエリスリトール115.6部を水1000部に溶解
した水溶液と混合し70℃に加温、撹拌して均一な溶液と
した。そこへ98％硫酸22部を一度に加えて70℃で６時間
反応を行なった。反応後の後処理も実施例１と同様の操
作で行なった。乾燥後213部のスピログリコールを得
た。これは83モル％（ペンタエリスリトール基準）の収
率に相当する。得られたスピログリコールの粒径は50ミ
クロン以下であった。
Claims (5)
- 【請求項１】酸触媒の存在下にペンタエリスリトールと
ヒドロキシピバルアルデヒドとを反応させてβ，β，
β′，β′−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ［5,5］ウンデカン−3,9−ジエノールを製造するに
当たり、ペンタエリスリトール及びヒドロキシピバルア
ルデヒドの内の何れか一方を他方へ添加しながら反応さ
せることを特徴とするβ，β，β′，β′−テトラメチ
ル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ［5,5］ウンデカン
−3,9−ジエタノールの製法。 - 【請求項２】ヒドロキシピバルアルデヒド溶液と酸触媒
とをペンタエリスリトール水溶液中に併注することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の製法。 - 【請求項３】ヒドロキシピバルアルデヒド溶液をペンタ
エリスリトール酸性水溶液中に添加することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の製法。 - 【請求項４】ペンタエリスリトール水溶液と酸触媒とを
ヒドロキシピバルアルデヒド溶液中に併注することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の製法。 - 【請求項５】ペンタエリスリトール酸性水溶液をヒドロ
キシピバルアルデヒド溶液中に添加することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62218965A JP2574679B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | アセタール化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62218965A JP2574679B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | アセタール化合物の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6461485A JPS6461485A (en) | 1989-03-08 |
| JP2574679B2 true JP2574679B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=16728126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62218965A Expired - Lifetime JP2574679B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | アセタール化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574679B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5151071B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2013-02-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジオキサングリコールの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3092640A (en) * | 1961-02-01 | 1963-06-04 | Spencer Chem Co | Processes for preparing bis |
| CH567504A5 (ja) * | 1972-02-24 | 1975-10-15 | Ciba Geigy Ag |
-
1987
- 1987-08-31 JP JP62218965A patent/JP2574679B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6461485A (en) | 1989-03-08 |
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