JP2542683B2 - ベンゾトリフルオライドの製造方法 - Google Patents
ベンゾトリフルオライドの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
- C07C25/02—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons
- C07C25/13—Monocyclic aromatic halogenated hydrocarbons containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はフッ素及び塩素を含むベンゾトリフルオライ
ドを選択的に水素化することによるフッ素及び随時加え
て塩素で置換されたベンゾトリフルオライドの製造方法
に関するものである。
ドを選択的に水素化することによるフッ素及び随時加え
て塩素で置換されたベンゾトリフルオライドの製造方法
に関するものである。
これまで、フッ素化されたベンゾトリフルオライド
は、クロロベンゾトリフルオライドから例えばフッ化カ
リウムを用いて後者の塩素をフッ素で置換することによ
り一般に製造されてきた［G.フラー（Fuller）、J.Che
m.Soc.1965、6264;J.P.コレンコ（kolenko）ら、Zh.Obs
ch.Khim.37、1686（1967）及びEP−Ａ−34,402号参
照］。このタイプの塩素／フッ素交換において、CF3基
に対するｏ−及びｐ−位にある活性塩素原子は比較的容
易に置換することができ、一方ｍ−位にあるCl原子はフ
ッ素で置換することが極めて困難である。かくて、所望
の生成物におけるフッ素置換基のあるパターンは対応す
る塩素化合物が得られることを必要とする。しかしなが
ら、ベンゾトリフルオライドの塩素化は、CF3基の影響
作用により決められ、そしてある場合に、ある置換パタ
ーンを生じさせることを不可能とする反応式に従って進
行する［A.H.ウシヤコフ（Ushckov）ら、Zh.Organ.Khi
m.12、2204（1976）及び20、2187（1984）参照］。これ
らのものには、例えば2,4,6−トリクロルベンゾトリフ
ルオライド及び2,3,6−テトラクロルベンゾトリフルオ
ライドが含まれる。従って、これらの困難を回避した簡
単なフッ素化されたベンゾトリフルオライドの製造方法
に関する要求がまだ存在する。
は、クロロベンゾトリフルオライドから例えばフッ化カ
リウムを用いて後者の塩素をフッ素で置換することによ
り一般に製造されてきた［G.フラー（Fuller）、J.Che
m.Soc.1965、6264;J.P.コレンコ（kolenko）ら、Zh.Obs
ch.Khim.37、1686（1967）及びEP−Ａ−34,402号参
照］。このタイプの塩素／フッ素交換において、CF3基
に対するｏ−及びｐ−位にある活性塩素原子は比較的容
易に置換することができ、一方ｍ−位にあるCl原子はフ
ッ素で置換することが極めて困難である。かくて、所望
の生成物におけるフッ素置換基のあるパターンは対応す
る塩素化合物が得られることを必要とする。しかしなが
ら、ベンゾトリフルオライドの塩素化は、CF3基の影響
作用により決められ、そしてある場合に、ある置換パタ
ーンを生じさせることを不可能とする反応式に従って進
行する［A.H.ウシヤコフ（Ushckov）ら、Zh.Organ.Khi
m.12、2204（1976）及び20、2187（1984）参照］。これ
らのものには、例えば2,4,6−トリクロルベンゾトリフ
ルオライド及び2,3,6−テトラクロルベンゾトリフルオ
ライドが含まれる。従って、これらの困難を回避した簡
単なフッ素化されたベンゾトリフルオライドの製造方法
に関する要求がまだ存在する。
フッ素及び塩素を含むベンゾトリフルオライドを触媒
の存在下及び塩化水素受容体の存在下で水素化すること
を特徴とする、フッ素及び随時加えて塩素で置換された
ベンゾトリフルオライドの製造方法が見い出された。
の存在下及び塩化水素受容体の存在下で水素化すること
を特徴とする、フッ素及び随時加えて塩素で置換された
ベンゾトリフルオライドの製造方法が見い出された。
本発明による方法において、フッ素及び塩素を含み、
そして式（Ｉ） 式中、ｍは１〜４の整数を表わし、そして ｎは１〜５−ｍの整数を表わす、 に対応するベンゾトリフルオライドを例えば使用し得
る。
そして式（Ｉ） 式中、ｍは１〜４の整数を表わし、そして ｎは１〜５−ｍの整数を表わす、 に対応するベンゾトリフルオライドを例えば使用し得
る。
出発ベンゾトリフルオライドは好ましくはフッ素原子
２〜４個及び塩素原子１〜２個を含む。これらの化合物
中の塩素原子はCF3基に対して好ましくはオルトまたは
メタ位、殊に好ましくはメタ位にある。殊に好適な出発
ベンゾトリフルオライドは、2,3,4,6−テトラフルオル
−５−クロルベンゾトリフルオライド、2,4,6−トリフ
ルオル−3,5−ジクロルベンゾトリフルオライド、2,4−
ジフルオル−3,5−ジクロルベンゾトリフルオライド、
3,4−ジフルオル−５−クロルベンゾトリフルオライ
ド、2,3,4−トリフルオル−５−クロルベンゾトリフル
オライド、4,5−ジフルオル−２−クロルベンゾトリフ
ルオライド、2,4−ジフルオル−５−クロルベンゾトリ
フルオライド及び2,4−ジフルオル−３−クロルベンゾ
トリフルオライドである。
２〜４個及び塩素原子１〜２個を含む。これらの化合物
中の塩素原子はCF3基に対して好ましくはオルトまたは
メタ位、殊に好ましくはメタ位にある。殊に好適な出発
ベンゾトリフルオライドは、2,3,4,6−テトラフルオル
−５−クロルベンゾトリフルオライド、2,4,6−トリフ
ルオル−3,5−ジクロルベンゾトリフルオライド、2,4−
ジフルオル−3,5−ジクロルベンゾトリフルオライド、
3,4−ジフルオル−５−クロルベンゾトリフルオライ
ド、2,3,4−トリフルオル−５−クロルベンゾトリフル
オライド、4,5−ジフルオル−２−クロルベンゾトリフ
ルオライド、2,4−ジフルオル−５−クロルベンゾトリ
フルオライド及び2,4−ジフルオル−３−クロルベンゾ
トリフルオライドである。
本発明による方法に適する初めのベンゾトリフルオラ
イドは、例えば最初にベンゾトリフルオライドを塩素化
し、次に導入した塩素原子のあるものをフッ化カリウム
との反応によりフッ素で置換することにより調製し得る
［例えばG.フラー（Fuller）、J.Chem.Soc.1965、626
4、J.P.コレンコ（Kolenko）ら、Zh.Obsch.Khim.37、16
86（1967）及びヨーロッパ特許出願第A34,402号参
照］。
イドは、例えば最初にベンゾトリフルオライドを塩素化
し、次に導入した塩素原子のあるものをフッ化カリウム
との反応によりフッ素で置換することにより調製し得る
［例えばG.フラー（Fuller）、J.Chem.Soc.1965、626
4、J.P.コレンコ（Kolenko）ら、Zh.Obsch.Khim.37、16
86（1967）及びヨーロッパ特許出願第A34,402号参
照］。
適当な触媒は、原理的に公知の水素化触媒例えば周期
表の第VIII亜族の元素を金属または化合物の状態で含む
ものである。殊に適当なものにはニッケル、白金、パラ
ジウム及びその化合物例えばラネー・ニッケル、金属白
金、金属パラジウム及びパラジウムテトラー（トリフエ
ニルホスフイン）の状態のものがある。また触媒的に活
性な物質を担体物質例えば活性炭、シリカ、アルミナ、
ケイ酸塩またはアルカリ土金属硫酸塩に担持させること
ができる。
表の第VIII亜族の元素を金属または化合物の状態で含む
ものである。殊に適当なものにはニッケル、白金、パラ
ジウム及びその化合物例えばラネー・ニッケル、金属白
金、金属パラジウム及びパラジウムテトラー（トリフエ
ニルホスフイン）の状態のものがある。また触媒的に活
性な物質を担体物質例えば活性炭、シリカ、アルミナ、
ケイ酸塩またはアルカリ土金属硫酸塩に担持させること
ができる。
好適な触媒はラネー・ニッケル及び活性炭上の金属パ
ラジウムである。
ラジウムである。
また、触媒は数種の成分からなることができ、そして
また例えば元素状及び周期表の第VIII亜族の金属の化合
化以外の化合物であり得る促進剤を含有し得る。
また例えば元素状及び周期表の第VIII亜族の金属の化合
化以外の化合物であり得る促進剤を含有し得る。
触媒の量は一般に臨界的ではない。例えば、用いるベ
ンゾトリフルオライドに対して0.01〜15重量％であり得
る。好ましくは、この量は0.1〜10重量％である。「触
媒」は活性触媒を、従って担持触媒の場合は活性金属の
みを意味する。
ンゾトリフルオライドに対して0.01〜15重量％であり得
る。好ましくは、この量は0.1〜10重量％である。「触
媒」は活性触媒を、従って担持触媒の場合は活性金属の
みを意味する。
水素化は一般に溶媒または希釈剤の存在下で行う。こ
れらのものが用いる物質を完全に溶解し得ることが絶対
的に必要なことではなく、その理由は２相系基質を水素
化することもできるからである。例えば、出発ベンゾト
リフルオライド及び／または塩化水素受容体を水素化中
に部分的にか、または完全に懸濁状態で存在させ得る。
適当な溶媒及び希釈剤には、例えば有機酸例えば酢酸；
アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル及びイソプロパノール；エーテル例えばテトラヒドロ
フラン；ニトリル例えばアセトニトリル、並びに水があ
る。
れらのものが用いる物質を完全に溶解し得ることが絶対
的に必要なことではなく、その理由は２相系基質を水素
化することもできるからである。例えば、出発ベンゾト
リフルオライド及び／または塩化水素受容体を水素化中
に部分的にか、または完全に懸濁状態で存在させ得る。
適当な溶媒及び希釈剤には、例えば有機酸例えば酢酸；
アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル及びイソプロパノール；エーテル例えばテトラヒドロ
フラン；ニトリル例えばアセトニトリル、並びに水があ
る。
適当な塩化水素受容体には、広範囲の無機及び有機塩
基、例えばアルカリ金属及びアルカリ土金属の水酸化
物、炭酸塩、酢酸塩及びアンモニウム塩、並びにアミ
ン、殊に第三級アミンがある。酢酸ナトリウム、トリエ
チルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリミジン及び
ピコリンが好ましい。
基、例えばアルカリ金属及びアルカリ土金属の水酸化
物、炭酸塩、酢酸塩及びアンモニウム塩、並びにアミ
ン、殊に第三級アミンがある。酢酸ナトリウム、トリエ
チルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリミジン及び
ピコリンが好ましい。
塩化水素受容体は種々の量で使用し得る。好ましく
は、用いるベンゾトリフルオライドから除去する塩素原
子１当量当り少なくとも0.8当量の塩化水素受容体を用
いる。
は、用いるベンゾトリフルオライドから除去する塩素原
子１当量当り少なくとも0.8当量の塩化水素受容体を用
いる。
存在する塩素原子の全部を用いるベンゾトリフルオラ
イドから除去しようとする場合、用いる塩化水素受容体
の量に対する上限は臨界的ではない。この場合に、実施
上の理由から、除去する塩素原子１当量当り２当量以下
の塩化水素受容体を用いることが一般的に有利である。
イドから除去しようとする場合、用いる塩化水素受容体
の量に対する上限は臨界的ではない。この場合に、実施
上の理由から、除去する塩素原子１当量当り２当量以下
の塩化水素受容体を用いることが一般的に有利である。
用いるベンゾトリフルオライド中に存在する全部の塩
素原子を除去しようとしない場合、即ち塩素原子をまだ
含むベンゾトリフルオライドを調製しようとする場合、
化学量論的に必要とされる量よりかなり多い塩化水素受
容体を用いるべきではない。この場合、除去する塩素原
子１当量当り好ましくは1.2当量まで、殊に好ましくは
1.05当量まで、極めて殊に好ましくは１当量の塩化水素
受容体を用いる。
素原子を除去しようとしない場合、即ち塩素原子をまだ
含むベンゾトリフルオライドを調製しようとする場合、
化学量論的に必要とされる量よりかなり多い塩化水素受
容体を用いるべきではない。この場合、除去する塩素原
子１当量当り好ましくは1.2当量まで、殊に好ましくは
1.05当量まで、極めて殊に好ましくは１当量の塩化水素
受容体を用いる。
本発明による水素化は、例えば大気圧から200バール
までの範囲内の圧力及び20〜200℃の範囲内の温度で行
う。大気圧から120バールまでの範囲の圧力及び50〜140
℃の範囲の温度が好ましい。
までの範囲内の圧力及び20〜200℃の範囲内の温度で行
う。大気圧から120バールまでの範囲の圧力及び50〜140
℃の範囲の温度が好ましい。
出発物質の完全な脱塩素化の場合、本発明による反応
は水素が取り込まれなくなった場合に完了し、そして選
択的脱塩素化の場合、化学量論的に必要とされる量の水
素が取り込まれる場合に完了する。
は水素が取り込まれなくなった場合に完了し、そして選
択的脱塩素化の場合、化学量論的に必要とされる量の水
素が取り込まれる場合に完了する。
反応混合物の処理は簡単に行い得る。例えば、反応混
合物の固体成分（一般に、このものは触媒、適当ならば
また例えば充てんされた塩化水素受容体である）を濾過
により除去し、そして調製されたフッ素及び随時加えて
塩素により置換されたベンゾトリフルオライドを蒸留に
より濾液から得る方法があり得る。
合物の固体成分（一般に、このものは触媒、適当ならば
また例えば充てんされた塩化水素受容体である）を濾過
により除去し、そして調製されたフッ素及び随時加えて
塩素により置換されたベンゾトリフルオライドを蒸留に
より濾液から得る方法があり得る。
得られるベンゾトリフルオライドは、出発ベンゾトリ
フルオライドより少なくとも１個少ない塩素原子を含
む。例えば調製されるベンゾトリフルオライドは式（I
I） 式中、ｍ′は１〜４の整数を表わし、そして ｎ′は０から４−ｍ′までの整数を表わす、 の生成物であり得る。
フルオライドより少なくとも１個少ない塩素原子を含
む。例えば調製されるベンゾトリフルオライドは式（I
I） 式中、ｍ′は１〜４の整数を表わし、そして ｎ′は０から４−ｍ′までの整数を表わす、 の生成物であり得る。
本発明による方法は極めて純粋な生成物が良好な収率
に得られる利点を有する。フッ素による塩素の置換は低
塩素化されたベンゾトリフルオライドより高塩素化され
たベンゾトリフルオライドにおいて容易に進行するた
め、出発化合物は容易に得られる。従ってフッ素及び随
時加えて塩素により置換されたベンゾトリフルオライド
を生じさせる本発明による経路は、未置換のベンゾトリ
フルオライドへのフッ素の直接導入より有利である。更
に、従来入手されなかったか、または入手が困難であっ
た置換パターンを有するフッ素置換され、そして随時塩
素置換されていてもよいベンゾトリフルオライドを得る
ことができる。
に得られる利点を有する。フッ素による塩素の置換は低
塩素化されたベンゾトリフルオライドより高塩素化され
たベンゾトリフルオライドにおいて容易に進行するた
め、出発化合物は容易に得られる。従ってフッ素及び随
時加えて塩素により置換されたベンゾトリフルオライド
を生じさせる本発明による経路は、未置換のベンゾトリ
フルオライドへのフッ素の直接導入より有利である。更
に、従来入手されなかったか、または入手が困難であっ
た置換パターンを有するフッ素置換され、そして随時塩
素置換されていてもよいベンゾトリフルオライドを得る
ことができる。
本発明による方法において、芳香環上に存在するフッ
素置換基が除去されず、そしてまた実質的に芳香環の水
素化が起こらないことは驚くべきことである。更に、数
個の塩素置換基が出発物質中の存在する場合、これらの
ものを個々に良好な選択性をもって除去し得ることは驚
くべきことである。
素置換基が除去されず、そしてまた実質的に芳香環の水
素化が起こらないことは驚くべきことである。更に、数
個の塩素置換基が出発物質中の存在する場合、これらの
ものを個々に良好な選択性をもって除去し得ることは驚
くべきことである。
本発明の方法によって製造される好ましい化合物は、
式（III） 式中、X1はフッ素または塩素を表わし、そして X2はX1がフッ素である場合に水素またはフッ素を表わ
し、そしてX1が塩素である場合にはフッ素を表わす、 のフッ素置換されたベンゾトリフルオライドである。
式（III） 式中、X1はフッ素または塩素を表わし、そして X2はX1がフッ素である場合に水素またはフッ素を表わ
し、そしてX1が塩素である場合にはフッ素を表わす、 のフッ素置換されたベンゾトリフルオライドである。
式（III）のベンゾトリフルオライドは、殊に2,3,4,6
−テトラフルオロベンゾトリフルオライド、2,4,6−ト
リフルオロ−３−クロロベンゾトリフルオライド及び2,
3,6−トリフルオロベンゾトリフルオライドである。
−テトラフルオロベンゾトリフルオライド、2,4,6−ト
リフルオロ−３−クロロベンゾトリフルオライド及び2,
3,6−トリフルオロベンゾトリフルオライドである。
フッ素及び随時塩素で置換されたベンゾトリフルオラ
イドは、活性化合物の製造における重量な中間体であ
る。例えば、フッ素及び随時塩素により置換され、そし
て本発明により得ることができるベンゾトリフルオライ
ドは、ヒドラジン水和物と反応させることができ、そし
てこの反応で得られるアリールヒドラジンを式（IV） 式中、R1及びR3は水素を表わし、そして R2はアルキルまたはハロゲノアルキルを表わす、 の1,3−ジケトンと反応させることができ、そしてかく
て式（Ｖ） 式中、R1〜R3は式（IV）で与えられた意味を有し、そ
して Arはフッ素化され、そして随時塩素化されていてもよ
いベンゾトリフルオライド基を表わす、 の3,5−ジアルキル−１−アリール−ピラゾールを得る
ことができる。
イドは、活性化合物の製造における重量な中間体であ
る。例えば、フッ素及び随時塩素により置換され、そし
て本発明により得ることができるベンゾトリフルオライ
ドは、ヒドラジン水和物と反応させることができ、そし
てこの反応で得られるアリールヒドラジンを式（IV） 式中、R1及びR3は水素を表わし、そして R2はアルキルまたはハロゲノアルキルを表わす、 の1,3−ジケトンと反応させることができ、そしてかく
て式（Ｖ） 式中、R1〜R3は式（IV）で与えられた意味を有し、そ
して Arはフッ素化され、そして随時塩素化されていてもよ
いベンゾトリフルオライド基を表わす、 の3,5−ジアルキル−１−アリール−ピラゾールを得る
ことができる。
式（VI） 式中、R1〜R3及びArは式（Ｖ）で与えられた意味を有
し、そして ｍは１または２を表わす、 の化合物が常法での酸化により調製し得る。
し、そして ｍは１または２を表わす、 の化合物が常法での酸化により調製し得る。
式（Ｖ）及び（VI）の化合物は、例えば植物に有害な
昆虫例えばマスタード・ビートルの幼虫に対する強い殺
虫作用に特徴がある。またこれらのものは衛生及び貯蔵
製品に対する有害生物、例えば普通のイエバエ及び定温
動物の寄生虫例えばオータム・フライ（Musca autumnal
is）に対して強い作用を有する。
昆虫例えばマスタード・ビートルの幼虫に対する強い殺
虫作用に特徴がある。またこれらのものは衛生及び貯蔵
製品に対する有害生物、例えば普通のイエバエ及び定温
動物の寄生虫例えばオータム・フライ（Musca autumnal
is）に対して強い作用を有する。
実施例 １ 除去する塩素１モル当り1.05モルの酢酸ナトリウムと
一緒に酢酸１の１モルの出発物質を最初に水素化装置
中に導入した。次に触媒（５重量％活性炭担持金属パラ
ジウム）10gを加え、続いて混合物を圧力が一定になる
まで30〜50パールの水素圧力及び120℃で水素化した。
次に触媒を濾過により反応混合物から分離し、そして濾
液をカラムを介して蒸留した。蒸留物を少量の酢酸を除
去するために水で洗浄した。反応生成物は各々の場合に
98％より高い純度を有していた。更に詳細は第１表から
知り得る。
一緒に酢酸１の１モルの出発物質を最初に水素化装置
中に導入した。次に触媒（５重量％活性炭担持金属パラ
ジウム）10gを加え、続いて混合物を圧力が一定になる
まで30〜50パールの水素圧力及び120℃で水素化した。
次に触媒を濾過により反応混合物から分離し、そして濾
液をカラムを介して蒸留した。蒸留物を少量の酢酸を除
去するために水で洗浄した。反応生成物は各々の場合に
98％より高い純度を有していた。更に詳細は第１表から
知り得る。
実施例 ２ メタノール１中の２−クロル−4,5−ジフルオルベ
ンゾトリフルオライド216g（１モル）を水素化装置中に
最初に導入し、そしてトリエチルアミン110g及びラネー
・ニッケル15gを加えた。
ンゾトリフルオライド216g（１モル）を水素化装置中に
最初に導入し、そしてトリエチルアミン110g及びラネー
・ニッケル15gを加えた。
次に水素化装置を水素を用いてフラッシングし、次に
80℃に加熱し、そして100バールの水素の圧力をかけ
た。水素圧力を降下させた後、再び100バールに再充填
し、そして圧力が一定になるまで混合物を反応させた。
冷却後、圧力を放出し、そして反応混合物を濾過した。
濾液を水３を用いて希釈し、そして有機相を分別し
た。後者を乾燥し、そしてカラムを介して蒸留した。10
13ミリバールで沸点108〜109℃及び1.3973の屈折率▲ｎ
20 D▼を有する3,4−ジフルオルベンゾトリフルオライド
147gが得られた。
80℃に加熱し、そして100バールの水素の圧力をかけ
た。水素圧力を降下させた後、再び100バールに再充填
し、そして圧力が一定になるまで混合物を反応させた。
冷却後、圧力を放出し、そして反応混合物を濾過した。
濾液を水３を用いて希釈し、そして有機相を分別し
た。後者を乾燥し、そしてカラムを介して蒸留した。10
13ミリバールで沸点108〜109℃及び1.3973の屈折率▲ｎ
20 D▼を有する3,4−ジフルオルベンゾトリフルオライド
147gが得られた。
実施例 ３ ５−クロル−2,4−ジフルオルベンゾトリフルオライ
ド１モルを用いる以外は実施例２の方法に従い、そして
1013ミリバールで沸点105〜106℃及び1.3970の屈折率▲
ｎ20 D▼を有する2,4−ジフルオルベンゾトリフルオライ
ド151gが得られた。
ド１モルを用いる以外は実施例２の方法に従い、そして
1013ミリバールで沸点105〜106℃及び1.3970の屈折率▲
ｎ20 D▼を有する2,4−ジフルオルベンゾトリフルオライ
ド151gが得られた。
実施例 ４ アセトニトリル500ml中の３−クロル−2,4−ジフルオ
ルベンゾトリフルオライド100g及び粉末炭酸ナトリウム
60gを拡散石及び攪拌機を備えた水素化中に最初に導入
した。次に触媒（活性炭に５重量％の金属パラジウムが
担持されたもの）10gを加え、そして水素を80℃で10時
間通した。続いて、浴を冷却し、濾過し、そして濾液を
ステンレス・スチール製の目打ちした（perforated）環
を充填したカラムを介して蒸留した。1030ミリバールで
105〜106℃の沸点を有する2,4−ジフルオルベンゾトリ
フルオライド56gが得られた。屈折率▲ｎ20 D▼は1.3968
であった。
ルベンゾトリフルオライド100g及び粉末炭酸ナトリウム
60gを拡散石及び攪拌機を備えた水素化中に最初に導入
した。次に触媒（活性炭に５重量％の金属パラジウムが
担持されたもの）10gを加え、そして水素を80℃で10時
間通した。続いて、浴を冷却し、濾過し、そして濾液を
ステンレス・スチール製の目打ちした（perforated）環
を充填したカラムを介して蒸留した。1030ミリバールで
105〜106℃の沸点を有する2,4−ジフルオルベンゾトリ
フルオライド56gが得られた。屈折率▲ｎ20 D▼は1.3968
であった。
実施例 ５ 酢酸1,200ml中の3,5−ジクロル−2,6−ジフルオルベ
ンゾトリフルオライド300g及び酢酸ナトリウム210gを水
素化装置中に最初に導入し、触媒（活性炭に５重量％の
金属パラジウムが担持されたもの）10gを加え、そして
装置を水素でフラッシングした後にバッチを30〜50バー
ルの水素圧力及び80〜120℃で水素化した。水素の取込
みが終了した後（一定圧力）、バッチを冷却し、触媒を
吸引濾過し、そして溶液を水２と共に攪拌した。分離
した有機相を除去し、そして蒸留した。沸点:106〜107
℃；▲ｎ20 D▼:1.3972;2,6−ジフルオルベンゾトリフル
オライドの収量193g。
ンゾトリフルオライド300g及び酢酸ナトリウム210gを水
素化装置中に最初に導入し、触媒（活性炭に５重量％の
金属パラジウムが担持されたもの）10gを加え、そして
装置を水素でフラッシングした後にバッチを30〜50バー
ルの水素圧力及び80〜120℃で水素化した。水素の取込
みが終了した後（一定圧力）、バッチを冷却し、触媒を
吸引濾過し、そして溶液を水２と共に攪拌した。分離
した有機相を除去し、そして蒸留した。沸点:106〜107
℃；▲ｎ20 D▼:1.3972;2,6−ジフルオルベンゾトリフル
オライドの収量193g。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1.フッ素及び塩素で置換されるベンゾトリフルオライド
を触媒の存在下及び塩化水素受容体の存在下で水素化す
ることを特徴とする、フッ素及び随時加えて塩素で置換
されるベンゾトリフルオライドの製造方法。
を触媒の存在下及び塩化水素受容体の存在下で水素化す
ることを特徴とする、フッ素及び随時加えて塩素で置換
されるベンゾトリフルオライドの製造方法。
2.用いるベンゾトリフルオライドが式（Ｉ） 式中、ｍは１〜４の整数を表わし、そして ｎは１〜５−ｍの整数を表わす、 に対応することを特徴とする、上記１に記載の方法。
3.触媒が周期表の第VIII亜族の元素を金属または化合物
の状態で含むことを特徴とする、上記１及び２に記載の
方法。
の状態で含むことを特徴とする、上記１及び２に記載の
方法。
4.工程を溶媒または希釈剤の存在下で行うことを特徴と
する、上記１〜３のいずれかに記載の方法。
する、上記１〜３のいずれかに記載の方法。
5.水素化を塩化水素受容体としてのアルカリ金属及びア
ルカリ土金属の水酸化物、炭酸塩、酢酸塩及びアンモニ
ウム塩の存在下、並びに／またはアミンの存在下で行う
ことを特徴とする、上記１〜４のいずれかに記載の方
法。
ルカリ土金属の水酸化物、炭酸塩、酢酸塩及びアンモニ
ウム塩の存在下、並びに／またはアミンの存在下で行う
ことを特徴とする、上記１〜４のいずれかに記載の方
法。
6.除去される塩素原子１当量当り少なくとも0.8当量の
塩化水素受容体を用いることを特徴とする、上記１〜５
のいずれかに記載の方法。
塩化水素受容体を用いることを特徴とする、上記１〜５
のいずれかに記載の方法。
7.水素化を大気圧〜200バールの範囲の圧力及び20〜200
℃の範囲の温度で行うことを特徴とする、上記１〜６の
いずれかに記載の方法。
℃の範囲の温度で行うことを特徴とする、上記１〜６の
いずれかに記載の方法。
8.式（III） 式中、X1はフッ素または塩素を表わし、そして X2はX1＝フッ素である場合に水素またはフッ素を表わ
し、そしてX1＝塩素である場合にフッ素を表わす、 のフッ素化されたベンゾトリフルオライド。
し、そしてX1＝塩素である場合にフッ素を表わす、 のフッ素化されたベンゾトリフルオライド。
9.2,3,4,6−テトラフルオルベンゾトリフルオライ
ド、2,4,6−トリフルオル−３−クロルベンゾトリフル
オライド及び2,3,6−トリフルオルベンゾトリフルオラ
イド。
ド、2,4,6−トリフルオル−３−クロルベンゾトリフル
オライド及び2,3,6−トリフルオルベンゾトリフルオラ
イド。
Claims (1)
- 【請求項１】フッ素及び塩素で置換されるベンゾトリフ
ルオライドを触媒の存在下及び塩化水素受容体の存在下
で水素化することを特徴とする、フッ素及び随時加えて
塩素で置換されるベンゾトリフルオライドの製造方法。
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| US4590315A (en) * | 1984-10-15 | 1986-05-20 | Occidental Chemical Corporation | Process for the preparation of halo aromatic compounds |
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1987
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-
1988
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- 1988-07-22 DE DE8888111844T patent/DE3870077D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-22 EP EP88111844A patent/EP0302326B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-29 CA CA000573434A patent/CA1318332C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-01 JP JP63190738A patent/JP2542683B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-07-07 US US07/376,725 patent/US4962246A/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|
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