JP2564141B2 - アルキルベンゾチアゾール類の製造方法 - Google Patents
アルキルベンゾチアゾール類の製造方法Info
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- JP2564141B2 JP2564141B2 JP62234276A JP23427687A JP2564141B2 JP 2564141 B2 JP2564141 B2 JP 2564141B2 JP 62234276 A JP62234276 A JP 62234276A JP 23427687 A JP23427687 A JP 23427687A JP 2564141 B2 JP2564141 B2 JP 2564141B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は式（Ｉ） （式中、Ｒは水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル
基、カルボキシル基、炭素原子数１〜３のアルコキシル
基、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン原子又は水素原子、R1はアルキル基又は置換アルキ
ル基を示す） で表わされるアルキルベンゾチアゾール類の製造方法に
関するものである。この化合物は医薬、農薬、染料、酸
化防止剤、樹脂安定剤等の原料として産業上利用価値の
ある有用なものである。
基、カルボキシル基、炭素原子数１〜３のアルコキシル
基、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン原子又は水素原子、R1はアルキル基又は置換アルキ
ル基を示す） で表わされるアルキルベンゾチアゾール類の製造方法に
関するものである。この化合物は医薬、農薬、染料、酸
化防止剤、樹脂安定剤等の原料として産業上利用価値の
ある有用なものである。
［従来の技術］ 従来、通常、アルキルベンゾチアゾール類は２−アミ
ノチオフェノールとカルボン酸或いはその誘導体との縮
合反応により合成されている。
ノチオフェノールとカルボン酸或いはその誘導体との縮
合反応により合成されている。
他方、前記の通常の方法に対して、別途のアルキルベ
ンゾチアゾール類の製造方法として、１−アミノ−２−
ハロベンゼン類とチオアミドとの反応により直接合成す
る方法が考えられる。
ンゾチアゾール類の製造方法として、１−アミノ−２−
ハロベンゼン類とチオアミドとの反応により直接合成す
る方法が考えられる。
しかしながら、後者の別途の方法を行なうに際して、
いくつかの問題がある。即ち、従来から、ハロゲン化ア
ルキルとチオアミドを反応せしめてイソチオアミドを合
成する方法は知られている。この様にハロゲン化アルキ
ルの反応性がよいのに比べ、周知の如く、sp2C−ハロゲ
ン結合の反応性の低いことから、１−アミノ−２−ハロ
ベンゼン類の有機合成への利用は相当制限されている。
いくつかの問題がある。即ち、従来から、ハロゲン化ア
ルキルとチオアミドを反応せしめてイソチオアミドを合
成する方法は知られている。この様にハロゲン化アルキ
ルの反応性がよいのに比べ、周知の如く、sp2C−ハロゲ
ン結合の反応性の低いことから、１−アミノ−２−ハロ
ベンゼン類の有機合成への利用は相当制限されている。
したがって、前記のハロゲン化アルキルの代りに、１
−アミノ−２−ハロベンゼン類をチオアミドと直接反応
せしめてアルキルベンゾチアゾール類を合成する方法は
試みられてはいるが、芳香環に結合するハロゲンが不活
性のために求核置換反応が行なわれないために未だ完成
されていない現状である。
−アミノ−２−ハロベンゼン類をチオアミドと直接反応
せしめてアルキルベンゾチアゾール類を合成する方法は
試みられてはいるが、芳香環に結合するハロゲンが不活
性のために求核置換反応が行なわれないために未だ完成
されていない現状である。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者は、この様な従来の技術に鑑みて研究を行っ
た結果、１−アミノ−２−ハロベンゼン類とチオアミド
類との反応において、触媒としてパラジウム錯体を用い
ることにより、反応が温和な条件で容易に進行し、イソ
チオアミド中間体を経由してアルキルベンゾチアゾール
類を高収率で得ることができることを知見し本発明の完
成に至ったものである。
た結果、１−アミノ−２−ハロベンゼン類とチオアミド
類との反応において、触媒としてパラジウム錯体を用い
ることにより、反応が温和な条件で容易に進行し、イソ
チオアミド中間体を経由してアルキルベンゾチアゾール
類を高収率で得ることができることを知見し本発明の完
成に至ったものである。
［問題点を解決するための手段］ 即ち、本発明は、 式（II） （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは水酸基、アミノ基、ア
ルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、炭素原子数１
〜３のアルコキシル基、低級アルキル基、低級ハロゲン
化アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子を示す）で表
わされる１−アミノ−２−ハロベンゼン類と 式（III） （式中、R1はアルキル又は置換アルキル基を示す）で表
わされるチオアミド類を、パラジウム錯体の存在下で反
応させることを特徴とする 式（Ｉ） （式中、R,R1は前記意義を示す）で表わされるアルキル
ベンゾチアゾール類の製造方法である。
ルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、炭素原子数１
〜３のアルコキシル基、低級アルキル基、低級ハロゲン
化アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子を示す）で表
わされる１−アミノ−２−ハロベンゼン類と 式（III） （式中、R1はアルキル又は置換アルキル基を示す）で表
わされるチオアミド類を、パラジウム錯体の存在下で反
応させることを特徴とする 式（Ｉ） （式中、R,R1は前記意義を示す）で表わされるアルキル
ベンゾチアゾール類の製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係わるアルキルベンゾチアゾール類の製造方
法を反応式で表わすと次の通りである。
法を反応式で表わすと次の通りである。
まず、本発明は上記の反応式（Ａ）で示される反応に
より、芳香環に結合する不活性で求核置換反応を受けな
い式（II）で示される１−アミノ−２−ハロベンゼン類
を、触媒としてパラジウム錯体を用いて活性化し、チオ
アミド求核種との置換反応により式（IV）で示されるイ
ソチオアミド中間体を合成する。
より、芳香環に結合する不活性で求核置換反応を受けな
い式（II）で示される１−アミノ−２−ハロベンゼン類
を、触媒としてパラジウム錯体を用いて活性化し、チオ
アミド求核種との置換反応により式（IV）で示されるイ
ソチオアミド中間体を合成する。
次いで、下記の反応式（Ｂ）により、 オルト位アミノ基のイミノ結合への求核付加により開始
される環化縮合反応を経て一挙にベンゾチアゾール環を
生成することにより、式（Ｉ）で示されるアルキルベン
ゾチアゾール類を得ることができる。
される環化縮合反応を経て一挙にベンゾチアゾール環を
生成することにより、式（Ｉ）で示されるアルキルベン
ゾチアゾール類を得ることができる。
上記の反応式（Ａ），（Ｂ）から明らかな通り、本発
明は原料系の１−アミノ−２−ハロベンゼン類とチオア
ミド類の量を一定の割合に特定することにより反応を行
うことが望ましく、その割合をモル比で示すと、１−ア
ミノ−２−ハロベンゼン類１モル当り、チオアミド類を
1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜1.5モル用いることが望
ましく、原料系をこの特定の割合で反応させることによ
り選択的にアルキルベンゾチアゾール類を製造すること
ができる。
明は原料系の１−アミノ−２−ハロベンゼン類とチオア
ミド類の量を一定の割合に特定することにより反応を行
うことが望ましく、その割合をモル比で示すと、１−ア
ミノ−２−ハロベンゼン類１モル当り、チオアミド類を
1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜1.5モル用いることが望
ましく、原料系をこの特定の割合で反応させることによ
り選択的にアルキルベンゾチアゾール類を製造すること
ができる。
本発明の原料として使用される１−アミノ−２−ハロ
ベンゼン類は式（II） で表わされ、式中のＸはハロゲン原子を示し、特にヨウ
素又は臭素が好ましい。
ベンゼン類は式（II） で表わされ、式中のＸはハロゲン原子を示し、特にヨウ
素又は臭素が好ましい。
また、式中のＲは水酸基、アミノ基、アルデヒド基、
アシル基、カルボキシル基、炭素原子数１〜３のアルコ
キシル基、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル
基、ハロゲン原子又は水素原子等の置換基を示すが、さ
らに置換カルボニル基、エステル基、フェニル基、置換
カルボキシ基、シアノ基、置換アミノ基、置換アミド
基、ヒドロキシメチル基、ヘテロ芳香族基（フリル基、
チエニル基、ピリジイル基、モルホリル基、イミダゾリ
ル基、チアゾリル基）、三フッ化メチル基、ビニル基、
置換エチニル基等の置換基で置換したものでもよい。前
記のＲの置換基の位置は、置換基に応じて１−アミノ−
２−ハロベンゼン類の3,4,5及び６位の任意の位置に設
けることができる。また、複数位置に設けてもよい。
アシル基、カルボキシル基、炭素原子数１〜３のアルコ
キシル基、低級アルキル基、低級ハロゲン化アルキル
基、ハロゲン原子又は水素原子等の置換基を示すが、さ
らに置換カルボニル基、エステル基、フェニル基、置換
カルボキシ基、シアノ基、置換アミノ基、置換アミド
基、ヒドロキシメチル基、ヘテロ芳香族基（フリル基、
チエニル基、ピリジイル基、モルホリル基、イミダゾリ
ル基、チアゾリル基）、三フッ化メチル基、ビニル基、
置換エチニル基等の置換基で置換したものでもよい。前
記のＲの置換基の位置は、置換基に応じて１−アミノ−
２−ハロベンゼン類の3,4,5及び６位の任意の位置に設
けることができる。また、複数位置に設けてもよい。
以下にその置換基の具体例を示すと、 炭素原子数１〜３のアルコキシル基のものとしては、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、低
級アルキル基のものとしてはメチル，エチル，プロピ
ル，ブチル，アミル及びそれ等の異性体、置換アミノ基
としてはメチルアミノ，ジメチルアミノ，エチルアミ
ノ，ジエチルアミノ，プロピルアミノ，ブチルアミノ，
フェニルアミノ，置換アミド基としてはＮ−メチルアミ
ド,N−エチルアミド,N−フェニルアミド,N.N−ジメチル
アミド,N−メチル−Ｎ−フェニルアミド、アシル基とし
てはアセチル，プロピオニル，ブチリル，ベンゾイル，
置換エチニル基としてはアリル，イソプロペニル,1−プ
ロペニル、置換カルボキシ基としてはメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，プロポロキシカルボニル，フ
ェノキシカルボニル等が挙げられるが、上記に示したも
のは具体例であり、これらの置換基に限定されるもので
はない。
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、低
級アルキル基のものとしてはメチル，エチル，プロピ
ル，ブチル，アミル及びそれ等の異性体、置換アミノ基
としてはメチルアミノ，ジメチルアミノ，エチルアミ
ノ，ジエチルアミノ，プロピルアミノ，ブチルアミノ，
フェニルアミノ，置換アミド基としてはＮ−メチルアミ
ド,N−エチルアミド,N−フェニルアミド,N.N−ジメチル
アミド,N−メチル−Ｎ−フェニルアミド、アシル基とし
てはアセチル，プロピオニル，ブチリル，ベンゾイル，
置換エチニル基としてはアリル，イソプロペニル,1−プ
ロペニル、置換カルボキシ基としてはメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，プロポロキシカルボニル，フ
ェノキシカルボニル等が挙げられるが、上記に示したも
のは具体例であり、これらの置換基に限定されるもので
はない。
次に、本発明のもう一方の原料として使用されるチオ
アミド類は、硫黄原子の供与体として用いられるのみで
なく、１−アミノ−２−ハロベンゼン類の２−アミノ基
に置換される各種置換基の供与体ともなり得るものであ
り、式（III） で表わされるが、式中のR1は、アルキル基又は置換アル
キル基の置換基を示す。
アミド類は、硫黄原子の供与体として用いられるのみで
なく、１−アミノ−２−ハロベンゼン類の２−アミノ基
に置換される各種置換基の供与体ともなり得るものであ
り、式（III） で表わされるが、式中のR1は、アルキル基又は置換アル
キル基の置換基を示す。
アルキル基としては、低級アルキル基および炭素数６
〜10のアルキル基が好ましく、例えばメチル，エチル，
プロピル，ブチル，アミル，ヘキシル，オクチル，シク
ロヘキシル基およびそれらの異性体が挙げられる。
〜10のアルキル基が好ましく、例えばメチル，エチル，
プロピル，ブチル，アミル，ヘキシル，オクチル，シク
ロヘキシル基およびそれらの異性体が挙げられる。
また、置換アルキル基としては、前記アルキル基の
α，β，………ω位の任意の位置に前記Ｒの置換基、即
ち水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、カルボ
キシル基、炭素原子数１〜３のアルコキシル基、低級ア
ルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子又
は水素原子等の置換基を含有するもの示すが、さらに置
換カルボニル基、エステル基、シアノ基、フェニル基、
置換カルボキシ基、置換アミノ基、置換アミド基、ヒド
ロキシメチル基、ヘテロ芳香族基（フリル基、チエニル
基、ピリジイル基、モルホリル基、イミダゾリル基、チ
アゾリル基）、三フッ化メチル基、ビニル基、置換エチ
ニル基等の置換基を含有するものが挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。また、置換基を複数位置
に設けてもよい。
α，β，………ω位の任意の位置に前記Ｒの置換基、即
ち水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、カルボ
キシル基、炭素原子数１〜３のアルコキシル基、低級ア
ルキル基、低級ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子又
は水素原子等の置換基を含有するもの示すが、さらに置
換カルボニル基、エステル基、シアノ基、フェニル基、
置換カルボキシ基、置換アミノ基、置換アミド基、ヒド
ロキシメチル基、ヘテロ芳香族基（フリル基、チエニル
基、ピリジイル基、モルホリル基、イミダゾリル基、チ
アゾリル基）、三フッ化メチル基、ビニル基、置換エチ
ニル基等の置換基を含有するものが挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。また、置換基を複数位置
に設けてもよい。
以下にその置換基の具体例を示すと、 炭素原子数１〜３のアルコキシル基のものとしては、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、低
級アルキル基のものとしてはメチル，エチル，プロピ
ル，ブチル，アミル及びそれ等の異性体、置換アミノ基
としてはメチルアミノ，ジメチルアミノ，エチルアミ
ノ，ジエチルアミノ，プロピルアミノ，ブチルアミノ，
フェニルアミノ、置換アミド基としてはＮ−メチルアミ
ド,N−エチルアミド,N−フェニルアミド,N.N−ジメチル
アミド,N−メチル−Ｎ−フェニルアミド、アシル基とし
てはアセチル，プロピオニル，ブチリル，ベンゾイル、
置換エチニル基としてはアリル，イソプロペニル,1−プ
ロペニル、置換カルボキシ基としてはメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，プロポロキシカルボニル，フ
ェノキシカルボニル等が挙げられるが、上記に示したも
のは具体例であり、これらの置換基に限定されるもので
はない。
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、低
級アルキル基のものとしてはメチル，エチル，プロピ
ル，ブチル，アミル及びそれ等の異性体、置換アミノ基
としてはメチルアミノ，ジメチルアミノ，エチルアミ
ノ，ジエチルアミノ，プロピルアミノ，ブチルアミノ，
フェニルアミノ、置換アミド基としてはＮ−メチルアミ
ド,N−エチルアミド,N−フェニルアミド,N.N−ジメチル
アミド,N−メチル−Ｎ−フェニルアミド、アシル基とし
てはアセチル，プロピオニル，ブチリル，ベンゾイル、
置換エチニル基としてはアリル，イソプロペニル,1−プ
ロペニル、置換カルボキシ基としてはメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，プロポロキシカルボニル，フ
ェノキシカルボニル等が挙げられるが、上記に示したも
のは具体例であり、これらの置換基に限定されるもので
はない。
次に、本発明における触媒は下記の（イ）或いは
（ロ）のいずれかにより調製されたパラジウム錯体が用
いられる。
（ロ）のいずれかにより調製されたパラジウム錯体が用
いられる。
（イ） 次のＡ、Ｂ、Ｃのそれぞれ１つを組み合わせ、反応液
内で調製するか、或いはＡ、Ｂ間で別途に錯体を合成
し、この１つとＣの中の１つを組み合わせて反応液内で
調製する。
内で調製するか、或いはＡ、Ｂ間で別途に錯体を合成
し、この１つとＣの中の１つを組み合わせて反応液内で
調製する。
A.（パラジウム種） PdX2（Ｘはハロゲン原子、有機酸の共役塩基、或いは
アセチルアセトナートを示す）およびそれらの水和物の
１モル当り、 B.（配位子） PR5 3（R5はメチル，エチル，ブチル，シクロヘキシ
ル，フェニル,o−トリル又はｐ−ジメチルアミノフェニ
ルの各基を示す）の０〜６モル当量。
アセチルアセトナートを示す）およびそれらの水和物の
１モル当り、 B.（配位子） PR5 3（R5はメチル，エチル，ブチル，シクロヘキシ
ル，フェニル,o−トリル又はｐ−ジメチルアミノフェニ
ルの各基を示す）の０〜６モル当量。
R6 2P（CH2）nPR6 2（R6,nはフェニル,1〜3;メチル,1
〜3;エチル,1〜３を示す）の０〜３モル当量。
〜3;エチル,1〜３を示す）の０〜３モル当量。
1,1′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン,1,
10−フェナントロリン,1,10−フェナントロリン−5,6−
ジオン，シス−1,2−ビス（ジフェニルホスフィノ）エ
チレン，あるいは1,2−ビス（ジフェニルホスフィノ）
ベンゼンの０〜３モル当量。
10−フェナントロリン,1,10−フェナントロリン−5,6−
ジオン，シス−1,2−ビス（ジフェニルホスフィノ）エ
チレン，あるいは1,2−ビス（ジフェニルホスフィノ）
ベンゼンの０〜３モル当量。
Ｐ（Oph）３の０〜６モル当量。（但し、phはフェ
ニル基を示す） NR7 3（R7はエチル，ブチル又はシクロヘキシルの各
基を示す）の０〜６モル当量。
ニル基を示す） NR7 3（R7はエチル，ブチル又はシクロヘキシルの各
基を示す）の０〜６モル当量。
ジベンジリデンアセトンの０〜６モル当量。
C.（還元剤） NaBH4,NaBH3CN,AlEt2（OEt）,Al（ｉ−Bu）2H,AlEt3,Z
n,Na（Hg）,Mn（Fe），ヒドラジン水和物の０〜６モル
当量（但し、Etはエチル基,Buはブチル基を示す） （ロ） 次のＤ単独、或いはＤの１モル当りに前記（イ）のＢ
の中の１つを組み合わせて反応液内で調製する。
n,Na（Hg）,Mn（Fe），ヒドラジン水和物の０〜６モル
当量（但し、Etはエチル基,Buはブチル基を示す） （ロ） 次のＤ単独、或いはＤの１モル当りに前記（イ）のＢ
の中の１つを組み合わせて反応液内で調製する。
D. Pd（ジベンジリデンアセトン）２、 Pd2（ジベンジリデンアセトン）３・CHCl3、 Pd（Pdh3）４、 また、触媒を調製する方法は前記の（イ）或いは
（ロ）のいずれかの組合せにより選択された各化合物を
溶媒中において不活性ガス気流下で調製することにより
容易にパラジウム錯体を得ることができる。
（ロ）のいずれかの組合せにより選択された各化合物を
溶媒中において不活性ガス気流下で調製することにより
容易にパラジウム錯体を得ることができる。
触媒の調製に使用する溶媒としては、ジメチルホルム
アミド（DMF）、アセトニトリル、アセトン、1,4−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド（HMPA）、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン（NMP）、テトラメチルウレア、1,2−ジ
エトキシエタン、ベンゼン、クロロホルム、トルエン、
メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等が好まし
い。
アミド（DMF）、アセトニトリル、アセトン、1,4−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド（HMPA）、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン（NMP）、テトラメチルウレア、1,2−ジ
エトキシエタン、ベンゼン、クロロホルム、トルエン、
メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等が好まし
い。
本発明における触媒の使用量は原料の１−アミノ−２
−ハロベンゼン類1.0モル当り0.0001〜0.5モル、好まし
くは0.002〜0.05モルが望ましく、0.0001モル未満では
反応活性が低く、0.5モルをこえて多量に使用しても得
策でない。
−ハロベンゼン類1.0モル当り0.0001〜0.5モル、好まし
くは0.002〜0.05モルが望ましく、0.0001モル未満では
反応活性が低く、0.5モルをこえて多量に使用しても得
策でない。
また、本発明の反応は、塩基の存在下において行なう
のが好ましく、塩基としては酸化カルシュウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、NR3（Ｒは炭素原子数１〜４
のアルキル基を示す）の少なくとも１種以上が望まし
い。なお、反応は塩基が存在しなくとも何等さしつかえ
なく行なうことができる。
のが好ましく、塩基としては酸化カルシュウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、NR3（Ｒは炭素原子数１〜４
のアルキル基を示す）の少なくとも１種以上が望まし
い。なお、反応は塩基が存在しなくとも何等さしつかえ
なく行なうことができる。
次に、本発明の反応条件として、反応温度は使用する
原料により異なるが、通常20〜100℃、好ましくは40〜8
0℃で行うのがよい。また、圧力は通常、常圧で行う
が、加圧下で行ってもよい。
原料により異なるが、通常20〜100℃、好ましくは40〜8
0℃で行うのがよい。また、圧力は通常、常圧で行う
が、加圧下で行ってもよい。
反応時間は原料の種類、反応温度により異なるが、通
常0.5〜100時間、好ましくは0.5〜60時間が望ましい
が、原料の種類によっては長時間反応を行ってもよい。
常0.5〜100時間、好ましくは0.5〜60時間が望ましい
が、原料の種類によっては長時間反応を行ってもよい。
上記反応は溶媒中で行うのが望ましく、溶媒として
は、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトニトリル、アセトン、1,4−ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチル
スルホキシド、テトラメチルウレア、1,2−ジメトキシ
エタン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール等を用いるのが好まし
い。
は、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトニトリル、アセトン、1,4−ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチル
スルホキシド、テトラメチルウレア、1,2−ジメトキシ
エタン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール等を用いるのが好まし
い。
また、反応は不活性ガス気流下で行うのが好ましく、
不活性ガスとしては窒素、ヘリウム、アルゴン等を用い
ることができる。
不活性ガスとしては窒素、ヘリウム、アルゴン等を用い
ることができる。
本発明における反応は、調製された触媒のパラジウム
錯体が溶解または分散している溶媒中に、１−アミノ−
２−ハロベンゼン類とチオアミド類とを添加した後、塩
基の存在または不存在下において、不活性ガス気流下で
所定の温度で所定時間行う。反応終了後、反応生成物の
単離は、そのまま冷却晶析するか、または溶媒濃縮等の
処理で目的物のアルキルベンゾチアゾール類を回収す
る。
錯体が溶解または分散している溶媒中に、１−アミノ−
２−ハロベンゼン類とチオアミド類とを添加した後、塩
基の存在または不存在下において、不活性ガス気流下で
所定の温度で所定時間行う。反応終了後、反応生成物の
単離は、そのまま冷却晶析するか、または溶媒濃縮等の
処理で目的物のアルキルベンゾチアゾール類を回収す
る。
［作 用］ 本発明は１−アミノ−２−ハロベンゼン類とチオアミ
ド類との反応において、触媒としてパラジウム錯体を使
用しているので、該パラジウム錯体により求核置換反応
に対して不活性なハロゲンの反応性を高め、１−アミノ
−２−ハロベンゼン類のチオアミド求核種による置換反
応を可能とし、更にオルト位アミノ基による自発的環化
反応で一挙に反応が進行し、イソチオアミド中間体を経
由してアルキルベンゾチアゾール類を高収率で得ること
ができるものと推定される。
ド類との反応において、触媒としてパラジウム錯体を使
用しているので、該パラジウム錯体により求核置換反応
に対して不活性なハロゲンの反応性を高め、１−アミノ
−２−ハロベンゼン類のチオアミド求核種による置換反
応を可能とし、更にオルト位アミノ基による自発的環化
反応で一挙に反応が進行し、イソチオアミド中間体を経
由してアルキルベンゾチアゾール類を高収率で得ること
ができるものと推定される。
［実施例］ 次に実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１ ２−メチルベンゾチアゾールの製造 合成フラスコに窒素気流中で、溶媒ジメチルホルムア
ミド200mlに、トリス（ジベンジリデンアセトン）（ク
ロロホルム）ジーパラジウム（０）（＝Pd＊と略記）0.
002モル及びトリフェニルホスフィン（＝PPh3と略記）
0.016モルを加え、十分に撹拌しながら溶解した。その
中に、十分に撹拌しながら酸化カルシウム0.22モル、０
−ヨードアニリン0.2モル及びチオアセトアミド0.22モ
ルを加えた後、水浴でゆっくり加温して60℃にした。そ
のまま３時間反応させた後、室温まで冷却してガラスフ
ィルターで不溶物を除去した。その液から、減圧下に
ジメチルホルムアミドを回収し、残渣をガスクロマトグ
ラフィーで内部標準法により分析したところ、収率99％
で２−メチルベンゾチアゾールが得られた。
ミド200mlに、トリス（ジベンジリデンアセトン）（ク
ロロホルム）ジーパラジウム（０）（＝Pd＊と略記）0.
002モル及びトリフェニルホスフィン（＝PPh3と略記）
0.016モルを加え、十分に撹拌しながら溶解した。その
中に、十分に撹拌しながら酸化カルシウム0.22モル、０
−ヨードアニリン0.2モル及びチオアセトアミド0.22モ
ルを加えた後、水浴でゆっくり加温して60℃にした。そ
のまま３時間反応させた後、室温まで冷却してガラスフ
ィルターで不溶物を除去した。その液から、減圧下に
ジメチルホルムアミドを回収し、残渣をガスクロマトグ
ラフィーで内部標準法により分析したところ、収率99％
で２−メチルベンゾチアゾールが得られた。
また、ガスクロマトグラフィー質量分析計、赤外吸収
スペクトル等で構造の確認をした。
スペクトル等で構造の確認をした。
実施例２ ２−メチルベンゾチアゾールの製造 合成フラスコに窒素気流中で、溶媒ジメチルホルムア
ミド400mlに、トリス（ジベンジリデンアセトン）（ク
ロロホルム）ジーパラジウム（０）0.001モル及び1,1′
−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（dPPfと略
記）0.004モルを加え、十分に撹拌しながら溶解した。
その中に、十分に撹拌しながら酸化カルシウム0.4モ
ル、０−ヨードアニリン0.4モル及びチオアセトアミド
0.4モルを加えた後、水浴でゆっくり加温して60℃にし
た。そのまま１時間反応させた後、室温まで冷却してガ
ラスフィルターで不溶物を過した。次いで、液から
減圧下にてジメチルホルムアミドを回収した後、真空度
15mmHgで真空蒸留したところ、150℃で２−メチルベン
ゾチアゾールが留出した。その収率は98％であった。
ミド400mlに、トリス（ジベンジリデンアセトン）（ク
ロロホルム）ジーパラジウム（０）0.001モル及び1,1′
−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（dPPfと略
記）0.004モルを加え、十分に撹拌しながら溶解した。
その中に、十分に撹拌しながら酸化カルシウム0.4モ
ル、０−ヨードアニリン0.4モル及びチオアセトアミド
0.4モルを加えた後、水浴でゆっくり加温して60℃にし
た。そのまま１時間反応させた後、室温まで冷却してガ
ラスフィルターで不溶物を過した。次いで、液から
減圧下にてジメチルホルムアミドを回収した後、真空度
15mmHgで真空蒸留したところ、150℃で２−メチルベン
ゾチアゾールが留出した。その収率は98％であった。
実施例３〜９ ２−（置換）アルキルベンゾチアゾール類を実施例１
と同様な操作で、表１に示す様な原料、反応条件で合成
した。得られた２−（置換）アルキルベンゾチアゾール
類の収率は、ガスクロマトグラフィー内部標準法で求め
た。その結果を表１に示す。
と同様な操作で、表１に示す様な原料、反応条件で合成
した。得られた２−（置換）アルキルベンゾチアゾール
類の収率は、ガスクロマトグラフィー内部標準法で求め
た。その結果を表１に示す。
［発明の効果］ 次に本発明の効果を列挙すると下記の通りである。
（１）本発明は、アルキルベンゾチアゾール類の新規な
製造方法で、従来使用されていない１−アミノ−２−ハ
ロベンゼン類とチオアミド類の組み合わせ原料を用い
て、パラジウム錯対触媒の存在下で反応せしめると、容
易に反応が進行し、高収率でアルキルベンゾチアゾール
類を得ることが出来る。
製造方法で、従来使用されていない１−アミノ−２−ハ
ロベンゼン類とチオアミド類の組み合わせ原料を用い
て、パラジウム錯対触媒の存在下で反応せしめると、容
易に反応が進行し、高収率でアルキルベンゾチアゾール
類を得ることが出来る。
（２）本発明においては、従来技術に比較して、反応が
常圧で、室温から100℃以内の温和な条件下で容易に行
われ、目的物を得ることができる。
常圧で、室温から100℃以内の温和な条件下で容易に行
われ、目的物を得ることができる。
（３）目的物のアルキルベンゾチアゾール類は、産業上
有用な化合物で、医薬品、農薬をはじめ、染料、酸化防
止剤、樹脂安定剤等の化学工業製品の原料として利用さ
れ、該目的物を高収率で得ることができる本発明の工業
的価値は極めて高いものである。
有用な化合物で、医薬品、農薬をはじめ、染料、酸化防
止剤、樹脂安定剤等の化学工業製品の原料として利用さ
れ、該目的物を高収率で得ることができる本発明の工業
的価値は極めて高いものである。
Claims (1)
- 【請求項１】式 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは水酸基、アミノ基、ア
ルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、炭素原子数１
〜３のアルコキシル基、低級アルキル基、低級ハロゲン
化アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子を示す）で表
わされる１−アミノ−２−ハロベンゼン類と 式 （式中、R1はアルキル基又は置換アルキル基を示す）で
表わされるチオアミド類を、パラジウム錯体の存在下で
反応させることを特徴とする 式 （式中、R,R1は前記意義を示す）で表わされるアルキル
ベンゾチアゾール類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62234276A JP2564141B2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | アルキルベンゾチアゾール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62234276A JP2564141B2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | アルキルベンゾチアゾール類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6475476A JPS6475476A (en) | 1989-03-22 |
| JP2564141B2 true JP2564141B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=16968432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62234276A Expired - Fee Related JP2564141B2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 | アルキルベンゾチアゾール類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2564141B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7378427B2 (en) | 2004-06-18 | 2008-05-27 | Wyeth | Processes for preparing 6-alkyl-5-arylsulfonyl-dihydrophenanthridines |
-
1987
- 1987-09-18 JP JP62234276A patent/JP2564141B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7378427B2 (en) | 2004-06-18 | 2008-05-27 | Wyeth | Processes for preparing 6-alkyl-5-arylsulfonyl-dihydrophenanthridines |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6475476A (en) | 1989-03-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |