JP2022164860A - 眼科装置 - Google Patents

Abstract

【課題】簡素な構成で複数の測定や検査を行うための新たな技術を提供する。【解決手段】眼科装置は、対物レンズと、屈折力測定光学系と、固視光学系を含み、対物レンズを介して第２波長範囲の光を被検眼に投射する検査光学系と、光路分離部とを含む。屈折力測定光学系は、対物レンズを介して第１波長範囲の光を被検眼に投射し、被検眼からの戻り光を検出する。光路分離部は、波長分離特性が異なる２以上の波長分離素子と、２以上の波長分離素子を選択的に屈折力測定光学系の光路に配置させ、変更可能な波長分離特性に基づいて波長分離を行うことにより屈折力測定光学系の光路から検査光学系の光路を分離する。２以上の波長分離素子は、第１波長範囲が反射波長領域となり、第２波長範囲が透過波長領域となる波長分離特性を有する第１フィルターと、第１波長範囲と第２波長範囲が透過波長領域となる波長分離特性を有する第２フィルターと、を含む。【選択図】図１

Description

この発明は、眼科装置に関する。

被検眼に対して複数の検査や測定を実行可能な眼科装置が知られている。被検眼に対する検査や測定には、自覚検査や他覚測定がある。自覚検査は、被検者からの応答に基づいて結果を得るものである。他覚測定は、被検者からの応答を参照することなく、主として物理的な手法を用いて被検眼に関する情報を取得するものである。

例えば、特許文献１には、自覚検査や被検眼の屈折力測定や光コヒーレンストモグラフィを用いた撮影や計測が可能な眼科装置が開示されている。

特開２０１７－１３６２１５号公報

このような眼科装置には、例えば、被検眼の前眼部や眼底を観察するための観察光学系が設けられている。観察光学系をそれぞれが検査種別（測定種別）に対応した複数の光学系で共用することで、眼科装置の小型化が可能になる。複数の光学系は、例えばダイクロイックミラーで波長分離される。例えば、各光学系は、互いに異なる波長範囲の光が用いられる。

眼科装置による検査や測定では、被検者の負担を軽減するために近赤外領域の波長範囲の光が用いられることが多い。この場合、各光学系で用いられる光の波長範囲が重複しないように光学系の配置を工夫する必要があり、必要に応じて光学部材の追加を伴う。光学部材の追加は、眼科装置の大型化を招く。

本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、簡素な構成で複数の測定や検査を行うための新たな技術を提供することにある。

いくつかの実施形態に係る眼科装置の１つの態様は、対物レンズと、前記対物レンズを介して第１波長範囲の光を被検眼に投射し、前記被検眼からの戻り光を検出する屈折力測定光学系と、前記被検眼に固視光を投射する固視光学系を含み、前記対物レンズを介して第２波長範囲の光を前記被検眼に投射する検査光学系と、互いに波長分離特性が異なる２以上の波長分離素子と、前記２以上の波長分離素子を選択的に前記屈折力測定光学系の光路に配置させる移動機構とを含み、変更可能な波長分離特性に基づいて波長分離を行うことにより前記屈折力測定光学系の光路から前記検査光学系の光路を分離する光路分離部と、を含み、前記屈折力測定光学系は、前記光路分離部の反射光路に配置され、前記検査光学系は、前記光路分離部の透過光路に配置され、前記２以上の波長分離素子は、前記第１波長範囲が反射波長領域となり、前記第２波長範囲が透過波長領域となるような波長分離特性を有する第１フィルターと、前記第１波長範囲と前記第２波長範囲が透過波長領域となるような波長分離特性を有する第２フィルターと、を含む、眼科装置である。

本発明によれば、簡素な構成で複数の測定や検査を行うための新たな技術を提供することができる。

実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態の変形例に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。

この発明に係る眼科装置の実施形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書において引用された文献の記載内容や任意の公知技術を、以下の実施形態に援用することが可能である。

実施形態に係る眼科装置は、少なくとも他覚測定を実行可能である。他覚測定は、被検者からの応答を参照することなく、主に物理的な手法を用いて被検眼に関する情報を取得する測定手法である。他覚測定には、被検眼の特性を取得するための測定と、被検眼の画像を取得するための撮影とが含まれる。他覚測定には、他覚屈折測定、角膜形状測定、眼圧測定、眼底撮影、光干渉計測等がある。

いくつかの実施形態に係る眼科装置は、他覚測定と自覚検査とを実行可能である。自覚検査は、被検者からの応答を利用して情報を取得する測定手法である。自覚検査には、遠用検査、近用検査、コントラスト検査、グレア検査等の自覚屈折測定や、視野検査などがある。

以下、眼底共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の眼底と光学的に略共役な位置であり、被検眼の眼底と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。同様に、瞳孔共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置であり、被検眼の瞳孔と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。

＜光学系の構成＞
図１に、実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。実施形態に係る眼科装置１０００は、被検眼Ｅの検査を行うための光学系として、レフ測定光学系（屈折力測定光学系）と、ＯＣＴ光学系とを含み、光学フィルターで波長分離を行うことによりレフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系の光路を分離する。

眼科装置１０００は、Ｚアライメント系１、ＸＹアライメント系２、ケラト測定系３、固視投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、レフ測定受光系７、及びＯＣＴ光学系８を含む。以下では、例えば、前眼部観察系が９４０ｎｍ～１０００ｎｍの光を用い、レフ測定光学系（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）が８３０ｎｍ～８８０ｎｍの光を用い、固視投影系４が４００ｎｍ～７００ｎｍの光を用い、ＯＣＴ光学系８が８４０ｎｍ（中心波長）の光を用いる場合について説明する。

（前眼部観察系５）
前眼部観察系５は、被検眼Ｅの前眼部を動画撮影する。前眼部観察系５を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は瞳孔共役位置に配置されている。前眼部照明光源５０は、被検眼Ｅの前眼部に照明光（例えば、赤外光）を照射する。被検眼Ｅの前眼部により反射された光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックミラー５２を透過し、絞り（テレセン絞り）５３に形成された孔部を通過し、ハーフミラー２３を透過し、リレーレンズ５５及び５６を通過し、ダイクロイックミラー７６を透過する。ダイクロイックミラー７６を透過した光は、結像レンズ５８により撮像素子５９（エリアセンサー）の撮像面に結像される。撮像素子５９は、所定のレートで撮像及び信号出力を行う。撮像素子５９の出力（映像信号）は、後述の処理部９に入力される。処理部９は、この映像信号に基づく前眼部像Ｅ´を後述の表示部１０の表示画面１０ａに表示させる。前眼部像Ｅ´は、例えば赤外動画像である。

（Ｚアライメント系１）
Ｚアライメント系１は、前眼部観察系５の光軸方向（前後方向、Ｚ方向）におけるアライメントを行うための光（赤外光）を被検眼Ｅに投射する。Ｚアライメント光源１１から出力された光は、被検眼Ｅの角膜Ｃｒに投射され、角膜Ｃｒにより反射され、結像レンズ１２によりラインセンサー１３のセンサー面に結像される。角膜頂点の位置が前眼部観察系５の光軸方向に変化すると、ラインセンサー１３のセンサー面における光の投射位置が変化する。処理部９は、ラインセンサー１３のセンサー面における光の投射位置に基づいて被検眼Ｅの角膜頂点の位置を求め、これに基づき光学系を移動させる機構を制御してＺアライメントを実行する。

（ＸＹアライメント系２）
ＸＹアライメント系２は、前眼部観察系５の光軸に直交する方向（左右方向（Ｘ方向）、上下方向（Ｙ方向））のアライメントを行うための光（赤外光）を被検眼Ｅに照射する。ＸＹアライメント系２は、ハーフミラー２３により前眼部観察系５の光路から分岐された光路に設けられたＸＹアライメント光源２１とコリメータレンズ２２とを含む。ＸＹアライメント光源２１から出力された光は、コリメータレンズ２２を通過し、ハーフミラー２３により反射され、前眼部観察系５を通じて被検眼Ｅに投射される。被検眼Ｅの角膜Ｃｒによる反射光は、前眼部観察系５を通じて撮像素子５９に導かれる。

この反射光に基づく像（輝点像）Ｂｒは前眼部像Ｅ´に含まれる。処理部９は、輝点像Ｂｒを含む前眼部像Ｅ´とアライメントマークＡＬとを表示部の表示画面に表示させる。手動でＸＹアライメントを行う場合、ユーザは、アライメントマークＡＬ内に輝点像Ｂｒを誘導するように光学系の移動操作を行う。自動でアライメントを行う場合、処理部９は、アライメントマークＡＬに対する輝点像Ｂｒの変位がキャンセルされるように、光学系を移動させる機構を制御する。

（ケラト測定系３）
ケラト測定系３は、被検眼Ｅの角膜Ｃｒの形状を測定するためのリング状光束（赤外光）を角膜Ｃｒに投射する。ケラト板３１は、対物レンズ５１と被検眼Ｅとの間に配置されている。ケラト板３１の背面側（対物レンズ５１側）にはケラトリング光源３２が設けられている。ケラトリング光源３２からの光でケラト板３１を照明することにより、被検眼Ｅの角膜Ｃｒにリング状光束が投射される。被検眼Ｅの角膜Ｃｒからの反射光（ケラトリング像）は撮像素子５９により前眼部像Ｅ´とともに検出される。処理部９は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜Ｃｒの形状を表す角膜形状パラメータを算出する。

（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）
レフ測定光学系は、屈折力測定に用いられるレフ測定投射系６及びレフ測定受光系７を含む。レフ測定投射系６は、屈折力測定用の光束（例えば、リング状光束）（赤外光）を眼底Ｅｆに投射する。レフ測定受光系７は、この光束の被検眼Ｅからの戻り光を受光する。レフ測定投射系６は、レフ測定受光系７の光路に設けられた孔開きプリズム６５によって分岐された光路に設けられる。孔開きプリズム６５に形成されている孔部は、瞳孔共役位置に配置される。レフ測定受光系７を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は眼底共役位置に配置される。

いくつかの実施形態では、レフ測定光源６１は、高輝度光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）光源である。レフ測定光源６１は、光軸方向に移動可能である。レフ測定光源６１は、眼底共役位置に配置される。レフ測定光源６１から出力された光は、リレーレンズ６２を通過し、円錐プリズム６３の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム６３の底面から出射する。円錐プリズム６３の底面から出射した光は、リング絞り６４にリング状に形成された透光部を通過する。リング絞り６４の透光部を通過した光（リング状光束）は、孔開きプリズム６５の孔部の周囲に形成された反射面により反射され、ロータリープリズム６６を通過し、フィルター７０により反射される。後述のように、フィルター７０は、波長分離を行うことによりレフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系の光路を分離するための光学素子である。フィルター７０により反射された光は、ダイクロイックミラー５２により反射され、対物レンズ５１を通過し、被検眼Ｅに投射される。ロータリープリズム６６は、眼底Ｅｆの血管や疾患部位に対するリング状光束の光量分布を平均化や光源に起因するスペックルノイズの低減のために用いられる。

眼底Ｅｆに投射されたリング状光束の戻り光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックミラー５２及びフィルター７０により反射される。フィルター７０により反射された戻り光は、ロータリープリズム６６を通過し、孔開きプリズム６５の孔部を通過し、リレーレンズ７１を通過し、反射ミラー７２により反射され、リレーレンズ７３及び合焦レンズ７４を通過する。合焦レンズ７４は、レフ測定受光系７の光軸に沿って移動可能である。合焦レンズ７４を通過した光は、反射ミラー７５により反射され、ダイクロイックミラー７６により反射され、結像レンズ５８により撮像素子５９の撮像面に結像される。処理部９は、撮像素子５９からの出力を基に公知の演算を行うことで被検眼Ｅの屈折力値を算出する。例えば、屈折力値は、球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を含む。

（固視投影系４）
フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に、後述のＯＣＴ光学系８が設けられる。ダイクロイックミラー８３によりＯＣＴ光学系８の光路から分岐された光路に固視投影系４が設けられる。

固視投影系４は、固視標を被検眼Ｅに呈示する。処理部９による制御を受けた液晶パネル４１は、固視標を表すパターンを表示する。液晶パネル４１の画面上におけるパターンの表示位置を変更することにより、被検眼Ｅの固視位置を変更できる。被検眼Ｅの固視位置としては、眼底Ｅｆの黄斑部を中心とする画像を取得するための位置や、視神経乳頭を中心とする画像を取得するための位置や、黄斑部と視神経乳頭との間の眼底中心を中心とする画像を取得するための位置などがある。固視標を表すパターンの表示位置を任意に変更することが可能である。

液晶パネル４１からの光は、リレーレンズ４２を通過し、ダイクロイックミラー８３を透過し、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、フィルター７０を透過し、ダイクロイックミラー５２により反射される。ダイクロイックミラー５２により反射された光は、対物レンズ５１を通過して眼底Ｅｆに投射される。液晶パネル４１（又は液晶パネル４１及びリレーレンズ４２）は、光軸方向に移動可能である。

（ＯＣＴ光学系８）
ＯＣＴ光学系８は、ＯＣＴ計測を行うための光学系である。ＯＣＴ計測よりも前に実施されたレフ測定結果に基づいて、光ファイバーｆ１の端面が眼底Ｅｆと光学系に共役となるように合焦レンズ８７の位置が調整される。

ＯＣＴ光学系８は、フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられる。上記の固視投影系４の光路は、ダイクロイックミラー８３によりＯＣＴ光学系８の光路に結合される。それにより、ＯＣＴ光学系８及び固視投影系４のそれぞれの光軸を同軸で結合することができる。

ＯＣＴ光学系８は、ＯＣＴユニット１００を含む。図２に示すように、ＯＣＴユニット１００は、低コヒーレンス光を参照光と信号光に分割し、被検眼Ｅ（眼底Ｅｆ）を経由した信号光と参照光路を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成し、この干渉光のスペクトル成分を検出するように構成されている。この検出結果（検出信号）は処理部９に送られる。

ＯＣＴユニット１００において、ＯＣＴ光源１０１は、一般的なスペクトラルドメインタイプのＯＣＴ装置と同様に、低コヒーレンス光源を含む。ＯＣＴ光源１０１は、広帯域の低コヒーレンス光Ｌ０を出力する。低コヒーレンス光Ｌ０は、例えば、近赤外領域の波長帯（中心波長が８３０ｎｍ、約８００ｎｍ～９００ｎｍの波長範囲）を含み、数十マイクロメートル程度の時間的コヒーレンス長を有する。ＯＣＴ光源１０１は、スーパールミネセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）や、ＬＥＤや、ＳＯＡ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）等の光出力デバイスを含んで構成される。

ＯＣＴ光源１０１から出力された低コヒーレンス光Ｌ０は、光ファイバー１０２によりファイバーカプラー１０３に導かれて測定光ＬＳと参照光ＬＲとに分割される。

参照光ＬＲは、光ファイバー１０４により導かれて光減衰器（アッテネータ）１０５に到達する。光減衰器１０５は、公知の技術を用いて、処理部９の制御の下、光ファイバー１０４に導かれる参照光ＬＲの光量を自動で調整する。光減衰器１０５により光量が調整された参照光ＬＲは、光ファイバー１０４により導かれて偏波調整器（偏波コントローラ）１０６に到達する。偏波調整器１０６は、例えば、ループ状にされた光ファイバー１０４に対して外部から応力を与えることで、光ファイバー１０４内を導かれる参照光ＬＲの偏光状態を調整する装置である。なお、偏波調整器１０６の構成はこれに限定されるものではなく、任意の公知技術を用いることが可能である。偏波調整器１０６により偏光状態が調整された参照光ＬＲは、ファイバーカプラー１０９に到達する。

ファイバーカプラー１０３により生成された測定光ＬＳは、光ファイバーｆ１により導かれ、光路長変更部８９を通過し、図１のコリメータレンズ９０により平行光束とされる。光路長変更部８９は、測定光ＬＳの光路長を変更する。更に、測定光ＬＳは、光スキャナー８８、合焦レンズ８７、リレーレンズ８６及び８５、及び反射ミラー８４を経由してダイクロイックミラー８３に到達する。光スキャナー８８は、測定光ＬＳを１次元的又は２次元的に偏向する。光スキャナー８８は、例えば、第１ガルバノミラーと、第２ガルバノミラーとを含む。第１ガルバノミラーは、ＯＣＴ光学系８の光軸に直交する水平方向に眼底Ｅｆをスキャンするように測定光ＬＳを偏向する。第２ガルバノミラーは、ＯＣＴ光学系８の光軸に直交する垂直方向に眼底Ｅｆをスキャンするように、第１ガルバノミラーにより偏向された測定光ＬＳを偏向する。このような光スキャナー８８による測定光ＬＳの走査態様としては、例えば、水平スキャン、垂直スキャン、十字スキャン、放射スキャン、円スキャン、同心円スキャン、螺旋スキャンなどがある。

測定光ＬＳは、ダイクロイックミラー８３により反射され、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、フィルター７０を透過し、ダイクロイックミラー５２により反射される。ダイクロイックミラー５２により反射された測定光ＬＳは、対物レンズ５１により屈折されて例えば眼底Ｅｆに照射される。測定光ＬＳは、眼底Ｅｆの様々な深さ位置において散乱（反射を含む）される。眼底Ｅｆによる測定光ＬＳの後方散乱光は、往路と同じ経路を逆向きに進行してファイバーカプラー１０３に導かれ、光ファイバー１０８を経由してファイバーカプラー１０９に到達する。

ファイバーカプラー１０９は、測定光ＬＳの後方散乱光と、光ファイバー１０４を導かれてきた参照光ＬＲとを干渉させる。これにより生成された干渉光ＬＣは、光ファイバー１１０により導かれて出射端１１１から出射される。干渉光ＬＣは、コリメータレンズ１１２により平行光束とされ、回折格子１１３により分光（スペクトル分解）され、集光レンズ１１４により集光されてＣＣＤイメージセンサーなどの検出器１１５の受光面に投影される。なお、図２に示す回折格子１１３は透過型であるが、たとえば反射型の回折格子など、他の形態の分光素子を用いることも可能である。

検出器１１５は、例えばラインセンサーであり、分光された干渉光ＬＣの各スペクトル成分を検出して電荷に変換する。検出器１１５は、この電荷を蓄積して検出信号を生成し、これを処理部９に送る。

この実施形態ではマイケルソン型の干渉計を採用しているが、例えばマッハツェンダー型など任意のタイプの干渉計を適宜に採用することが可能である。また、検出器１１５として、ＣＣＤイメージセンサーに代えて、他の形態のイメージセンサー、たとえばＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサーなどを用いることが可能である。

処理部９は、レフ測定光学系を用いて得られた測定結果から屈折力値を算出し、算出された屈折力値に基づいて、眼底Ｅｆとレフ測定光源６１と撮像素子５９とが共役となる位置に、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４それぞれを光軸方向に移動させる。いくつかの実施形態では、処理部９は、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４の移動に連動して液晶パネル４１をその光軸方向に移動させる。いくつかの実施形態では、処理部９は、合焦レンズ７４の移動に連動してＯＣＴ光学系８の合焦レンズ８７をその光軸方向に移動させる。

以上のように、ＯＣＴ光学系８は、フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられる。すなわち、フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられた検査光学系は、干渉光学系を含む。干渉光学系は、光源からの所定の波長範囲の光を参照光と測定光とに分割し、被検眼に測定光を投射し、被検眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光を検出する。

例えば、孔開きプリズムを用いてレフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系８の光路を分離する場合、孔開きプリズムに形成された孔部に測定光を通過させるように光学系が構成されるため、測定光やその戻り光のケラレ等を考慮する必要が生じる。これに対して、フィルター７０により波長分離を行うことで、孔開きプリズムを用いる場合に比べて各光学系で用いられる光の光量を増大させることができる。

フィルター７０は、波長分離特性の変更が可能な光学フィルターである。波長分離特性は、入射光の波長の透過特性又は反射特性に対応する。波長分離特性には、カットオン波長、カットオフ波長、及び遮断領域などがある。いくつかの実施形態に係るフィルター７０は、フィルターの種別を変更可能である。フィルターの種別には、狭帯域バンドパスフィルター、広帯域バンドパスフィルター、ショートパスフィルター、ロングパスフィルター、及び減光フィルターなどがある。この実施形態では、波長分離特性は、レフ測定に用いられる波長範囲の光及びＯＣＴ計測に用いられる波長範囲の光を、検査種別に応じて波長分離するように変更される。

図３、図４Ａ及び図４Ｂに、実施形態に係るフィルター７０の説明図を示す。図３は、実施形態に係るフィルター７０の構成例のブロック図を表す。図４Ａは、図３の第１フィルター７１１の波長分離特性を模式的に表す。図４Ｂは、図３の第２フィルター７１２の波長分離特性を模式的に表す。図４Ａ及び図４Ｂにおいて、横軸は波長を表し、縦軸は光の透過率を表す。

図３に示すように、フィルター７０は、互いに波長分離特性が異なる複数のフィルターを含むフィルター群７１０と、フィルター群７１０の複数のフィルター素子を移動（回転移動又は平行移動）させる移動機構７２０とを含む。移動機構７２０は、フィルター群７１０に含まれる複数のフィルターの少なくとも１つを移動させることによりレフ測定光学系の光路に選択的にフィルターを配置させる。

この実施形態では、フィルター群７１０は、レフ測定用の第１フィルター７１１と、ＯＣＴ計測用の第２フィルター７１２とを含む。レフ測定を行うときに第１フィルター７１１がレフ測定光学系の光路に配置され、ＯＣＴ計測を行うときに第２フィルター７１２がレフ測定光学系の光路に配置される。いくつかの実施形態に係る第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２の少なくとも一方は、ダイクロイックミラーである。

第１フィルター７１１は、図４Ａに示すように第１波長分離特性を有する。第１波長分離特性は、カットオン波長（カットオフ波長）がλ_Dであるショートパスフィルター（長波長カットフィルター）と同様の特性を有する。第１波長分離特性は、波長λ_Dより短波長側が透過波長領域であり、波長λ_Dより長波長側が反射波長領域であることを表す。第１フィルター７１１は、固視投影系４に用いる光の波長範囲（４００ｎｍ～７００ｎｍ）が透過波長領域となり、レフ測定光学系に用いる光の波長範囲（８３０ｎｍ～８８０ｎｍ）が反射波長領域となるような波長分離特性を有する。すなわち、ＯＣＴ光学系８に用いる光の波長範囲は反射波長領域に含まれる。

第２フィルター７１２は、図４Ｂに示すように第１波長分離特性と異なる第２波長分離特性を有する。第２波長分離特性は、波長領域の全域が透過波長領域であることを表す。第２フィルター７１２は、固視投影系４に用いる光の波長範囲（４００ｎｍ～７００ｎｍ）とレフ測定光学系に用いる光の波長範囲（８３０ｎｍ～８８０ｎｍ）が透過波長領域となるような波長分離特性（波長透過特性）を有する。

いくつかの実施形態では、図示しない保持部材により第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２がレフ測定光学系の光路に対する交差方向に保持される。移動機構７２０は、当該交差方向に保持部材を移動させることにより第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２をレフ測定光学系の光路に選択的に配置させる。

いくつかの実施形態では、図示しないターレット板の円周方向に第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２が保持される。ターレット板は、レフ測定光学系の光路（光軸）に対して略平行な回動軸を中心に回動可能であり、当該回動軸を中心としてレフ測定光学系の光路が通過する円周上に第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２が配列される。移動機構７２０は、当該回動軸を中心にターレット板を回動させることにより第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２をレフ測定光学系の光路に選択的に配置させる。

このように検査種別（検査内容）に応じてフィルター７０の波長分離特性を変更することにより、構成を簡素化しつつ、レフ測定及びＯＣＴ計測それぞれにおいて光量の損失を抑えて高精度な検査や測定を行うことが可能になる。

＜処理系の構成＞
眼科装置１０００の処理系の構成について説明する。眼科装置１０００の処理系の機能的構成の例を図５に示す。図５は、眼科装置１０００の処理系の機能ブロック図の一例を表す。

処理部９は、眼科装置１０００の各部を制御する。また、処理部９は、各種演算処理を実行可能である。処理部９は、プロセッサを含む。プロセッサの機能は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、ＳＰＬＤ（Ｓｉｍｐｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＣＰＬＤ（Ｃｏｍｐｌｅｘ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ））等の回路により実現される。処理部９は、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。

処理部９は、制御部２１０と、演算処理部２２０とを含む。また、眼科装置１０００は、移動機構２００と、表示部２７０と、操作部２８０と、通信部２９０とを含む。

移動機構２００は、Ｚアライメント系１、ＸＹアライメント系２、ケラト測定系３、固視投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、レフ測定受光系７及びＯＣＴ光学系８等の光学系が収納されたヘッド部を前後左右方向に移動させるための機構である。例えば、移動機構２００には、ヘッド部を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御部２１０（主制御部２１１）は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構２００に対する制御を行う。

（制御部２１０）
制御部２１０は、プロセッサを含み、眼科装置の各部を制御する。制御部２１０は、主制御部２１１と、記憶部２１２とを含む。記憶部２１２には、眼科装置を制御するためのコンピュータプログラムがあらかじめ格納される。コンピュータプログラムには、光源制御用プログラム、検出器制御用プログラム、光スキャナー制御用プログラム、光学系制御用プログラム、演算処理用プログラム及びユーザインターフェイス用プログラムなどが含まれる。このようなコンピュータプログラムに従って主制御部２１１が動作することにより、制御部２１０は制御処理を実行する。

主制御部２１１は、測定制御部として眼科装置の各種制御を行う。Ｚアライメント系１に対する制御には、Ｚアライメント光源１１の制御、ラインセンサー１３の制御などがある。Ｚアライメント光源１１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。ラインセンサー１３の制御には、検出素子の露光調整やゲイン調整や検出レート調整などがある。それにより、Ｚアライメント光源１１の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。主制御部２１１は、ラインセンサー１３により検出された信号を取り込み、取り込まれた信号に基づいてラインセンサー１３に対する光の投影位置を特定する。主制御部２１１は、特定された投影位置に基づいて被検眼Ｅの角膜頂点の位置を求め、これに基づき移動機構２００を制御してヘッド部を前後方向に移動させる（Ｚアライメント）。

ＸＹアライメント系２に対する制御には、ＸＹアライメント光源２１の制御などがある。ＸＹアライメント光源２１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、ＸＹアライメント光源２１の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出された信号を取り込み、取り込まれた信号に基づいてＸＹアライメント光源２１からの光の戻り光に基づく輝点像の位置を特定する。主制御部２１１は、所定の目標位置（例えば、アライメントマークＡＬの中心位置）に対する輝点像Ｂｒの位置との変位がキャンセルされるように移動機構２００を制御してヘッド部を左右上下方向に移動させる（ＸＹアライメント）。

ケラト測定系３に対する制御には、ケラトリング光源３２の制御などがある。ケラトリング光源３２の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、ケラトリング光源３２の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出されたケラトリング像に対する公知の演算を演算処理部２２０に実行させる。それにより、被検眼Ｅの角膜形状パラメータが求められる。

固視投影系４に対する制御には、液晶パネル４１の制御などがある。液晶パネル４１の制御には、固視標の表示のオン・オフや、固視標の表示位置の切り替えなどがある。それにより、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに固視標が投影される。例えば、固視投影系４は、液晶パネル４１（又は液晶パネル４１及びリレーレンズ４２）を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、少なくとも液晶パネル４１を光軸方向に移動させる。それにより、液晶パネル４１と眼底Ｅｆとが光学的に共役となるように液晶パネル４１の位置が調整される。

フィルター７０に対する制御には、フィルター７０の波長分離特性の変更制御などがある。具体的には、主制御部２１１は、検査種別に応じて、図３に示す移動機構７２０を制御することにより、レフ測定光学系の光路に第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２を選択的に配置させる。

いくつかの実施形態では、レフ測定光源６１の点灯指示を受け、主制御部２１１は、フィルター７０を制御して、レフ測定光学系の光路に第１フィルター７１１を自動で配置させる。この場合、主制御部２１１は、ＯＣＴ光源１０１の消灯制御を自動で行ってもよい。

いくつかの実施形態では、ＯＣＴ光源１０１の点灯指示を受け、主制御部２１１は、フィルター７０を制御して、レフ測定光学系の光路に第２フィルター７１２を自動で配置させる。この場合、主制御部２１１は、レフ測定光源６１の消灯制御を自動で行ってもよい。

前眼部観察系５に対する制御には、前眼部照明光源５０の制御、撮像素子５９の制御などがある。前眼部照明光源５０の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、前眼部照明光源５０の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。撮像素子５９の制御には、撮像素子５９の露光調整やゲイン調整や検出レート調整などがある。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出された信号を取り込み、取り込まれた信号に基づく画像の形成等の処理を演算処理部２２０に実行させる。

レフ測定投射系６に対する制御には、レフ測定光源６１の制御、ロータリープリズム６６の制御などがある。レフ測定光源６１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。それにより、レフ測定光源６１の点灯と非点灯とが切り替えられたり、光量が変更されたりする。例えば、レフ測定投射系６は、レフ測定光源６１を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、レフ測定光源６１を光軸方向に移動させる。ロータリープリズム６６の制御には、ロータリープリズム６６の回転制御などがある。例えば、ロータリープリズム６６を回転させる回転機構が設けられており、主制御部２１１は、この回転機構を制御することによりロータリープリズム６６を回転させる。

レフ測定受光系７に対する制御には、合焦レンズ７４の制御などがある。合焦レンズ７４の制御には、合焦レンズ７４の光軸方向への移動制御などがある。例えば、レフ測定受光系７は、合焦レンズ７４を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、合焦レンズ７４を光軸方向に移動させる。主制御部２１１は、レフ測定光源６１と眼底Ｅｆと撮像素子５９とが光学的に共役となるように、例えば被検眼Ｅの屈折力に応じてレフ測定光源６１及び合焦レンズ７４をそれぞれ光軸方向に移動させることが可能である。

ＯＣＴ光学系８に対する制御には、ＯＣＴ光源１０１の制御、光路長変更部８９の制御、光スキャナー８８の制御、合焦レンズ８７の制御、検出器１１５の制御などがある。ＯＣＴ光源１０１の制御には、光源の点灯、消灯、光量調整、絞り調整などがある。光路長変更部８９は、例えば、入射光を、入射方向と平行で、且つ反対方向に反射するコーナーキューブと、コーナーキューブを入射光の光路に沿って移動する移動機構とを含む。光路長変更部８９の制御には、移動機構に対する制御などがある。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、コーナーキューブを入射光の光路に沿って移動させる。光スキャナー８８の制御には、第１ガルバノミラーによる走査位置や走査範囲や走査速度の制御、第２ガルバノミラーによる走査位置や走査範囲や走査速度の制御などがある。合焦レンズ８７の制御には、合焦レンズ８７の光軸方向への移動制御などがある。例えば、ＯＣＴ光学系８は、合焦レンズ８７を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１は、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、合焦レンズ８７を光軸方向に移動させる。主制御部２１１は、例えば、合焦レンズ７４の移動に連動して合焦レンズ８７を移動させた後、干渉信号の強度に基づいて合焦レンズ８７だけを移動させるようにしてもよい。検出器１１５の制御には、検出素子の露光調整やゲイン調整や検出レート調整などがある。主制御部２１１は、検出器１１５により検出された信号をサンプリングし、サンプリングされた信号に基づく画像の形成等の処理を演算処理部２２０（画像形成部２２２）に実行させる。

いくつかの実施形態では、ＯＣＴ光学系８は、参照光ＬＲの光路長を変更する光路長変更部を含む。主制御部２１１は、光路長変更部を制御することにより参照光ＬＲの光路長を変更する。

また、主制御部２１１は、記憶部２１２にデータを書き込む処理や、記憶部２１２からデータを読み出す処理を行う。

（記憶部２１２）
記憶部２１２は、各種のデータを記憶する。記憶部２１２に記憶されるデータとしては、例えば他覚測定の測定結果、断層像の画像データ、眼底像の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者ＩＤや氏名などの被検者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。また、記憶部２１２には、眼科装置を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。

（演算処理部２２０）
演算処理部２２０は、眼屈折力算出部２２１と、画像形成部２２２と、データ処理部２２３とを含む。

眼屈折力算出部２２１は、レフ測定投射系６により眼底Ｅｆに投影されたリング状光束（リング状の測定パターン）の戻り光を撮像素子５９が受光することにより得られたリング像（パターン像）を解析する。例えば、眼屈折力算出部２２１は、得られたリング像が描出された画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。続いて、眼屈折力算出部２２１は、特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円の長径及び短径を公知の式に代入することによって球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求める。或いは、眼屈折力算出部２２１は、基準パターンに対するリング像の変形及び変位に基づいて眼屈折力のパラメータを求めることができる。

また、眼屈折力算出部２２１は、前眼部観察系５により取得されたケラトリング像に基づいて、角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。例えば、眼屈折力算出部２２１は、ケラトリング像を解析することにより角膜前面の強主経線や弱主経線の角膜曲率半径を算出し、角膜曲率半径に基づいて上記パラメータを算出する。

画像形成部２２２は、検出器１１５により検出された信号に基づいて、眼底Ｅｆの断層像の画像データを形成する。すなわち、画像形成部２２２は、干渉光学系による干渉光ＬＣの検出結果に基づいて被検眼Ｅの画像データを形成する。この処理には、従来のスペクトラルドメインタイプのＯＣＴと同様に、フィルター処理、ＦＦＴ（Ｆａｓｔ Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ）などの処理が含まれている。このようにして取得される画像データは、複数のＡライン（被検眼Ｅ内における各測定光ＬＳの経路）における反射強度プロファイルを画像化することにより形成された一群の画像データを含むデータセットである。

画質を向上させるために、同じパターンでのスキャンを複数回繰り返して収集された複数のデータセットを重ね合わせる（加算平均する）ことができる。

データ処理部２２３は、画像形成部２２２により形成された断層像に対して各種のデータ処理（画像処理）や解析処理を施す。例えば、データ処理部２２３は、画像の輝度補正や分散補正等の補正処理を実行する。また、データ処理部２２３は、前眼部観察系５を用い得られた画像（前眼部像等）に対して各種の画像処理や解析処理を施す。

データ処理部２２３は、断層像の間の画素を補間する補間処理などの公知の画像処理を実行することにより、被検眼Ｅのボリュームデータ（ボクセルデータ）を形成することができる。ボリュームデータに基づく画像を表示させる場合、データ処理部２２３は、このボリュームデータに対してレンダリング処理を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像を形成する。

（表示部２７０、操作部２８０）
表示部２７０は、ユーザインターフェイス部として、制御部２１０による制御を受けて情報を表示する。表示部２７０は、図１などに示す表示部１０を含む。

操作部２８０は、ユーザインターフェイス部として、眼科装置を操作するために使用される。操作部２８０は、眼科装置に設けられた各種のハードウェアキー（ジョイスティック、ボタン、スイッチなど）を含む。また、操作部２８０は、タッチパネル式の表示画面１０ａに表示される各種のソフトウェアキー（ボタン、アイコン、メニューなど）を含んでもよい。

表示部２７０及び操作部２８０の少なくとも一部が一体的に構成されていてもよい。その典型例として、タッチパネル式の表示画面１０ａがある。

（通信部２９０）
通信部２９０は、図示しない外部装置と通信するための機能を有する。通信部２９０は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定するための眼鏡レンズ測定装置がある。眼鏡レンズ測定装置は、被検者が装用する眼鏡レンズの度数などを測定し、この測定データを眼科装置１０００に入力する。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置（リーダ）や、記録媒体に情報を書き込む装置（ライタ）などでもよい。更に、外部装置は、病院情報システム（ＨＩＳ）サーバ、ＤＩＣＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｉｎｇ ａｎｄ ＣＯｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ ｉｎ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、クラウドサーバなどでもよい。通信部２９０は、例えば処理部９に設けられていてもよい。

レフ測定光学系による屈折力測定で用いられる光の波長範囲（例えば、８３０ｎｍ～８８０ｎｍ）は、実施形態に係る「第１波長範囲」の一例である。レフ測定光学系（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）は、実施形態に係る「屈折力測定光学系」の一例である。ＯＣＴ光学系８によるＯＣＴ計測で用いられる光の波長範囲（例えば、中心波長が８４０ｎｍである約８００ｎｍ～９００ｎｍの波長範囲）は、実施形態に係る「第２波長範囲」の一例である。ＯＣＴ光学系８は、実施形態に係る「検査光学系」の一例である。フィルター７０は、実施形態に係る「光路分離部」の一例である。第１フィルター７１１及び第２フィルター７１２は、実施形態に係る「波長分離素子」の一例である。固視投影系４は、実施形態に係る「固視光学系」の一例である。ダイクロイックミラー８３は、実施形態に係る「光路結合部材」の一例である。ＯＣＴユニット１００に含まれる光学系は、実施形態に係る「干渉光学系」の一例である。

＜動作例＞
実施形態に係る眼科装置１０００の動作について説明する。

図６に、眼科装置１０００の動作の一例を示す。図６は、眼科装置１０００の動作例のフロー図を表す。

（Ｓ１：アライメント）
図示しない顔受け部に被検者の顔が固定された状態で、検者が操作部２８０に対して所定の操作を行うことで、眼科装置１０００は、アライメントを実行する。

具体的には、主制御部２１１は、Ｚアライメント光源１１やＸＹアライメント光源２１を点灯させる。処理部９は、撮像素子５９の撮像面上の前眼部像の撮像信号を取得し、表示部２７０に前眼部像を表示させる。その後、図１に示す光学系が被検眼Ｅの検査位置に移動される。検査位置とは、被検眼Ｅの検査を十分な精度内で行うことが可能な位置である。前述のアライメント（Ｚアライメント系１及びＸＹアライメント系２と前眼部観察系５とによるアライメント）を介して被検眼Ｅが検査位置に配置される。光学系の移動は、ユーザによる操作若しくは指示又は制御部２１０による指示にしたがって、制御部２１０によって実行される。すなわち、被検眼Ｅの検査位置への光学系の移動と、他覚測定を行うための準備とが行われる。

また、主制御部２１１は、レフ測定光源６１と、合焦レンズ７４と、液晶パネル４１をそれぞれの光軸に沿って原点の位置（例えば、０Ｄに相当する位置）に移動させる。

（Ｓ２：固視制御）
ステップＳ２の処理に先立って、主制御部２１１は、フィルター７０を制御することにより、レフ測定用の第１フィルター７１１をレフ測定光学系の光路に配置させる。それにより、固視投影系４からの光がフィルター７０を透過し、レフ測定光学系に用いられる光がフィルター７０により反射される。

ステップＳ２では、主制御部２１１は、所望の固視位置に対応した表示位置に固視標を示すパターンを液晶パネル４１に表示させる。それにより、所望の固視位置に被検眼Ｅを注視させる。

なお、ステップＳ２における固視制御に続いて、眼科装置１０００は、ケラト測定を実行してもよい。この場合、主制御部２１１は、ケラトリング光源３２を点灯させる。ケラトリング光源３２から光が出力されると、被検眼Ｅの角膜Ｃｒに角膜形状測定用のリング状光束が投射される。眼屈折力算出部２２１は、撮像素子５９によって取得された像に対して演算処理を施すことにより、角膜曲率半径を算出し、算出された角膜曲率半径から角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。制御部２１０では、算出された角膜屈折力などが記憶部２１２に記憶される。主制御部２１１からの指示、又は操作部２８０に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置１０００の動作はステップＳ３に移行する。

（Ｓ３：他覚測定）
次に、主制御部２１１は、液晶パネル４１を制御することにより固視標を被検眼Ｅに投影させ、レフ測定を実行させる。

レフ測定では、主制御部２１１は、前述のようにレフ測定のためのリング状の測定パターン光束を被検眼Ｅに投射させる。被検眼Ｅからの測定パターン光束の戻り光に基づくリング像が撮像素子５９の撮像面に結像される。主制御部２１１は、撮像素子５９により検出された眼底Ｅｆからの戻り光に基づくリング像を取得できたか否かを判定する。例えば、主制御部２１１は、撮像素子５９により検出された戻り光に基づく像のエッジの位置（画素）を検出し、像の幅（外径と内径との差）が所定値以上であるか否かを判定する。或いは、主制御部２１１は、所定の高さ（リング径）以上の点（像）に基づいてリングを形成できるか否かを判定することにより、リング像を取得できたか否かを判定してもよい。

リング像を取得できたと判定されたとき、眼屈折力算出部２２１は、被検眼Ｅに投射された測定パターン光束の戻り光に基づくリング像を公知の手法で解析し、仮の球面度数Ｓ及び仮の乱視度数Ｃを求める。主制御部２１１は、求められた仮の球面度数Ｓ及び乱視度数Ｃに基づき、レフ測定光源６１、合焦レンズ７４、及び液晶パネル４１を等価球面度数（Ｓ＋Ｃ／２）の位置（仮の遠点に相当する位置）へ移動させる。主制御部２１１は、その位置から液晶パネル４１を更に雲霧位置に移動させた後、本測定としてレフ測定投射系６及びレフ測定受光系７を制御することによりリング像を再び取得させる。主制御部２１１は、前述と同様に得られたリング像の解析結果と合焦レンズ７４の移動量から球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を眼屈折力算出部２２１に算出させる。

また、眼屈折力算出部２２１は、求められた球面度数及び乱視度数から被検眼Ｅの遠点に相当する位置（本測定により得られた遠点に相当する位置）を求める。主制御部２１１は、求められた遠点に相当する位置に液晶パネル４１を移動させる。制御部２１０では、合焦レンズ７４の位置や算出された球面度数などが記憶部２１２に記憶される。主制御部２１１からの指示、又は操作部２８０に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置１０００の動作はステップＳ４に移行する。

リング像を取得できないと判定されたとき、主制御部２１１は、強度屈折異常眼である可能性を考慮して、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４をあらかじめ設定したステップでマイナス度数側（例えば－１０Ｄ）、プラス度数側（例えば＋１０Ｄ）へ移動させる。主制御部２１１は、レフ測定受光系７を制御することにより各位置でリング像を検出させる。それでもリング像を取得できないと判定されたとき、主制御部２１１は、所定の測定エラー処理を実行する。このとき、眼科装置１０００の動作はステップＳ４に移行してもよい。制御部２１０では、レフ測定結果が得られなかったことを示す情報が記憶部２１２に記憶される。

上記のように、ＯＣＴ光学系８の合焦レンズ８７は、レフ測定光源６１や合焦レンズ７４の移動に連動して光軸方向に移動される。

（Ｓ４：断層像撮影）
ステップＳ４の処理に先立って、主制御部２１１は、フィルター７０を制御することにより、ＯＣＴ計測用の第２フィルター７１２をレフ測定光学系の光路に配置させる。それにより、固視投影系４からの光とＯＣＴ光学系８で用いられる光がフィルター７０を透過する状態になる。

ステップＳ４では、主制御部２１１は、液晶パネル４１を制御することにより固視標を被検眼Ｅに投影させ、ＯＣＴ計測を実行させる。

主制御部２１１は、ＯＣＴ光源１０１を点灯させ、光スキャナー８８を制御することにより眼底Ｅｆの所定の部位を測定光ＬＳでスキャンさせる。測定光ＬＳのスキャンにより得られた検出信号は画像形成部２２２に送られる。画像形成部２２２は、得られた検出信号から眼底Ｅｆの断層像を形成する。以上で、眼科装置１０００の動作は、終了となる（エンド）。

以上説明したように、レフ測定光学系の光路に波長分離特性が変更可能なフィルター７０を配置し、レフ測定用の波長分離特性とＯＣＴ計測用の波長分離特性とを切り替えつつレフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系８の光路が波長分離される。それにより、レフ測定に用いられる光の波長範囲とＯＣＴ計測に用いられる光の波長範囲が重複している場合であっても、簡素な構成で、レフ測定及びＯＣＴ計測のそれぞれにおいて光量の損失を大幅に低減し、測定や計測の精度を向上させることが可能になる。

［変形例］
実施形態に係る眼科装置１０００の光学系の構成は図１に示す構成に限定されるものではない。

＜光学系の構成＞
図７に、実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図７において、図１と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。

変形例に係る眼科装置１０００ａの構成が眼科装置１０００の構成と異なる点は、ＯＣＴ光学系８に代えて検査光学系８ａが設けられている点と、処理部９に代えて検査光学系８ａを制御する処理部９ａが設けられている点である。

検査光学系８ａの少なくとも一部は、異なる検査又は計測を行うための別の光学系に入れ替え可能に構成されている。具体的には、検査光学系８ａの少なくとも一部は、選択的に装着可能な２以上の測定ユニットのいずれかに含まれる光学系に交換可能に構成されている。２以上の測定ユニットは、光源からの参照光と測定光とに分割し、被検眼に測定光を投射し、被検眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光を検出する干渉光学系を含む第１測定ユニットと、被検眼に視標光を投影する視標投影系を含む第２測定ユニットとを含む。すなわち、実施形態に係る検査光学系８ａは、図１に示すダイクロイックミラー８３からＯＣＴユニット１００までの光学系を含む第１測定ユニット及び図７に示す光学系を含む第２測定ユニットのうちいずれか１つを装着可能に構成されている。

従って、フィルター７０は、図１に示すように第１測定ユニットが装着されている場合にレフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系８の光路を波長分離する。また、フィルター７０は、図７に示すように第２測定ユニットが装着されている場合にレフ測定光学系の光路から視標投影系の光路を波長分離する。なお、自覚検査を行うとき、フィルター７０は、レフ測定を行うときと同じ波長分離特性でレフ測定光学系の光路から視標投影系の光路を波長分離する。すなわち、第１測定ユニットが装着されているとき第１フィルター７１１がレフ測定光学系の光路に配置され、第２測定ユニットが装着されているときも第１フィルター７１１がレフ測定光学系の光路に配置される。なお、視標投影系による自覚検査を行うとき、フィルター７０の波長分離特性は、視標光を対物レンズ５１に導くように変更されてよい。

図７に示すように第２測定ユニット３００が装着されている場合、視標投影系は、対物レンズ５１を介して自覚検査用の視標等の各種視標を被検眼Ｅに投影する。液晶パネル３０６は、処理部９ａからの制御を受け、視標を表すパターンを表示する。液晶パネル３０６から出力された光（例えば４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲の光、可視光）は、リレーレンズ３０５、合焦レンズ３０４、及びリレーレンズ３０３を通過し、反射ミラー３０２により反射され、ダイクロイックミラー３０１により反射される。ダイクロイックミラー３０１により反射された光は、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、フィルター７０を透過し、ダイクロイックミラー５２により反射される。ダイクロイックミラー５２により反射された光は、対物レンズ５１を通過して眼底Ｅｆに投影される。合焦レンズ３０４は、視標投影系の光軸に沿って移動可能である。液晶パネル３０６と眼底Ｅｆとが光学的に共役となるように合焦レンズ３０４の位置が調整される。

以上のように、視標投影系は、フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられる。すなわち、フィルター７０によりレフ測定光学系の光路から波長分離された光路に設けられた検査光学系は、被検眼に所定の波長範囲の視標光を投射する視標投影系を含む。

いくつかの実施形態に係るダイクロイックミラー３０１は、図１に示すダイクロイックミラー８３である。いくつかの実施形態に係る反射ミラー３０２は、図１に示す反射ミラー８４である。

＜処理系の構成＞
眼科装置１０００ａの処理系の構成について説明する。眼科装置１０００ａの処理系の機能的構成の例を図８に示す。図８において、図５と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。

処理部９ａは、処理部９による処理に加えて、視標投影系に対する制御処理を行うことができる。処理部９ａは、制御部２１０ａと、演算処理部２２０とを含む。制御部２１０ａは、主制御部２１１ａと、記憶部２１２ａとを含む。

主制御部２１１ａは、第１測定ユニットが装着されているとき上記の実施形態と同様にＯＣＴ光学系８に対する制御を行い、第２測定ユニットが装着されているとき視標投影系に対する制御を行う。

視標投影系に対する制御には、液晶パネル３０６の制御や、合焦レンズ３０４の制御などがある。液晶パネル３０６の制御には、視標の表示のオン・オフや、指標を表すパターンの切り替えなどがある。それにより、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに視標が投影される。合焦レンズ３０４の制御には、合焦レンズ３０４の光軸方向への移動制御などがある。例えば、視標投影系は、合焦レンズ３０４を光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構には、移動機構２００と同様に、当該移動機構を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。主制御部２１１ａは、アクチュエータに対して制御信号を送ることにより移動機構に対する制御を行い、合焦レンズ３０４を光軸方向に移動させる。それにより、液晶パネル３０６と眼底Ｅｆとが光学的に共役となるように合焦レンズ３０４の位置が調整される。

視標投影系は、実施形態に係る「自覚検査光学系」の一例である。視標投影系による自覚検査で用いられる光の波長範囲（例えば、４００ｎｍ～７００ｎｍ）は、実施形態に係る「第２波長範囲」の一例である。

＜動作例＞
実施形態の変形例に係る眼科装置１０００ａの動作について説明する。

図９に、眼科装置１０００ａの動作の一例を示す。図９は、眼科装置１０００ａの動作例のフロー図を表す。図９では、事前に第２測定ユニットが装着されているものとする。

（Ｓ１１：アライメント）
眼科装置１０００ａは、ステップＳ１と同様に、アライメントを実行する。

（Ｓ１２：固視制御）
ステップＳ１２の処理に先立って、主制御部２１１ａは、フィルター７０を制御することにより、レフ測定用の第１フィルター７１１をレフ測定光学系の光路に配置させる。

ステップＳ１２では、主制御部２１１ａは、ステップＳ２と同様に、所望の固視位置に対応した表示位置に固視標を示すパターンを液晶パネル４１に表示させる。

ステップＳ２と同様に、ステップＳ１２における固視制御に続いて、眼科装置１０００ａは、ケラト測定を実行してもよい。

（Ｓ１３：他覚測定）
次に、主制御部２１１ａは、ステップＳ３と同様に、液晶パネル４１を制御することにより固視標を被検眼Ｅに投影させ、レフ測定を実行させる。

（Ｓ１４：自覚検査）
続いて、主制御部２１１ａは、例えば、操作部２８０に対するユーザの指示に基づき、液晶パネル３０６を制御することにより所望の視標を表示させる。また、主制御部２１１ａは、他覚測定の結果に応じた位置に合焦レンズ３０４を移動する。主制御部２１１ａは、操作部２８０に対するユーザの指示に応じた位置に合焦レンズ３０４を移動させてもよい。

被検者は、眼底Ｅｆに投射された視標に対する応答を行う。例えば、視力測定用の視標の場合には、被検者の応答により被検眼の視力値が決定される。視標の選択とそれに対する被検者の応答が、検者又は主制御部２１１ａの判断により繰り返し行われる。検者又は主制御部２１１ａは、被検者からの応答に基づいて視力値或いは処方値（Ｓ、Ｃ、Ａ）を決定する。

（Ｓ１５：断層像撮影？）
次に、主制御部２１１ａは、被検眼Ｅの眼底Ｅｆの断層像を撮影するか否かを判定する。主制御部２１１ａは、操作部２８０に対するユーザの操作内容に基づいて断層像を撮影するか否かを判定することができる。

断層像を撮影すると判定されたとき（Ｓ１５：Ｙ）、眼科装置１０００ａの動作はステップＳ１６に移行する。断層像を撮影しないと判定されたとき（Ｓ１５：Ｎ）、眼科装置１０００ａの動作は終了である（エンド）。

（Ｓ１６：交換完了？）
ステップＳ１５において断層像を撮影すると判定されたとき（Ｓ１５：Ｙ）、主制御部２１１ａは、検査光学系８ａにおいて第２測定ユニットが取り外されて第１測定ユニットが装着されたか否かを判定する。例えば、眼科装置１０００ａには、測定ユニットの装着状態と装着された測定ユニットの種別を判別するためのセンサーやマイクロスイッチが設けられている。主制御部２１１ａは、センサーによる検出結果やマイクロスイッチの状態に基づいて測定ユニットの装着状態と装着された測定ユニットの種別とを特定することが可能である。

例えば、測定ユニットの交換が完了したと判定されるまで、眼科装置１０００ａは待機する（Ｓ１６：Ｎ）。第１測定ユニットが装着されて測定ユニットの交換が完了したと判定されたとき（Ｓ１６：Ｙ）、眼科装置１０００ａの動作はステップＳ１７に移行する。

（Ｓ１７：断層像撮影）
ステップＳ１７の処理に先立って、主制御部２１１ａは、フィルター７０を制御することにより、ＯＣＴ計測用の第２フィルター７１２をレフ測定光学系の光路に配置させる。

ステップＳ１７では、主制御部２１１ａは、ステップＳ４と同様に、液晶パネル４１を制御することにより固視標を被検眼Ｅに投影させ、ＯＣＴ計測を実行させる。以上で、眼科装置１０００の動作は、終了となる（エンド）。

以上説明したように、フィルター７０により波長分離された光路に、測定ユニットの交換により光学系の変更が可能な検査光学系８ａを設けるようにしたので、レフ測定光学系をベースにＯＣＴ計測や自覚検査が可能な眼科装置の小型化を図ることが可能になる。いくつかの実施形態では、第２測定ユニットが視野検査を行うための公知の光学系を含み、レフ測定光学系をベースにＯＣＴ計測や視野検査が可能である。

上記の実施形態では、レフ測定光学系は、フィルター７０の反射光路に配置され、ＯＣＴ光学系８（検査光学系）は、フィルター７０の透過光路に配置される場合について説明した。この場合、フィルター７０の波長分離特性は、レフ測定を行うとき、第１波長範囲の光を反射させ、且つ、第２波長範囲の光を透過させ、ＯＣＴ計測を行うとき、第１波長範囲の光及び第２波長範囲の光を透過させるように変更される。

いくつかの実施形態では、レフ測定光学系は、フィルター７０の透過光路に配置され、ＯＣＴ光学系８（検査光学系）は、フィルター７０の反射光路に配置されてもよい。この場合、フィルター７０の波長分離特性は、レフ測定を行うとき、第１波長範囲の光を透過させ、且つ、第２波長範囲の光を反射させ、ＯＣＴ計測を行うとき、第１波長範囲の光及び第２波長範囲の光を反射させるように変更される。

［作用・効果］
実施形態又は変形例に係る眼科装置の作用及び効果について説明する。

いくつかの実施形態に係る眼科装置（１０００、１０００ａ）は、対物レンズ（５１）と、屈折力測定光学系（レフ測定光学系、レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）と、検査光学系（ＯＣＴ光学系８又は視標投影系）と、光路分離部（フィルター７０）とを含む。屈折力測定光学系は、対物レンズを介して第１波長範囲（８３０ｎｍ～８８０ｎｍ）の光を被検眼（Ｅ）に投射し、被検眼からの戻り光を検出する。検査光学系は、対物レンズを介して第２波長範囲（中心波長が８４０ｎｍである８００～９００ｎｍ、又は４００ｎｍ～７００ｎｍ）の光を被検眼に投射する。光路分離部は、屈折力測定光学系の光路に配置され、変更可能な波長分離特性に基づいて波長分離を行うことにより屈折力測定光学系の光路から検査光学系の光路を分離する。

第２波長範囲は、第１波長範囲の少なくとも一部と重複してよい（検査光学系がＯＣＴの場合）し、第１波長範囲と非重複であってもよい（検査光学系が自覚検査光学系の場合）。このような構成において、屈折力測定光学系の光路に配置された光路分離部は、変更可能な波長分離特性に基づいて波長分離を行うことにより屈折力測定光学系の光路から検査光学系の光路を分離する。それにより、第１波長範囲と第２波長範囲の少なくとも一部が重複する場合であっても、各光学系における光量低下を防ぎ、屈折力測定光学系や検査光学系を用いた高精度な測定や検査が可能になる。また、対物レンズを共有することで、屈折力測定光学系をベースとした小型の眼科装置を提供することができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、波長分離特性は、第１波長範囲の光及び第２波長範囲の光を検査種別に応じて波長分離するように変更される。

このような構成によれば、屈折力測定光学系は第１波長範囲だけの光を用いて被検眼を他覚的に測定し、検査光学系は第２波長範囲だけの光を用いて被検眼を検査することができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、屈折力測定光学系は、光路分離部の反射光路に配置され、検査光学系は、光路分離部の透過光路に配置される。波長分離特性は、屈折力測定光学系による測定を行うとき、第１波長範囲の光を反射させ、且つ、第２波長範囲の光を透過させ、検査光学系による検査を行うとき、第１波長範囲の光及び第２波長範囲の光を透過させるように変更される。

このような構成によれば、対物レンズを共有しつつ、光路分離部の反射方向に配置された屈折力測定光学系により被検眼を他覚的に測定し、光路分離部の透過方向に配置された検査光学系により被検眼を検査することが可能な眼科装置の小型化を図ることができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、屈折力測定光学系は、光路分離部の透過光路に配置され、検査光学系は、光路分離部の反射光路に配置される。波長分離特性は、屈折力測定光学系による測定を行うとき、第１波長範囲の光を透過させ、且つ、第２波長範囲の光を反射させ、検査光学系による検査を行うとき、第１波長範囲の光及び第２波長範囲の光を反射させるように変更される。

このような構成によれば、光路分離部の透過方向に配置された屈折力測定光学系により被検眼を他覚的に測定し、光路分離部の反射方向に配置された検査光学系により被検眼を検査することが可能な眼科装置の小型化を図ることができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、光路分離部は、互いに波長分離特性が異なる２以上の波長分離素子（第１フィルター７１１、第２フィルター７１２）と、２以上の波長分離素子を選択的に屈折力測定光学系の光路に配置させる移動機構（７２０）と、を含む。

このような構成によれば、屈折力測定光学系の光路に２以上の波長分離素子を選択的に配置するようにしたので、波長分離特性の変更の前後において光軸を一致させることが可能になる。それにより、屈折力測定光学系及び検査光学系による高精度な測定や検査が可能になる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、検査光学系は、被検眼に固視光（４００～７００ｎｍ）を投射する固視光学系（固視投影系４）と、第２波長範囲の光の光路に固視光学系の光路を結合する光路結合部材（ダイクロイックミラー８３）と、を含み、波長分離特性は、屈折力測定光学系による測定を行うときと検査光学系による検査を行うとき固視光を対物レンズに導くように変更される。

このような構成によれば、光路分離部により最適な波長分離を行いつつ被検眼に固視光を投射した状態で、屈折力測定光学系により被検眼を他覚的に測定したり検査光学系により被検眼を検査したりすることが可能になる。それにより、屈折力測定光学系による高精度な測定や検査光学系による高精度な検査が可能になる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、検査光学系は、光源（ＯＣＴ光源１０１）からの第２波長範囲の光（Ｌ０）を参照光（ＬＲ）と測定光（ＬＳ）とに分割し、被検眼に測定光を投射し、被検眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光（ＬＣ）を検出する干渉光学系を含む。

このような構成によれば、第１波長範囲と第２波長範囲の少なくとも一部が重複する場合であっても、光路分離部により最適な波長分離を行うことができるので、屈折力測定光学系や干渉光学系を用いた高精度な測定や検査が可能になる。また、対物レンズを共有することで、屈折力測定光学系をベースに干渉光学系を備えた小型の眼科装置を提供することができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、検査光学系は、被検眼に第２波長範囲の視標光（４００～７００ｎｍ）を投射する自覚検査光学系（視標投影系）を含み、波長分離特性は、自覚検査光学系による検査を行うとき、視標光を対物レンズに導くような特性を有する。

このような構成によれば、第１波長範囲と第２波長範囲の少なくとも一部が重複する場合であっても、光路分離部により最適な波長分離を行うことができるので、屈折力測定光学系や自覚検査学系を用いた高精度な測定や検査が可能になる。また、対物レンズを共有することで、屈折力測定光学系をベースに自覚検査光学系を備えた小型の眼科装置を提供することができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、検査光学系の少なくとも一部は、選択的に装着可能な２以上の測定ユニットのいずれかに含まれる光学系に交換可能に構成されている。

このような構成によれば、第１波長範囲と第２波長範囲の少なくとも一部が重複する場合であっても、屈折力測定光学系をベースに任意の検査が可能な光学系を備えた小型の眼科装置を提供することができる。

いくつかの実施形態に係る眼科装置では、２以上の測定ユニットは、光源（ＯＣＴ光源１０１）からの第２波長範囲の光（Ｌ０）を参照光（ＬＲ）と測定光（ＬＳ）とに分割し、被検眼に測定光を投射し、被検眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光（ＬＣ）を検出する干渉光学系を含む第１測定ユニットと、被検眼に第２波長範囲の視標光（４００～７００ｎｍ）を投影する自覚検査光学系（指標投影系）を含む第２測定ユニットと、を含む。

このような構成によれば、第１波長範囲と第２波長範囲の少なくとも一部が重複する場合であっても、屈折力測定光学系をベースに干渉光学系及び自覚検査光学系を選択的に搭載することが可能な光学系を備えた小型の眼科装置を提供することができる。

＜その他＞
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。

１ Ｚアライメント系
２ ＸＹアライメント系
３ ケラト測定系
４ 固視投影系
５ 前眼部観察系
６ レフ測定投射系
７ レフ測定受光系
８ ＯＣＴ光学系
８ａ 検査光学系
９、９ａ 処理部
５１ 対物レンズ
７０ フィルター
８３ ダイクロイックミラー
２１０、２１０ａ 制御部
２１１、２１１ａ 主制御部
７１０ フィルター群
７１１ 第１フィルター
７１２ 第２フィルター
７２０ 移動機構
１０００、１０００ａ 眼科装置

Claims (6)

1. 対物レンズと、
   前記対物レンズを介して第１波長範囲の光を被検眼に投射し、前記被検眼からの戻り光を検出する屈折力測定光学系と、
   前記被検眼に固視光を投射する固視光学系を含み、前記対物レンズを介して第２波長範囲の光を前記被検眼に投射する検査光学系と、
   互いに波長分離特性が異なる２以上の波長分離素子と、前記２以上の波長分離素子を選択的に前記屈折力測定光学系の光路に配置させる移動機構とを含み、変更可能な波長分離特性に基づいて波長分離を行うことにより前記屈折力測定光学系の光路から前記検査光学系の光路を分離する光路分離部と、
   を含み、
   前記屈折力測定光学系は、前記光路分離部の反射光路に配置され、
   前記検査光学系は、前記光路分離部の透過光路に配置され、
   前記２以上の波長分離素子は、
   前記第１波長範囲が反射波長領域となり、前記第２波長範囲が透過波長領域となるような波長分離特性を有する第１フィルターと、
   前記第１波長範囲と前記第２波長範囲が透過波長領域となるような波長分離特性を有する第２フィルターと、
   を含む、眼科装置。
2. 前記検査光学系は、
   前記第２波長範囲の光の光路に前記固視光学系の光路を結合する光路結合部材と、
   を含み、
   前記波長分離特性は、前記屈折力測定光学系による測定を行うときと前記検査光学系による検査を行うとき前記固視光を前記対物レンズに導くように変更される
   ことを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
3. 前記検査光学系は、光源からの前記第２波長範囲の光を参照光と測定光とに分割し、前記被検眼に前記測定光を投射し、前記被検眼からの測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系を含む
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の眼科装置。
4. 前記検査光学系は、前記被検眼に前記第２波長範囲の視標光を投射する自覚検査光学系を含み、
   前記波長分離特性は、前記自覚検査光学系による検査を行うとき、前記視標光を前記対物レンズに導くような特性を有する
   ことを特徴とする請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の眼科装置。
5. 前記検査光学系の少なくとも一部は、選択的に装着可能な２以上の測定ユニットのいずれかに含まれる光学系に交換可能に構成されている
   ことを特徴とする請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の眼科装置。
6. 前記２以上の測定ユニットは、
   光源からの前記第２波長範囲の光を参照光と測定光とに分割し、前記被検眼に前記測定光を投射し、前記被検眼からの測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系を含む第１測定ユニットと、
   前記被検眼に前記第２波長範囲の視標光を投影する自覚検査光学系を含む第２測定ユニットと、
   を含む
   ことを特徴とする請求項５に記載の眼科装置。

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