JP2563573B2 - ヒータ付高周波加熱調理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、加熱調理室の上部に管状の上ヒータを備え
たヒータ付高周波加熱調理装置に関する。

（従来の技術） 従来、この種のヒータ付高周波加熱調理装置は、第８
図に示すように、加熱調理室１の上部にヒータ収納部２
を形成し、このヒータ収納部２に管状の上ヒート３を配
設する構成となっている。この場合、上ヒータ３の支持
構造は、上ヒータ３の両端部をヒータ収納部２の左右両
端面のヒータ貫通孔４に貫通し、外部で支持部材５によ
り上ヒータ３の両端部を支持するようになっている。

このような構造では、高周波加熱時に、高周波（マイ
クロ波）が上ヒータ３の中心のコイル状ニクロム線3aを
伝ってヒータ貫通孔４の近辺に集中し、それによってコ
イル状ニクロム線3aとヒータ貫通孔４の周縁との間に大
きな電位差が生じてスパークが発生するおそれがあっ
た。この様なスパークは、特に、加熱調理室１内に調理
物（負荷）がない場合に発生しやすい。

斯かるスパークの発生を防止する手段として、近年、
第９図に示すように、ヒータ貫通孔４の内側に円筒状の
高周波減衰器６を取付け、この高周波減衰器６によって
上ヒータ３の両側部分を覆うようにしたものがある。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上ヒータ３の両側部分を高周波減衰器
６で覆ってしまうと、その高周波減衰器６で覆われた部
分は、上ヒータ３の輻射熱が遮られて調理物の加熱に寄
与できないため、上ヒータ３の有効発熱領域が挟められ
て加熱効率が悪くなり、しかも、調理物の周辺部分の加
熱が不十分にないという不具合がある。

本発明はこの様な事情を考慮してなされたもので、従
ってその目的は、上ヒータの有効発熱領域を挟めずにヒ
ータ貫通孔周縁部分のスパーク発生を防止できて、スパ
ーク発生防止と上ヒータの加熱性能維持とを両立させ得
るヒータ付高周波加熱調理装置を提供するにある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明のヒータ付高周波加熱調理装置は、加熱調理室
内の調理物を高周波加熱するマグネトロンと、この加熱
調理室内の上部両側に形成されたヒータ貫通孔に貫通さ
れた管状の上ヒートとを備えたものにおいて、前記加熱
調理室内のヒータ貫通孔の近傍に、高周波反射部を前記
上ヒータ上部側に近接させるように設けたことを特徴と
するものである。

（作用） 高周波反射部は上ヒータの上部側に設けられているの
で、上ヒータの下部側は高周波反射部によって遮られる
ことはない。従って、オーブン加熱時に、上ヒータの輻
射熱は、高周波反射部によって遮られることなく調理物
側に照射されるようになり、上ヒータの有効発熱領域は
高周波反射部によって狭められることはない。この場
合、ヒータ貫通孔の近傍においては、高周波反射部が上
ヒータに近接されているので、高周波加熱時には、この
高周波反射部の高周波反射作用により上ヒータ内の発熱
線と高周波反射部との間で高周波を減衰させる減衰器の
作用が生じ、それによってヒータ貫通孔周辺の電界が緩
和されてスパークの発生が防止される。

（実施例） 以下、本発明の第１実施例を第１図乃至第３図に基づ
いて説明する。

まず、全体の縦断正面図を示す第１図（外箱の図示を
省略している）において、11は内部を加熱調理室12とす
る内箱で、その底部中央には、モータ13によって回転駆
動される回転皿14が配設されている。この回転皿14と内
箱11の底板との間には下ヒータ15が配設されている。一
方、内箱11の右側面部には、導波管16が取着され、この
導波管16にマグネトロン17が固定されている。18は内箱
11の上面中央部に溶接等により取付けられた反射板で、
この反射板18は、第２図に示すように上方に台形状に突
出し且つ左右方向に延びるように形成され、内箱11の上
面部の矩形状開口部11aを通して反射板18の下面側が加
熱調理室12内に開放されている。そして、この反射板18
の内側中央には、ガラス管ヒータからなる上ヒータ19が
左右に延びるように配設されている。この上ヒータ19の
取付溝造は、第３図に示すように、反射板18の端板部18
aに、ヒータ貫通孔20を構成する筒状部20aを外向きに突
出形成し、この筒状部20aに固定した環状の碍子21に上
ヒータ19を支持させると共に、内箱11の上面に固定した
取付板22によって上ヒータ19の左右方向の移動を規制す
るものである。

而して、加熱調理室12内の両ヒータ貫通孔20の近傍に
は、夫々高周波反射部23が上ヒータ19のガラス管19bの
上部側に近接させるように設けられている。この実施例
では、各高周波反射部23は、金属（例えば鉄、銅、アル
ミニウム等）により半割り筒状に形成されて、上ヒータ
19の上半部を覆うような形態となっており（第２図参
照）、その端部に形成された取付片部23aを反射板18の
端板部18aに溶接等により固着することにより固定され
ている。この場合、各高周波反射部23の左右方向突出寸
法は、マグネトロン17で発生する高周波（マイクロ波）
の波長λの略1/4の長さに設定されている。また、反射
板18の両端板部18a間の寸法は、高周波の波長λの略２
倍の大きさに設定されている。

上記構成によれば、高周波反射部23は上ヒータ19の上
部側に設けられているので、上ヒータ19の下部側は高周
波反射部23によって遮られることはない。従って、オー
ブン加熱時に、上ヒータ19の輻射熱は、高周波反射部23
によって遮られることなく回転皿14上の調理物側に放射
されるようになり、上ヒータ19の有効発熱領域は高周波
反射部23によって挟められることはない。このため、上
ヒータ19による加熱が無駄なく効率良く行われ、加熱効
率を良好に維持できると共に、調理物の周辺部の加熱不
足も解消できる。

一方、ヒータ貫通孔20の近傍においては、高周波反射
部23が上ヒータ19に近接されているので、この高周波反
射部23の高周波反射作用により上ヒータ19内の発熱線19
aと高周波反射部23との間で高周波を減衰させる減衰器
の作用が生じ、それによってヒータ貫通孔20周辺の電界
が緩和されてスパークの発生が防止される。このような
スパーク発生防止効果は、本発明者の実験結果から確認
されており、特に、上記実施例のように、高周波反射部
23の左右方向突出寸法を高周波の波長λの略1/4の長さ
に設定したときに、スパーク発生防止効果が顕著に高く
なることが確認されている。

尚、上記実施例では、高周波反射部23を半割り筒状に
形成したが、その形状は種々の変形が可能である、例え
ば第４図及び第５図に示す本発明の第２実施例のよう
に、高周波反射部25を略Ｌ字形に形成し、この高周波反
射部25を加熱調理室12内のヒータ貫通孔20の近傍に位置
させ且つ上ヒータ19の上部側に近接させて設ける構成と
しても良い。この場合、高周波反射部25は、その垂直部
25a上端の取付片部25bを反射板18の内面に溶接すること
により固定されている。この固定状態において、反射板
18の端板部18aと高周波反射部25の垂直部25aとの間の寸
法は、高周波の波長λの略1/4の長さに設定され、且つ
水平部25cの先端がヒータ貫通孔20に近接している。但
し、水平部25cの先端とヒータ貫通孔20の周縁との間に
は、スパークが発生しない程度の隙間（例えば３〜4mm
程度）の隙間を設けている。これ以外の構成は、第１実
施例と同一である。

斯かる第２実施例においても前記第１実施例と同様の
作用効果を得ることができる。

以上述べた第１及び第２実施例では、高周波反射部2
3,25を反射板18とは別の部材で形成したが、例えば第６
図及び第７図に示す本発明の第３実施例のように、反射
板18の左右両側部分を凹状に絞り成形することにより、
高周波反射部26を反射板18に一体に形成するようにして
も良い。この場合、高周波反射部26は断面が円弧状に形
成され、第１実施例と同じく、この高周波反射部26が加
熱調理室12内のヒータ貫通孔20の近傍に位置し且つ上ヒ
ータ19の上部側に近接した形態となっている。この場合
も、高周波反射部26の左右方向寸法を、高周波の波長λ
の略1/4の長さに設定している。これ以外の構成は、第
１実施例と同一である。

斯かる第３実施例においても、前記第１実施例と同様
の作用効果を得ることができる。しかも、この場合、高
周波反射部26を反射板18に溶接する必要がないので、組
立能率が向上するという利点がある。

尚、本発明は上記第１乃至第３の各実施例に限定され
るものではなく、例えば、上ヒータ19の支持構造を変更
したり、反射板18の断面形状を変更しても良い等、種々
の変形が可能である。

［発明の効果］ 本発明は以上の説明から明らかなように、加熱調理室
内のヒータ貫通孔の近傍に、高周波反射部を上ヒータの
上部側に近接させるように設けたので、上ヒータの有発
熱領域を狭めずにヒータ貫通孔周縁部分のスパーク発生
を防止できて、スパーク発生防止と上ヒータの加熱性能
維持とを両立させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は本発明の第１実施例を示したもの
で、第１図は加熱調理室部分の縦断正面図、第２図は反
射板周辺部分の拡大縦断側面図、第３図は上ヒータの支
持構造部分の拡大縦断正面図であり、第４図及び第５図
は本発明の第２実施例を示したもので、第４図は第１図
相当図、第５図は第２図相当図、第６図及び第７図は本
発明の第３実施例を示したもので、第６図は第１図相当
図、第７図は高周波反射部周辺の破断斜視図である。そ
して、第８図及び第９図は夫々異なる従来例を示す要部
の縦断正面図である。 図面中、11は内箱、12は加熱調理室、14は回転皿、15は
下ヒータ、17はマグネトロン、18は反射板、19は上ヒー
タ、20はヒータ貫通孔、23、25及び26は高周波反射部で
ある。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】加熱調理室内の調理物を高周波加熱するマ
   グネトロンと、この加熱調理室の上部両側に形成された
   ヒータ貫通孔に貫通された管状の上ヒータとを備えたも
   のにおいて、前記加熱調理室内のヒータ貫通孔の近傍
   に、高周波反射部を前記上ヒータの上部側に近傍させる
   ように設けたことを特徴とするヒータ付高周波加熱調理
   装置。