JP2023159867A - 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ、cmosイメージセンサ、ディスプレイ装置、およびカメラ - Google Patents

感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ、cmosイメージセンサ、ディスプレイ装置、およびカメラ Download PDF

Info

Publication number
JP2023159867A
JP2023159867A JP2023045820A JP2023045820A JP2023159867A JP 2023159867 A JP2023159867 A JP 2023159867A JP 2023045820 A JP2023045820 A JP 2023045820A JP 2023045820 A JP2023045820 A JP 2023045820A JP 2023159867 A JP2023159867 A JP 2023159867A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
resin composition
dye
carbon atoms
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023045820A
Other languages
English (en)
Inventor
泰 水 金
Taesoo Kim
秀 彬 朴
Subin Park
▲せい▼ 煥 金
Sunghwan Kim
貞 和 李
Jung-Hwa Lee
希 ▲けい▼ 姜
Heekyoung KANG
白 晟 朴
Baek Soung Park
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung SDI Co Ltd
Original Assignee
Samsung SDI Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung SDI Co Ltd filed Critical Samsung SDI Co Ltd
Publication of JP2023159867A publication Critical patent/JP2023159867A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C08K5/18Amines; Quaternary ammonium compounds with aromatically bound amino groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432Six-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14645Colour imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】特定の波長範囲で最大吸光度を有する染料を有機顔料に被覆して、顔料が特定の助色団を含むようにすることによって、上記顔料を含む感光性樹脂組成物が、特定の波長範囲内で最も低い透過度を有するように制御することができ、カラーフィルタパターンのパターン性を改善させることができる感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)バインダー樹脂、(B)光重合性単量体、(C)光重合開始剤、(D)着色剤、および(E)溶媒を含み、上記着色剤は染料で被覆された有機顔料を含み、上記染料は5つの特定の化学式で表される基のうちの少なくとも1種を官能基として含む化合物である、感光性樹脂組成物。【選択図】図1

Description

本発明は、感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタおよびCMOSイメージセンサ、上記カラーフィルタを含むディスプレイ装置および上記カラーフィルタを含むカメラに関するものである。
イメージセンサとは被写体の情報を読み取って電気的な映像信号に変換させる装置であり、スマートフォン、自動車、ノートパソコン、カメラなど多様な電子装置に活用されている。イメージの画質は、イメージセンサを構成するピクセルに集まる光の量に多くの影響を受け、イメージセンサの小型化傾向により、受光率(イメージセンサが光を受け入れる程度)を高める技術が要求されている。この解決策として、カラーフィルタパターンのパターン性(正規性/直線性)を改善して、電気光学的混色を抑制し、量子効率の低下を防止する技術が必要である。
日増しにイメージセンサが小型化するにつれて、カラーフィルタの厚さも薄くなっている。これに伴い、RGBそれぞれの色を分離させる必要性が生じ、顔料の含有量を増加させるか、染料を添加することによって、RGBの分光を実現している。この際、染料を添加することによって顔料の含有量が相対的に減少するため、耐久性が低下し、結果的に組成物の透過度に影響を与えること、またカラーフィルタのパターン性を低下させることが問題となっている。
特許第5265843号公報
本発明は、特定の波長範囲で最大吸光度を有する染料を有機顔料に被覆して、顔料が特定の助色団を含むようにすることによって、上記顔料を含む感光性樹脂組成物が、特定の波長範囲内で最も低い透過度を有するように制御することができ、カラーフィルタパターンのパターン性を改善させることができる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、上記感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタおよびCMOSイメージセンサを提供することを目的とする。
さらに、本発明は、上記カラーフィルタを含むディスプレイ装置を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、上記CMOSイメージセンサを含むカメラを提供することを目的とする。
本発明は、(A)バインダー樹脂、(B)光重合性単量体、(C)光重合開始剤、(D)着色剤、および(E)溶媒を含み、上記着色剤は染料で被覆された有機顔料を含み、上記染料は下記化学式1~化学式5で表される基のうちの少なくとも1種を官能基として含む、感光性樹脂組成物を提供する。
上記化学式1~化学式5中、
~Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基であり、ただし、RおよびRが同時に水素原子ではなく、
は、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリーレン基である。
上記染料は、下記化学式M-1で表されるモイエティを有することができる。
上記RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
上記RおよびRは、それぞれ独立して、窒素原子と結合して含窒素縮合環を形成することができる。
上記化学式M-1で表される化合物は、下記化学式M-1-1または化学式M-1-2で表される化合物であり得る。
上記化学式M-1-1およびM-1-2中、
およびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
は、塩化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、硝酸イオン、水酸化物イオン、過塩素酸イオン(ClO )、または下記化学式X-1で表されるイオンでありうる。
上記染料は、下記化学式M-2で表されるモイエティを有することができる。
上記染料は、下記化学式6~化学式8で表される化合物のうちの少なくとも1種でありうる。
上記化学式6~化学式8中、
~Rは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
は、それぞれ独立して、上記化学式1~化学式5で表される基のうちの少なくとも1種であり、
は、上記で定義される通りである。
上記染料は、下記化学式6-1~化学式6-3、化学式7-1、化学式8-1、および化学式11-1で表される化合物のうちの少なくとも1種でありうる。
上記染料は、500nm~540nmの波長範囲内で最大吸光度を有することができる。
上記有機顔料は、赤色顔料、緑色顔料、黄色顔料、またはこれらの組み合わせを含むことができる。
上記着色剤は、上記染料で被覆された有機顔料および上記染料で被覆されていない有機顔料を含み、この際、上記染料で被覆された有機顔料は、上記染料で被覆されていない有機顔料より少ない含有量で含まれてもよい。
上記バインダー樹脂は、カルド系バインダー樹脂およびアクリル系バインダー樹脂を含むことができる。
上記感光性樹脂組成物は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、上記(A)バインダー樹脂0.1質量%~10質量%、上記(B)光重合性単量体0.5質量%~5質量%、上記(C)光重合開始剤0.1質量%~5質量%、上記(D)着色剤20質量%~70質量%、および残部量の上記(E)溶媒を含むことができる。
上記感光性樹脂組成物は、マロン酸、3-アミノ-1,2-プロパンジオール、シラン系カップリング剤、レベリング剤、界面活性剤、またはこれらの組み合わせをさらに含むことができる。
本発明の他の実施形態は、上記感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜を提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタを提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、上記感光性樹脂膜を含むCMOSイメージセンサを提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、上記カラーフィルタを含むディスプレイ装置を提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、上記CMOSイメージセンサを含むカメラを提供する。
本発明のその他の態様の具体的な事項は以下の詳細な説明に含まれている。
本発明による感光性樹脂組成物は、特定の官能基を含む染料で被覆された有機顔料を着色剤として含むことによって、500nm~540nmの波長範囲内で最も低い透過度を有するので、CMOSイメージセンサに適用するのに適し、さらにカラーフィルタのパターン性にも良い影響を与えることができる。
化学式6-1で表される化合物の各波長における吸光度を示すグラフである。 実施例1、比較例1および比較例2による感光性樹脂組成物の各波長における透過度を示すグラフである。 実施例1による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜のパターンを示した走査電子顕微鏡写真である。 実施例2による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜のパターンを示した走査電子顕微鏡写真である。 実施例3による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜のパターンを示した走査電子顕微鏡写真である。 比較例1による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜のパターンを示した走査電子顕微鏡写真である。 比較例2による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜のパターンを示した走査電子顕微鏡写真である。
以下、本発明の実施形態を詳しく説明する。ただし、これは例示として提示されるものであって、これによって本発明が制限されず、本発明は後述の請求範囲の範疇によってのみ定義される。
本明細書で特別な言及がない限り、“アルキル基”とは炭素数1~20のアルキル基を意味し、“アルケニル基”とは炭素数2~20のアルケニル基を意味し、“シクロアルキル基”とは炭素数3~20のシクロアルキル基を意味し、“シクロアルケニル基“とは炭素数3~20のシクロアルケニル基を意味し、“ヘテロシクロアルケニル基”とは炭素数3~20のヘテロシクロアルケニル基を意味し、“アリール基”とは炭素数6~20のアリール基を意味し、“アリールアルキル基”とは炭素数7~21のアリールアルキル基を意味し、“アルキレン基”とは炭素数1~20のアルキレン基を意味し、“アリーレン基”とは炭素数6~20のアリーレン基を意味し、“アルキルアリーレン基”とは炭素数7~21のアルキルアリーレン基を意味し、“ヘテロアリーレン基”とは炭素数3~20のヘテロアリーレン基を意味し、“オキシアルキレン基”とは炭素数1~20のオキシアルキレン基を意味する。
本明細書で特別な言及がない限り、“置換”とは、少なくとも1つの水素原子が、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、炭素数1~20のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、イミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバモイル基、チオール基、エステル基、エーテル基、カルボキシ基もしくはその塩、スルホン酸基もしくはその塩、リン酸もしくはその塩、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数3~20のシクロアルケニル基、炭素数3~20のシクロアルキニル基、炭素数2~20のヘテロシクロアルキル基、炭素数2~20のヘテロシクロアルケニル基、炭素数2~20のヘテロシクロアルキニル基、炭素数3~20のヘテロアリール基、またはこれらの組み合わせの置換基で置換されたことを意味する。
また、本明細書で特別な言及がない限り、“ヘテロ”とは、化学式内にN、O、SおよびPのうちの少なくとも1つのヘテロ原子が少なくとも1つ含まれたことを意味する。
また、本明細書で特別な言及がない限り、“(メタ)アクリレート”は“アクリレート”と“メタクリレート”の両方とも可能であることを意味し、“(メタ)アクリル酸”は“アクリル酸”と“メタクリル酸”の両方とも可能であることを意味する。
本明細書で別途の定義がない限り、“組み合わせ”とは、混合または共重合を意味する。また、“共重合”とはブロック共重合またはランダム共重合を意味し、“共重合体”とはブロック共重合体またはランダム共重合体を意味する。
本明細書内化学式で別途の定義がない限り、化学結合が描かれなければならない位置に化学結合が描かれていない場合は、上記の位置に水素原子が結合されていることを意味する。
本明細書でカルド系樹脂とは、下記化学式9-1~化学式9-11で表される官能基からなる群より選択される少なくとも1種が樹脂内の主骨格に含まれる樹脂を意味する。
本明細書で別途の定義がない限り、“*”は同一もしくは異なる原子(水素原子含み)または化学式と連結される部分を意味する。
本発明による感光性樹脂組成物は、(A)バインダー樹脂、(B)光重合性単量体、(C)光重合開始剤、(D)着色剤、および(E)溶媒を含み、上記着色剤は染料で被覆された有機顔料を含み、上記染料は下記化学式1~化学式5で表される基のうちの少なくとも1種を官能基として含むため、本発明による感光性樹脂組成物を用いて製造された感光性樹脂膜(硬化膜)は、カラーフィルタおよびCMOSイメージセンサの両方に適用されえて、優れた性能を示すことができる。
上記化学式1~化学式5中、
~Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基であり、ただし、RおよびRが同時に水素原子ではなく、
は、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリーレン基である。
具体的に、CMOSイメージセンサの場合、特定の波長範囲、例えば400nm~700nm、例えば500nm~580nm、例えば500nm~540nmの波長範囲内で吸光度が高いことは受光率の側面から有利である。したがって、本発明による感光性樹脂組成物は、500nm~540nmの波長範囲内で最大吸光度を有するように着色剤を改善することによって、CMOSイメージセンサに適用される上で非常に優れた特性を有することになる。
また、感光性樹脂組成物の場合、コーティング、露光、現像、硬化工程を経るが、染料が現像時に溶出することもあり、染料をバインダー樹脂の代わりに添加する場合、バインダー樹脂の相対的な含有量が減少することでパターン性が悪くなることもある。本発明の一実施形態によれば、染料を有機顔料に被覆させることによって、上記染料が現像の際に溶出することを防ぐことができ、パターンを形成しない部分を染料で代替しているため、パターン性にも良い影響を与えるようになる。
以下において、各成分について具体的に説明する。
(D)着色剤
例えば、上記染料は、下記化学式M-1で表されるモイエティを有することができ、上記モイエティに上記化学式1~化学式5で表される官能基のうちの少なくとも1種が置換されていてもよい。
上記化学式M-1中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
上記RおよびRは、それぞれ独立して、(上記化学式M-1中の)窒素原子と結合して含窒素縮合環を形成することができる。
例えば、上記化学式M-1で表されるモイエティは、下記化学式M-1-1または化学式M-1-2で表すことができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
上記化学式M-1-1およびM-1-2中、
およびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
は、塩化物イオン(Cl)、フッ化物イオン(F)、ヨウ化物イオン(I)、臭化物イオン(Br)、硝酸イオン(NO )、水酸化物イオン(OH)、過塩素酸イオン(ClO )、または下記化学式X-1で表されるイオンであってもよい。
例えば、上記染料は、下記化学式M-2で表されるモイエティを有することができ、上記モイエティに上記化学式1~化学式5で表される官能基のうちの少なくとも1種が置換されていてもよい。
例えば、上記染料は、下記化学式6~化学式8で表される化合物のうちの少なくとも1種でありうるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
上記化学式6~化学式8中、
~Rは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
は、それぞれ独立して、上記化学式1~化学式5で表される官能基のうちの少なくとも1種であり、
は、上記で定義している通りである。
例えば、上記染料は下記化学式6-1~化学式6-3、化学式7-1、化学式8-1、および化学式11-1で表される化合物のうちの少なくとも1種でありうるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
例えば、上記染料は、500nm~540nmの波長範囲内で最大吸光度を有することができる。
例えば、上記染料は、塩の形態の染料および/または非イオン性染料であってもよい。上記染料が陽イオン性染料または陰イオン性染料である場合には、最大吸光度を特定の波長範囲内に制御することが難しく、カラーフィルタ内のパターン性にも良くない影響を与える場合がある。
また、上記染料は、有機顔料表面に被覆されるが、カーボンブラックなどの無機顔料表面には被覆されない。カーボンブラックなどの無機顔料を着色剤として含む感光性樹脂組成物の場合、主に黒色を実現するための目的で使用されるため、本発明で意図する効果を実現することができない。例えば、上記有機顔料は非黒色有機顔料であってもよい。
例えば、上記有機顔料は、赤色顔料、緑色顔料、黄色顔料、青色顔料、またはこれらの組み合わせを含むことができる。
上記赤色顔料の例としては、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド270、C.I.ピグメントレッド272、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド89などが挙げられる。上記緑色顔料の例としては、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン58、C.I.ピグメントグリーン59、C.I.ピグメントグリーン62などが挙げられる。上記青色顔料の例としては、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:1、C.I.ピグメントブルー15:2、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:5、C.I.ピグメントブルー16などの銅フタロシアニン顔料が挙げられる。上記黄色顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー139などのイソインドリン系顔料、C.I.ピグメントイエロー138などのキノフタロン系顔料、C.I.ピグメントイエロー150などのニッケル錯体の顔料などが挙げられる。上記顔料はこれらを単独でまたは2種以上混合して使用することができ、これらの例に限定されるものではない。
例えば、上記着色剤は、上記染料で被覆された有機顔料および上記染料で被覆されていない有機顔料を含むことができる。この場合、上記染料で被覆された有機顔料は、上記染料で被覆されていない有機顔料より少ない含有量で含まれてもよい。
上記染料で被覆された有機顔料および上記染料で被覆されていない有機顔料は、両方とも分散液形態で感光性樹脂組成物に含まれてもよい。このような顔料分散液は、上記顔料と溶媒、分散剤、分散樹脂などからなり得る。
上記分散剤としては、非イオン性分散剤、陰イオン性分散剤、陽イオン性分散剤などを使用することができる。上記分散剤の具体的な例としては、ポリアルキレングリコールおよびそのエステル、ポリオキシアルキレン、多価アルコールエステルアルキレンオキシド付加物、アルコールアルキレンオキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加物、アルキルアミンなどが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上混合して使用することができる。
上記分散剤の市販される製品を例として挙げれば、BYK Chemie社製のDISPERBYK(登録商標、以下同じ)-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001など;BASF社製のEFKA(登録商標、以下同じ)-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450など;Zeneca社製のSolsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000など;または味の素ファインテクノ社製のアジスパーPB711、アジスパーPB821などがある。
上記分散剤は、感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.1質量%~15質量%で含まれてもよい。分散剤が上記範囲内に含まれる場合、組成物の分散性に優れ、遮光性隔壁を製造する際に、安定性、現像性およびパターン性に優れる。
上記分散樹脂はカルボキシ基を含むアクリル系樹脂を使用することができ、これは顔料分散液の安定性を向上させることができるだけでなく、ピクセルのパターン性も改善させることができる。
一方、上記有機顔料は、水溶性無機塩および湿潤剤を用いて前処理をして使用することもできる。上記有機顔料を上記の前処理をして使用する場合、顔料の平均粒径を微細化することができる。
上記の前処理は、上記顔料を水溶性無機塩および湿潤剤と共に混練(kneading)する段階、ならびに、混練段階で得られた顔料をろ過および水洗する段階を経て行うことができる。
混練は40℃~100℃の温度で行うことができ、ろ過および水洗は、水などを使用して固体を水洗して水溶性無機塩を溶解させた後、ろ過して行うことができる。
上記水溶性無機塩の例としては塩化ナトリウム、塩化カリウムなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。上記湿潤剤は上記顔料および上記水溶性無機塩を均一に混合して顔料を容易に粉砕する溶媒の役割を果たす。上記湿潤剤の例としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテル;エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンポリエチレングリコールなどのアルコール等が挙げられ、これらを単独でまたは2種以上混合して使用することができる。
上記混練段階を経た有機顔料は、5nm~200nm、例えば5nm~150nmの平均粒径を有することができる。上記有機顔料の平均粒径が上記の範囲内である場合、顔料分散液での安定性に優れ、ピクセルの解像性の低下が抑制される。本明細書において、平均粒子径は、個数基準とし、走査電子顕微鏡により測定することができる。
上記の分散液に用いる溶媒としては、エチレングリコールアセテート、エチルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチルラクテート、ポリエチレングリコール、シクロヘキサノン、プロピレングリコールメチルエーテルなどを使用することができ、これらのうち、好ましくはプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを使用することができる。
上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、上記着色剤は20質量%~70質量%の含有量で含まれてもよい。上記の質量比の範囲で上記着色剤が含まれる場合、色の特性を維持しながら優れた耐熱性を有することができる。
染料を有機顔料に被覆する方法は、従来公知の方法を適宜参照して実施することができる。より具体的には、実施例に記載の方法を参照しながら、当業者であれば容易に実施することができる。
(A)バインダー樹脂
バインダー樹脂は、カルド系バインダー樹脂、アクリル系バインダー樹脂、ポリイミド系バインダー樹脂、ポリウレタン系バインダー樹脂、またはこれらの組み合わせの樹脂を使用することができる。
上記バインダー樹脂は、上記の種類のうち、好ましくはカルド系バインダー樹脂とアクリル系バインダー樹脂の混合物を使用することができる。この場合、上記感光性樹脂組成物の耐熱性および耐薬品性が改善でき、とりわけ低反射特性の確保に非常に有利であり得る。
上記カルド系バインダー樹脂の重量平均分子量は、1,000g/mol~50,000g/molであってもよく、具体的には3,000g/mol~35,000g/molであってもよい。上記カルド系バインダー樹脂の重量平均分子量が上記の範囲内である場合、ブラックマトリックスや遮光用隔壁の製造時に、優れたパターン性および現像性を得ることができる。本明細書において、樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定することができる。
上記カルド系バインダー樹脂は、下記化学式9で表される繰り返し単位を含む化合物であってもよい。
上記化学式9中、
24~R27は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であってもよく、
28およびR29は、それぞれ独立して、水素原子、またはCHOR(Rはビニル基、アクリロイル基、またはメタクリロイル基)であってもよく、
30は、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数2~20のアルケニル基、アクリロイル基、またはメタクリロイル基であってもよく、
は、下記化学式9-1~化学式9-11で表される基からなる群より選択される少なくとも1種であってもよく、
は、酸無水物残基または酸二無水物残基であってもよい。
上記化学式9-5中、
は、水素原子、エチル基、CCl、COH、CHCH=CH、またはフェニル基である;
上記カルド系バインダー樹脂は、具体的に下記化学式10で表される化合物をテトラカルボン酸二無水物と反応させて得ることができる。
上記テトラカルボン酸二無水物は、芳香族テトラカルボン酸二無水物であってもよいし、脂環式テトラカルボン酸二無水物であってもよい。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6-ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。上記脂環式テトラカルボン酸二無水物の例としては、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
上記アクリル系バインダー樹脂は、第1のエチレン性不飽和単量体、およびこれと共重合可能な第2のエチレン性不飽和単量体の共重合体であって、少なくとも1種のアクリル系繰り返し単位を含む樹脂である。
上記第1のエチレン性不飽和単量体は少なくとも1種のカルボキシ基を含有するエチレン性不飽和単量体であり、その具体的な例としてはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、またはこれらの組み合わせが挙げられる。
上記第1のエチレン性不飽和単量体は、上記アクリル系バインダー樹脂の総質量に対して、5質量%~50質量%で含まれてもよく、具体的には10質量%~40質量%で含まれてもよい。
上記第2のエチレン性不飽和単量体は、上記第1のエチレン性不飽和単量体を除く、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルベンジルメチルエーテルなどの芳香族ビニル化合物;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物;2-アミノエチル(メタ)アクリレート、2-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル化合物;酢酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル化合物;グリシジル(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル化合物;(メタ)アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物;(メタ)アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物;などが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上混合して使用することができる。
上記アクリル系バインダー樹脂の具体的な例としては、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/スチレン共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/スチレン/2-ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらを単独でまたは2種以上を配合して使用することもできる。
上記アクリル系バインダー樹脂の重量平均分子量は、3,000g/mol~150,000g/molであってもよく、具体的には5,000g/mol~50,000g/molであってもよく、さらに具体的には20,000g/mol~30,000g/molであってもよい。上記アクリル系バインダー樹脂の重量平均分子量が上記の範囲内である場合、上記感光性樹脂組成物の、物理的および化学的物性に優れ、粘度が適切となり、遮光層の製造時に基板との密着性に優れる。
上記アクリル系バインダー樹脂の酸価は、15mgKOH/g~60mgKOH/gであってもよく、具体的には20mgKOH/g~50mgKOH/gであってもよい。上記アクリル系バインダー樹脂の酸価が上記の範囲内である場合、ピクセルパターンの解像度に優れる。
上記カルド系バインダー樹脂と上記アクリル系バインダー樹脂とが混合使用される場合、上記アクリル系バインダー樹脂は、上記カルド系バインダー樹脂と同一の含有量で含まれてもよい。この場合、現像性および工程マージンの向上を図ることができる。
上記バインダー樹脂は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.1質量%~10質量%、例えば0.1質量%~5質量%の含有量で含まれてもよい。上記バインダー樹脂の含有量が上記の範囲内に含まれる場合、粘度が適切に維持されて感光性樹脂膜の製造時に、パターン性、工程性および現像性に優れる。
(B)光重合性単量体
上記光重合性単量体は、少なくとも1つのエチレン性不飽和二重結合を有する(メタ)アクリル酸の一官能または多官能エステルを使用することができる。
上記アクリル系光重合性単量体は、エチレン性不飽和二重結合を有することによって、パターン形成工程で露光時に十分な重合が進行し、耐熱性、耐光性および耐薬品性に優れたパターンを形成することができる。
上記光重合性単量体の具体的な例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、ノボラックエポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
上記光重合性単量体の市販される製品の例としては、以下の製品が挙げられる。上記(メタ)アクリル酸の一官能エステルの例としては、東亞合成株式会社製のアロニックス(登録商標、以下同じ)M-101、アロニックスM-111、アロニックスM-114など;日本化薬株式会社製のKAYARAD(登録商標、以下同じ)TC-110S、KAYARAD TC-120Sなど;大阪有機化学工業株式会社製のV-158、V-2311などが挙げられる。上記(メタ)アクリル酸の二官能エステルの例としては、東亞合成株式会社製のアロニックス(登録商標、以下同じ)M-210、アロニックスM-240、アロニックスM-6200など;日本化薬株式会社製のKAYARAD(登録商標、以下同じ)HDDA、KAYARAD HX-220、KAYARAD R-604など;大阪有機化学工業株式会社製のV-260、V-312、V-335HPなどが挙げられる。上記(メタ)アクリル酸の三官能エステルの例としては、東亞合成株式会社製のアロニックス(登録商標、以下同じ)M-309、アロニックスM-400、アロニックスM-405、アロニックスM-450、アロニックスM-710、アロニックスM-8030、アロニックスM-8060など;日本化薬株式会社製のKAYARAD(登録商標、以下同じ)TMPTA、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD-30、KAYARAD-60、KAYARAD-120など;大阪有機化学工業株式会社製のV-295、V-300、V-360、V-GPT、V-3PA、V-400などが挙げられる。上記の製品を単独または2種以上を共に使用することができる。
上記光重合性単量体は、より優れた現像性を付与するために酸無水物で処理して使用することもできる。
上記光重合性単量体は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.5質量%~5質量%、例えば1質量%~3質量%の含有量で含まれてもよい。上記光重合性単量体の含有量が上記の範囲内に含まれる場合、パターン形成工程で露光時に硬化が十分に進行して耐久性に優れ、アルカリ現像液への現像性に優れる。
(C)光重合開始剤
上記光重合開始剤は、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物、またはこれらの組み合わせなどを使用することができる。
上記アセトフェノン系化合物の例としては、2,2’-ジエトキシアセトフェノン、2,2’-ジブトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、p-t-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-t-ブチルジクロロアセトフェノン、4-クロロアセトフェノン、2,2’-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェニル)-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オンなどが挙げられる。
上記ベンゾフェノン系化合物の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3,3’-ジメチル-2-メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
上記チオキサントン系化合物の例としては、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
上記ベンゾイン系化合物の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。
上記トリアジン系化合物の例としては、2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(3’,4’-ジメトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4’-メトキシナフチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ビフェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、ビス(トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-4-ビス(トリクロロメチル)-6-ピペロニル-s-トリアジン、2-4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシスチリル)-s-トリアジンなどが挙げられる。
上記オキシム系化合物の例としては、O-アシルオキシム系化合物、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、O-エトキシカルボニル-α-オキシアミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(3-シクロペンチル-1-(9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル)プロピリデンアミノオキシ)エタノン、2-(ベンゾイルオキシイミノ)-3-シクロペンチル-1-(4-(フェニルチオ)フェニル)プロパン-1-オンなどを使用することができる。上記O-アシルオキシム系化合物の具体的な例としては、1,2-オクタンジオン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オン、1-(4-フェニルスルファニルフェニル)-ブタン-1,2-ジオン-2-オキシム-O-ベンゾエート、1-(4-フェニルスルファニルフェニル)-オクタン-1,2-ジオン-2-オキシム-O-ベンゾエート、1-(4-フェニルスルファニルフェニル)-オクタン-1-オンオキシム-O-アセテート、および1-(4-フェニルスルファニルフェニル)-ブタン-1-オンオキシム-O-アセテートなどを使用することができる。
上記光重合開始剤は、上記の化合物以外にも、カルバゾール系化合物、ジケトン類化合物、スルホニウムボレート系化合物、ジアゾ系化合物、イミダゾール系化合物、ビイミダゾール系化合物、フルオレン系化合物などを使用することができる。
上記光重合開始剤は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.1質量%~5質量%、例えば0.1質量%~3質量%の含有量で含まれてもよい。上記光重合開始剤の含有量が上記範囲内に含まれる場合、パターン形成工程で露光時、光重合が十分に進行するため、製造された感光性樹脂膜の感度が優れる。
(E)溶媒
溶媒は、上記着色剤、バインダー樹脂、光重合性単量体、光重合開始剤、および後述するその他添加剤などとの相溶性を有するが反応しない物質を使用することができる。
上記溶媒の例としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;ジクロロエチルエーテル、n-ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルフェニルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート類;メチルエチルカルビトール、ジエチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのカルビトール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、メチル-n-プロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチル-n-アミルケトン、2-ヘプタノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類;乳酸メチル、乳酸エチルなどの乳酸エステル類;オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチルなどのオキシ酢酸アルキルエステル類;メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチルなどのアルコキシ酢酸アルキルエステル類;3-オキシプロピオン酸メチル、3-オキシプロピオン酸エチルなどの3-オキシプロピオン酸アルキルエステル類;3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチルなどの3-アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類;2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、2-オキシプロピオン酸プロピルなどの2-オキシプロピオン酸アルキルエステル類;2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-エトキシプロピオン酸メチルなどの2-アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類;2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチルなどの2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エステル類;2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチルなどの2-アルコキシ-2-メチルプロピオン酸アルキル類のモノオキシモノカルボン酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチルなどのエステル類;ピルビン酸エチルなどのケトン酸エステル類などがあり、また、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアニリド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセチルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ-ブチロラクトン、3-メチル安息香酸、酢酸3-メトキシブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどの高沸点溶媒が挙げられる。
これらのうち、好ましくは相溶性および反応性を考慮して、シクロヘキサノンなどのケトン類;エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;2-ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどのカルビトール類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、3-メチル安息香酸、酢酸3-メトキシブチルなどを使用することができる。
上記溶媒は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、残部量、例えば10質量%~70質量%、例えば20質量%~60質量%、例えば25質量%~60質量%の含有量で含まれてもよい。上記溶媒の含有量が上記の範囲内に含まれる場合、上記感光性樹脂組成物が適切な粘度を有することによって感光性樹脂膜製造時の工程性に優れる。
(F)その他の添加剤
一方、上記感光性樹脂組成物は、マロン酸、3-アミノ-1,2-プロパンジオール、シラン系カップリング剤、レベリング剤、界面活性剤、またはこれらの組み合わせの添加剤をさらに含むことができる。
上記シラン系カップリング剤は、基板との密着性などを改善するために、ビニル基、カルボキシル基、メタクリルオキシ基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有することができる。
上記シラン系カップリング剤の例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上混合して使用することができる。
上記シラン系カップリング剤は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.01質量部~10質量部の含有量で含まれてもよい。上記シラン系カップリング剤の含有量が上記の範囲内に含まれる場合、上記感光性樹脂組成物は、基板との密着性、および保存性などに優れる。
また、上記感光性樹脂組成物は、必要によってコーティング性向上および欠点生成防止効果のために界面活性剤、例えば、フッ素系界面活性剤および/またはシリコン系界面活性剤をさらに含むことができる。
上記フッ素系界面活性剤としては、BM Chemie社製のBM-1000、BM-1100など;DIC株式会社製のメガファック(登録商標、以下同じ)F 142D、メガファックF 172、メガファックF 173、メガファックF 183、メガファックF 554など;スリーエム ジャパン株式会社製社製のフロラードFC-135、フロラードFC-170C、フロラードFC-430、フロラードFC-431など;AGC株式会社製のサーフロン(登録商標、以下同じ)S-112、サーフロンS-113、サーフロンS-131、サーフロンS-141、サーフロンS-145など;ダウ・東レ株式会社社製のSH-28PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8428などの名称で市販されているものを使用することができる。
上記シリコン系界面活性剤としては、BYK Chemie社製のBYK-307、BYK-333、BYK-361N、BYK-051、BYK-052、BYK-053、BYK-067A、BYK-077、BYK-301、BYK-322、BYK-325などの名称で市販されているものを使用することができる。
上記界面活性剤は、上記感光性樹脂組成物の総質量に対して、0.001質量部~5質量部の含有量で使用することができる。上記界面活性剤の含有量が上記の範囲内に含まれる場合、上記感光性樹脂組成物は、コーティング均一性が確保され、染みが発生せず、IZO基板またはガラス基板に対する湿潤性に優れる。
また、上記感光性樹脂組成物は、物性を阻害しない範囲内で、酸化防止剤、安定剤などの、その他の添加剤が一定量添加されてもよい。
本発明の一実施形態による感光性樹脂組成物はポジティブ型であってもよく、ネガティブ型であってもよいが、感光性を有する組成物の露光および現像後、パターンが現われる領域の残渣をより完全に除去するためにはネガティブ型であることがより好ましい。
本発明の他の実施形態は、上述の感光性樹脂組成物を露光、現像および硬化して製造された感光性樹脂膜を提供する。
上記感光性樹脂膜の製造方法は以下の通りである。
(1)塗布および塗膜形成段階
感光性樹脂組成物を所定の前処理を行ったガラス基板またはITO基板などの基板上にスピンコート法またはスリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケータ法などの方法を使用して所望の厚さで塗布した後、70℃~110℃で1分~10分間加熱(プリベーキング、ソフトベーク)して溶剤を除去することによって塗膜を形成する。
(2)露光段階
得られた塗膜に必要なパターン形成のためにマスクを介在させた後、200nm~500nmの活性エネルギー線を照射して露光を行う。照射に使用される光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザーなどを使用することができ、場合によってX線、電子線なども用いることができる。
露光量は組成物各成分の種類、配合量および乾燥膜の厚さによって異なるが、高圧水銀灯を使用する場合には500mJ/cm(365nmセンサによる)以下である。
(3)現像段階
アルカリ性水溶液を現像液として用いて不必要な部分を溶解、除去することによって露光部分のみを残存させてパターンを形成させる。
(4)後処理段階
現像によって得られた画像パターンを耐熱性、密着性、耐薬品性などの側面から優れたパターンを得るための後加熱工程を行う。例えば、現像後、250℃のコンベクションオーブンに、現像によって得られた画像パターンを入れた後、1時間加熱(ポストベーキング)することができる。
本発明のさらに他の実施形態は、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタおよび/またはCMOSイメージセンサを提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、上記カラーフィルタを含むディスプレイ装置を提供する。
本発明の他の実施形態は、上記CMOSイメージセンサを含むカメラを提供する。
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。ただし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例に過ぎず、本発明が下記実施例によって限定されるものではない。
(染料準備)
(化学式6-2で表される染料の準備)
製造会社:Merck
製品名:Rhodamine 6G
(化学式6-3で表される染料の準備)
製造会社:東京化成工業
製品名:Acid Red 289
(化学式11-1で表される染料の準備)
製造会社:Merck
製品名:Acid Blue 25
(染料で被覆された有機顔料分散液の製造)
(製造例1)
黄色顔料(BJ1144;山陽色素社)1000gを水と混合してスラリー10Lを調製し、95℃で1時間攪拌させて放冷した後、固体を水洗浄した。これを再び水と混合処理してスラリー10Lを調製し、70質量%の硝酸42.9gを添加して40℃で4時間攪拌した。これを放冷して固体を水洗浄した後、再び水と混合してスラリー10Lを調製し、13質量%の次亜塩素酸ナトリウム水溶液769.2gを添加して40℃で6時間攪拌した。これを放冷して固体を水洗浄した後、再び水と混合してスラリー10Lを調製し、下記化学式6-2で表される染料38.1gを添加して40℃で1時間攪拌し、その後、硫酸アルミニウム10.1gを添加して40℃で1時間攪拌した。これを放冷した後、水洗浄し、ろ過乾燥させて下記化学式6-2で表される染料で被覆された黄色顔料を得た。
(製造例2)
化学式6-2で表される染料の代わりに化学式6-3で表される染料を使用したことを除いては、製造例1と同様に行った。
(製造例3)
化学式6-2で表される染料の代わりに化学式11-1で表される染料を使用したことを除いては、製造例1と同様に行った。
(感光性樹脂組成物の製造)
構成成分を下記の表1に示した組成比で混合後、6時間攪拌して、実施例1~実施例3、比較例1および比較例2による感光性樹脂組成物を製造した。具体的に光重合開始剤の含有量を正確に測定した後、溶媒を添加し、開始剤が全て溶けるまで十分に攪拌した。その後、バインダー樹脂と光重合性単量体を順次添加し、再び1時間ほど攪拌した。その後、その他の添加剤を添加し、着色剤(顔料分散液)を入れた後、最終的に組成物全体を2時間以上攪拌して、感光性樹脂組成物を製造した。
(A)バインダー樹脂
アクリル系バインダー樹脂(RY-117、昭和電工社)
(B)光重合性単量体
ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリレート(DPHA、日本化薬社)
(C)光重合開始剤
SPI-03(三養社)
(D)着色剤
(D-1)赤色顔料(CI-254-P71、サカタインクス社)
(D-2)黄色顔料(BJ1144、山陽色素社)
(D-3)製造例1の染料で被覆された顔料
(D-4)製造例2の染料で被覆された顔料
(D-5)製造例3の染料で被覆された顔料
(D-6)化学式6-2で表される染料
(E)溶媒
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA、飛龍社)
(F)その他の添加剤
界面活性剤(F-554(10%希釈液使用)、DIC社)
(評価)
(パターン性評価)
実施例1~実施例3、比較例1および比較例2で製造された感光性樹脂組成物をそれぞれ8インチのシリコンウェーハ上にスピンコーティングし、約100℃で3分間ソフトベークして約0.6μmの厚さで塗布した。その後、室温で60秒間冷却した後、i線ステッパー(ニコン社、NSR-2005i10C)で1000m秒間光を照射して感光部分の光硬化反応を誘導した。露光された基板を室温において0.3質量%水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液を用いてパドル方式で現像した後、水で120秒間洗浄した。その後、室温で乾燥した後、200℃で5分間ポストベークしてパターンの試験片を得た。パターンの試験片を形成した後、CD(限界寸法)-SEM(走査電子顕微鏡)(日立社、S-9380-2)を用いて1.4umのパターンのCDを測定し、その結果を下記図3~図7に示した。
図3~図7から、本発明による感光性樹脂組成物を用いるとパターン性に優れた感光性樹脂膜を得られることを確認することができる。
(透過度評価)
実施例1~実施例3、比較例1および比較例2で製造された感光性樹脂組成物をそれぞれ8インチのガラスウェーハ上にスピンコーティングし、約100℃で3分間ソフトベークし、その後、室温で60秒間冷却し、i線ステッパー(ニコン社、NSR-2005i10C)で1000m秒間光を照射して感光部分の光硬化反応を誘導した。露光された基板を室温において0.3質量%TMAH水溶液を用いてパドル方式で現像した後、水で120秒間洗浄した。その後、室温で乾燥した後、200℃で5分間ポストベークして0.6μmの試験片を得た。得られた試験片を透過度測定装置を用いて透過度を測定し、その結果を図2に示した。なお、図2には、実施例1、比較例1、および比較例2の結果を示した。
図2から、本発明による感光性樹脂組成物を用いると500nm~540nmの波長領域で透過度を最少化できることを確認することができる。
本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で製造することができ、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者は、本発明の技術的思想や必須の特徴を変更せずに、他の具体的な形態で実施することができることを理解することができるはずである。したがって、上述した実施例は全ての側面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

Claims (17)

  1. (A)バインダー樹脂、
    (B)光重合性単量体、
    (C)光重合開始剤、
    (D)着色剤、および
    (E)溶媒
    を含み、
    前記着色剤は、染料で被覆された有機顔料を含み、
    前記染料は、下記化学式1~化学式5で表される基のうちの少なくとも1種を官能基として含む化合物である、感光性樹脂組成物:

    上記化学式1~化学式5中、
    ~Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基であり、ただし、RおよびRが同時に水素原子ではなく、
    は、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキレン基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリーレン基であり、
    *は隣接原子との結合手である。
  2. 前記染料は、下記化学式M-1で表されるモイエティを有する化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物:

    上記RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
    上記RおよびRは、それぞれ独立して、窒素原子と結合して含窒素縮合環を形成してもよく、
    *は隣接原子との結合手である。
  3. 前記化学式M-1で表されるモイエティは、下記化学式M-1-1または化学式M-1-2で表されるモイエティである、請求項2に記載の感光性樹脂組成物:

    上記化学式M-1-1およびM-1-2中、
    およびRは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
    *は隣接原子との結合手であり、
    は、塩化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、硝酸イオン、水酸化物イオン、過塩素酸イオン(ClO )、または下記化学式X-1で表されるイオンである。
  4. 前記染料は、下記化学式M-2で表されるモイエティを有する化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物:

    上記化学式M-2中、*は隣接原子との結合手である。
  5. 前記染料は、下記化学式6~化学式8で表される化合物のうちの少なくとも1種である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物:

    上記化学式6~化学式8中、
    ~Rは、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
    は、それぞれ独立して、前記化学式1~化学式5で表される官能基のうちの少なくとも1つであり、
    は、塩化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、硝酸イオン、水酸化物イオン、過塩素酸イオン(ClO )、または下記化学式X-1で表されるイオンである。
  6. 前記染料は、下記化学式6-1~化学式6-3、化学式7-1、化学式8-1、および化学式11-1で表される化合物のうちの少なくとも1種である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。

  7. 前記染料は、500nm~540nmの波長範囲内で最大吸光度を有する化合物である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  8. 前記有機顔料は、赤色顔料、緑色顔料、黄色顔料、またはこれらの組み合わせを含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  9. 前記着色剤は、前記染料で被覆された有機顔料および前記染料で被覆されていない有機顔料を含み、
    前記染料で被覆された有機顔料は、前記染料で被覆されていない有機顔料より少ない含有量で含まれる、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  10. 前記バインダー樹脂は、カルド系バインダー樹脂およびアクリル系バインダー樹脂を含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  11. 前記感光性樹脂組成物は、前記感光性樹脂組成物の総質量に対して、
    前記(A)バインダー樹脂0.1質量%~10質量%、
    前記(B)光重合性単量体0.5質量%~5質量%、
    前記(C)光重合開始剤0.1質量%~5質量%、
    前記(D)着色剤20質量%~70質量%、および
    残部量の前記(E)溶媒
    を含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  12. 前記感光性樹脂組成物は、マロン酸、3-アミノ-1,2-プロパンジオール、シラン系カップリング剤、レベリング剤、界面活性剤、またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  13. 請求項1~12のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物を含む、感光性樹脂膜。
  14. 請求項13に記載の感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ。
  15. 請求項13に記載の感光性樹脂膜を含むCMOSイメージセンサ。
  16. 請求項14に記載のカラーフィルタを含むディスプレイ装置。
  17. 請求項15に記載のCMOSイメージセンサを含むカメラ。
JP2023045820A 2022-04-20 2023-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ、cmosイメージセンサ、ディスプレイ装置、およびカメラ Pending JP2023159867A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220049000A KR20230149596A (ko) 2022-04-20 2022-04-20 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터 및 cmos 이미지 센서, 디스플레이 장치 및 카메라
KR10-2022-0049000 2022-04-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023159867A true JP2023159867A (ja) 2023-11-01

Family

ID=88360861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023045820A Pending JP2023159867A (ja) 2022-04-20 2023-03-22 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ、cmosイメージセンサ、ディスプレイ装置、およびカメラ

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2023159867A (ja)
KR (1) KR20230149596A (ja)
CN (1) CN116909094A (ja)
TW (1) TW202342647A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230149596A (ko) 2023-10-27
TW202342647A (zh) 2023-11-01
CN116909094A (zh) 2023-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI598687B (zh) 感光性樹脂組成物、使用其的黑柱間隔件以及彩色濾光片
KR101895910B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터
JP2015191234A (ja) ブラックカラムスペーサの製造方法、並びにブラックカラムスペーサおよびカラーフィルター
TWI569098B (zh) 黑色光敏性樹脂組成物及使用該組成物之遮光層
TWI732379B (zh) 感光性樹脂組成物、使用其的感光性樹脂層及彩色濾光片
KR102224054B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치
TW202020062A (zh) 感光性樹脂組成物、感光性樹脂層以及彩色濾光片層
KR102023158B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
CN108003593B (zh) 感光性树脂组合物、黑色感光性树脂层以及彩色滤光片
KR102204707B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
KR102243364B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 소자
TWI655504B (zh) 感光性樹脂組成物、使用其的黑色像素界定層及顯示裝置
TWI472878B (zh) 彩色濾光片用光敏樹脂組成物及使用該組成物之彩色濾光片
KR20170003123A (ko) 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터
KR102077126B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
JP2023159867A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜、上記感光性樹脂膜を含むカラーフィルタ、cmosイメージセンサ、ディスプレイ装置、およびカメラ
TWI615678B (zh) 感光樹脂組成物、使用其的黑色柱狀間隙物及彩色濾光片
JP7461491B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜およびディスプレイ装置
JP7442584B2 (ja) 顔料分散液、これを含む感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、カラーフィルターおよびディスプレイ装置、ならびに顔料分散液セット
JP7457781B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いて製造された感光性樹脂膜およびカラーフィルタ
KR102524653B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
KR102287215B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
JP7418504B2 (ja) コア-シェル化合物、これを含む感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、カラーフィルターおよびディスプレイ装置
KR102057597B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR20230082315A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터 및 cmos 이미지 센서, 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치 및 상기 cmos 이미지 센서를 포함하는 카메라

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240226

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240626