JP2508053B2 - 光記録媒体製造方法 - Google Patents

光記録媒体製造方法

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JP2508053B2
JP2508053B2 JP62034835A JP3483587A JP2508053B2 JP 2508053 B2 JP2508053 B2 JP 2508053B2 JP 62034835 A JP62034835 A JP 62034835A JP 3483587 A JP3483587 A JP 3483587A JP 2508053 B2 JP2508053 B2 JP 2508053B2
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tellurium
selenium
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雅樹 伊藤
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光記録媒体製造方法、特に、レーザ光によ
って情報を記録再生することのできる光記録媒体を製造
するための光記録媒体製造方法に関する。
〔従来の技術〕
一般、レーザ光によって情報を媒体に記録し、かつ再
生する光ディスクメモリは、記録密度が高いことから大
容量記録装置として優れた特徴を有している。この光記
録媒体材料としては、最初にタンタルと鉛が使用された
{サイエンス(Science)154,1550,1966)}。それ以来
種々の材料が使用されているが、テルル等のカルコゲン
元素またはこれらの化合物はよく使用されており(特公
昭47−26897号公報)、とくにテルル−セレン系合金は
よく使用されている(特公昭54−41902号公報、特公昭5
7−7919号公報、特公昭57−56058号公報)。
近年、記録装置を小型化するため、レーザ光源として
は半導体レーザが使用されてきている。半導体レーザは
発振波長が8000Å前後であるが、テルル−セレン系合金
はこの波長帯にも比較的よく適合し、適度な反射率と適
度な吸収率が得られる{フィジカ・ステイタス・ソリダ
イ,,189,1964(phys・stat・sol.,189,1964)}。
このテルル−セレン系合金を光記録層として用いた本
発明および従来の光記録媒体製造方法によって製造され
る光記録媒体の一例は第1図に示すような構成になって
いる。
すなわち基板1に隣接してテルル−セレン系合金より
なる記録層21が設けられている。記録用レーザ光は基板
1を通して記録層21に集光照射され、ピット22が形成さ
れる。基板1としてはポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ポリメチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の
合成樹脂やガラスが使用され、基板1にはピットが同心
円状あるいはスパイラル状に一定間隔で精度よく記録さ
れるように通常、案内溝が設けられている。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回
折され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度
の空間分布が変化するので、これを検出してレーザビー
ムを溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されて
いる。溝の幅は通常0.3〜1.3μmであり、溝の深さは使
用するレーザ波長の1/20から1/4の範囲に設定される。
集光に関しても同様にサーボ系が構成されている。
情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワーのレ
ーザ光をピット上を通過するように照射することによ
り、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出して行
なう。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、テルル−セレン合金膜では良好な品質
の記録再生信号が得られなかった。
本発明は以上のような問題点を解決するためになされ
たものであり、耐候性がよくかつ高感度で良好な品質の
信号を得ることのできる光記録媒体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光記録媒体製造方法は、基板と、レーザ光に
よって一部が選択的に除去されて情報を記録する前記基
板上に形成された記録層とを少なくとも有する光記録媒
体の製造方法であって、高周波電力によってプラズマ化
された窒素ガスまたは窒素ガスを含む混合ガス中を、テ
ルルおよびセレンを含む蒸気を通過させることにより、
テルルとセレンと窒素とを主成分とする記録層を作製す
るように構成される。
〔作用〕
記録層をテルルとセレンと窒素とを主成分とすること
により、耐候性がよくかつ高感度でかつ良好な品質の信
号の光記録媒体が得られる。この光記録媒体が高感度で
かつ良好な品質の信号が得られる理由は、膜中に窒素と
カルコゲン元素との化合物が生成されることにより、ピ
ット形成記録の初期段階である***の形成が比較的低い
記録パワー照射で行なわれるためである。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について説明する。
本発明の光記録媒体製造方法の一具体例は、100℃で
2時間アニール処理した内径15mm,厚さ1.2mmの案内溝付
きポリカーボネート樹脂ディスク基板を真空装置内に入
れ、5×10-6Torr以下に排気した。蒸発源としては、第
1の抵抗加熱用ボートにテルルを入れ、第2の抵抗加熱
用ボートにセレンを入れた。窒素とアルゴンとの混合ガ
スを導入し、高周波コイルに13.56MHzの高周波電力を印
加してプラズマを発生させながら、テルルとセレンとを
それぞれのボートから同時に蒸発させ、該プラズマ中を
通過させることにより、テルルおよびセレンの一部を窒
化して基板上にテルルとセレンと窒素との比が原子数パ
ーセントで76対19対5のテルルとセレンと窒素とを主成
分とする層を260Å厚形成した。しかる後、温度85℃,
相対湿度90%の環境に12時間保存して光記録媒体を作製
した。この光記録媒体は基板入射における波長8300Åの
反射率を測定したところ、約29%であった。波長8300Å
の半導体レーザ光を基板を通して入射し、記録層上で1.
6μmψ程度に絞り、媒体線速度5.65m/sec,記録周波数
3.77MHz,記録パルス幅70nsec,記録パワー7.5mWの条件で
記録し、0.7mWで再生した。バンド幅30KHzのキャリアー
とノイズとの比(C/N)は48dBと良好であった。
この光記録媒体を70℃,80%の高温高湿度の環境に60
時間保存した後、上記特性を調べたが変化はなく、耐候
性に優れた光記録媒体であることが確認された。
記録層の厚さは100Åから1000Åの範囲が記録再生特
性の観点から望ましく、セレンの含有量は原子数パーセ
ントで2パーセント以上40パーセント未満の範囲が記録
再生特性,耐候性の観点から望ましく、窒素の含有量は
原子数パーセントで2パーセント以上20パーセント未満
が記録再生特性,耐候性の観点から望ましい。
〔発明の効果〕
本発明の光記録媒体製造方法は、耐候性がよくかつ高
感度で信号品質が良好な光記録媒体を製造することがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明および従来の光記録媒体製造方法で製造
される光記録媒体の一例を示す部分断面図である。 1……基板、21……記録層、22……ピット。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板を高周波電力によってプラズマ化され
    た窒素ガスを少なくとも含むガス雰囲気中に載置し、前
    記ガス雰囲気中にテルルおよびセレンを含む蒸気を通過
    させ、前記基板上にテルルとセレンと窒素とを主成分と
    する記録層を作製することを特徴とする光記録媒体製造
    方法。
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