JP2021521656A - ドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイス - Google Patents

ドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイス Download PDF

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Abstract

本開示は、ドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイスを提供する。ドアオープナは、ウェハカセットの密閉ドアを開く又は閉じるように構成され、 輸送チャンバのチャンバ壁と移動可能に突き合わされ、且つ移載インターフェースとウェハカセットのウェハ移載ポートとが開放可能又は閉鎖可能であるようにチャンバ壁がウェハカセットのウェハ移載ポートと突き合わされた移載インターフェースの周位置に位置するように構成されたハウジング部と、ここにおいて、第1の開口部が、ウェハカセットに面するハウジング部の側面上に設けられ、第1の開口部に設けられ、密閉ドアと突き合わされ、且つハウジング部が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときにウェハカセットから密閉ドアを分離するように構成された突き合わせアセンブリと、ここにおいて、密閉ドア又は突き合わせアセンブリは、ハウジング部内に密閉空間を形成するために、第1の開口部と密閉嵌合状態にある、を含む。本開示によって提供されるドアオープナは、説明される可動部品及びその表面上の潤滑油によって生じる汚染物質がウェハカセット中のウェハを汚染しないことを保証することができ、それによって、製品歩留まり及び性能の向上を促進することができる。【選択図】図2

Description

本開示は、半導体製造技術の分野に関し、特に、ドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイスに関する。
半導体処理技術では、膜形成均一性、膜形成品質、金属イオン汚染の制御、粒子汚染の制御、及び同様のものなどのコアプロセスパラメータに対して非常に高い要件が課される。粒子汚染は、半導体チップの製造プロセスにおけるプロセスデバイスの製品歩留まり及び性能に影響を与える主な原因のうちの1つであり、このことから、粒子によるウェハの汚染を厳密に制御する必要がある。
基材及びヒータの選択、可動部品の構成、機器インターフェース、ウェハ移載経路、ガスライン、デバイス清浄度、及び同様のものを含む、ウェハ清浄度に影響を及ぼす多くの要因がある。ウェハ輸送プロセスは、最も汚染されやすいプロセスのうちの1つである。例えば、縦型熱処理デバイスでは、ウェハカセットのウェハ移載ポートを通じてウェハ移載を実行するために、ドアオープナがウェハカセットの密閉ドアを開く必要があり、ドアオープナの内側の可動部品が、粒子を発生させる主な連結のうちの1つを形成する。
既存のドアオープナは、ウェハカセットの底部に設けられ、ウェハカセットの密閉ドアに接続された取り付け構造と、垂直に移動するように取り付け構造を駆動するように構成された駆動機構とを含む。駆動機構の駆動下では、ウェハカセットドアが取り付け構造によって開かれた後、ウェハカセットの内部、チャンバの底部上の取り付け構造が位置する空間、及び駆動機構の内部が全て連通しているので、取り付け構造及び駆動機構内の可動部品は、摩擦に起因して移動中に粒子を発生させ、可動部品用の潤滑油もまた、揮発して粒子を発生させる。これらの粒子は、ウェハカセットに入り込み、ウェハカセット中のウェハを汚染し得、それによって、製品歩留まりに影響を及ぼし得る。
既存の技術における問題の少なくとも一部を解決するため、本開示は、ドアオープナ中の可動部品の摩擦によって発生する粒子と、潤滑油の揮発によって発生する粒子とがウェハカセットの開放中にウェハカセットの内側のウェハを汚染することを防止するように構成されたドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイスを提供する。
本開示の態様によると、ウェハカセットの密閉ドアを開く又は閉じるためのドアオープナが提供され、ドアオープナは、
輸送チャンバのチャンバ壁と移動可能に突き合わされ、且つ移載インターフェースとウェハカセットのウェハ移載ポートとが開放可能又は閉鎖可能であるようにチャンバ壁がウェハカセットのウェハ移載ポートと突き合わされた移載インターフェースの周位置に位置するように構成されたハウジング部と、ここにおいて、第1の開口部が、ウェハカセットに面するハウジング部の側面上に設けられ、
第1の開口部に設けられ、密閉ドアと突き合わされ、且つハウジング部が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときにウェハカセットから密閉ドアを分離するように構成された突き合わせアセンブリと、ここにおいて、密閉ドア又は突き合わせアセンブリは、ハウジング部内に密閉空間を形成するために、第1の開口部と密閉嵌合状態にある、
を含む。
本開示のいくつかの実施形態では、突き合わせアセンブリは、
突き合わせ板と、
ハウジング部中に設けられ、突き合わせ板が密閉ドアと突き合わせることが可能である第1の位置に移動するように突き合わせ板を駆動し、且つ突き合わせ板が密閉ドアと突き合わされた後に密閉ドア又は突き合わせ板が第1の開口部と密閉嵌合状態にある第2の位置に移動するように突き合わせ板を駆動するように構成された駆動機構と
を含む。
本開示のいくつかの実施形態では、吸着構造が、突き合わせ板上に設けられ、突き合わせ板が第1の位置にあるときに吸着によって密閉ドアを固定するように構成される。
本開示のいくつかの実施形態では、第1の密閉部材が、第1の開口部の周辺に対応する突き合わせ板若しくは密閉ドアの位置に、及び/又は第1の開口部の周辺のハウジング部上の位置に設けられ、突き合わせ板が第2の位置にあるときに第1の開口部を密閉するように構成される。
本開示のいくつかの実施形態では、ハウジング部は、円環部及びカバーを含み、
カバーの開口部の端面が、円環部の第1の端面と突き合わされ、第2の密閉部材が、それらの間に設けられ、
円環部の穴が、第1の開口部として使用され、第1の端面から離れている円環部の第2の端面が、ウェハカセットから離れている突き合わせ板の表面又は密閉ドアの表面と突き合わされるように構成され、第1の密閉部材は、それらの間に設けられる。
本開示のいくつかの実施形態では、ドアオープナは、
ハウジング部に接続され、全体として移動するようにハウジング部及びその中の突き合わせアセンブリを駆動するように構成されたハウジング駆動機構を更に含む。
本開示のいくつかの実施形態では、第3の密閉部材が、移載インターフェースの周辺に対応するハウジング部の位置に、及び/又は移載インターフェースの周辺の輸送チャンバのチャンバ壁上の位置に設けられ、ハウジング部が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときに移載インターフェース及びウェハ移載ポートを密閉するように構成される。
本開示のいくつかの実施形態では、ドアオープナは、
ハウジング部がウェハ移載ポートを閉じるための位置にあり、且つ密閉ドアがウェハカセットから分離されているとき、ウェハカセットにパージガスを導き、それと同時に、ウェハカセットからガスを排出するように構成されたパージ機構を更に含む。
本開示のいくつかの実施形態では、パージ機構は、
ウェハカセットに面するハウジング部の側面上に設けられ、ウェハカセットにパージガスを送り込むように構成されたパージノズルと、
パージノズルとガス源とにそれぞれ接続され、ガス源によって提供されたパージガスをパージノズルに伝達するように構成されたガス流入路と、
ウェハカセット中のガスをハウジング部の外側に排出するように構成されたガス排出路と
を含む。
本開示のいくつかの実施形態では、ハウジング部は、ハウジング部中のガスをハウジング部の外側に放出するための放出構造を設けられる。
本開示の別の態様によると、輸送チャンバが提供され、輸送チャンバは、
ウェハカセットのウェハ移載ポートと突き合わせるための移載インターフェースを設けられたチャンバ本体と、
チャンバ本体の内部がウェハカセットの内部と連通状態にあるか又はそれから分離されるように、ウェハ移載ポート及び移載インターフェースがそれによって同時に開かれる又は閉じられる、請求項1〜10のうちのいずれか一項に記載のドアオープナと
を含む。
本開示のいくつかの実施形態では、上述されたドアオープナが提供され、
ガス流入路は、チャンバ本体中に設けられたガス流入チャネルであり、それは、チャンバ本体の外側に開かれ、ガス源に接続されるように構成された流入口を有し、チャンバ本体の内側に開かれ、ハウジング部がウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときにパージノズルの流入口と突き合わされ、且つそれと連通状態にあるように構成された排出口を有し、
ガス排出路は、ウェハカセットの本体の内側に開かれたガス排出チャネルであり、それは、ウェハカセットの内部と連通状態にある流入口を有し、ウェハカセットの本体の外側に開かれた排出口を有する。
本開示のいくつかの実施形態では、ブラケットが、移載インターフェースにおけるチャンバ本体の側壁の外側に設けられ、ウェハカセットのウェハ移載ポートが移載インターフェースと突き合わされるときにウェハカセットを支持するように構成される。
本開示の別の態様によると、半導体処理デバイスが提供され、半導体処理デバイスは、
反応チャンバと、
請求項11〜13のうちのいずれか一項に記載の輸送チャンバと、
ウェハを搬送するように構成され、反応チャンバと輸送チャンバとの間で移動可能なウェハキャリアと、
輸送チャンバ中に設けられ、ハウジング部がウェハ移載ポートを開くための位置にあり、且つウェハキャリアが輸送チャンバ中にあるときに、ウェハカセットとウェハキャリアとの間でウェハを移載するように構成されたマニピュレータと
を含む。
本開示のいくつかの実施形態では、半導体処理デバイスは、縦型熱処理デバイスである。
本開示の上記及び他の目的、特徴、及び利点は、添付の図面を参照して本開示の実施形態の以下の説明からより明らかになるであろう。
本開示の実施形態に係るドアオープナによってウェハカセットの密閉ドアがまだ開かれていない状態を例示する概略図である。 本開示の実施形態に係るドアオープナによってウェハカセットの密閉ドアが開かれた状態を例示する概略図である。 本開示の別の実施形態に係るドアオープナによってウェハカセットの密閉ドアが開かれた状態を例示する概略図である。 本開示の実施形態に係る半導体処理デバイスの概略構造図である。 本開示の実施形態に係るドアオープナとウェハカセットとの位置関係を例示する概略図である。[参照符号]
1−ヒータ、2−プロセスチューブ、3−プロセスチューブの密閉ドア、4−ウェハキャリア、5−輸送空間、6−保温バレル、7−プロセスゲート、8−マニピュレータ、9−ウェハカセット、9A−密閉ドア、10−ウェハ、11−パージノズル、12−ドアオープナ、12A−密閉リング、12B−第2の密閉部材、12D−第1の密閉部材、12C−空気密閉リング、12E−駆動装置、12F−アンロック機構、12G−案内機構、12H−放出構造、12K1−内円環部、12M−突き合わせ板、12N−支持フレーム、12K2−外円環部、12J−上部板、12L−側板、13−吸着構造、P1−流入口、P2−排出口、14−チャンバ本体、15−ブラケット、101−ハウジング部、102−円環部、103−第1の開口部、104−カバー、105−駆動機構、106−突き合わせアセンブリ、及び107−移載インターフェース。
本開示の目的、技術的解決策、及び利点をより明らかにするために、本開示は、特定の実施形態及び添付の図面を参照して以下で更に詳細に説明されることになる。これらの説明は例示的なものに過ぎず、本開示の範囲を限定することを意図されないことが理解されるべきである。その上、以下の説明では、本開示の概念を不必要に曖昧にしないように、周知の構造及び技法の説明は省略される。
本開示の態様では、ウェハカセットのウェハ移載ポートの密閉ドアを開くためのドアオープナが提供される。図1は、ウェハカセットの密閉ドアがまだドアオープナによって開かれていない状態を示し、図2は、ウェハカセットの密閉ドアがドアオープナによって開かれた状態を示す。図1及び2を併せて参照すると、本実施形態において提供されるドアオープナ12は、ハウジング部101及び突き合わせアセンブリ106を含む。
ハウジング部101は、輸送チャンバのチャンバ本体14(即ち、チャンバ壁)と移動可能に突き合わされるように構成され、移載インターフェース及びウェハ移載ポートを開く又は閉じるように、チャンバ本体14がウェハカセット9のウェハ移載ポートと突き合わされる移載インターフェースの周位置に位置する。第1の開口部103は、ウェハカセット9に面するハウジング部101の側面上に更に設けられる。突き合わせアセンブリ106が、第1の開口部103に設けられ、密閉ドア9Aと突き合わされ、且つハウジング部101が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときにウェハカセット9から密閉ドア9Aを分離するように構成されるが、密閉ドア9Aは、ハウジング部101内に密閉空間を形成するために、第1の開口部103と密閉嵌合状態にある。
上記に見られることができるように、ハウジング部101が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるとき、突き合わせアセンブリ106は、ウェハカセット9から密閉ドア9Aを取り外し得る、即ち、ウェハカセット9から密閉ドア9Aを分離し得るが、このとき、ハウジング部101は、移載インターフェース及びウェハ移載ポートを依然として閉じており、そのため、ウェハカセット9の内部と突き合わせチャンバとの内部とは、隔離されたままである。突き合わせアセンブリ106は、密閉ドア9Aが取り外された後にそれを保持することができるが、密閉ドア9Aは、ハウジング部101内に密閉空間を形成するために、第1の開口部103と密閉嵌合状態にある。このようにして、突き合わせアセンブリ106の可動部品は、密閉空間中に密閉され、このことから、説明される可動部品及びその表面上の潤滑油によって生じる汚染物質がウェハカセット9中のウェハ10を汚染しないことを保証し、製品歩留まり及び性能の向上を促進する。
ハウジング部101が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを開くための位置に全体として移動されるとき、密閉ドア9Aは、ハウジング部101と共に移動され得る。このとき、ウェハカセット9の内部と突き合わせチャンバの内部とは連通しており、このプロセス中に、密閉ドア9Aと第1の開口部103とは、突き合わせアセンブリ106の可動部品が密閉空間中で常に密閉されることを保証するように、常に密閉嵌合状態にある。
この実施形態では、第3の密閉部材12Cが、移載インターフェースの周辺に対応するハウジング部101の位置に、及び/又は移載インターフェースの周辺のチャンバ本体14上の位置に設けられ、ハウジング部101が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときに移載インターフェース及びウェハ移載ポートを密閉するように構成される。具体的には、チャンバ本体14に面するハウジング部101の側面が、移載インターフェースの周辺上の位置においてチャンバ本体14の側壁の内側と密閉突き合わせ状態にあり、そのため、ドアオープナ12の内部は、チャンバ本体14の内部から分離され、ドアオープナ12の内部は、チャンバ本体14の内部を汚染することを防止される。オプションとして、第3の密閉部材12Cは、空気密閉リングである。
オプションとして、ドアオープナ12は、ハウジング部101に接続され、全体として移動するようにハウジング部101及びその中の突き合わせアセンブリ106を駆動するように構成されたハウジング駆動機構(図示せず)を更に含む。ハウジング駆動機構のタイプ及び構造は、ドアオープナ12が移動するように駆動されることができる限り、本実施形態において限定されない。ドアオープナ12の移動方向は限定されず、ウェハカセット9のウェハ移載ポートが完全に開かれることができる限り、図1の垂直方向又は紙面に対して直角な方向であり得る。
明らかに、実際の用途では、ハウジング駆動機構は省略され得、ハウジング部101は、手動で移動又は取り外され得る。このケースでは、ハウジング部101とウェハカセット9との間の移動可能な突き合わせは、相対的に移動可能な方法又は取り外し可能な接続で実現される。
この実施形態では、突き合わせアセンブリ106は、突き合わせ板12M及び駆動機構105を含み、駆動機構105は、ハウジング部101中に設けられ、突き合わせ板12Mが密閉ドア9Aと突き合わせることが可能な第1の位置に移動するように突き合わせ板12Mを駆動し、且つ、突き合わせ板12Mが密閉ドア9Aと突き合わされた後に、密閉ドア9Aが第1の開口部103と密閉嵌合状態となることができる第2の位置(図2の突き合わせ板12Mの位置)に移動するように突き合わせ板12Mを駆動するように構成される。
具体的には、駆動機構105は、突き合わせ板12Mが密閉ドア9Aと突き合わせるための第1の位置に到達するまで、ウェハカセット9のウェハ移載ポートに向かう方向に水平に移動するように突き合わせ板12Mを駆動し、駆動機構105は、突き合わせ板12Mが密閉ドア9A及び第1の開口部103の密閉嵌合のための第2の位置に到達するまで、ウェハカセット9のウェハ移載ポートから離れる方向に水平に移動するように突き合わせ板12Mを駆動する。
オプションとして、駆動機構105は、支持フレーム12N、駆動装置12E、及び案内機構12Gを含む。支持フレーム12Nは、ハウジング部101に固定され、駆動装置12E及び案内機構12Gを支持するように構成される。駆動装置12Eは、第1の位置と第2の位置との間で移動するように突き合わせ板12Mを駆動するように構成され、例えば、シリンダであり得るが、それに限定されない。案内機構12Gは、ウェハカセット9の密閉ドア9Aに対して直角な方向に移動するような、即ち、図2の水平方向における左及び右に向かって移動する、突き合わせ板12Mの移動方向を規定するように構成されている。案内機構12Gにより、突き合わせ板12Mは、密閉ドア9Aのスムーズな開放を達成するようにスムーズに移動されることができる。案内機構12Gは、例えば、リニアベアリングであるが、それに限定されない。
オプションとして、吸着構造13が、突き合わせ板12M上に設けられ、突き合わせ板12Mが第1の位置にあるときに吸着によって密閉ドア9Aを固定するように構成される。オプションとして、吸着構造13は、少なくとも1つの吸着部材を含み、密閉ドア9Aを吸着するために、密閉ドア9Aに面する突き合わせ板12Mの側面上に設けられる。一例では、吸着部材は、吸着カップを用いる。吸着構造13は、吸着カップ13の吸着動作を制御するために、ドアオープナ12の外側に設けられ、吸着カップ13と連通された真空デバイスを更に含む。他の例では、吸着構造13は、密閉ドア9Aが突き合わせ板12Mに吸着されることができる限り、他のタイプの吸着デバイスを使用し得る。
オプションとして、突き合わせアセンブリ106は、密閉ドア9Aから離れて面する突き合わせ板12Mの側面上に設けられ、密閉ドア9A上に取り付けられたロック構造(図示せず)をロック又はアンロックするように構成されたアンロック機構12Fを更に含む。具体的には、アンロック機構12Fは、突き合わせ板12Mを通じてロック構造を開き、このことから、密閉ドア9Aをアンロックすることができる格納可能な回転ピンを有する。
この実施形態では、第1の密閉部材12Dが、第1の開口部103の周辺上の位置においてハウジング部101上に設けられ、突き合わせ板12Mが第2の位置にあるときに第1の開口部103を密閉するように構成される。具体的には、突き合わせ板12Mが第2の位置に移動される間に、第1の開口部103とは反対の密閉ドア9Aの表面が、第1の密閉部材12Dに接触してそれを圧縮及び変形させ、このとき、第1の密閉部材12Dは、密閉ドア9Aとハウジング部101との2つの突き合わせ表面の間の隙間を密閉することができる。
実際の用途では、第1の密閉部材12Dは、第1の開口部103の周辺に対応する密閉ドア9Aの位置に設けられ得るか、又は、2つの第1の密閉部材12Dは、それぞれ、第1の開口部103の周辺のハウジング部101上の位置及び第1の開口部103の周辺に対応する密閉ドア9Aの位置に設けられ得る。
密閉ドア9Aは、第1の開口部103とは反対の密閉ドア9Aの表面が第1の開口部103の周辺上のハウジング部101の表面と突き合わされることができるように、第1の開口部103よりも大きいサイズを有するべきであることに留意されたい。加えて、突き合わせ板12Mは、突き合わせ板12Mが第1の開口部103の中又は外に延在されることができるように、第1の開口部103よりも僅かに小さいサイズを有するべきである。
突き合わせアセンブリ106に関して、含まれる吸着構造13もまた例証的な例示に過ぎず、本開示はそれに限定されないことに更に留意されたい。実際には、吸着構造13は、クランプ部品、ねじ部品、及び同様のものなど、密閉ドア9Aに固定して接続されることができる部品のうちの任意の1つによって置き換えられ得る。
この実施形態では、ハウジング部101は、円環部102及びカバー104を含む。カバー104は、閉じた円環の側板12Lと、側板12Lの一端の開口部を閉じる上部板12Jとから成り、側板12Lの放射断面は、円形又は四角形の形状を有し得、上部板12Jは、側板12Lの開口部と同様の形状を有し得る。側板12Lに面する上部板12Jの表面と、側板12Lの端面のうちの一方との間には、それらの間の隙間を密閉するように、密閉リング12Aが設けられる。
円環部102の軸は、突き合わせ板12Mに対して直角であり、円環部102の穴が、第1の開口部103としての役割を果たす。更に、円環部102の第1の端面(図1の円環部102の右側の端面)は、上部板12Jから離れた側板12Lの端面と突き合わされ、円環部102と側板12Lとの間の隙間を密閉するための第2の密閉部材12Bが、それらの間に設けられる。実際の用途では、明らかに、ハウジング部101は、一体構造で形成され得る、即ち、円環部102及びカバー104は、ハウジング部101を構成する部品間の接合部における隙間を回避するように、共に接続され得るか、又は一体的に形成され得る。
その第1の端面から離れて面する円環部102の第2の端面(図1の円環部102の左側の端面)が、ウェハカセット9から離れて面する密閉ドア9Aの表面と突き合わせるように構成され、その間に第1の密閉部材12Dが設けられる。
この実施形態では、円環部102は、外円環部12K2と、外円環部12K2の内側に位置する内円環部12K1とを含み、内円環部12K1の軸方向の厚さは、外円環部12K2の軸方向の厚さよりも小さく、そのため、密閉ドア9Aに面する内円環部12K1の表面と密閉ドア9Aに面する外円環部12K2の表面との間に高低差が形成され、それによって、段差構造を形成する。軸方向の厚さは、密閉ドア9Aに対して直角な方向への内円環部12K1又は外円環部12K2の長さ、即ち、図2の水平方向への内円環部12K1又は外円環部12K2の長さを指す。
密閉ドア9Aに面する内円環部12K1の端面が密閉ドア9Aに突き合わされるように構成され、この端面及び/又は密閉ドア9Aの突き合わされた表面上に第1の密閉部材12Dが設けられる。外円環部12K2の2つの端面は、それぞれ、カバー104の周側壁と、ウェハカセット9のウェハ移載ポートと突き合わされたチャンバの移載インターフェースと、密閉突き合わせ状態にあるように構成される。
上記に見られることができるように、駆動機構105は、駆動装置12E及び案内機構12Gなどの可動部品を含む。ウェハカセットの密閉ドア9Aの上述された開放プロセス中に、これらの可動部品は、移動摩擦に起因して粒子汚染物質を不可避的に発生させる。加えて、これらの可動部品は、潤滑油によって潤滑され、潤滑油もまた、揮発して汚染物質を生じさせる。既存の技術と比較して、本実施形態における駆動機構105は、ウェハカセットの密閉ドア9Aが開放状態にあるときに、密閉ドア9Aと第1の開口部103との間の密閉嵌合によって、ハウジング部101の内側に形成された密閉空間中に常に密閉され、それによって、駆動機構105の上記の可動部品とウェハカセット9との完全な隔離を実現し、ことのことから、説明された可動部品及びその表面上の潤滑油によって生じる汚染物質がウェハカセット9中のウェハ10を汚染しないことを保証し、製品歩留まり及び性能の向上を促進する。
本開示の別の実施形態に係るドアオープナはまた、図3に示されるように、先の実施形態と比較して、ハウジング部101及び突き合わせアセンブリ106を含む。しかしながら、この実施形態は、突き合わせアセンブリ106が密閉ドア9Aと突き合わされ、密閉ドア9Aをウェハカセット9から分離するときに、突き合わせアセンブリ106の突き合わせ板12Mが第1の開口部103と密閉嵌合状態となり、そのため、ハウジング部101の内側に密閉空間が形成されるという点において、先の実施形態とは異なる。
具体的には、この実施形態では、密閉ドア9Aに面する円環部102の内円環部12K1の表面と密閉ドア9Aに面する円環部102の外円環部12K2の表面との間の高低差は、先の実施形態の高低差よりも大きく、そのため、内円環部12K1は、先の実施形態の内円環部12K1よりもウェハカセット9から遠くなり、その一方で、内円環部12K1は、突き合わせ板12Mと突き合わされるように、先の実施形態の内円環部12K1よりも小さい内径を有する。このようにして、この実施形態の突き合わせ板12Mと密閉ドア9Aとが先の実施形態と同じ第2の位置(図2に示される突き合わせ板12Mの位置)に移動されると、突き合わせ板12Mは、第1の開口部103と密閉嵌合状態となることができる、即ち、突き合わせ板12Mに面する内円環部12K1の端面が、突き合わせ板12Mと突き合わされるように構成されるが、密閉ドア9Aは、内円環部12K1に接触しない。また、第1の密閉部材12Dが、この端面及び/又は突き合わせ板12Mの突き合わされた表面上に設けられる。
この実施形態では、突き合わせアセンブリ106と第1の開口部103との間に密閉嵌合があるので、増大した押圧が第1の密閉部材12Dに加えられ得、それによって、より良好な密閉効果を達成し得る。
この実施形態では、ドアオープナは、ハウジング部101が移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあり、且つ密閉ドア9Aがウェハカセット9から分離されているとき、ウェハカセット9にパージガスを導き、それと同時に、ウェハカセット9からガスを排出するように構成されたパージ機構を更に含むことが好ましい。パージガスは、窒素などの不活性ガスである。
パージ機構を用いてウェハカセット9にパージガスを導くことによって、ウェハカセット9中の粒子などの不純物が、パージガスと共にウェハカセット9から排出されることができ、それによって、ウェハカセット9の内部清浄度を向上させることができると共に、パージプロセス中に、ハウジング部101は、移載インターフェース及びウェハ移載ポートを閉じるための位置にあり、ウェハカセット9の内部と突き合わされたチャンバの内部とは、隔離されたままであり、それによって、ウェハカセット9からのガスがチャンバに漏れ出すことを防止する。その一方で、密閉ドア9A又は突き合わせアセンブリ106は、第1の開口部103と密閉嵌合状態にあるので、パージガスは、ドアオープナ12に入り込むことができず、それによって、良好なガス分圧及び層流を保証し、このことから、より良好な浄化パージ効果を達成する。ドアオープナ12が密閉ドア9Aの開放及び浄化パージを終了した後、密閉ドア9Aを吸着するドアオープナ12は、ウェハカセット9の内部とチャンバの内部とを連通させるように、移載インターフェース及びウェハ移載ポートを開くための位置に移動され得る。
この実施形態では、パージ機構は、パージノズル11、ガス流入路、及びガス排出路を含む。パージノズル11は、ウェハカセット9に面するハウジング部101の側面上に設けられ、ウェハカセット9にパージガスを送り込むように構成される。具体的には、パージノズル11は、ウェハカセット9に面する円環部102の側面上、例えば、板状部材102の外円環部12K2上に設けられ、ウェハカセット9に不活性ガスを送り込むように構成される。ガス流入路は、パージノズル11とガス源(図には図示せず)とにそれぞれ接続され、ガス源によって提供されたパージガスをパージノズル11に伝達するように構成される。ガス排出路は、ウェハカセット9中のガスをハウジング部101の外側に排出するように構成される。
オプションとして、ハウジング部101は、ハウジング部101中のガスをハウジング部101の外側に放出するための放出構造12Hを設けられる。放出構造12Hは、例えば、放出管である。放出構造12Hによって、ハウジング部101の内側の様々な可動部品及び潤滑デバイスによって発生する汚染物質を放出して、ハウジング部101の内部清浄度を保証することができる。
本開示の更なる別の実施形態では、ウェハカセットと反応チャンバとの間でウェハを輸送するための輸送チャンバが提供される。図2及び4を併せて参照すると、輸送チャンバは、上記の実施形態に係るドアオープナ12及びチャンバ本体14を含む。チャンバ本体14は、ウェハカセット9のウェハ移載ポートと突き合わせるための移載インターフェース107を設けられる。ドアオープナ12は、ウェハカセット9のウェハ移載ポートと移載インターフェース107とを同時に開く又は閉じることができ、ウェハ移載ポートと移載インターフェース107とを同時に開いて又は閉じて、チャンバ本体14の内部とウェハカセット9の内部とを連通又は隔離することができる。
具体的には、閉じられた輸送空間5が、チャンバ本体14の内側に形成され、ウェハカセット9のウェハ移載ポートと付き合わせるための移載インターフェース107が、チャンバ本体14の側壁上に設けられる。ドアオープナ12は、移載インターフェース107が位置するチャンバ本体14の側壁の内側に移動可能に設けられる。例えば、ドアオープナ12は、移載インターフェース107を開く又は閉じるための位置に移動されるように、ハウジング駆動機構の駆動下で移載インターフェース107が位置するチャンバ本体14の側壁に沿って移動され得る。ウェハカセット9のウェハ移載ポートは移載インターフェース107と突き合わされるので、密閉ドア9Aがドアオープナ12によってウェハカセット9から取り外された後、ウェハカセット9のウェハ移載ポートもまた開かれる又は閉じられるが、移載インターフェース107はドアオープナ12によって開かれる又は閉じられる、即ち、ウェハカセット9のウェハ移載ポートは輸送空間5と連通又はそれから隔離されることが容易に理解される。
この実施形態では、密閉リングが、チャンバ本体14の側壁の外側と突き合わされたウェハカセット9の表面上に設けられ、それらの間の隙間を密閉するように構成される。
この実施形態では、チャンバ本体14に面するハウジング部101の側面が、移載インターフェース107の周辺上の位置においてチャンバ本体14の側壁の内側と密閉突き合わせ状態にある。具体的には、ハウジング部101の円環部102の外円環部12K2は、ドアオープナ12の内部を輸送空間5から隔離し、ドアオープナ12の内部が輸送空間5を汚染することを防止するように、第3の密閉部材12Cによってチャンバ本体14の側壁の内側で密閉される。
図5に示されるように、ブラケット15が、移載インターフェース107におけるチャンバ本体14の側壁の外側に設けられ、ウェハカセット9のウェハ移載ポートが移載インターフェース107と突き合わされるときにウェハカセット9を支持するように構成される。
図2、3及び5を併せて参照すると、この実施形態の輸送チャンバは、パージノズル11、ガス流入路、及びガス排出路を含むパージ機構を更に設けられる。パージノズル11は、ウェハカセット9にパージガスを送り込むように構成される。
ガス流入路は、チャンバ本体14中に設けられたガス流入チャネルであり、それは、チャンバ本体14の側壁の外側に開かれ、ガス源に接続されるように構成された流入口P1を有し、チャンバ本体14の側壁の内側に設けられ、ハウジング部101がウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときにパージノズル11の流入口と突き合わされ、且つそれと連通状態にあるように構成された排出口を有する。
ガス排出路は、ウェハカセット9の本体の内側に開かれたガス排出チャネルであり、それは、ウェハカセット9の内部と連通状態にある流入口を有し、ウェハカセット9の本体の外側並びにチャンバ本体14の側壁の外側に開かれた排出口P2を有する。
ドアオープナ12が密閉ドア9Aを開いた後、外部ガス源が、ガス流入チャネルの流入口P1に窒素などのパージガスを導き、次いで、パージガスは、ガス流入チャネル及びパージノズル11を通じてウェハカセット9に送り込まれる。ウェハカセット9の内側のパージガスは、ガス排出チャネルを通ってその排出口P2を介して排出される。パージプロセス中に、密閉ドア9A又は突き合わせアセンブリ106は、第1の開口部103と密閉嵌合状態にあるので、パージガスは、ドアオープナ12に入り込むことができず、それによって、良好なガス分圧及び層流を保証し、このことから、より良好な浄化パージ効果を達成する。ドアオープナ12がウェハカセットの密閉ドア9Aの開放及び浄化パージを終了した後、密閉ドア9Aを吸着するドアオープナ12は、チャンバ本体14の側壁に沿って移動され、そのため、移載インターフェース107及びウェハ移載ポートが完全に開かれ、ウェハカセット9と輸送空間5との間の連通が達成させる。
本開示の別の実施形態では、半導体処理デバイスが更に提供され、それは、例えば、縦型半導体処理デバイスであり得る。図4に示されるように、デバイスは、ウェハカセット9と、反応チャンバと、上記の実施形態に係る輸送チャンバと、支持アセンブリと、マニピュレータ8とを含み、輸送チャンバは、ウェハカセット9と反応チャンバとの間でウェハ10を輸送するために使用される。
この実施形態では、反応チャンバと連通状態にある上部移載インターフェースが、チャンバ本体14の上部壁上に開かれる。反応チャンバは、プロセスチューブ2と、プロセスチューブ2を取り囲むヒータ1と、支持アセンブリとを含む。密閉ドア3が、プロセスチューブ2の下端上に設けられ、それは、閉じられたときに、プロセスチューブ2をチャンバ本体14から隔離させ、開かれたときに、プロセスチューブ2を上部移載インターフェースを介してチャンバ本体14と連通させる。
支持アセンブリは、ウェハ10を搬送するためのウェハキャリア4と、ウェハキャリア4を支持するための保温バレル6と、プロセスゲート7と、昇降デバイスとを含む。昇降デバイスは、全体として移動するようにウェハキャリア4、保温バレル6、及びプロセスゲート7を駆動し得る。プロセスチューブの密閉ドア3が開かれた後、支持アセンブリは、チャンバ本体14からプロセスチューブ2に入り得るか、又はプロセスチューブ2からチャンバ本体14に入り得る。
プロセスが開始する前に、ドアオープナ12は、移載インターフェース107を閉じたままにし、ウェハ10は、ウェハカセット9の内側に配置される。この実施形態の輸送チャンバが動作されると、ウェハカセット9は、ブラケット15上に移載され、チャンバ本体14の側壁の外側と密閉突き合わせ状態となり、ウェハカセット9のウェハ移載ポートは、移載インターフェース107と突き合わされる。ドアオープナ12がウェハカセットの密閉ドア9Aを開いた後、ドアオープナ12は、ウェハカセットの密閉ドア9Aと共に移載インターフェース107から離れて移動され、そのため、移載インターフェース107とウェハ移載ポートとが同時に完全に開かれる。このとき、ウェハカセット9の内部は、チャンバ本体14の内部と連通状態にある。
マニピュレータ8は、輸送チャンバ中に設けられ、ドアオープナ12がウェハ移載ポートを開くための位置にあり、且つウェハキャリア4が輸送チャンバ中にあるときに、ウェハカセット9とウェハキャリア4との間でウェハ10を移載するように構成される。具体的には、ウェハカセット9の内部がチャンバ本体14の内部と連通状態にあるとき、マニピュレータ8は、ウェハカセット9からウェハ10を取り出し、それをウェハキャリア4上に移載する。次いで、プロセスチューブの密閉ドア3が開かれ、昇降デバイスが、上方に移動してプロセスチューブ2に入るようにウェハキャリア4、保温バレル6、及びプロセスゲート7を駆動する。プロセスチューブの密閉ドア3は閉じられ、ウェハ10は、プロセスチューブ2でのプロセスの対象となる。プロセスが終了すると、プロセスチューブの密閉ドア3が開かれ、昇降デバイスが、下方に移動してチャンバ本体14中のそれらの初期位置に戻るようにウェハキャリア4、保温バレル6、及びプロセスゲート7を駆動し、マニピュレータ8が、ウェハキャリア4からウェハ10を取り、移載インターフェース107及びウェハ移載ポートを通じてウェハカセット9にウェハ10を移載する。次いで、ドアオープナ12が、移載インターフェース107に移動されて、移載インターフェース107とウェハカセットの密閉ドア9Aとを閉じる。ウェハカセット9が、チャンバ本体14から取り外され、このことから、プロセス全体が完了する。
要約すると、本実施形態において提供されるドアオープナ、輸送チャンバ、及び半導体処理デバイスの技術的解決策では、説明される可動部品及びその表面上の潤滑油によって生じる汚染物質がウェハカセット9中のウェハ10を汚染しないことが保証され、それによって、製品歩留まり及び性能の向上を促進する。
本開示の目的、技術的解決策、及び利点は、上記の特定の実施形態を通じて更に詳細に説明されるが、上記は、単に本開示の特定の実施形態に過ぎず、本開示を限定することを意図されないことが理解されるべきである。本開示の原理内のいかなる修正、同等の置換、改善、等も、本開示の添付された特許請求の範囲によって定義される保護の範囲中に全て含まれる。
また、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、等、などの、実施形態で言及される方向を示す用語は、図面を参照する方向に過ぎず、本開示の保護範囲を限定することを意図されないことに留意されたい。図面全体を通じて、同様の要素は、同様の又は類似の参照番号によって表される。従来の構造又は構成は、本開示の理解を曖昧にし得るときには省略されることになる。
別段指示されない限り、本明細書及び添付された特許請求の範囲に記載された数値パラメータは、本開示によって得ようとする所望の特性に応じて変動する可能性がある近似値である。特に、本明細書及び特許請求の範囲において使用される成分の量、反応条件、等を表す全ての数は、全ての事例において「約」という用語によって修飾されることが理解されるべきである。一般に、この表現の意味は、いくつかの実施形態では±10%だけ、いくつかの実施形態では±5%だけ、いくつかの実施形態では±1%だけ、いくつかの実施形態では±0.5%だけ、指定数の変動を包含することを意味される。
更に、「備える」という語は、請求項中にリストされていない要素又はステップの存在を除外しない。要素に先行する「a」又は「an」という語は、複数のそのような要素の存在を除外しない。
対応する要素を修飾するための、本明細書及び特許請求の範囲における「第1の」、「第2の」、「第3の」、等などの序数の使用は、それ自体、要素についての任意の序数も、要素が配列される順序、又はどの順序が製造方法に関連付けられているかも暗示することを意図されず、単に、ある特定の名称を有する1つの要素を、同じ名称を有する別の要素と区別するために使用される。
同様に、本開示の例証的な実施形態の前述の説明では、本開示の様々な特徴は、本開示を合理化し、様々な開示された態様のうちの1つ以上の理解を助ける目的で、単一の実施形態、図、又はその説明に共にグループ化されることがあることが認識されるべきである。しかしながら、開示された方法は、その意図を反映するように解釈されるべきではなく、むしろ、本開示は、各請求項に明確に記載されているよりも多くの特徴を対象とする。むしろ、以下の特許請求の範囲が反映するように、開示された態様は、単一の前述の開示された実施形態の全ての特徴よりも少ない特徴にある。このことから、発明を実施するための形態に続く特許請求の範囲は、この発明を実施するための形態にこれによって明確に組み込まれ、各請求項は、この開示の別個の実施形態として自立する。

Claims (15)

  1. ウェハカセットの密閉ドアを開く又は閉じるためのドアオープナであって、前記ドアオープナは、
    輸送チャンバのチャンバ壁と移動可能に突き合わされ、且つ移載インターフェースと前記ウェハカセットのウェハ移載ポートとが開放可能又は閉鎖可能であるように前記チャンバ壁が前記ウェハカセットの前記ウェハ移載ポートと突き合わされた前記移載インターフェースの周位置に位置するように構成されたハウジング部と、ここにおいて、第1の開口部が、前記ウェハカセットに面する前記ハウジング部の側面上に設けられ、
    前記第1の開口部に設けられ、前記密閉ドアと突き合わされ、且つ前記ハウジング部が前記移載インターフェース及び前記ウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときに前記ウェハカセットから前記密閉ドアを分離するように構成された突き合わせアセンブリと、ここにおいて、前記密閉ドア又は前記突き合わせアセンブリは、前記ハウジング部内に密閉空間を形成するために、前記第1の開口部と密閉嵌合状態にある、
    を備えることを特徴とする、ドアオープナ。
  2. 前記突き合わせアセンブリは、
    突き合わせ板と、
    前記ハウジング部中に設けられ、前記突き合わせ板が前記密閉ドアと突き合わせることが可能である第1の位置に移動するように前記突き合わせ板を駆動し、且つ前記突き合わせ板が前記密閉ドアと突き合わされた後に前記密閉ドア又は前記突き合わせ板が前記第1の開口部と密閉嵌合状態にある第2の位置に移動するように前記突き合わせ板を駆動するように構成された駆動機構と
    を備えることを特徴とする、請求項1に記載のドアオープナ。
  3. 吸着構造が、前記突き合わせ板上に設けられ、前記突き合わせ板が前記第1の位置にあるときに吸着によって前記密閉ドアを固定するように構成されることを特徴とする、請求項2に記載のドアオープナ。
  4. 第1の密閉部材が、前記第1の開口部の周辺に対応する前記突き合わせ板若しくは前記密閉ドアの位置に、及び/又は前記第1の開口部の周辺の前記ハウジング部上の位置に設けられ、前記突き合わせ板が前記第2の位置にあるときに前記第1の開口部を密閉するように構成されることを特徴とする、請求項2に記載のドアオープナ。
  5. 前記ハウジング部は、円環部及びカバーを備え、
    前記カバーの開口部の端面が、前記円環部の第1の端面と突き合わされ、第2の密閉部材が、それらの間に設けられ、
    前記円環部の穴が、前記第1の開口部として使用され、前記第1の端面から離れている前記円環部の第2の端面が、前記ウェハカセットから離れている前記突き合わせ板の表面又は前記密閉ドアの表面と突き合わされるように構成され、前記第1の密閉部材は、それらの間に設けられることを特徴とする、請求項4に記載のドアオープナ。
  6. 前記ドアオープナは、
    前記ハウジング部に接続され、全体として移動するように前記ハウジング部及びその中の前記突き合わせアセンブリを駆動するように構成されたハウジング駆動機構を更に備えることを特徴とする、請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載のドアオープナ。
  7. 第3の密閉部材が、前記移載インターフェースの周辺に対応する前記ハウジング部の位置に、及び/又は前記移載インターフェースの前記周辺の前記輸送チャンバの前記チャンバ壁上の位置に設けられ、前記ハウジング部が前記移載インターフェース及び前記ウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときに前記移載インターフェース及び前記ウェハ移載ポートを密閉するように構成されることを特徴とする、請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載のドアオープナ。
  8. 前記ドアオープナは、
    前記ハウジング部が前記ウェハ移載ポートを閉じるための位置にあり、且つ前記密閉ドアが前記ウェハカセットから分離されているとき、前記ウェハカセットにパージガスを導き、それと同時に、前記ウェハカセットからガスを排出するように構成されたパージ機構を更に備えることを特徴とする、請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載のドアオープナ。
  9. 前記パージ機構は、
    前記ウェハカセットに面する前記ハウジング部の側面上に設けられ、前記ウェハカセットに前記パージガスを送り込むように構成されたパージノズルと、
    前記パージノズルとガス源とにそれぞれ接続され、前記ガス源によって提供された前記パージガスを前記パージノズルに伝達するように構成されたガス流入路と、
    前記ウェハカセット中の前記ガスを前記ハウジング部の外側に排出するように構成されたガス排出路と
    を備えることを特徴とする、請求項8に記載のドアオープナ。
  10. 前記ハウジング部は、前記ハウジング部中のガスを前記ハウジング部の外側に放出するための放出構造を設けられることを特徴とする、請求項1に記載のドアオープナ。
  11. 輸送チャンバであって、
    ウェハカセットのウェハ移載ポートと突き合わせるための移載インターフェースを設けられたチャンバ本体と、
    前記チャンバ本体の内部が前記ウェハカセットの内部と連通状態にあるか又はそれから分離されるように、前記ウェハ移載ポート及び前記移載インターフェースがそれによって同時に開かれる又は閉じられる、請求項1〜10のうちのいずれか一項に記載の前記ドアオープナと
    を備えることを特徴とする、輸送チャンバ。
  12. 請求項9に記載された前記ドアオープナを備え、
    前記ガス流入路は、前記チャンバ本体中に設けられたガス流入チャネルであり、前記ガス流入チャネルは、前記チャンバ本体の外側に開かれ、前記ガス源に接続されるように構成された流入口を有し、前記チャンバ本体の内側に開かれ、前記ハウジング部が前記ウェハ移載ポートを閉じるための位置にあるときに前記パージノズルの流入口と突き合わされ、且つそれと連通状態にあるように構成された排出口を有し、
    前記ガス排出路は、前記ウェハカセットの本体の内側に開かれたガス排出チャネルであり、前記ガス排出チャネルは、前記ウェハカセットの内部と連通状態にある流入口を有し、前記ウェハカセットの前記本体の外側に開かれた排出口を有することを特徴とする、請求項11に記載の輸送チャンバ。
  13. ブラケットが、前記移載インターフェースにおける前記チャンバ本体の側壁の外側に設けられ、前記ウェハカセットの前記ウェハ移載ポートが前記移載インターフェースと突き合わされるときに前記ウェハカセットを支持するように構成されることを特徴とする、請求項11に記載の輸送チャンバ。
  14. 半導体処理デバイスであって、
    反応チャンバと、
    請求項11〜13のうちのいずれか一項に記載の前記輸送チャンバと、
    ウェハを搬送するように構成され、前記反応チャンバと前記輸送チャンバとの間で移動可能なウェハキャリアと、
    前記輸送チャンバ中に設けられ、前記ハウジング部が前記ウェハ移載ポートを開くための位置にあり、且つ前記ウェハキャリアが前記輸送チャンバ中にあるときに、前記ウェハカセットと前記ウェハキャリアとの間で前記ウェハを移載するように構成されたマニピュレータと
    を備えることを特徴とする、半導体処理デバイス。
  15. 前記半導体処理デバイスは、縦型熱処理デバイスであることを特徴とする、請求項14に記載の半導体処理デバイス。
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