JP2508054B2 - 光記録媒体製造方法 - Google Patents

光記録媒体製造方法

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JP2508054B2
JP2508054B2 JP62034836A JP3483687A JP2508054B2 JP 2508054 B2 JP2508054 B2 JP 2508054B2 JP 62034836 A JP62034836 A JP 62034836A JP 3483687 A JP3483687 A JP 3483687A JP 2508054 B2 JP2508054 B2 JP 2508054B2
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雅樹 伊藤
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光記録媒体製造方法、特に、レーザ光によ
って情報を記録再生することのできる光記録媒体を製造
するための光記録媒体製造方法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、レーザ光によって情報を媒体に記録し、かつ
再生する光ディスクメモリは、記録密度が高いことから
大容量記録装置として優れた特徴を有している。この光
記録媒体材料としては、最初にタンタルと鉛が使用され
た{サイエンス(Science)154,1550,1966)}。それ以
来種々の材料が使用されているが、テルル等のカルコゲ
ン元素またはこれらの化合物はよく使用されており(特
公昭47−26897号公報)、とくにテルル−セレン系合金
はよく使用されている(特公昭54−41902号公報、特公
昭57−7919号公報、特公昭57−56058号公報)。
近年、記録装置を小型化するため、レーザ光源として
は半導体レーザが使用されてきている。半導体レーザは
発振波長が8000Å前後であるが、テルル−セレン系合金
はこの波長帯にも比較的よく適合し、適度な反射率と適
度な吸収率が得られる{フィジカ・ステイタス・ソリダ
イ,,189,1964)}。
このテルル−セレン系合金を光記録層として用いた本
発明および従来の光記録媒体製造方法によって製造され
る光記録媒体の一例は第1図に示すような構成になって
いる。
すなわち基板1に隣接してテルル−セレン系合金より
なる記録層21が設けられている。記録用レーザ光は基板
1を通して記録層21に集光照射され、ピット22が形成さ
れる。基板1としてはポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ポリメチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の
合成樹脂やガラスが使用され、基板1にはピットが同心
円状あるいはスパイラル状に一定間隔で精度よく記録さ
れるように通常、案内溝が設けられている。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回
折され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度
の空間分布が変化するので、これを検出してレーザビー
ムを溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されて
いる。溝の幅は通常0.3〜1.3μmであり、溝の深さは使
用するレーザ波長の1/20から1/4の範囲に設定される。
集光に関しても同様にサーボ系が構成されている。
情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレ
ーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、テルル−セレン合金膜では良好な品質
の記録再生信号が得られなかった。
本発明は以上のような問題点を解決するためになされ
たものであり、耐候性がよくかつ高感度で良好な品質の
信号を得ることのできる光記録媒体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光記録媒体製造方法は、基板と、レーザ光に
よって一部が選択的に除去されて情報を記録する前記基
板上に形成された記録層とを少なくとも有する光記録媒
体の製造方法であって、高周波電力によってプラズマ化
されたアンモニアガスを含むガス中を、テルルおよびセ
レンを含む蒸気を通過させることにより、テルルとセレ
ンと窒素とを主成分とする記録層を作製するように構成
される。
〔作用〕
記録層をテルルとセレンと窒素とを主成分とすること
により、耐候性がよくかつ良好な品質の信号の光記録媒
体が得られる。この光記録媒体が高感度でかつ良好な品
質の信号が得られる理由は、膜中に窒素とカルコゲン元
素との化合物が生成されることにより、ピット形成記録
の初期段階である***の形成が比較的低い記録パワー照
射で行なわれるためである。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について説明する。
本発明の光記録媒体製造方法の一具体例は、100℃で
2時間アニール処理した内径15mm,外径130mm,厚さ1.2mm
の案内溝付きポリカーボネート樹脂ディスク基板を真空
装置内に入れ、5×10-6Torr以下に排気した。蒸発源と
しては、第1の抵抗加熱用ボートにテルルを入れ、第2
の抵抗加熱用ボートにセレンを入れた。アンモニアとア
ルゴンとの混合ガスを導入し、高周波コイルに13.56MHz
の高周波電力を印加してプラズマを発生させながら、テ
ルルとセレンとをそれぞれのボートから同時に蒸発さ
せ、該プラズマ中を通過させることにより、テルルおよ
びセレンの一部を窒化して基板上にテルルとセレンと窒
素との比が原子数パーセントで81対14対5のテルルとセ
レンと窒素とを主成分とする層を250Å厚形成した。し
かる後、温度85℃,相対湿度80%の環境に12時間保存し
て光記録媒体を作製した。この光記録媒体は、基板入射
における波長8300Åの反射率を測定したところ、約26%
であった。波長8300Åの半導体レーザ光を基板を通して
入射し、記録層上で1.6μmψ程度に絞り、媒体線速度
5.65m/sec,記録周波数3.77MHz,記録パルス幅70nsec,記
録パワー7.5mWの条件で記録し、0.7mWで再生した。バン
ド幅30KHzのキャリアーとノイズとの比(C/N)は46dBと
良好であった。この光記録媒体を70℃,80%の高温高湿
度の環境に60時間保存した後、上記特性を調べたが変化
はなく、耐候性に優れた光記録媒体であることが確認さ
れた。
記録層の厚さは100Åから1000Åの範囲が記録再生特
性の観点から望ましく、セレンの含有量は原子数パーセ
ントで2パーセント以上40パーセント未満の範囲が記録
再生特性,耐候性の観点から望ましく、窒素の含有量は
原子数パーセントで2パーセント以上20パーセント未満
が記録再生特性,耐候性の観点から望ましい。
〔発明の効果〕
本発明の光記録媒体製造方法は、耐候性がよくかつ高
感度で信号品質が良好な光記録媒体を製造することがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明および従来の光記録媒体製造方法で製造
される光記録媒体の一例を示す部分断面図である。 1……基板、21……記録層、22……ピット。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板を高周波電力によってプラズマ化され
    たアンモニアガスを含むガス雰囲気中に載置し、前記ガ
    ス雰囲気中にテルルおよびセレンを含む蒸気を通過さ
    せ、前記基板上にテルルとセレンと窒素とを主成分とす
    る記録層を作製することを特徴とする光記録媒体製造方
    法。
JP62034836A 1987-02-17 1987-02-17 光記録媒体製造方法 Expired - Lifetime JP2508054B2 (ja)

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