JP2554356B2 - ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置 - Google Patents

ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置

Info

Publication number
JP2554356B2
JP2554356B2 JP63118069A JP11806988A JP2554356B2 JP 2554356 B2 JP2554356 B2 JP 2554356B2 JP 63118069 A JP63118069 A JP 63118069A JP 11806988 A JP11806988 A JP 11806988A JP 2554356 B2 JP2554356 B2 JP 2554356B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
glass raw
container
atmospheric pressure
carrier gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63118069A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01290540A (ja
Inventor
明男 塩見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP63118069A priority Critical patent/JP2554356B2/ja
Priority to AU34793/89A priority patent/AU608978B2/en
Priority to ZA893642A priority patent/ZA893642B/xx
Priority to KR1019890006592A priority patent/KR910009178B1/ko
Priority to US07/353,033 priority patent/US4894079A/en
Priority to EP89108936A priority patent/EP0397902B1/en
Priority to ES198989108936T priority patent/ES2037905T3/es
Publication of JPH01290540A publication Critical patent/JPH01290540A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2554356B2 publication Critical patent/JP2554356B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
    • C23C16/4482Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material by bubbling of carrier gas through liquid source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/80Feeding the burner or the burner-heated deposition site
    • C03B2207/85Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
    • C03B2207/86Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は光ファイバ用母材のガラス原料を所望の供給
量で再現性よく反応容器へ供給しうるガラス原料供給方
法及びガラス原料供給装置に関する。
<従来の技術> 光ファイバ用母材の代表的製造方法としては、内付け
法、外付け法及びVAD法(気相軸付け法)が知られてい
る。従来のこれらの方法においては、四塩化ケイ素及び
四塩化ゲルマニウム、オキシ塩化リン、三臭化ホウ素等
のドーピング物質を各原料容器内に充填し、流量制御さ
れたキャリアガス、例えばアルゴンガスを各原料容器内
のガス原料中にバブリングして所望の各原料のガスを発
生させ、該原料蒸気の飽和度を調整した後、これらを反
応領域に輸送供給していた。第4図には従来のガラス原
料供給方法を概念的に示してある。同図において、1は
キャリアガス流量制御器、2はガラス原料容器、3はガ
ラス原料、4は反応容器であり、ガラス原料容器2内の
ガラス原料3はキャリアガス流量制御器1により制御さ
れたキャリアガスのバブリングにより蒸気化され、反応
容器4に供給される。
このようなガラス原料供給方法における流量mは次式
で表されていた。
(1)式中、mはガラス原料流量、Cは飽和度係数、
Mはキャリアガス流量、Tは容器の温度、P(T)は温度T
におけるガラス原料蒸気圧、POは原料容器及び反応容器
の存在する空気の圧力である。
この蒸気化したガラス原料流量mを一定にするには
(1)式の右辺に示される各値を一定に保てばよい。そ
して、飽和度係数Cを一定にする技術としては、例えば
特公昭61−1378号公報に開示されている。この技術によ
ると、同一の液状ガラス原料を充填した容器を前・後段
に区分してバブリング用キャリアガス導管により直列に
接続し、且つ前段にある容器の温度を後段にある容器の
温度により高温に保持することにより、飽和度係数Cを
再現性よくほぼ1に保つことができる。また、容器の温
度Tは温度制御装置、キャリアガス流量Mは例えばマス
フローコントローラーによって再現性よく一定に保つこ
とができる。
<発明が解決しようとする課題> しかしながら、従来のガラス原料供給方法によると、
たとえ、上述したような方法により飽和度係数C、キャ
リアガス流量M及び容器の温度Tを一定に保っても、や
はりガラス原料の流量mは微妙に変化してしまい、再現
性よく、一定値に保つことができなかった。
本発明はこのような事情に鑑み、ガラス原料を所望の
供給量に再現性よく保つことができるガラス原料供給方
法及びガラス原料供給装置を提供することを目的とす
る。
<課題を解決するための手段> 前記目的を達成するために、本発明者らは種々検討を
重ねた結果、従来のガラス原料供給方法においては大気
圧の変化によりガラス原料流量mが変化してしまうこと
を知見した。すなわち、次の(2)式において原料容器
及び反応容器の存在する空間の気圧POがΔPOだけ変化す
るとガラス原料流量mは(3)式で表されるΔmだけ変
化してしまうことが判明した。
よって、Δmの変化を抑えるためには、原料容器及び
反応容器の存在する空間の圧力の変化(ΔP)を抑える
ようにすればよい。
かかる知見に基づく本発明の構成は、光ファイバ用母
材の液状ガラス原料を原料容器に充填し、この液状ガラ
ス原料にキャリアガスをバブリングして蒸気化し、蒸気
状ガラス原料及びキャリアガスの混合物を反応容器に供
給するガラス原料供給方法において、上記原料容器及び
反応容器が存在する空間内の圧力を一定することにより
蒸気状ガラス原料の供給量を一定にすることを特徴と
し、又一方の本発明に係るガラス原料供給装置の構成
は、光ファイバ用母材の液状ガラス原料を原料容器に充
填し、この液状ガラス原料にキャリアガスをバブリング
して蒸気化し、蒸気状ガラス原料及びキャリアガスの混
合物を反応容器に供給するガラス原料供給装置であっ
て、上記原料容器及び反応容器を覆う気圧調節室と、こ
の気圧調節室内の圧力を一定に保持する気圧補正装置と
を有することを特徴とする。
<作用> 原料容器及び反応容器が存在する空間外の圧力が変動
した場合に、該空間内の圧力を常に一定になるよう補正
して保持することにより蒸気状ガラス原料の供給量を一
定にする。
<実 施 例> 以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明する。
第1図は本実施例のガラス原料供給装置を概念的に示
す説明図である。同図に示すようにガラス原料供給装置
100は従来で用いたキャリアガス流量制御器、ガラス原
料容器2、ガラス原料3、反応容器4を覆い、且つある
程度の気密性を有する気圧調節室101と、この気圧調節
室101内の気圧を測定する気圧センサ102と、この気圧セ
ンサ102の測定値に応じて該気圧調節室101内の圧力を一
定に保持するよう補正する気圧補正装置103とを有して
いる。即ち、原料容器2及び反応容器4が設置されてい
る気圧調節室101内の気圧は、気圧センサ102の測定結果
に応じて気圧補正装置103によって空気等の気体を排出
もしくは吸入することにより常に一定気圧になるように
制御されている。これにより、例えば低気圧又は高気圧
の接近等によって気圧調節室101外の大気圧が変化して
も、再現性よく光ファイバ用ガラス母材を得ることがで
きる。
次に実験例を説明する。
上述の実施例において、キャリアガス制御装置1とし
てマスフローコントローラーを用い、キャリアガスとし
てのアルゴンガスを毎分200cc流して、36.0℃に保った
原料容器2に送りバブリングさせることにより輸送され
たガラス原料3である四塩化ケイ素の流量を反応容器4
において測定した。この際、気圧調節室101外の気圧を7
40mmHgから760mmHgに変化させたときの結果を第2図に
示す。
比較のため、第4図に示す従来の方法によって上述の
条件と同様な実験を行い、この結果を第5図に示す。
第2図及び第5図に示すように、従来の方法では大気
圧が変化するとガラス原料流量が変化してしまうが、本
発明方法によれば、大気圧が変化しても、ガラス原料流
量が一定に保たれることが確認された。
さらに、上記実施例の方法により、実際にグレイテッ
ドインデックス型光ファイバを100本製造し、その1.3μ
mにおける伝送帯域について調べたところ、第3図に示
す結果を得た。
また、比較のため、第4図に示す従来の方法により同
様にグレイテッドインデックス型光ファイバを100本製
造し、その1.3μmにおける伝送帯域について調べたと
ころ、第6図に示す結果を得た。
現在の技術水準では大気圧の変動以外の要因も伝送帯
域に影響するので、まったく同質の光ファイバを製造す
ることは不可能であるが、第3図及び第6図に示す結果
から、本発明方法を用いることにより伝送帯域値のちら
ばり具合が低減できることが明らかである。
<発明の効果> 以上、実施例とともに具体的に説明したように、本発
明によれば、ガラス原料が大気圧の変動に影響されずに
一定流量で供給されるので、再現性よく同質の光ファイ
バ母材を得ることができる。
また、本発明は、光ファイバ母材の製造のみならず、
種々の気相状態で堆積成長させる結晶育成、材料製造分
野における原料供給に応用しても同様の理由から有用で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明の実施例にかかり、第1図はそ
の構成を概念的に示す説明図、第2図は大気圧の変動に
対するガラス原料の輸送量の変化を示すグラフ、第3図
は伝送帯域に対するファイバ数を示すヒストグラム、第
4図〜第6図は従来技術にかかり、第4図はその構成を
示す説明図、第5図は大気圧の変動に対するガラス原料
の輸送量の変化を示すグラフ、第6図は伝送帯域に対す
るファイバ数を示すヒストグラムである。 図面中、 1はキャリアガス制御装置、 2はガラス原料容器、 3はガラス原料、 4は反応容器、 100はガラス原料供給装置、 101は気圧調節室、 102は気圧センサ、 103は気圧補正装置である。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光ファイバ用母材の液状ガラス原料を原料
    容器に充填し、この液状ガラス原料にキャリアガスをバ
    ブリングして蒸気化し、蒸気状ガラス原料及びキャリア
    ガスの混合物を反応容器に供給するガラス原料供給方法
    において、上記原料容器及び反応容器が存在する空間内
    の圧力を一定することにより蒸気状ガラス原料の供給量
    を一定にすることを特徴とするガラス原料供給方法。
  2. 【請求項2】光ファイバ用母材の液状ガラス原料を原料
    容器に充填し、この液状ガラス原料にキャリアガスをバ
    ブリングして蒸気化し、蒸気状ガラス原料及びキャリア
    ガスの混合物を反応容器に供給するガラス原料供給装置
    であって、上記原料容器及び反応容器を覆う気圧調節室
    と、この気圧調節室内の圧力を一定に保持する気圧補正
    装置とを有することを特徴とするガラス原料供給装置。
JP63118069A 1988-05-17 1988-05-17 ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置 Expired - Lifetime JP2554356B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63118069A JP2554356B2 (ja) 1988-05-17 1988-05-17 ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置
AU34793/89A AU608978B2 (en) 1988-05-17 1989-05-15 Method and apparatus for supplying glass forming raw material
ZA893642A ZA893642B (en) 1988-05-17 1989-05-16 Method and apparatus for supplying glass forming raw material
US07/353,033 US4894079A (en) 1988-05-17 1989-05-17 Method and apparatus for supplying glass forming raw material
KR1019890006592A KR910009178B1 (ko) 1988-05-17 1989-05-17 유리원료 공급방법 및 유리원료 공급장치
EP89108936A EP0397902B1 (en) 1988-05-17 1989-05-18 Method and apparatus for supplying glass forming raw material
ES198989108936T ES2037905T3 (es) 1988-05-17 1989-05-18 Metodo y aparato para suministrar materia prima para la fabricacion de vidrio.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63118069A JP2554356B2 (ja) 1988-05-17 1988-05-17 ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01290540A JPH01290540A (ja) 1989-11-22
JP2554356B2 true JP2554356B2 (ja) 1996-11-13

Family

ID=14727235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63118069A Expired - Lifetime JP2554356B2 (ja) 1988-05-17 1988-05-17 ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4894079A (ja)
EP (1) EP0397902B1 (ja)
JP (1) JP2554356B2 (ja)
KR (1) KR910009178B1 (ja)
AU (1) AU608978B2 (ja)
ES (1) ES2037905T3 (ja)
ZA (1) ZA893642B (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6161398A (en) * 1998-04-09 2000-12-19 Lucent Technologies, Inc. Methods of and systems for vapor delivery control in optical preform manufacture
US6430967B1 (en) * 1999-10-26 2002-08-13 Fitel Usa Corp. Pressure monitoring system using disposable seals

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2328670A1 (fr) * 1975-10-10 1977-05-20 Regreny Andre Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique et appareil correspondant
JPS57100934A (en) * 1980-12-12 1982-06-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Manufacturing of optical fiber preform
JPS6038343B2 (ja) * 1981-03-06 1985-08-31 信越化学工業株式会社 石英ガラスの製造方法
US4389229A (en) * 1981-10-01 1983-06-21 Western Electric Co., Inc. Methods and apparatus for fabricating a lightguide preform
IT1155119B (it) * 1982-03-05 1987-01-21 Cselt Centro Studi Lab Telecom Procedimento e dispositivo per la produzione di preforme per fibre ottiche
GB2143519B (en) * 1983-07-20 1986-12-17 Standard Telephones Cables Ltd Optical fibre preform manufacture
JPS60122735A (ja) * 1983-12-02 1985-07-01 Sumitomo Electric Ind Ltd 原料ガス供給装置
JPS611378A (ja) * 1984-06-14 1986-01-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd コロニ−自動移植装置
JPS61295248A (ja) * 1985-06-21 1986-12-26 Furukawa Electric Co Ltd:The 光フアイバ母材の製造装置
US4610708A (en) * 1985-06-24 1986-09-09 Corning Glass Works Method for making metal halide optical fiber
US4640221A (en) * 1985-10-30 1987-02-03 International Business Machines Corporation Vacuum deposition system with improved mass flow control
IT1191998B (it) * 1986-04-10 1988-03-31 Cselt Centro Studi Lab Telecom Procedimento e apparecchiatura per la produzione di preforme per fibre ottiche operanti nella regione spettrale del medio infrarosso
US4707173A (en) * 1986-05-15 1987-11-17 The Furukawa Electric Co., Ltd. Method of fabricating porous glass rod and apparatus for fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
US4894079A (en) 1990-01-16
KR910009178B1 (ko) 1991-11-04
EP0397902A1 (en) 1990-11-22
ES2037905T3 (es) 1993-07-01
KR900017941A (ko) 1990-12-20
EP0397902B1 (en) 1992-12-30
AU3479389A (en) 1989-11-23
AU608978B2 (en) 1991-04-18
ZA893642B (en) 1990-01-31
JPH01290540A (ja) 1989-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6056820A (en) Advanced physical vapor transport method and apparatus for growing high purity single crystal silicon carbide
EP0859879A1 (en) A method for epitaxially growing objects and a device for such a growth
US20230357951A1 (en) Method for growing crystals
JP2554356B2 (ja) ガラス原料供給方法及びガラス原料供給装置
EP0088374A1 (en) Method of and device for fabricating optical-fibre preforms
KR101031407B1 (ko) 단결정 실리콘 탄화물의 형성방법
JPH0433738B2 (ja)
KR920009652B1 (ko) 화합물 반도체 제조 장치
Schönherr Phenomenological description of crystal growth from the vapor
JP2517052B2 (ja) グレ―デットインデックス型光ファイバ―母材の製造方法
JP4277574B2 (ja) 気体材料の供給法及び装置、並びにそれを用いたガラス微粒子堆積体及びガラス材料の製造法
JPH085690B2 (ja) 原料供給方法および装置
JP3375370B2 (ja) 原料供給装置
JP3157693B2 (ja) シリカガラス系堆積体の製造方法
JPH0226849A (ja) 光ファイバー母材の製造方法
JPS6081035A (ja) 光フアイバ用母材の製造方法
JPH0822958A (ja) 材料ガス供給方法および材料ガス供給装置
JPS60245214A (ja) 化合物半導体結晶の気相成長方法
JP2938605B2 (ja) シングルモ−ド光ファイバ用母材の製造方法
JP2001019590A (ja) 気相成長装置
JPH0657615B2 (ja) 光ファイバ母材の製造方法
JPH0457640B2 (ja)
JPH04372120A (ja) Iii −v族化合物半導体気相成長法
JPH02164734A (ja) 石英ガラススートの製造方法
JPH069191B2 (ja) 気相成長法による半導体製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 12