JP2021079319A - 石膏スラリー脱水システム - Google Patents

Abstract

【課題】石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることができ、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる石膏スラリー脱水システムを提供する。【解決手段】排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムであって、石膏スラリーをろ布上に載せた状態で搬送する搬送ベルトを有する搬送装置と、ろ布に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部を有するろ布洗浄装置と、ろ布により石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽と、ろ液貯留槽に貯留されたろ液を、ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備に送るように構成されたろ液排出ラインと、ろ液貯留槽とは異なるろ布洗浄液貯留槽であって、噴出部からろ布に対して噴出されたろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽と、を備える。【選択図】 図２

Description

本開示は、排煙脱硫装置で副生される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムに関する。

例えばボイラなどの燃焼機関から排出される排ガスには、硫黄酸化物（ＳＯｘ）などの大気汚染物質が含まれるので、大気放出前に、排煙脱硫装置において排ガス中から硫黄酸化物が除去される。

排煙脱硫装置としては、石灰石膏法を用いる湿式の排煙脱硫装置が広く知られている。湿式の排煙脱硫装置では、排ガスと石灰石スラリー（吸収液）とを接触させて、排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収液に吸収させることで、排ガス中から硫黄酸化物を除去している。吸収液に吸収された硫黄酸化物は、吸収液中のカルシウムと反応して亜硫酸カルシウムとなり、該亜硫酸カルシウムが吸収液中に供給される空気により酸化し、石膏となる。湿式の排煙脱硫装置では、石膏スラリー（石膏を含む吸収液）が副生される。

特許文献１には、湿式の排煙脱硫装置から抜き出した石膏スラリーを含むスラリー液が石膏分離機において固液分離させて石膏を回収することが開示されている。また、特許文献１には、ドラム間に張設したベルト上にろ布が走行自在に支持され、ろ布上に供給される石膏スラリーをベルトの下方から吸引してろ液と石膏とを分離するベルト式の石膏分離機、石膏スラリーを排出後のろ布を洗浄液により洗浄する洗浄装置、および上記ろ布を洗浄後の洗浄液と上記ろ液を貯留する液体貯留槽が開示されている。液体貯留槽に貯留された液体は、排水処理設備に送られ、排水処理設備において放流基準を満たす状態に排水処理された後に系外に放流される。

特開平８−１２３８９号公報

特許文献１に示されるように、ろ布を洗浄後の洗浄液およびろ液は、同一の液体貯留槽に回収された後に、排水として排水処理設備に送られていた。上記排水処理設備は、液体貯留槽から送られる大量の排水を処理する必要があるため、その大型化や設備費用の高額化を招く虞がある。

上述した事情に鑑みて、本開示の少なくとも一実施形態の目的は、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることができ、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる石膏スラリー脱水システムを提供することにある。

本開示にかかる石膏スラリー脱水システムは、
排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムであって、
前記石膏スラリーをろ布上に載せた状態で搬送する搬送ベルトを有する搬送装置と、
前記ろ布に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部を有するろ布洗浄装置と、
前記ろ布により前記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽と、
前記ろ液貯留槽に貯留された前記ろ液を、前記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備に送るように構成されたろ液排出ラインと、
前記ろ液貯留槽とは異なるろ布洗浄液貯留槽であって、前記噴出部から前記ろ布に対して噴出された前記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽と、を備える。

本開示の少なくとも一実施形態によれば、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることができ、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる石膏スラリー脱水システムが提供される。

本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムを備える排ガス洗浄システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。 本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。 本開示の一実施形態における排水処理設備を説明するための説明図である。 本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの他の一例を説明するための説明図である。

以下、添付図面を参照して本開示の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本開示の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
なお、同様の構成については同じ符号を付し説明を省略することがある。

（排ガス洗浄システム）
図１は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムを備える排ガス洗浄システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。
図１に示されるように、幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、排ガス洗浄システム１０に搭載される。排ガス洗浄システム１０は、図１に示されるように、例えばエンジンやボイラなどの燃焼設備１１から排出される排ガスを脱硫するための湿式の排煙脱硫装置２０と、排煙脱硫装置２０から排出される石膏スラリーを脱水するための上記石膏スラリー脱水システム１と、を備える。

排煙脱硫装置２０は、燃焼設備１１から排出される排ガスと吸収液とを接触させて、排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収液に吸収させることで、排ガス中から硫黄酸化物を除去するように構成されている。石灰石膏法を用いる排煙脱硫装置２０では、例えば、石灰石を溶解（分散）させた石灰石スラリーなどのアルカリ成分を含むスラリー液を上記吸収液とし、石膏スラリー（石膏を含む吸収液）が副生される。なお、スラリーは、厳密には液体ではないが、本明細書では便宜的に液体として扱うものとする。

排煙脱硫装置２０は、その内部に導入される排ガスを脱硫するように構成された吸収塔２０Ａを含む。吸収塔２０Ａは、燃焼設備１１から排出された排ガスが導入される内部空間２１を内部に画定するように構成された吸収塔本体２２と、内部空間２１に排ガスを導入するための排ガス導入口２３と、内部空間２１から排ガスを排出するための排ガス排出口２４と、を含む。排ガス導入口２３および排ガス排出口２４の夫々は、吸収塔本体２２と連通している。

内部空間２１は、排ガスと吸収液を気液接触させるための気液接触部２１Ａと、気液接触部２１Ａよりも下方に位置するとともに、気液接触部２１Ａにおいて排ガス中の硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収した吸収液が貯留される液だまり部２１Ｂと、を含む。

燃焼設備１１から排出された排ガスは、排ガス導入口２３を介して内部空間２１に導入される。内部空間２１に導かれた排ガスは、内部空間２１を上昇しながら流れて気液接触部２１Ａを通過する際に吸収液により洗浄され、排ガス中の硫黄酸化物などが除去される。気液接触部２１Ａにおいて洗浄後の排ガスは、浄化済みの排ガスである浄化ガスとして、排ガス排出口２４を介して吸収塔２０Ａの外部に排出される。吸収塔２０Ａの外部に排出された浄化ガスは、排ガス排出口２４よりも浄化ガス（排ガス）の流れ方向の下流側に設けられた不図示の煙突から大気中に放出される。図１に示されるように、浄化ガス（排ガス）から水分を除去するように構成されるミストエリミネータ２５を、気液接触部２１Ａよりも浄化ガス（排ガス）の流れ方向の下流側に設けてもよい。

図示される実施形態では、吸収塔２０Ａは、気液接触部２１Ａに配置される噴霧装置２６をさらに含む。噴霧装置２６は、気液接触部２１Ａを通過する排ガスに対して吸収液（石灰石スラリー）を噴霧するように構成されている。噴霧装置２６から噴霧された吸収液は、排ガスに接触して排ガス中に含まれる硫黄酸化物（例えば、亜硫酸ガス）を吸収除去する。

噴霧装置２６は、排ガスの流れ方向に交差する方向である水平方向に沿って延在する噴霧管２６１と、噴霧管２６１に設けられた複数の噴霧ノズル２６２と、を含む。噴霧ノズル２６２は、図１に示されるように、排ガスの流れ方向における下流側に向かって、すなわち、鉛直方向における上方に向かって、吸収液を噴霧する噴霧口２６３を有する。なお、他の幾つかの実施形態では、噴霧ノズル２６２は、鉛直方向における下方に向かって、吸収液を噴霧する噴霧口を有していてもよい。

液だまり部２１Ｂには、内部空間２１に導かれた排ガスに対して噴霧ノズル２６２の噴霧口２６３から噴霧され、排ガス中に含まれる硫黄酸化物を吸収除去した吸収液が落下して貯留される。液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液には、排ガスから吸収した硫黄酸化物により生じた亜硫酸塩や、亜硫酸塩が酸化することで生成される石膏（硫酸カルシウム）が含まれることがある。

吸収塔本体２２には、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液を外部に抜き出すための吸収液抜出口２２１、および液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に酸化用気体（例えば、空気）を供給するためのノズルを貫通させるノズル貫通口２２２が開口している。吸収液抜出口２２１およびノズル貫通口２２２の夫々は、液だまり部２１Ｂに連通している。また、吸収塔本体２２には、石灰石スラリーを導入するための吸収液供給口２２３、および外部に抜き出した吸収液を液だまり部２１Ｂに返送するための吸収液返送口２２４が開口している。吸収液供給口２２３および吸収液返送口２２４の夫々は、液だまり部２１Ｂよりも上方における内部空間２１に連通している。

吸収塔２０Ａは、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に酸化用気体（例えば、空気）を供給するように構成された酸化用気体供給装置２７をさらに含む。図示される実施形態では、酸化用気体供給装置２７は、ノズル貫通口２２２を貫通するノズル２７１と、ノズル２７１に大気中の空気を供給するポンプ２７２と、を含む。大気中の空気（酸化用空気）は、ポンプ２７２によりノズル２７１に供給され、ノズル先端部の開口２７３から液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液に供給される。これにより、液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液中の亜硫酸塩を酸化させ、石膏を生じさせることができる。

吸収塔２０Ａは、吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに吸収液を供給するように構成された吸収液供給ライン１２と、液だまり部２１Ｂから抜き出された吸収液を噴霧装置２６に送るように構成された吸収液循環ライン１３と、液だまり部２１Ｂから抜き出された吸収液を石膏スラリー脱水システム１に送るように構成された吸収液抜き出しライン１４と、をさらに含む。吸収塔２０Ａは、噴霧装置２６、液だまり部２１Ｂおよび吸収液循環ライン１３に吸収液を循環させている。液だまり部２１Ｂに貯留される吸収液は、吸収塔２０Ａにおける排ガスの洗浄に繰り返し使用されるため、徐々に石膏が蓄積される。石膏スラリー（石膏を含む吸収液）を吸収液抜き出しライン１４を介して、石膏スラリー脱水システム１に送ることで、吸収液の循環系統（噴霧装置２６、液だまり部２１Ｂ、吸収液循環ライン１３）から石膏を抜き出している。また、吸収液による排ガス中の硫黄酸化物の吸収除去（ｐＨが高い方が効率が良好）と、吸収液中の亜硫酸塩の酸化（ｐＨが低い方が効率が良好）とを両立させるべく、吸収液のｐＨが５〜６の範囲となるように、適宜、吸収液供給ライン１２を通じた吸収液の供給が行われる。

図示される実施形態では、吸収液供給ライン１２は、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、吸収液を貯留するための内部空間１７１を画定するように構成された吸収液貯留槽１７に一端側が接続され、他端側が吸収液供給口２２３に接続される吸収液供給配管１２１と、吸収液供給配管１２１に設けられるとともに、吸収液供給配管１２１の一端側から他端側に吸収液を送るように構成された供給ポンプ１２２と、を含む。供給ポンプ１２２を駆動させることで、吸収液が内部空間１７１から抜き出されて、吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに供給される。

図示される実施形態では、吸収液循環ライン１３は、吸収液抜出口２２１に一端側が接続され、他端側が噴霧管２６１に接続される吸収液循環配管１３１と、吸収液循環配管１３１に設けられるとともに、吸収液循環配管１３１の一端側から他端側に吸収液を送るように構成された循環ポンプ１３２と、を含む。吸収液抜き出しライン１４は、吸収液循環配管１３１の循環ポンプ１３２よりも吸収液の流れ方向の下流側（噴霧装置２６側）に位置する第１分岐部１３３に一端側が接続され、他端側が石膏スラリー脱水システム１（具体的には図２に示される供給装置４）に接続される吸収液抜き出し配管１４１を含む。この場合には、吸収液循環ライン１３および吸収液抜き出しライン１４が循環ポンプ１３２を共用している。循環ポンプ１３２を駆動させることで、吸収液が液だまり部２１Ｂから抜き出されて、噴霧装置２６や石膏スラリー脱水システム１に供給される。なお、他の幾つかの実施形態では、吸収液抜き出しライン１４が吸収液循環ライン１３との間に共有部を有しない構成にしてもよい。

図示される実施形態では、吸収液抜き出しライン１４は、吸収液抜き出し配管１４１の他端側に設けられる調整弁１４２をさらに含む。調整弁１４２は、吸収液の流路である吸収液抜き出し配管１４１を開閉するための可動機構を有し、吸収液抜き出し配管１４１を流れて石膏スラリー脱水システム１に供給される吸収液の流量を調整可能に構成されている。

吸収塔２０Ａは、吸収液抜き出しライン１４から吸収塔２０Ａの液だまり部２１Ｂに吸収液を戻すための吸収液返送ライン１５をさらに含む。吸収液返送ライン１５は、吸収液抜き出し配管１４１の調整弁１４２よりも吸収液の流れ方向の上流側（第１分岐部１３３側）に位置する第２分岐部１４３に一端側が接続され、他端側が吸収液返送口２２４に接続される吸収液返送配管１５１を含む。吸収液抜き出し配管１４１を流れる吸収液の少なくとも一部は、循環ポンプ１３２により圧送されて、吸収液返送配管１５１を介して、吸収塔２０Ａに戻される。吸収液の石膏スラリー脱水システム１への供給量が少ない場合であっても、吸収液抜き出し配管１４１に石膏スラリー脱水システム１への必要供給量よりも多い量の吸収液を流し、余剰分の吸収液を、吸収液返送配管１５１を経由させて吸収塔２０Ａに戻すことで、吸収液抜き出し配管１４１における吸収液（石膏スラリー）の流速を所定速度以上に保持し、吸収液中の固形分（例えば、石膏など）が吸収液抜き出し配管１４１内で沈降することを抑制することができる。

（石膏スラリー脱水システム）
図２は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの全体構成を概略的に示す概略構成図である。
幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、吸収液抜き出し配管１４１を介して吸収塔２０Ａから送られる石膏スラリー（石膏を含む吸収液）を脱水し、石膏とろ液に分離するように構成されている。

石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、石膏スラリーをろ布３１上に載せた状態で搬送する搬送ベルト３２を有する搬送装置３と、石膏スラリーを搬送ベルト３２のろ布３１上に供給可能な供給部４１を有する供給装置４と、石膏スラリーが脱水されつつ搬送される過程でろ布３１上に形成される石膏ケーキを洗浄するために、石膏ケーキに向けてケーキ洗浄液を噴出可能なケーキ洗浄液噴出部４５を有するケーキ洗浄装置４４と、乾燥用蒸気を噴出可能な蒸気噴出部５５（噴出部）を有する蒸気噴出装置５４と、を備える。供給部４１、ケーキ洗浄液噴出部４５および蒸気噴出部５５の夫々は、搬送ベルト３２に対して上方に配置されている。ケーキ洗浄液噴出部４５は、供給部４１よりも搬送ベルト３２の搬送方向に沿う方向の下流側（図２中右側）に位置し、蒸気噴出部５５は、ケーキ洗浄液噴出部４５よりも搬送ベルト３２の搬送方向に沿う方向の下流側に位置している。

図示される実施形態では、搬送装置３は、回転自在に支持される二つのドラム３３（３３Ａ、３３Ｂ）と、上記二つのうちの何れか一方のドラム３３（例えば、３３Ａ）に接続され、該ドラム３３（３３Ａ）を回転駆動させるように構成されたモータ３４と、複数のガイドローラ３５と、をさらに有する。搬送ベルト３２は、無端帯状のゴム製の部材（弾性体）からなり、水平方向に沿って互いに離れて配置される二つのドラム３３に走行自在に掛け回されている。搬送ベルト３２は、二つのドラム３３に張設されているため、モータ３４により上記一方のドラム３３（３３Ａ）が回転駆動されることにより、他方のドラム３３（３３Ｂ）が回転するとともに、搬送ベルト３２が搬送ベルト３２の搬送方向に沿って周回移動する。

ろ布３１は、無端帯状に設けられ、複数のガイドローラ３５に走行自在に掛け回されるとともに、その長さ方向の一部が搬送ベルト３２の上面３２１上に重ねられている。ろ布の搬送ベルト３２の上面３２１上に重ねられた部分（以下、被支持部３１１とする）は、搬送ベルト３２により搬送ベルト３２とともに上記搬送方向に沿って走行自在に支持されている。このため、ドラム３３（３３Ａ）が回転駆動して搬送ベルト３２が周回移動すると、ろ布３１の被支持部３１１が、搬送ベルト３２の被支持部３１１を下側から支持する支持部３２２と一緒に上記搬送方向に沿って走行する。或る実施形態では、ろ布３１は、繊維状に形成された樹脂材料（例えばポリエステルやポリプロピレンなど）を編み込むことにより形成される織布を含む。また、他の或る実施形態では、ろ布３１は、繊維状に形成された樹脂材料（例えばポリエステルやポリプロピレンなど）を絡み合わせることにより形成される不織布を含む。

供給装置４は、吸収液抜き出しライン１４を介して吸収塔２０Ａから送られた石膏スラリーを、その供給部４１から搬送ベルト３２のろ布３１上に供給するように構成されている。図示される実施形態では、供給装置４は、上記供給部４１（例えば、噴射ノズル）と、吸収液抜き出し配管１４１の他端側にその一端側が接続され、その他端側が供給部４１に接続される供給配管４２と、を有する。この場合には、石膏スラリーは、上述した循環ポンプ１３２により圧送されて、供給配管４２を通過して、供給部４１から流下することで、搬送ベルト３２のろ布３１上に供給される。なお、「搬送ベルト３２のろ布３１上」とは、厳密には、ろ布３１の被支持部３１１の上面（外面）３１２上を意味している。

石膏スラリーは、搬送ベルト３２のろ布３１上に載せられ、搬送ベルト３２によりろ布３１とともに搬送される際に脱水処理される。搬送装置３における石膏スラリーが脱水される領域を脱水部３６とする。脱水部３６では、搬送ベルト３２がドラム３３よりも上方に位置しており、ろ布３１の被支持部３１１が搬送ベルト３２の支持部３２２に支持されている。上述した供給部４１、ケーキ洗浄液噴出部４５および蒸気噴出部５５の夫々は、脱水部３６の領域内に配置されている。

ろ布３１は通気性を有し、また、搬送ベルト３２には、ろ液を通過させるための複数の孔が形成されている。搬送ベルト３２のろ布３１上に載せられた石膏スラリーは、上記脱水部３６において、ろ布３１や搬送ベルト３２をろ液が通過することで、脱水される。

図示される実施形態では、搬送装置３は、ろ布３１上に載せられた石膏スラリーを下方から吸引してろ液を脱水するように構成された脱水装置３７をさらに有する。脱水装置３７は、搬送ベルト３２の支持部３２２の下方に設けられて、内部の圧力が負圧（大気圧よりも低い圧力）に保持される脱水室３７１と、真空ポンプ３７２と、脱水室３７１に一端部が接続され、他端部が真空ポンプ３７２に接続される減圧配管３７３と、減圧配管３７３に設けられる真空タンク３７４と、を含む。真空ポンプ３７２を駆動することで、脱水室３７１が減圧されて負圧となり、ろ布３１上に載せられた石膏スラリー中の水分は、下方から強制的に吸引され、石膏スラリーは脱水される。

真空ポンプ３７２により吸引されて脱水室３７１から真空タンク３７４に送られた水分（ろ液）は、真空タンク３７４の下端部に一端側が接続されて他端側が下方に向かって延在する液体排出配管３７５内を通り、ろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽６に流下する。

ろ布３１上に載せられて搬送される石膏スラリーは、搬送ベルト３２に搬送されるにつれて脱水が進んでケーキとなる。図示される実施形態では、ケーキ洗浄装置４４は、上記ケーキ洗浄液噴出部４５（例えば、噴射ノズル）と、ケーキ洗浄液噴出部４５に一端部が接続され、他端部が不図示の洗浄液タンクに接続されるケーキ洗浄液供給配管４６と、ケーキ洗浄液供給配管４６に設けられるポンプ４７と、を有する。ポンプ４７を駆動することで、洗浄液が洗浄液タンクからケーキ洗浄液噴出部４５に送られ、ケーキ洗浄液噴出部４５から下方に位置するろ布上の石膏スラリー（ケーキ）に向かって噴出される。石膏スラリー（ケーキ）は、洗浄液により洗浄されることで、不純物（例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなど）が除去される。ケーキ洗浄液としては、例えば、工業用水などが挙げられる。ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液は、脱水装置３７により吸引され、ろ布３１や搬送ベルト３２を通過し、ろ液として、脱水室３７１から真空タンク３７４に送られ、液体排出配管３７５内を通り、ろ液貯留槽６に流下する。

図示される実施形態では、蒸気噴出装置５４の蒸気噴出部５５（例えば、噴射ノズル）に、不図示のボイラに繋がる蒸気配管５６から乾燥用蒸気が送られ、蒸気噴出部５５から下方に位置するろ布３１上の石膏スラリーに向かって噴出される。ろ布３１上の石膏スラリーは、乾燥用蒸気により、石膏スラリーに含まれる水分が加熱除去される。

図示される実施形態では、ろ布３１上の石膏スラリーを脱水部３６において脱水して得られる石膏は、搬送ベルト３２の搬送方向における脱水部３６（例えば、蒸気噴出部５５）よりも下流側において、ろ布３１上から取り除かれる。搬送装置３における石膏がろ布３１上から取り除かれる領域を石膏排出部４３とする。

石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、搬送ベルト３２の搬送方向における石膏排出部４３よりも下流側において、ろ布３１に対してろ布洗浄液を噴出可能なろ布洗浄液噴出部５１を有するろ布洗浄装置５をさらに備える。図示される実施形態では、ろ布洗浄装置５は、二つのドラム３３よりも下方に配置された上記ろ布洗浄液噴出部５１（例えば、噴射ノズル）と、ろ布洗浄液噴出部５１に一端部が接続され、他端部が不図示の洗浄液タンクに接続されるろ布洗浄液供給配管５２と、ろ布洗浄液供給配管５２に設けられるポンプ５３と、を有する。ポンプ５３を駆動することで、洗浄液が洗浄液タンクからろ布洗浄液噴出部５１に送られ、ろ布洗浄液噴出部５１からろ布３１に向かって噴出される。ろ布３１は、洗浄液により洗浄されることで、不純物が除去される。ろ布洗浄液としては、例えば、工業用水などが挙げられる。なお、ろ布洗浄液は、ろ布３１の外面又は内面の少なくとも一方に向かって噴出される。

石膏スラリー脱水システム１は、例えば図２に示されるように、ろ布洗浄液噴出部５１の下方に設けられるろ布洗浄液受け部５８（例えば、トレイ）と、ろ布洗浄液受け部５８に一端側が接続されて他端側が下方に向かって延在するろ布洗浄液排出配管５９と、をさらに備える。ろ布洗浄液噴出部５１から噴出されたろ布洗浄液は、ろ布洗浄液受け部５８上に落下する。ろ布洗浄液受け部５８上に落下したろ布洗浄液は、ろ布洗浄液排出配管５９内を通り、ろ布洗浄液を貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽８に流下する。

図示される実施形態では、石膏スラリー脱水システム１は、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、ろ液を貯留するための内部空間６１を画定するように構成された上記ろ液貯留槽６と、吸収塔２０Ａの外部に配置されるとともに、ろ布洗浄液を貯留するための内部空間８１を画定するように構成された上記ろ布洗浄液貯留槽８と、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を、上記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備１６に送るように構成されたろ液排出ライン７と、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体を、上述した吸収液貯留槽１７に送るように構成された送水ライン９と、をさらに備える。つまり、ろ液貯留槽６に貯留される液体（ろ液）は、排水処理設備１６に送られた後に系外に排出され、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体（ろ布洗浄液を含む液体）は、吸収液貯留槽１７に送られ、不図示の供給ラインを介して供給された石灰石と混合され、吸収液として吸収塔２０Ａに送られる。

幾つかの実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム１は、図２に示されるように、石膏スラリーをろ布３１上に載せた状態で搬送する搬送ベルト３２を有する上述した搬送装置３と、ろ布３１に対してろ布洗浄液を噴出可能なろ布洗浄液噴出部５１（噴出部）を有する上述したろ布洗浄装置５と、ろ布３１により石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成された上述したろ液貯留槽６と、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備１６に送るように構成された上述したろ液排出ライン７と、ろ液貯留槽６とは異なるろ布洗浄液貯留槽８であって、ろ布洗浄液噴出部５１（噴出部）からろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成された上述したろ布洗浄液貯留槽８と、を備える。

排煙脱硫装置２０から排出される石膏スラリーは、排煙脱硫装置２０において排ガスから不純物（例えば、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質など）を吸収している。そして、脱水処理設備（例えば、搬送装置３など）において石膏スラリーから不純物がろ液とともに石膏から分離される。また、ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液には、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなどの不純物が含まれる。このため、石膏スラリーから分離されたろ液やケーキの洗浄に供された後、ろ液として、ろ液貯留槽に送られたケーキ洗浄液は、ろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液に比べて、不純物の含有率が高い。不純物の含有率の高いろ液を、排煙脱硫装置２０における吸収液の循環系統に戻すと、排煙脱硫装置２０における吸収液中の不純物の含有率が増加するため適切ではない。不純物の含有率の高いろ液は、排水処理設備１６において排水処理後に系外に排出することが好ましい。

上記の構成によれば、石膏スラリーから分離されたろ液とケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液をろ液貯留槽６に貯留することができ、ろ布３１に対して噴出されたろ布洗浄液をろ布洗浄液貯留槽８に貯留することができる。そして、ろ液貯留槽６に貯留されたろ液を、ろ液排出ライン７を介して排水処理設備１６に送り、排水処理設備１６において排水処理後に系外に排出することができる。このように、不純物の含有率が高いろ液と不純物の含有率が低いろ布洗浄液とを分けて貯留し、排水処理設備１６に送られる排水を、ろ液貯留槽６に貯留された不純物の含有率が高いろ液に限定することで、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備１６に送られる排水の量を、ろ布洗浄液の分だけ少なくすることができる。また、排水処理設備１６に送られる排水の量を少なくすることで、排水処理設備１６の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる。

幾つかの実施形態では、上述したろ液貯留槽６は、図２に示されるように、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、所定の高さＨ１を上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽８に越流するように構成される。

図示される実施形態では、図２に示されるように、ろ液貯留槽６は、角筒状の内側面６２と底面６３とを有する。内部空間６１は、内側面６２と底面６３により区画される。ろ布洗浄液貯留槽８は、角筒状の内側面８２と底面８３とを有する。内部空間８１は、内側面８２と底面８３により区画される。図２に示される実施形態では、ろ布洗浄液貯留槽８の底面８３は、ろ液貯留槽６の底面６３と同じ高さ位置になるように構成されている。ろ液貯留槽６は、ろ布洗浄液貯留槽８との間に堰６４を挟んでろ布洗浄液貯留槽８に隣接して配置されている。堰６４は、底面６３から鉛直方向に沿って上方に向かって立設するとともに、上記内側面６２のうちの一面６２Ａを一方側に有し、且つ上記内側面８２のうちの一面８２Ａを他方側に有する。この場合には、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、上記所定の高さＨ１である堰６４の上端の高さを上回ったろ液が、堰６４を越えてろ布洗浄液貯留槽８に流れ込む。他の幾つかの実施形態では、上記堰６４の代わりに、ろ液貯留槽６の上記所定の高さ位置に一端側が接続され、且つ、他端側がろ布洗浄液貯留槽８の上記所定の高さ位置よりの低い位置に接続されるオーバーフロー管を設けてもよい。

上記の構成によれば、ろ液貯留槽６は、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液の内、所定の高さＨ１を上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽８に越流するように構成されている。このため、排水処理設備１６に送る必要が有る所定量のろ液以外のろ液を、ポンプやレベル制御などの複雑な設備を介すること無くろ布洗浄液貯留槽８に送液することができ、設備の複雑化や高額化を抑制することができる。
また、例えば、ろ液貯留槽６に、排水処理設備１６で処理可能な量を超えるろ液が供給されたときでも、ろ液貯留槽６から、排水処理設備１６に、処理可能な量だけのろ液を送れば、残りの、処理可能な量を超えた分のろ液は、自然に、ろ布洗浄液貯留槽８に越流して、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留されるため、排水処理設備１６を、余裕をみて、大きな設備とする必要はなく、排水処理設備１６の高額化を抑制することができる。

幾つかの実施形態では、上述したろ液排出ライン７は、上述したろ液貯留槽６と上述した排水処理設備１６に接続される排水配管７１と、排水配管７１に設けられた排水ポンプ７２と、排水配管７１における排水ポンプ７２の下流側に設けられるとともに、ろ液貯留槽６から排水処理設備１６に送られるろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁７３と、を少なくとも含む。

図３は、本開示の一実施形態における排水処理設備を説明するための説明図である。
排水処理設備１６は、図３に示されるように、排水を貯留するように構成された内部空間１６２を有するとともに、凝集沈殿処理が行われる第１凝集沈殿槽１６１と、排水を貯留するように構成された内部空間１６４を有するとともに、凝集沈殿処理が行われる第２凝集沈殿槽１６３と、を少なくとも含む。第２凝集沈殿槽１６３は、第１凝集沈殿槽１６１よりも排水の流れ方向の下流側に設けられる。

排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１に凝集剤を添加するように構成された第１凝集剤添加ライン１６５と、第２凝集沈殿槽１６３に凝集剤を添加するように構成された第２凝集剤添加ライン１６６と、をさらに含む。第１凝集剤添加ライン１６５により、第１凝集沈殿槽１６１に凝集剤（例えば、硫酸アルミニウムなどのアルミニウム化合物）が添加されることで、排水中に水酸化アルミニウムのフロックが析出し、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質などの不純物が上記フロックに包含されて沈殿する。第２凝集剤添加ライン１６６により、第２凝集沈殿槽１６３に凝集剤（例えば、炭酸ソーダ）が添加されることで、排水中に炭酸カルシウムのフロックが析出し、懸濁物質などが上記フロックに包含されて沈殿する。なお、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３にはｐＨ調整剤も添加してもよい。

第１凝集沈殿槽１６１は、排水配管７１の流量調整弁７３よりも下流側に接続されており、排水配管７１を介してろ液貯留槽６から排水（ろ液）が送られる。第１凝集沈殿槽１６１は、第１凝集沈殿槽１６１に貯留される排水の内、第１凝集沈殿槽１６１における凝縮処理が行われた排水であって、所定の高さＨ２を上回った排水が第２凝集沈殿槽１６３に越流するように構成されている。

図示される実施形態では、第１凝集沈殿槽１６１は、第１凝集沈殿槽１６１に隣接して配置される第２凝集沈殿槽１６３との間に設けられる堰１６７と、堰１６７よりも排水の流れ方向の上流側に設けられる仕切り１６８と、をさらに含む。仕切り１６８は、堰１６７の上端よりも下方に垂れ下がることで、第１凝集沈殿槽１６１を、排水配管７１から排水が投入される一方側と、仕切り１６８を挟んで上記一方側とは反対側の他方側と、に区分する。第１凝集沈殿槽１６１の上記他方側には、主に第１凝集沈殿槽１６１における凝集沈殿処理が行われた排水が貯留される。この場合には、第１凝集沈殿槽１６１の上記他方側に貯留される液体のうち、上記所定の高さＨ２である堰１６７の上端の高さを上回った排水が、堰１６７を越えて第２凝集沈殿槽１６３に流れ込む。なお、排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３において、沈殿したフロックを除去するように構成された不図示の不純物除去機構を備える。また、他の幾つかの実施形態では、上述した堰１６７の代わりにオーバーフロー管を設けてもよい。

排水処理設備１６は、第１凝集沈殿槽１６１や第２凝集沈殿槽１６３などの各槽に送られる排水の量が多いと、各槽において不純物を十分に除去する前に排水が下流側に送られるので、排水処理が不十分となる虞がある。このため、上述したろ液排出ライン７は、排水処理設備１６の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備１６に送ることが好ましい。

上記の構成によれば、ろ液排出ライン７は、ろ液貯留槽６と排水処理設備１６に接続される排水配管７１、排水配管７１に設けられる排水ポンプ７２、および排水配管７１における排水ポンプ７２の下流側に設けられる流量調整弁７３を含むので、排水配管７１を介してろ液貯留槽６から排水処理設備１６に送られるろ液の流量を調整することができる。このため、ろ液排出ライン７は、排水処理設備１６の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備１６に送ることができる。

幾つかの実施形態では、上述した石膏スラリー脱水システム１は、排煙脱硫装置２０において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された上述した吸収液貯留槽１７と、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体を吸収液貯留槽１７に送るように構成された送水ライン９と、をさらに備える。

石膏排出後のろ布３１に付着している不純物は少量であるため、ろ布洗浄液は、ろ布３１に付着している不純物を吸収しても不純物の含有率が低い。ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ液貯留槽６から不純物の含有率が高いろ液が越流することがあるが、ろ布洗浄液により薄められるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体は、ろ液貯留槽６に貯留されるろ液に比べて、不純物の含有率が低い。上記の構成によれば、不純物の含有率の低いろ布洗浄液貯留槽８に貯留される液体を、送水ライン９を介して吸収液貯留槽１７に送ることで、上記液体を排煙脱硫装置２０における吸収液の循環系統に戻して吸収液として再利用することができる。

幾つかの実施形態では、上述した上記送水ライン９は、図２に示されるように、上述したろ布洗浄液貯留槽８と上述した吸収液貯留槽１７に接続される送水配管９１と、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２と、を含む。送水ポンプ９２は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３に応じて回転数が制御されるように構成される。

図示される実施形態では、図２に示されるように、上述した石膏スラリー脱水システム１は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３を取得するように構成された液面高さ取得装置９３と、液面高さ取得装置９３が取得した液面高さＨ３に応じて、送水ポンプ９２に回転数を指示するように構成された回転数指示部９４１を含む制御装置９４と、をさらに備える。

液面高さ取得装置９３としては、例えば赤外線式の液面センサなどが挙げられる。制御装置９４は、送水ポンプ９２の回転数を調整するための電子制御ユニットであり、図示しないＣＰＵ（プロセッサ）や、ＲＯＭやＲＡＭといったメモリ、外部記憶装置などの記憶装置、Ｉ／Ｏインターフェース、通信インターフェースなどからなるマイクロコンピュータとして構成されていてもよい。そして、例えば上記メモリの主記憶装置にロードされたプログラムの命令に従ってＣＰＵが動作（例えばデータの演算など）することで、各機能部を実現する。制御装置９４は、送水ポンプ９２や液面高さ取得装置９３に対して信号の送受信が可能に構成されている。送水ポンプ９２は、制御装置９４から送られる信号により電気的に制御され、該信号に応じて、駆動や停止するとともに、その回転数を調整可能に構成されている。このような送水ポンプ９２としては、例えばインバータモータなどを内蔵する送水ポンプが挙げられる。

図示される実施形態では、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨに満たない場合には、送水ポンプ９２に停止するように指示する。また、送水ポンプ９２が停止した状態において、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨ以上になった場合には、送水ポンプ９２に駆動するように指示する。また、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨ以下、且つ下限閾値ＬＨ以上である場合には、送水ポンプ９２に第１の回転数により回転するように指示する。回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨを超える場合には、送水ポンプ９２に第１の回転数よりも速い第２の回転数により回転するように指示する。上限閾値ＵＨは、所定の高さＨ１（堰６４の上端の高さ）よりも低く設定される。
なお、他の幾つかの実施形態では、回転数指示部９４１は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上がるにつれて、連続的又は段階的に送水ポンプ９２に指示する回転数を増加させるように構成されていてもよい。

ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽６から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れ出す虞がある。上記の構成によれば、送水ライン９は、ろ布洗浄液貯留槽８と吸収液貯留槽１７に接続される送水配管９１、および送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２を含む。そして、上記送水ポンプ９２は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように送水ポンプ９２の回転数が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れることを抑制することができる。

図４は、本開示の一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システムの他の一例を説明するための説明図である。
幾つかの実施形態では、上述した送水ライン９は、図４に示されるように、上述した送水配管９１と、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２と、送水配管９１に設けられるとともに、ろ布洗浄液貯留槽８から吸収液貯留槽１７に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁９５と、を含む。流量制御弁９５は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さＨ３に応じてその開度が制御されるように構成される。なお、この場合、送水ポンプ９２の回転数は一定に維持される。

図示される実施形態では、図４に示されるように、上述した石膏スラリー脱水システム１は、上述した液面高さ取得装置９３と、液面高さ取得装置９３が取得した液面高さＨ３に応じて、流量制御弁９５に開度を指示するように構成された開度指示部９４２を含む制御装置９４Ａ（９４）と、を備える。

制御装置９４Ａは、流量制御弁９５の開度を調整するための電子制御ユニットであり、図示しないＣＰＵ（プロセッサ）や、ＲＯＭやＲＡＭといったメモリ、外部記憶装置などの記憶装置、Ｉ／Ｏインターフェース、通信インターフェースなどからなるマイクロコンピュータとして構成されていてもよい。そして、例えば上記メモリの主記憶装置にロードされたプログラムの命令に従ってＣＰＵが動作（例えばデータの演算など）することで、各機能部を実現する。制御装置９４Ａは、流量制御弁９５や液面高さ取得装置９３に対して信号の送受信が可能に構成されている。流量制御弁９５は、制御装置９４Ａから送られる信号により電気的に制御され、該信号に応じて、流量制御弁９５の弁体を駆動させて流量制御弁９５の内部の流路を開閉させるとともに、流量制御弁９５の開度を、全閉および全開以外の所望の開度に調整可能に構成されている。このような流量制御弁９５としては、例えば制御弁が挙げられる。なお、図示される実施形態では、流量制御弁９５は、送水ポンプ９２よりも送水配管９１の下流側（吸収液貯留槽１７側）に設けられている。

図示される実施形態では、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨに満たない場合には、流量制御弁９５に全閉となるように指示する。また、流量制御弁９５が閉じた状態において、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が下限閾値ＬＨ以上になった場合には、流量制御弁９５に開くように指示する。また、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨ以下、且つ下限閾値ＬＨ以上である場合には、流量制御弁９５にその開度が第１の開度となるように指示する。流量制御弁９５は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上限閾値ＵＨを超える場合には、流量制御弁９５にその開度が第１の開度よりも開いた第２の開度（例えば、全開）となるように指示する。なお、他の幾つかの実施形態では、開度指示部９４２は、液面高さ取得装置９３から送られる液面高さＨ３が上がるにつれて、連続的又は段階的に流量制御弁９５に指示する開度を大きくして、流量制御弁９５を通過する液体の流量を増加させるように構成されていてもよい。

また、他の幾つかの実施形態では、上述した流量制御弁９５は、全閉および全開の二位置になるが、全閉および全開以外の開度に調整できないように構成されていてもよい。開度指示部９４２は、流量制御弁９５に開度として全開又は全閉の何れかを指示する。この場合には、開度指示部９４２は、一定期間内における流量制御弁９５を全開とする期間の割合を増やすことで、流量制御弁９５を通過する液体の流量を増加させることができる。このような流量制御弁９５としては、例えば電磁弁などが挙げられる。

上述したように、ろ布洗浄液貯留槽８には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽６から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れ出す虞がある。上記の構成によれば、送水ライン９は、上記送水配管９１、送水配管９１に設けられた送水ポンプ９２および送水配管９１に設けられた流量制御弁９５を含む。そして、上記流量制御弁９５は、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さに応じてその開度が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽８に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように流量制御弁９５の開度が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽８から上記液体が溢れることを抑制することができる。

本開示は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。

上述した幾つかの実施形態に記載の内容は、例えば以下のように把握されるものである。

１）本開示の少なくとも一実施形態にかかる石膏スラリー脱水システム（１）は、
排煙脱硫装置（２０）から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記石膏スラリーをろ布（３１）上に載せた状態で搬送する搬送ベルト（３２）を有する搬送装置（３）と、
上記ろ布（３１）に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部（ろ布洗浄液噴出部５１）を有するろ布洗浄装置（５）と、
上記ろ布（３１）により上記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽（６）と、
上記ろ液貯留槽（６）に貯留された上記ろ液を、上記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備（１６）に送るように構成されたろ液排出ライン（７）と、
上記ろ液貯留槽（６）とは異なるろ布洗浄液貯留槽（８）であって、上記噴出部（ろ布洗浄液噴出部５１）から上記ろ布（３１）に対して噴出された上記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽（８）と、を備える。

排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーは、排煙脱硫装置において排ガスから不純物（例えば、排ガスから除去した燃焼灰やスートなどの懸濁物質や、溶解重金属などの汚濁物質など）を吸収している。そして、脱水処理設備（例えば、搬送装置など）において石膏スラリーから不純物がろ液とともに石膏から分離される。また、ケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液には、マグネシウム（Ｍｇ）、塩素（Ｃｌ）、ナトリウム（Ｎａ）といった金属イオンなどの不純物が含まれる。このため、石膏スラリーから分離されたろ液やケーキの洗浄に供された後、ろ液として、ろ液貯留槽に送られたケーキ洗浄液は、ろ布に対して噴出されたろ布洗浄液に比べて、不純物の含有率が高い。不純物の含有率の高いろ液を、排煙脱硫装置における吸収液の循環系統に戻すと、排煙脱硫装置における吸収液中の不純物の含有率が増加するため適切ではない。不純物の含有率の高いろ液は、排水処理設備において排水処理後に系外に排出することが好ましい。

上記１）の構成によれば、石膏スラリーから分離されたろ液とケーキの洗浄に供されたケーキ洗浄液をろ液貯留槽（６）に貯留することができ、ろ布に対して噴出されたろ布洗浄液をろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留することができる。そして、ろ液貯留槽に貯留されたろ液を、ろ液排出ライン（７）を介して排水処理設備（１６）に送り、排水処理設備において排水処理後に系外に排出することができる。このように、不純物の含有率が高いろ液と不純物の含有率が低いろ布洗浄液とを分けて貯留し、排水処理設備に送られる排水を、ろ液貯留槽に貯留された不純物の含有率が高いろ液に限定することで、石膏スラリーの脱水処理設備から排水処理設備に送られる排水の量を、ろ布洗浄液の分だけ少なくすることができる。また、排水処理設備に送られる排水の量を少なくすることで、排水処理設備の大型化や設備費用の高額化を抑制することができる。

２）幾つかの実施形態では、上記１）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記ろ液貯留槽（６）は、上記ろ液貯留槽（６）に貯留される上記ろ液の内、所定の高さを上回ったろ液が上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に越流するように構成される。

上記２）の構成によれば、ろ液貯留槽（６）は、ろ液貯留槽に貯留されるろ液の内、所定の高さを上回ったろ液がろ布洗浄液貯留槽（８）に越流するように構成されている。このため、排水処理設備（１６）に送る必要が有る所定量のろ液以外のろ液を、ポンプやレベル制御などの複雑な設備を介すること無くろ布洗浄液貯留槽（８）に送液することができ、設備の複雑化や高額化を抑制することができる。
また、例えば、ろ液貯留槽（８）に、排水処理設備（１６）で処理可能な量を超えるろ液が供給されたときでも、ろ液貯留槽（８）から、排水処理設備（１６）に、処理可能な量だけのろ液を送れば、残りの、処理可能な量を超えた分のろ液は、自然に、ろ布洗浄液貯留槽（８）に越流して、ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留されるため、排水処理設備（１６）を、余裕をみて、大きな設備とする必要はなく、排水処理設備（１６）の高額化を抑制することができる。

３）幾つかの実施形態では、上記２）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記ろ液排出ライン（７）は、
上記ろ液貯留槽（６）と上記排水処理設備（１６）に接続される排水配管（７１）と、
上記排水配管（７１）に設けられた排水ポンプ（７２）と、
上記排水配管（７１）における上記排水ポンプ（７２）の下流側に設けられるとともに、上記ろ液貯留槽（６）から上記排水処理設備（１６）に送られる上記ろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁（７３）と、を少なくとも含む。

上記３）の構成によれば、ろ液排出ラインは、ろ液貯留槽と排水処理設備に接続される排水配管、上記排水配管に設けられる排水ポンプ、および上記排水配管における排水ポンプの下流側に設けられる流量調整弁を含むので、排水配管を介してろ液貯留槽から排水処理設備に送られるろ液の流量を調整することができる。このため、ろ液排出ラインは、排水処理設備の処理性能に応じた量のろ液を排水処理設備に送ることができる。

４）幾つかの実施形態では、上記３）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記排煙脱硫装置（２０）において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された吸収液貯留槽（１７）と、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留される液体を上記吸収液貯留槽（１７）に送るように構成された送水ライン（９）と、をさらに備える。

石膏排出後のろ布に付着している不純物は少量であるため、ろ布洗浄液は、ろ布に付着している不純物を吸収しても不純物の含有率が低い。ろ布洗浄液貯留槽には、ろ液貯留槽から不純物の含有率が高いろ液が越流することがあるが、ろ布洗浄液により薄められるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体は、ろ液貯留槽に貯留されるろ液に比べて、不純物の含有率が低い。上記４）の構成によれば、不純物の含有率の低い上記ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体を、送水ラインを介して吸収液貯留槽１７に送ることで、上記液体を排煙脱硫装置における吸収液の循環系統に戻して吸収液として再利用することができる。

５）幾つかの実施形態では、上記４）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記送水ライン（９）は、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）と上記吸収液貯留槽（１７）に接続される送水配管（９１）と、
上記送水配管（９１）に設けられた送水ポンプ（９２）と、を含み、
上記送水ポンプ（９２）は、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。

ろ布洗浄液貯留槽には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽（６）から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れ出す虞がある。上記５）の構成によれば、送水ラインは、ろ布洗浄液貯留槽と吸収液貯留槽に接続される送水配管、および上記送水配管に設けられた送水ポンプを含む。そして、上記送水ポンプは、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように送水ポンプの回転数が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れることを抑制することができる。

６）幾つかの実施形態では、上記４）に記載の石膏スラリー脱水システム（１）であって、
上記送水ライン（９）は、
上記ろ布洗浄液貯留槽（８）と上記吸収液貯留槽（１７）に接続される送水配管（９１）と、
上記送水配管（９１）に設けられた送水ポンプ（９２）と、
上記送水配管（９１）に設けられるとともに、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）から上記吸収液貯留槽（１７）に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁（９５）と、を含み、
上記流量制御弁（９５）は、上記ろ布洗浄液貯留槽（８）に貯留された液体の液面高さに応じて開度が制御されるように構成される。

上述したように、ろ布洗浄液貯留槽には、ろ布洗浄液だけでなく、ろ液貯留槽（６）から越流したろ液が送られるため、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが急激に大きく上昇して、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れ出す虞がある。上記６）の構成によれば、送水ラインは、上記送水配管、送水配管に設けられた送水ポンプおよび送水配管に設けられた流量制御弁を含む。そして、上記流量制御弁は、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じてその開度が制御されるように構成される。この場合には、ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さが過度に高くならないように流量制御弁の開度が制御されることで、ろ布洗浄液貯留槽から上記液体が溢れることを抑制することができる。

１ 石膏スラリー脱水システム
３ 搬送装置
３１ ろ布
３１１ 被支持部
３１２ 上面
３２ 搬送ベルト
３２１ 上面
３２２ 支持部
３３，３３Ａ，３３Ｂ ドラム
３４ モータ
３５ ガイドローラ
３６ 脱水部
３７ 脱水装置
３７１ 脱水室
３７２ 真空ポンプ
３７３ 減圧配管
３７４ 真空タンク
３７５ 液体排出配管
４ 供給装置
４１ 供給部
４２ 供給配管
４３ 石膏排出部
４４ ケーキ洗浄装置
４５ ケーキ洗浄液噴出部
４６ ケーキ洗浄液供給配管
４７ ポンプ
５ ろ布洗浄装置
５１ ろ布洗浄液噴出部
５２ ろ布洗浄液供給配管
５３ ポンプ
５４ 蒸気噴出装置
５５ 蒸気噴出部
５６ 蒸気配管
５８ ろ布洗浄液受け部
５９ ろ布洗浄液排出配管
６ ろ液貯留槽
６１ 内部空間
６２ 内側面
６３ 底面
６４ 堰
７ ろ液排出ライン
７１ 排水配管
７２ 排水ポンプ
７３ 流量調整弁
８ ろ布洗浄液貯留槽
８１ 内部空間
８２ 内側面
８３ 底面
９ 送水ライン
９１ 送水配管
９２ 送水ポンプ
９３ 液面高さ取得装置
９４，９４Ａ 制御装置
９４１ 回転数指示部
９４２ 開度指示部
９５ 流量制御弁
１０ 排ガス洗浄システム
１１ 燃焼設備
１２ 吸収液供給ライン
１２１ 吸収液供給配管
１２２ 供給ポンプ
１３ 吸収液循環ライン
１３１ 吸収液循環配管
１３２ 循環ポンプ
１３３ 第１分岐部
１４ 吸収液抜き出しライン
１４１ 配管
１４２ 調整弁
１４３ 第２分岐部
１５ 吸収液返送ライン
１５１ 吸収液返送配管
１６ 排ガス処理設備
１６１ 第１凝集沈殿槽
１６２ 内部空間
１６３ 第２凝集沈殿槽
１６４ 内部空間
１６５ 第１凝集剤添加ライン
１６６ 第２凝集剤添加ライン
１６７ 堰
１６８ 仕切り
１７ 吸収液貯留槽
１７１ 内部空間
２０ 排煙脱硫装置
２０Ａ 吸収塔
２１ 内部空間
２１Ａ 気液接触部
２１Ｂ 液だまり部
２２ 吸収塔本体
２２１ 吸収液抜出口
２２２ ノズル貫通口
２２３ 吸収液供給口
２２４ 吸収液返送口
２３ 排ガス導入口
２４ 排ガス排出口
２５ ミストエリミネータ
２６ 噴霧装置
２６１ 噴霧管
２６２ 噴霧ノズル
２６３ 噴霧口
２７ 酸化用気体供給装置
２７１ ノズル
２７２ ポンプ
２７３ 開口
ＬＨ 下限閾値
ＵＨ 上限閾値
Ｖ１ ろ液貯留槽の容量
Ｖ２ ろ布洗浄液貯留槽の容量

Claims (6)

1. 排煙脱硫装置から排出される石膏スラリーを脱水するための石膏スラリー脱水システムであって、
   前記石膏スラリーをろ布上に載せた状態で搬送する搬送ベルトを有する搬送装置と、
   前記ろ布に対してろ布洗浄液を噴出可能な噴出部を有するろ布洗浄装置と、
   前記ろ布により前記石膏スラリーから分離されたろ液を貯留するように構成されたろ液貯留槽と、
   前記ろ液貯留槽に貯留された前記ろ液を、前記ろ液を系外に排出するための処理を行う排水処理設備に送るように構成されたろ液排出ラインと、
   前記ろ液貯留槽とは異なるろ布洗浄液貯留槽であって、前記噴出部から前記ろ布に対して噴出された前記ろ布洗浄液を少なくとも貯留するように構成されたろ布洗浄液貯留槽と、
   を備える石膏スラリー脱水システム。
2. 前記ろ液貯留槽は、前記ろ液貯留槽に貯留される前記ろ液の内、所定の高さを上回ったろ液が前記ろ布洗浄液貯留槽に越流するように構成される
   請求項１に記載の石膏スラリー脱水システム。
3. 前記ろ液排出ラインは、
   前記ろ液貯留槽と前記排水処理設備に接続される排水配管と、
   前記排水配管に設けられた排水ポンプと、
   前記排水配管における前記排水ポンプの下流側に設けられるとともに、前記ろ液貯留槽から前記排水処理設備に送られる前記ろ液の流量を調整可能に構成された流量調整弁と、を少なくとも含む
   請求項２に記載の石膏スラリー脱水システム。
4. 前記排煙脱硫装置において排ガスに気液接触させる吸収液を貯留するように構成された吸収液貯留槽と、
   前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留される液体を前記吸収液貯留槽に送るように構成された送水ラインと、をさらに備える
   請求項３に記載の石膏スラリー脱水システム。
5. 前記送水ラインは、
   前記ろ布洗浄液貯留槽と前記吸収液貯留槽に接続される送水配管と、
   前記送水配管に設けられた送水ポンプと、を含み、
   前記送水ポンプは、前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて回転数が制御されるように構成される
   請求項４に記載の石膏スラリー脱水システム。
6. 前記送水ラインは、
   前記ろ布洗浄液貯留槽と前記吸収液貯留槽に接続される送水配管と、
   前記送水配管に設けられた送水ポンプと、
   前記送水配管に設けられるとともに、前記ろ布洗浄液貯留槽から前記吸収液貯留槽に送られる液体の流量を調整可能に構成された流量制御弁と、を含み、
   前記流量制御弁は、前記ろ布洗浄液貯留槽に貯留された液体の液面高さに応じて開度が制御されるように構成される
   請求項４に記載の石膏スラリー脱水システム。

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