JP2021048114A - 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 - Google Patents
走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021048114A JP2021048114A JP2019171588A JP2019171588A JP2021048114A JP 2021048114 A JP2021048114 A JP 2021048114A JP 2019171588 A JP2019171588 A JP 2019171588A JP 2019171588 A JP2019171588 A JP 2019171588A JP 2021048114 A JP2021048114 A JP 2021048114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrons
- sample
- deflector
- primary
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 66
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 57
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 11
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000000979 retarding effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 74
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 5
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 101710121996 Hexon protein p72 Proteins 0.000 description 3
- 101710125418 Major capsid protein Proteins 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 2
- RFVFQQWKPSOBED-PSXMRANNSA-N 1-myristoyl-2-palmitoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)O[C@@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)COC(=O)CCCCCCCCCCCCC RFVFQQWKPSOBED-PSXMRANNSA-N 0.000 description 1
- 125000003821 2-(trimethylsilyl)ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si](C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C(OC([H])([H])[*])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910025794 LaB6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000013041 optical simulation Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 244000144985 peep Species 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
2:2次電子
3:ビームスプリッタ―
4:第1偏向装置
5:第2偏向装置
5−1:スペーサ
6:第3偏向装置
7:対物レンズ
7−1:コイル
8:サンプル
9:絞り
31、31−1:エミッター
32、32−1:エクストラクタ
33、33−1:加速電極
34、34−1:レンズ
35、35−1:対物アパチャー
41:電子銃
42:ブランキング装置
43:ブランキングアパチャー
44:対物アパチャー
45:第1偏向装置
46:第2偏向装置
47:第3偏向装置
48:対物レンズ
49:ミラー
50:偏向装置
51:XYZステージ
52:真空チャンバー
53:真空ポンプ
54:電子検出装置
55:隔膜(薄膜)
56:マスフロー制御装置
57:ガス
58:収差補正装置
61:電極兼ポールピース
62:コイル
63:ヨーク
65:ポールピース兼電極
66:コイル
67:磁気シールド
71:切込み
72:、73:タップ
74:円筒状極素材
V1、V2:リターディング電圧
Claims (8)
- 1次電子をサンプルに照射し、該サンプルから放出された2次電子を検出して該サンプルの2次電子画像を生成する走査型電子顕微鏡において、
1次電子を生成して加速する1次電子照射系と、
前記1次電子照射系で生成された1次電子を偏向する第1偏向装置と、
前記第1偏向装置で偏向された1次電子を逆方向に偏向して収差をキャンセルし、結像系の軸に一致させてサンプルに照射させると共に、該サンプルから放出された2次電子を前記1次電子と逆方向に偏向して分離する、少なくとも磁界で構成される第2偏向装置と、
前記第2偏向装置で偏向されて結像系の軸に一致させた後の前記1次電子を細く絞ってサンプルに照射すると共に、サンプルから放出された2次電子を前記第2偏向装置に入射させる対物レンズからなる結像系と、
前記第2偏向装置で偏向された後の2次電子を検出する2次電子検出系と
を備えことを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 前記第2偏向装置で偏向して分離された前記2次電子を、該第2偏向装置の偏向方向と逆方向に偏向して収差をキャンセルする第3偏向装置を設け、
該第3偏向装置で偏向して収差をキャンセルした後の2次電子を検出する2次電子検出系と
を備えたことを特徴とする請求項1に記載の走査型電子顕微鏡。 - 前記第1偏向装置および前記第3偏向装置は、磁界あるいは電界あるいは磁界と電界の4極以上を有する偏向装置としたことを特徴とする請求項1から請求項2のいずれかに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記第2偏向装置は、磁界と電界の各4極以上を有し、前記1次電子の進行方向と逆方向の前記2次電子を分離することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記サンプルと対物レンズの先端部分との間にリターディング電圧を印加し、サンプルに低加速電圧の1次電子にして照射したことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記対物レンズの部分に隔膜を設けて、該隔膜を境にサンプル側を低真空、反対側を高真空に保持したことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の走査型電子顕微鏡。
- 1次電子をサンプルに照射し、該サンプルから放出された2次電子を検出して該サンプルの2次電子画像を生成する走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法において、
1次電子を生成して加速する1次電子照射系と、
前記1次電子照射系で生成された1次電子を偏向する第1偏向装置と、
前記第1偏向装置で偏向された1次電子を逆方向に偏向して収差をキャンセルし、結像系の軸に一致させてサンプルに照射させると共に、該サンプルから放出された2次電子を前記1次電子と逆方向に偏向して分離する、少なくとも磁界で構成される第2偏向装置と、
前記第2偏向装置で偏向されて結像系の軸に一致させた後の前記1次電子を細く絞ってサンプルに照射すると共に、サンプルから放出された2次電子を前記第2偏向装置に入射させる対物レンズからなる結像系と、
前記第2偏向装置で偏向された後の2次電子を検出する2次電子検出系と
を設け、
前記第1偏向装置と前記第2偏向装置との偏向収差をキャンセルして低減し、2次電子画像の分解能を向上させたことを特徴とする走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法。 - 前記第2偏向装置と前記第3偏向装置との偏向収差を更にキャンセルして低減し、2次電子画像の分解能を向上させたことを特徴とする請求項7記載の走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019171588A JP7294971B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
JP2023094642A JP2023110072A (ja) | 2019-09-20 | 2023-06-08 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019171588A JP7294971B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023094642A Division JP2023110072A (ja) | 2019-09-20 | 2023-06-08 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021048114A true JP2021048114A (ja) | 2021-03-25 |
JP7294971B2 JP7294971B2 (ja) | 2023-06-20 |
Family
ID=74878677
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019171588A Active JP7294971B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
JP2023094642A Pending JP2023110072A (ja) | 2019-09-20 | 2023-06-08 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023094642A Pending JP2023110072A (ja) | 2019-09-20 | 2023-06-08 | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7294971B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113654462A (zh) * | 2021-08-23 | 2021-11-16 | 南开大学 | 监测超快电子显微镜探测光斑位置的方法及装置 |
JP7381515B2 (ja) | 2021-03-31 | 2023-11-15 | 株式会社日立ハイテク | 電子線応用装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332038A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームを用いた検査方法及び検査装置 |
JP2008078058A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Ebara Corp | 電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法 |
JP2016066413A (ja) * | 2014-09-22 | 2016-04-28 | 株式会社ホロン | 低真空用荷電粒子線装置 |
-
2019
- 2019-09-20 JP JP2019171588A patent/JP7294971B2/ja active Active
-
2023
- 2023-06-08 JP JP2023094642A patent/JP2023110072A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332038A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームを用いた検査方法及び検査装置 |
JP2008078058A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Ebara Corp | 電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法 |
JP2016066413A (ja) * | 2014-09-22 | 2016-04-28 | 株式会社ホロン | 低真空用荷電粒子線装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7381515B2 (ja) | 2021-03-31 | 2023-11-15 | 株式会社日立ハイテク | 電子線応用装置 |
CN113654462A (zh) * | 2021-08-23 | 2021-11-16 | 南开大学 | 监测超快电子显微镜探测光斑位置的方法及装置 |
CN113654462B (zh) * | 2021-08-23 | 2023-08-29 | 南开大学 | 监测超快电子显微镜探测光斑位置的方法及装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023110072A (ja) | 2023-08-08 |
JP7294971B2 (ja) | 2023-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10522327B2 (en) | Method of operating a charged particle beam specimen inspection system | |
US10062541B2 (en) | Apparatus of plural charged-particle beams | |
US8378299B2 (en) | Twin beam charged particle column and method of operating thereof | |
JP4460542B2 (ja) | 高空間分解能および多視点結像用の荷電粒子ビーム装置 | |
US6265719B1 (en) | Inspection method and apparatus using electron beam | |
EP0769799B1 (en) | Scanning electron microscope | |
KR102145469B1 (ko) | 검사 장치 | |
JP3403036B2 (ja) | 電子ビーム検査方法及びその装置 | |
US20150155134A1 (en) | Multi-beam system for high throughput ebi | |
JP2005056923A (ja) | マルチ荷電粒子線露光装置および方法ならびに該装置または方法を用いたデバイス製造方法 | |
US6365897B1 (en) | Electron beam type inspection device and method of making same | |
JP2023110072A (ja) | 走査型電子顕微鏡および走査型電子顕微鏡の2次電子検出方法 | |
JP5492306B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
JP2010073695A (ja) | 粒子光学装置において歪を補正する方法 | |
EP2068345B1 (en) | High resolution gas field ion column with reduced sample load | |
US20220351936A1 (en) | Multi-beam digital scan and image acquisition | |
JP2014238962A (ja) | 電子線装置 | |
JP2010118361A (ja) | 放出パターンの放出領域を選択するための装置及び方法 | |
JP2018190705A (ja) | 荷電粒子源の放出雑音補正 | |
US7638777B2 (en) | Imaging system with multi source array | |
TWI834161B (zh) | 多電子束圖像取得裝置及多電子束圖像取得方法 | |
US8063365B1 (en) | Non-shot-noise-limited source for electron beam lithography or inspection | |
JP2021068505A (ja) | 電子線装置及び電極 | |
JP4011608B2 (ja) | 荷電粒子ビーム光学装置、及び荷電粒子ビーム制御方法 | |
JP4113229B2 (ja) | 基板検査方法および基板検査システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220727 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230329 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230524 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7294971 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |