JP2022095574A - 合成石英ガラスの調製方法 - Google Patents
合成石英ガラスの調製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022095574A JP2022095574A JP2021202995A JP2021202995A JP2022095574A JP 2022095574 A JP2022095574 A JP 2022095574A JP 2021202995 A JP2021202995 A JP 2021202995A JP 2021202995 A JP2021202995 A JP 2021202995A JP 2022095574 A JP2022095574 A JP 2022095574A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- emission intensity
- burner
- flame
- fwhm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 73
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 50
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 29
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XKJMJYZFAWYREL-UHFFFAOYSA-N hexadecamethylcyclooctasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XKJMJYZFAWYREL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GSANOGQCVHBHIF-UHFFFAOYSA-N tetradecamethylcycloheptasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 GSANOGQCVHBHIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000009283 thermal hydrolysis Methods 0.000 claims description 2
- VFZRCLLDPCNXPS-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8,10,10-decamethyl-1,3,5,7,9,11-hexaoxa-2,4,6,8,10,12-hexasilacyclododecane Chemical compound C[Si]1(C)O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 VFZRCLLDPCNXPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 23
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 23
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 15
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 12
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 5
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 1-(1,2-Diphosphanylethyl)pyrrolidin-2-one Chemical compound PCC(P)N1CCCC1=O LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005457 Black-body radiation Effects 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N Dodecamethylcyclohexasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000010327 methods by industry Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
- C03B19/1423—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
- C03B2207/32—Non-halide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
Description
(1)少なくとも1つの有機ケイ素出発化合物を含む原料を蒸発させ、原料蒸気を形成する工程、
(2)工程(1)からの前記原料蒸気を反応部に供給し、前記原料蒸気を酸素の存在下において火炎中で燃焼させ、酸化により及び/又は加水分解によりSiO2スート粒子に変換する工程、
(3)工程(2)により生じた前記SiO2スート粒子を堆積表面上に堆積させてスート体を形成する工程、及び、
(4)必要に応じて、工程(3)により生じた前記スート体を乾燥及びガラス化し、合成石英ガラスを形成する工程。
t成長時間 = t開始-終了 ケイ素含有出発化合物の供給
工程(1)において、少なくとも1つの有機ケイ素出発化合物を含む原料を気化させて、原料蒸気を形成する。重合性ケイ素含有出発化合物は、好ましくは、重合性ポリアルキルシロキサン化合物である。
SipOp(R)2p
で表されるポリアルキルシロキサンである。ここで、pは3以上の整数であり、基「R」はアルキル基であり、最も単純な場合はメチル基である。
工程(2)では、工程(1)で得られたガス状の原料蒸気を反応部に供給し、原料蒸気を酸化及び/又は加水分解することによりSiO2粒子に変換させる。
工程(3)では、工程(2)で生じたSiO2粒子を堆積表面に堆積させる。この工程の設計は、当業者の知識の範囲内である。
工程(4)では、必要に応じて、工程(3)により生じたSiO2粒子を乾燥させ、ガラス化することにより、合成石英ガラスを形成する。この工程は、先に行われた工程がスートプロセスに従って行われた場合に特に必要となる。この工程の設計は、当業者の知識の範囲内である。
(a)少なくとも1つの有機ケイ素出発化合物を含む少なくとも1つの原料を蒸発させて原料蒸気を形成するための、少なくとも1つの蒸発器部と、
(b)前記蒸発器部(a)から前記原料蒸気が供給され、前記原料が熱分解又は加水分解によってSiO2粒子に変換される少なくとも1つの反応部であって、バーナーを含む前記反応部と、
(c)前記反応部(c)により生じたSiO2粒子を堆積させて合成石英ガラスを形成する少なくとも1つの堆積部であって、スート体からなる前記堆積部。
国際特許出願PCT/EP2012/075346の実施形態による気化器において、180℃に予熱されたキャリアガスとしての窒素と共に液体原料OMCTSを170℃で気化させる。窒素-OMCTS蒸気混合物は、酸素(混合O2)と共に同心バーナーに導入され、バーナーは以下の条件下で操作される。
1:内側のノズル、
2:中間のノズル、及び、
3:外側のノズル。
Claims (15)
- (1)少なくとも1つの有機ケイ素出発化合物を含む原料を蒸発させ、原料蒸気を形成する工程と、
(2)工程(1)からの前記原料蒸気を反応部に供給し、前記原料蒸気を酸素の存在下において火炎中で燃焼させ、酸化により及び/又は加水分解によりSiO2スート粒子に変換する工程と、
(3)工程(2)により生じた前記SiO2スート粒子を堆積表面上に堆積させてスート体を形成する工程と、
(4)必要に応じて、工程(3)により生じた前記スート体を乾燥及びガラス化し、合成石英ガラスを形成する工程と
を有する合成石英ガラスの製造方法であって、
前記方法において用いる前記合成火炎は、ターゲットの無い状態において、垂直方向の発光強度の半値全幅(FWHMvert)の、水平方向の発光強度の半値全幅(FWHMhori)に対する比が、10より大きいことを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。 - 前記方法において用いる前記火炎は、ターゲットの無い状態において、垂直方向の発光強度の半値全幅(FWHMvert)の、水平方向の発光強度の半値全幅(FWHMhori)に対する比が、12より大きいことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記方法において用いる前記火炎は、ターゲットの無い状態において、垂直方向の発光強度の半値全幅(FWHMvert)の、水平方向の発光強度の半値全幅(FWHMhori)に対する比が、14より大きいことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 前記方法において用いる前記火炎は、ターゲットの無い状態において、垂直方向の発光強度の半値全幅(FWHMvert)の、水平方向の発光強度の半値全幅(FWHMhori)に対する比が、15より大きいことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記工程(2)において能動的に供給されるバーナーガスが、合計1以下の空気数を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記工程(2)において能動的に供給されるバーナーガスが、合計0.85以下の空気数を有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記工程(2)において能動的に供給されるバーナーガスが、合計0.76以下の空気数を有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記工程(2)は、同心円状の断面を有するバーナーによって行われ、該同心円状の断面の内部において、前記原料蒸気が酸素と共に供給混合体としてバーナー火炎に導入され、前記供給混合体が分離ガスによって酸素含有酸化ガスから分離されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記有機ケイ素出発化合物が、ヘキサメチルシクロトリシロキサン(D3)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)、デカメチルシクロペンタシロキサン(D5)、デカメチルシクロヘキサシロキサン(D6)、テトラデカメチルシクロヘプタシロキサン(D7)、ヘキサデカメチルシクロオクタシロキサン(D8)、それらの鎖状同族体及びこれらの化合物の任意の混合物から選択されることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ポリアルキルシロキサン化合物は、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)であることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- (a)少なくとも1つの有機ケイ素出発化合物を含む少なくとも1つの原料を蒸発させて原料蒸気を形成するための、少なくとも1つの蒸発器部と、
(b)前記蒸発器部(a)から前記原料蒸気が供給され、前記原料が熱分解又は加水分解によってSiO2粒子に変換される少なくとも1つの反応部であって、火炎を有するバーナーを含む前記反応部と、
(c)前記反応部(c)により生じたSiO2粒子を堆積させて合成石英ガラスを形成する少なくとも1つの堆積部であって、スート体からなる前記堆積部と
を具備する合成石英ガラスの製造装置であって、
前記バーナーは、ターゲットの無い状態のその火炎が、垂直方向の発光強度の半値全幅(FWHMvert)の、水平方向の発光強度の半値全幅(FWHMhori)に対する比が、10より大きいようになるように調整され、前記発光強度はカンデラ/mm2で測定されたものであることを特徴とする合成石英ガラスの製造装置。 - 前記装置は、1以下の空気数で操作されるバーナーを具備することを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 前記装置は、0.85以下の空気数で操作されるバーナーを具備することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の装置。
- 前記装置は、0.76以下の空気数で操作されるバーナーを具備することを特徴とする請求項11から請求項13のいずれか1項に記載の装置。
- 合成石英ガラスを製造するための請求項11から請求項14のいずれか1項に記載の装置の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP20214538.9A EP4015468A1 (de) | 2020-12-16 | 2020-12-16 | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas |
EP20214538.9 | 2020-12-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022095574A true JP2022095574A (ja) | 2022-06-28 |
Family
ID=73855053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021202995A Pending JP2022095574A (ja) | 2020-12-16 | 2021-12-15 | 合成石英ガラスの調製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220185715A1 (ja) |
EP (2) | EP4015468A1 (ja) |
JP (1) | JP2022095574A (ja) |
CN (1) | CN114634296B (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59232934A (ja) * | 1983-06-17 | 1984-12-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
JPH07223834A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ用多孔質母材の合成方法とその装置 |
JPH07267671A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JPH11246232A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス物品の製造方法及び装置 |
JP2000327341A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材製造用多重管バーナおよびこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法並びに製造装置 |
JP2003130311A (ja) * | 2001-07-21 | 2003-05-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 火炎加水分解蒸着工程用バーナーの火炎安定化装置 |
JP2004026518A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリカ多孔質母材の製造方法 |
JP2005528318A (ja) * | 2002-10-17 | 2005-09-22 | エルジー ケーブル リミテッド | 外部気相蒸着法を用いた光ファイバ母材の製造方法及び装置 |
JP2015505809A (ja) * | 2011-12-15 | 2015-02-26 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus QuarzglasGmbH & Co. KG | 合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのシース材として使用される石英ガラス |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6751987B1 (en) * | 1998-09-22 | 2004-06-22 | Corning Incorporated | Burners for producing boules of fused silica glass |
DE10102611B4 (de) | 2001-01-21 | 2004-07-15 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines SiO2-Rohlings |
US8230701B2 (en) | 2008-05-28 | 2012-07-31 | Corning Incorporated | Method for forming fused silica glass using multiple burners |
GB201011582D0 (en) * | 2010-07-09 | 2010-08-25 | Heraeus Quartz Uk Ltd | High purity synthetic silica and items such as semiconductor jigs manufactured therefrom |
JP5737070B2 (ja) * | 2010-09-02 | 2015-06-17 | 信越化学工業株式会社 | チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法 |
DE102011119373A1 (de) * | 2011-11-25 | 2013-05-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas |
DE102011121190A1 (de) | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | OMCTS-Verdampfungsverfahren |
CN102583977B (zh) * | 2012-03-02 | 2015-01-21 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种间接合成石英玻璃的方法及其专用设备以及一种石英玻璃 |
JP5935765B2 (ja) * | 2012-07-10 | 2016-06-15 | 信越化学工業株式会社 | ナノインプリントモールド用合成石英ガラス、その製造方法、及びナノインプリント用モールド |
DE102013209673B3 (de) | 2013-05-24 | 2014-05-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Verdampfer zur Herstellung von synthetischem Quarzglas |
EP3034476A1 (de) * | 2014-12-16 | 2016-06-22 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung von synthetischem quarzglas unter verwendung einer reinigungsvorrichtung |
US11242277B2 (en) * | 2018-08-21 | 2022-02-08 | Corning Incorporated | Method of producing soot |
-
2020
- 2020-12-16 EP EP20214538.9A patent/EP4015468A1/de not_active Withdrawn
-
2021
- 2021-12-15 JP JP2021202995A patent/JP2022095574A/ja active Pending
- 2021-12-15 EP EP21214623.7A patent/EP4015469A1/en active Pending
- 2021-12-16 CN CN202111543794.2A patent/CN114634296B/zh active Active
- 2021-12-16 US US17/553,270 patent/US20220185715A1/en active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59232934A (ja) * | 1983-06-17 | 1984-12-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
JPH07223834A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ用多孔質母材の合成方法とその装置 |
JPH07267671A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JPH11246232A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス物品の製造方法及び装置 |
JP2000327341A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材製造用多重管バーナおよびこれを用いた多孔質ガラス母材の製造方法並びに製造装置 |
JP2003130311A (ja) * | 2001-07-21 | 2003-05-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 火炎加水分解蒸着工程用バーナーの火炎安定化装置 |
JP2004026518A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリカ多孔質母材の製造方法 |
JP2005528318A (ja) * | 2002-10-17 | 2005-09-22 | エルジー ケーブル リミテッド | 外部気相蒸着法を用いた光ファイバ母材の製造方法及び装置 |
JP2015505809A (ja) * | 2011-12-15 | 2015-02-26 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus QuarzglasGmbH & Co. KG | 合成石英ガラスを製造する方法及び光ファイバーのシース材として使用される石英ガラス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114634296B (zh) | 2023-12-08 |
EP4015468A1 (de) | 2022-06-22 |
CN114634296A (zh) | 2022-06-17 |
EP4015469A1 (en) | 2022-06-22 |
US20220185715A1 (en) | 2022-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103987670B (zh) | 合成石英玻璃的制备方法和用作光纤的包覆材料的石英玻璃 | |
JPH04270130A (ja) | 高純度溶融シリカガラスの非多孔質体を作成する方法 | |
JP5880532B2 (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法およびガラス母材の製造方法 | |
EP0622340B1 (en) | Improvement in the method for the preparation of a synthetic silica glass body | |
JP7488247B2 (ja) | 合成石英ガラスの調製方法 | |
JP2022095574A (ja) | 合成石英ガラスの調製方法 | |
JP5660657B2 (ja) | 高屈折率合成シリカガラスの製造方法、該方法に用いるマッフル炉、及び該方法により得られるシリカガラス | |
JP2022095575A (ja) | 合成石英ガラスの調製方法 | |
WO2019225637A1 (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
WO2002022513A1 (en) | Method for producing bulk fused silica | |
WO2020203985A1 (ja) | ガラス微粒子堆積体及びガラス母材の製造方法 | |
US6735981B2 (en) | High heat capacity burners for producing fused silica boules | |
JPS59162143A (ja) | 合成石英の製造方法 | |
JP2004142997A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法及び製造装置 | |
JP3417962B2 (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法 | |
JPH0986937A (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法 | |
JPH04295018A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
JP2006117469A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法および製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230502 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240206 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240502 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240702 |