JP2021021901A - 重合性液晶組成液含有容器および重合性液晶組成液の保管方法 - Google Patents

Abstract

【課題】一時的または長期的に保管した際に、均質で配向欠陥を生じ難い液晶硬化層を得るための重合性液晶組成液の保管に適した重合性液晶組成液含有容器を提供する。【解決手段】気相部と重合性液晶組成液からなる液相部とを含む重合性液晶組成液含有容器であって、前記重合性液晶組成液が、重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含み、前記気相部の酸素濃度が、０．０５容積％以上２０．８容積％以下である、重合性液晶組成液含有容器。【選択図】なし

Description

本発明は、重合性液晶組成液含有容器および重合性液晶組成液の保管方法に関する。

近年、画像表示装置の薄型化に伴い、重合性液晶化合物を基材や配向膜上に塗布し、配向状態で硬化させることにより得られる液晶硬化層からなる位相差フィルム等の光学フィルムが開発されている。このような光学フィルムの製造においては、成膜性や取扱性等の観点から、通常、重合性液晶化合物は、該重合性液晶化合物を溶媒等に溶かして得られる重合性液晶組成液として基材や配向膜上に塗布される。

光学フィルムの実際の製造現場においては、重合性液晶組成液を液晶硬化層の製造に用いる前に一時的または長期的に容器に充填して保管する場合があり、このような液状の有機材料を貯蔵または運搬するための種々の有機材料用容器が提案されている（例えば特許文献１）。

国際公開第２０１６／０５２０６０号

重合性液晶化合物を溶媒に溶解させた状態で一時的または長期的に保管した後の重合性液晶組成液を用いて液晶硬化層を製造すると、液晶硬化層の配向性に欠陥が生じたり、酸化物を生成して色相が劣化したり、あるいは重合率が低下してしまうことがあり、製造される液晶硬化層の均質性を確保することが困難となる場合がある。

そこで、本発明は、一時的または長期的に保管した際に、均質で配向欠陥を生じ難い液晶硬化層を得るための重合性液晶組成液の保管に適した重合性液晶組成液含有容器を提供することを目的とする。

本発明は、以下の好適な態様を包含する。
［１］気相部と重合性液晶組成液からなる液相部とを含む重合性液晶組成液含有容器であって、
前記重合性液晶組成液が、重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含み、
前記気相部の酸素濃度が、０．０５容積％以上２０．８容積％以下である、
重合性液晶組成液含有容器。
［２］前記重合性液晶化合物は、（メタ）アクリロイル基を有する、前記［１］に記載の重合性液晶組成液含有容器。
［３］前記重合性液晶化合物は、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲に極大吸収を示す、前記［１］または［２］に記載の重合性液晶組成液含有容器。
［４］前記重合禁止剤として、フェノール系化合物およびアミン系化合物からなる群から選択される１種以上を含む、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
［５］前記気相部の酸素濃度が、０．１容積％以上１０容積％以下である、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
［６］容器の全光線透過率が２０％以下である、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
［７］重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含む重合性液晶組成液を、酸素濃度が０．０５容積％以上２０．８容積％以下の雰囲気下で容器中に保管することを含む、重合性液晶組成液の保管方法。
［８］全光線透過率が２０％以下の容器中で保管する、前記［７］に記載の重合性液晶組成液の保管方法。
［９］１０℃以上５０℃以下で保管する、前記［７］または［８］に記載の重合性液晶組成液の保管方法。

本発明によれば、一時的または長期的に保管した際に、均質で配向欠陥を生じ難い液晶硬化層を得るための重合性液晶組成液の保管に適した重合性液晶組成液含有容器を提供することができる。

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

＜重合性液晶組成液含有容器＞
本発明の重合性液晶組成液含有容器は、気相部と重合性液晶組成液からなる液相部とを含む。すなわち、本発明において「重合性液晶組成液含有容器」とは、気相部と重合性液晶組成液からなる液相部とが内部に存在している状態の容器をいう。

（Ａ）気相部
気相部は酸素を含む気体から構成される。本発明において気相部の酸素濃度は、重合性液晶組成液含有容器内で気相部が占める容積に対して、０．０５容積％以上２０．８容積％以下である。気相部の酸素濃度が２０．８容積％以下であることによって、重合性液晶組成液中で過酸化物が経時的に生成することにより生じ得る重合性液晶組成液の着色（黄変）を抑制することができる。これにより、該重合性液晶組成液から形成される液晶硬化層の着色を防止することができる。また、気相部の酸素濃度が０．０５容積％以上であることによって、重合性液晶組成液に含まれる重合禁止剤が十分に機能し、組成液中での重合性液晶化合物の重合を効果的に抑制することができる。これにより、組成液中に形成される重合体に起因する配向欠陥を抑制して均質な液晶硬化層を形成することができる。気相部の酸素濃度は、好ましくは２０容積％以下、より好ましくは１０容積％以下、さらに好ましくは５容積％以下、特に好ましくは３容積％以下あり、また、好ましくは０．０８容積％以上、より好ましくは０．１容積％以上である。

気相部の酸素濃度は、例えば、酸素濃度計により測定することができ、液相部を充填した容器内の酸素濃度を測定しながら、気相部の酸素濃度が所定の濃度となるまで容器内の気体を不活性ガスで置換する、酸素濃度が所定の濃度になるよう真空の雰囲気で脱気する、酸素濃度が所定の範囲となるよう酸素と不活性ガスとを混合した気体で置換する等の方法により制御することができる。

不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガスまたはそれらの混合物等を挙げることができる。経済性および取扱いの容易さの観点から、好ましくは、窒素が用いられる。

（Ｂ）液相部
液相部は、重合性液晶組成液からなる。本発明において重合性液晶組成液は、重合性液晶化合物と溶媒と光重合開始剤と重合禁止剤とを含む。以下、本発明の重合性液晶組成液に含まれる成分について詳細に説明する。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶組成液は、重合性液晶化合物を含む。本発明において、重合性液晶化合物は重合性官能基を含む液晶化合物を意味し、特に光重合性官能基を有する液晶化合物が好ましい。光重合性官能基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、（メタ）アクリロイル基（すなわち、メタクリロイル基またはアクリロイル基）、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

特定の酸素濃度下で重合性液晶化合物が存在する本発明の重合性液晶組成液含有容器においては、保管時の重合性液晶組成液の着色や重合性液晶化合物の重合による配向欠陥の発生を抑制することができる。このため本発明は、高い光学特性や優れた外観が求められる光学フィルムの分野において従来公知の重合性液晶化合物を用いる重合性液晶組成液に対して広く適用することができる。光学特性の観点から、重合性液晶化合物としては、例えば、以下の（ア）〜（エ）を満たす化合物が挙げられる。
（ア）ネマチック相またはスメクチック相を形成し得る化合物である。
（イ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（ウ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（エ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ） （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ） （ｉｉ）
とが、式（ｉｉｉ）
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕＜１ （ｉｉｉ）
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。また、上記記載のように長軸およびそれに対して交差方向上にπ電子を有する重合性液晶化合物は、一般にＴ字構造となりやすい。

上記（ア）〜（エ）の特徴において、長軸方向（ａ）およびπ電子数Ｎは以下のように定義される。
・長軸方向（ａ）は、例えば棒状構造を有する化合物であれば、その棒状の長軸方向である。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、長軸上のπ電子およびこれと共役するπ電子の合計数であり、例えば長軸方向（ａ）上に存在する環であって、ヒュッケル則を満たす環に存在するπ電子の数が含まれる。
・交差方向（ｂ）に存在するπ電子数Ｎ（πｂ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
上記を満たす重合性液晶化合物は、長軸方向にメソゲン構造を有している。このメソゲン構造によって、液晶相（ネマチック相、スメクチック相）を発現する。

上記（ア）〜（エ）を満たす重合性液晶化合物は、基材または配向膜上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相やスメクチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相またはスメクチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。このような重合性液晶化合物を膜状とし、ネマチック相またはスメクチック相の状態で重合させると、長軸方向（ａ）に配向した状態で重合した重合体からなる重合体膜を形成することができる。この重合体膜は、長軸方向（ａ）上のπ電子と交差方向（ｂ）上のπ電子により紫外線を吸収する。ここで、交差方向（ｂ）上のπ電子により吸収される紫外線の吸収極大波長をλｂｍａｘとする。λｂｍａｘは通常３００ｎｍ〜４００ｎｍである。π電子の密度は、上記式（ｉｉｉ）を満足していて、交差方向（ｂ）のπ電子密度が長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きいので、交差方向（ｂ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収が、長軸方向（ａ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収よりも大きな重合体膜となる。その比（直線偏光紫外線の交差方向（ｂ）の吸光度／長軸方向（ａ）の吸光度の比）は、例えば１．０超、好ましくは１．２以上、通常３０以下であり、例えば１０以下である。

上記特徴を有する重合性液晶化合物は、一般に、その配向状態の重合体の複屈折率が逆波長分散性を示すものであることが多い。光学特性により優れる液晶硬化層を得やすい観点から、本発明において重合性液晶組成液に含まれる重合性液晶化合物は、逆波長分散性を示すものであることが好ましい。

そのような重合性液晶化合物として、具体的には例えば、下記式（Ａ１）：

で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ１）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を有する二価の基を表す。ここでいう芳香族基とは、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをさし、例えば後述する（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）で例示されるようなＡｒ基を、二価の連結基を介して２個以上有していてもよい。ここでｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。芳香族基が１つである場合、二価の基Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基であってもよい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、エステル構造を有する二価の連結基である。
Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１およびＢ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。また、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳｉＨ_２−、−Ｃ（＝Ｏ）−で置換されていてもよい。
Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、光重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは（メタ）アクリロイル基である。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１またはＬ^２に結合するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、好ましくは−Ｒ^ａ１ＣＯＯＲ^ａ２−（Ｒ^ａ１およびＲ^ａ２はそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を表す）であり、より好ましくは−ＣＯＯＲ^ａ２−１−（Ｒ^ａ２−１は単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す）であり、さらに好ましくは−ＣＯＯ−または−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

Ｂ^１およびＢ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ３ＯＲ^ａ４−、−Ｒ^ａ５ＣＯＯＲ^ａ６−、−Ｒ^ａ７ＯＣＯＲ^ａ８−、または−Ｒ^ａ９ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１０−である。ここで、Ｒ^ａ３〜Ｒ^ａ１０はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^ａ４−１−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^ａ６−１−、または−ＯＣＯＲ^ａ８−１−である。ここで、Ｒ^ａ４−１、Ｒ^ａ６−１、Ｒ^ａ８−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｐ^１またはＰ^２で表される光重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。Ｐ^１またはＰ^２のうち、少なくとも１つはアクリロイル基またはメタクリロイル基であり、Ｐ^１およびＰ^２はいずれもアクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ａ１）中、Ａｒで表される二価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。また、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１’Ｒ^２’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^１’−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表し、Ｒ^１’およびＲ^２’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１およびＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。また、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１およびＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^１’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^１’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

重合性液晶化合物は、好ましくは波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下、より好ましくは波長３１５ｎｍ以上３８５ｎｍ以下、さらに好ましくは波長３２０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲に極大吸収（λ_ｍａｘ）を示す。本発明において重合性液晶組成液には光重合開始剤が含まれるため、保管中に重合反応およびゲル化を生じやすくなる。重合性液晶化合物が波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲に極大吸収を示すことによって、保管中の重合反応およびゲル化を防止し、長期保管を可能にすることができる。なお、重合性液晶化合物の極大吸収波長が、３００ｎｍ以上であると、重合性液晶化合物の配向状態における重合体から構成される液晶硬化層が逆波長分散性を示しやすい傾向にある。重合性液晶化合物の極大吸収波長が、４００ｎｍ以下であると、可視光域での吸収が抑制されるため、液晶硬化層への着色を抑えることができる。重合性液晶化合物の極大吸収波長は、重合性液晶化合物を溶解することができる溶媒中において、ＵＶ可視分光光度計を使用することにより測定することができる。

重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量は、該重合性液晶化合物、ならびに溶媒、光重合開始剤および重合禁止剤の種類および含有量等に応じて適宜選択すればよい。本発明の一実施態様において、重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成液の固形分１００質量部に対して、好ましくは７０質量部以上９９．５質量部以下、より好ましくは８０質量部以上９９質量部以下であり、さらに好ましくは９０質量部以上９８質量部以下である。ここで、本発明において固形分とは、重合性液晶組成液から溶媒等の揮発成分を除いた成分の合計を意味する。

（溶媒）
重合性液晶組成液は、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒を含む。前記群から選択される溶媒は、酸素の存在下活性ラジカルを生じることにより重合性液晶組成液中にともに含まれる重合禁止剤を機能させ、重合性液晶化合物の重合体形成の抑制に寄与し得る。一方で、これらの溶媒は酸素の存在下で過酸化物を生じるため、溶媒自体が経時的に着色（黄変）しやすい傾向にある。本発明においては気相部の酸素濃度を特定の範囲に制御することにより、重合性液晶組成液の着色を抑制しながら重合禁止剤の機能発揮に必要となる酸素濃度を確保しており、これにより重合性液晶組成液を一時的または長期的に保管した際にも、重合性液晶化合物の重合体形成および重合性液晶組成液の着色を効果的に抑制することができる。これらの溶媒は、用いる重合性液晶化合物を溶解することができ、かつ、該重合性液晶化合物に対して不活性のものを、用いる重合性液晶化合物の種類に応じて適宜選択すればよい。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。

本発明においてケトン系溶媒は、分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶媒を意味し、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等を挙げることができる。

アミド系溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の分子内にアミド結合を有する有機溶媒を挙げることができる。

本発明においてエステル系溶媒は、分子内に−ＣＯＯ−を含む溶媒を意味し、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等を挙げることができる。

本発明においてエーテル系溶媒は、分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶媒を意味し、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジメトキシエタン等を挙げることができる。

本発明の一実施態様において、重合性液晶組成液における溶媒の含有量は、重合性液晶組成液の固形分１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上１００００質量部以下、より好ましくは５０質量部以上５０００質量部以下、さらに好ましくは５００質量部以上３０００質量部以下である。

（光重合開始剤）
重合性液晶組成液は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤を含むことによって、本発明の重合性液晶組成液に光を照射すると、液中の重合性液晶化合物が重合を開始する。

光重合開始剤の種類は、使用する重合性液晶化合物に応じて適宜選択すればよく、特に限定されない。光重合開始剤として、例えば、オキシム化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩等を挙げることができる。光重合開始剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等を挙げることができる。ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’ −テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等を挙げることができる。アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等を挙げることができる。アシルホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンおよび２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。

オキシム化合物としては、例えば、オキシム構造を含むトリアジン化合物やカルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル構造を含むカルバゾール化合物がより好ましい。オキシム構造を含むカルバゾール化合物としては、１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。

光重合開始剤として、市販のものを用いることができる。市販の光重合開始剤としては、例えば、「イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７」、「イルガキュア（登録商標）１８４」、「イルガキュア（登録商標）６５１」、「イルガキュア（登録商標）８１９」、「イルガキュア（登録商標）２５０」、「イルガキュア（登録商標）３６９」、「イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ−０１」、「イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ−０２」、「イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ−０３」（ＢＡＳＦジャパン（株）製）；「セイクオール（登録商標）ＢＺ」、「セイクオール（登録商標）Ｚ」、「セイクオール（登録商標）ＢＥＥ」（精工化学（株））；「カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００」（日本化薬（株））；「カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ−６９９２」（ダウ社製）；「アデカオプトマーＳＰ−１５２」、「アデカオプトマーＳＰ−１７０」、「アデカオプトマーＮ−１９１９」、「アデカアークルズＮＣＩ−８３１」（（株）ＡＤＥＫＡ）；「ＴＡＺ−Ａ」、「ＴＡＺ−ＰＰ」（日本シイベルヘグナー社）；および「ＴＡＺ−１０４」（三和ケミカル社）等を挙げることができる。

重合性液晶組成液における光重合開始剤の含有量は、該組成液中に含まれる重合性液晶化合物および重合禁止剤の種類およびその含有量等に応じて適宜調整すればよい。例えば、光重合開始剤の含有量は、重合性液晶組成液に含まれる重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下である。光重合開始剤の含有量がこのような範囲内であれば、重合性液晶組成液を使用する際に、重合性液晶化合物の重合性基の反応が十分に進行し、かつ重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

（重合禁止剤）
本発明において重合性液晶組成液は、重合禁止剤を含む。本発明の重合性液晶組成液含有容器は、所定量の重合禁止剤を含む重合性液晶組成液を上記特定の酸素濃度に制御された気相とともに含むことにより、保管中における重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物の重合反応の進行を抑制したまま長期間保管することができる。これにより、重合性液晶化合物の高い重合率は確保したまま、該重合性液晶化合物から液晶硬化層を形成する際の配向欠陥の発生を抑制することができる。

重合禁止剤は、重合性液晶組成液を構成する重合性液晶化合物、溶媒および光重合開始剤等に応じて適宜選択すればよい。重合禁止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、イオウ系化合物、リン系化合物等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

これらのうち、重合性液晶組成液に含まれる重合性液晶化合物の重合反応の進行をより効果的に抑制し、配向欠陥が生じ難く均一な液晶硬化層が得られやすいことから、重合禁止剤として、フェノール系化合物およびアミン系化合物からなる群から選択される１種以上を含むことが好ましい。

フェノール系化合物としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよび６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン等が挙げられる。または、市販されているフェノール系の重合禁止剤（酸化防止剤）を使用してもよい。

アミン系化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられる。または、市販されているアミン系の重合禁止剤（酸化防止剤）を使用してもよい。

本発明において重合性液晶組成液は、重合禁止剤を、重合性液晶化合物に対して、０．１質量％以上２質量％以下の量で含む。上記特定の酸素濃度に制御された気相の存在下で重合禁止剤を重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上の量で含むことによって、保管中の重合反応の進行を抑制でき、重合性液晶化合物の酸化を抑制することができる。重合禁止剤を重合性液晶化合物に対して２質量％以下の量で含むことによって、保管後の重合性液晶化合物の重合率に対する影響を抑えることができ、高い重合率を確保し得る。本発明において、重合禁止剤の量は、好ましくは０．１５質量％以上、より好ましくは０．２質量％以上、さらに好ましくは０．３質量％以上である。さらに、本発明において重合禁止剤の量は、好ましくは１．９質量％以下、より好ましくは１．５質量％以下、さらに好ましくは１．３質量％以下、よりさらに好ましくは１．２質量％以下、特に好ましくは１質量％以下である。

（その他の成分）
重合性液晶組成液は、光増感剤、レベリング剤等の他の添加剤を適宜含んでよい。添加剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類、アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン、ルブレン等を挙げることができる。光増感剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上１０質量部以下、より好ましくは０．０５質量部以上５質量部以下、さらに好ましくは０．１質量部以上３質量部以下であり得る。

レベリング剤とは、重合性液晶組成液の流動性を調整し、該組成液を塗布して得られる液晶硬化層をより平坦にする機能を有する添加剤である。例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等を挙げることができる。レベリング剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．０５質量部以上３質量部以下であり得る。

重合性液晶組成液は、例えば、重合性液晶化合物と溶媒と光重合開始剤と重合禁止剤と、必要に応じて添加剤とを攪拌混合することによって製造することができる。前記撹拌混合は、低酸素濃度の雰囲気下、例えば酸素濃度が０．１容積％以上４容積％以下の雰囲気下で攪拌混合することが好ましい。また、重合性液晶組成液を撹拌しながら混合する場合、酸素濃度がより低い雰囲気下で操作を行うことによって、溶媒への重合性液晶化合物の溶解を促進することができるとともに、周辺気体が液中に巻き込まれても得られる重合性液晶組成液の溶存酸素濃度を抑えることができる。

重合性液晶化合物、溶媒等を撹拌混合するための機器としては、当該分野において従来公知のものを適宜選択して用いることができる。また、撹拌／混合条件（例えば、撹拌速度、温度、時間等）は、用いる重合性液晶化合物や溶媒の種類、撹拌／混合機器等に応じて適宜選択すればよい。

本発明の重合性液晶組成液含有容器において、その容器自体の構成材料は、該容器中に充填される重合性液晶組成液がその機能を損なわないものであれば、特に限定されない。例えば、容器の材料として、金属材料、樹脂材料またはガラス材料等を挙げられる。中でも、重合性液晶組成液の保管中に光が当たることによる重合性液晶化合物の重合反応を抑制しやすいため、光透過性の低い材料が好ましい。そのような材料としては金属材料、より好ましくは遮光性を有する金属材料であり、例えば、耐腐食性鋼鉄、チタン金属、チタン合金等、遮光ガラスなどを挙げることができる。

容器の全光線透過率は、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１３％以下、よりさらに好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。容器全体として全光線透過率が前述した範囲内であることが好ましい。容器の全光線透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１０５：１９８１に準拠して測定することができる。容器の全光線透過率がより低いことによって、重合反応の進行を抑制することができるため、重合性液晶組成液含有容器を例えば暗所にて保管等する必要がなく、そのまま明所でも保管および輸送等することができる。

本発明の重合性液晶組成液含有容器は、重合性液晶組成液を容器内に好ましくは４０％以上９９％以下、より好ましくは５０％以上９８％以下、さらに好ましくは６０％以上９７以下、よりさらに好ましくは７０％以上９６以下、特に好ましくは７５％以上９５％以下の容量において充填することが好ましい。重合性液晶組成液の充填量が上記範囲内であると、容器中の重合性液晶組成液の機能を劣化させることなく、好適に保存および輸送等することができる。

容器内に重合性液晶組成液を充填した後、容器内の気相部中の酸素濃度を制御しながら容器を適宜蓋等において封止することによって本発明の重合性液晶組成液含有容器を製造することができる。容器内の気相部中の酸素濃度の調整は、容器を蓋等において封止する前または後のいずれの段階で行ってもよい。

＜重合性液晶組成液の保管方法＞
本発明の重合性液晶組成液の保管方法は、重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含む重合性液晶組成液を、酸素濃度が０．０５容積％以上２０．８容積％以下の雰囲気下で容器中に保管することを含む。

重合性液晶組成液中における、重合性液晶化合物、溶媒、光重合開始剤および重合禁止剤の種類および含有量、重合性液晶組成液の製造方法、ならびに保管に使用される容器における詳細は、上記の本発明の重合性液晶組成液含有容器において述べた内容と同様である。

本発明の重合性液晶組成液の保管方法では、上述した本発明の重合性液晶組成液含有容器と同様に、上記特定量の重合禁止剤を含む重合性液晶組成液を特定の範囲の酸素濃度雰囲気下で保管することにより一時的または長期的（例えば６ヶ月以上の期間）な保管中、重合性液晶組成液の着色を防止しながら重合禁止剤を十分に機能させることができ、重合性液晶化合物の重合反応の進行を抑制できるとともに、保管後の重合性液晶化合物の重合率の低下を抑制することができる。

本発明の重合性液晶組成液の保管方法において、重合性液晶組成液は、好ましくは５０℃以下で保管される。重合性液晶組成液を５０℃以下で保管することによって、保管中の重合性液晶化合物の重合反応の進行をより効果的に抑制することができる。重合性液晶組成液は、より好ましくは４０℃以下、さらに好ましくは３５℃以下、よりさらに好ましくは３０℃以下で保管される。また、重合性液晶組成液は、好ましくは１０℃以上で保管される。重合性液晶組成液を１０℃以上で保管することによって、重合性液晶組成液が凍結等することにより重合性液晶化合物の機能が損なわれることを抑制することができる。重合性液晶組成液の保管温度は、より好ましくは１５℃以上４０℃以下、さらに好ましくは２０℃以上３０℃以下である。

本発明の重合性液晶組成液含有容器内の重合性液晶組成液、該容器内で一定期間保管された重合性液晶組成液および本発明の重合性液晶組成液の保管方法により保管された重合性液晶組成液は、本発明の効果による保存安定性により保管中に重合性液晶化合物の重合体を生じ難く、これに起因する配向欠陥の発生を抑制でき、かつ、重合性液晶組成液の着色も防止し得ることから、高い光学特性および優れた外観が求められる光学フィルム分野における液晶硬化層の製造に好適である。

本発明の重合性液晶組成液含有容器内の重合性液晶組成液や該容器内で一定期間保管された重合性液晶組成液等から、例えば、
重合性液晶組成液を基材または配向膜上に塗布して塗布層を得る工程（以下、「塗布工程」ともいう）と、
塗布工程で得られた塗布層から溶媒を除去して重合性液晶化合物を配向させる工程（以下、「乾燥工程」ともいう）と、
乾燥工程により配向させた重合性液晶化合物を重合させることにより重合性液晶層を硬化させて液晶硬化層を得る工程（以下、「硬化工程」ともいう）
とを含む方法により液晶硬化層を製造することができる。

重合性液晶組成液を基材上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に光配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に重合性液晶組成液を連続的に塗布することもできる。

基材は、樹脂基材であることが好ましい。基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基材が好ましい。

基材上の重合性液晶組成液が塗布される面には、配向膜が形成されていてもよい。配向膜とは、重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成液の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、後述する溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。

配向性ポリマーを含む場合、配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成する、または配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで得られる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１質量％以上２０質量％以下であり、より好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下である。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、重合性液晶組成液を基材上に塗布する方法として先に記載したものと同様の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶媒を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

配向性ポリマー組成物から形成された塗布膜には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、前記塗布膜に配向規制力を付与することができる。

ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶媒とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３質量％以上１０質量％以下の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、上述した配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶媒を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を基材に透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。

なお、ラビングまたは偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向層は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向層を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、および、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

乾燥工程において、塗布工程で得られた塗布層から溶媒を除去する方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０℃以上２００℃以下の範囲が好ましく、２０℃以上１５０℃以下の範囲がより好ましく、５０℃以上１３０℃以下の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間以上２０分間以下が好ましく、より好ましくは３０秒間以上１０分間以下である。

硬化工程において、乾燥工程により配向させた重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させるための公知の方法により行うことができ、例えば活性エネルギー線の照射による光重合を採用することができる。

照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される１種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒以上１０分以下であり、好ましくは０．１秒以上５分以下、より好ましくは０．１秒以上３分以下、さらに好ましくは０．１秒以上１分以下である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２以上２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。

以下、実施例および比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。また、本明細書中に記載する濃度（容積％および質量％）および重合率の算出は、以下の実施例と同様の方法により測定される値に基づくものである。

（実施例１）
・重合性液晶組成液の調製
特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で、下記式で表される重合性液晶化合物（Ａ）を合成した。重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部と、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１質量部と、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３質量部と、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン（以下、「ＢＨＴ」とも称する）０．１質量部とを、酸素濃度０．１〜４．０容積％の雰囲気下にて混合した。得られた混合物に、固形分濃度が１３％となるように、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、５０℃で１時間攪拌することにより、重合性液晶化合物（Ａ）を含む重合性液晶組成液（１）を得た。

・容器内への重合性液晶組成液の充填および保管
５００ｍＬの３口ナスフラスコの全面をアルミホイルで覆い、光を遮蔽した。遮蔽後のナスフラスコに、得られた重合性液晶組成液（１）を、該ナスフラスコの全容量５００部に対して４００部充填した。重合性液晶組成液（１）が充填されたナスフラスコを窒素にて置換して気相部（すなわち、ナスフラスコの全容量５００部に対して１００部）の酸素濃度を０．１容積％に調整し、８０℃のオイルバスで２４時間加熱した。加熱後、重合性液晶組成液（１）を常温（２５℃）に冷却し、重合性液晶組成液含有容器（１）を得た。得られた重合性液晶組成液含有容器を２３℃で暗所にて１か月間保管した。

＜配向性の評価＞
基材としての４ｃｍ×４ｃｍガラス上にポリイミド（サンエバー、日産化学品）をスピンコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、ラビング処理を実施して配向膜を得た。得られた光配向膜の厚みは１００ｎｍであった。２３℃の暗所にて１か月間保管した重合性液晶組成液含有容器から重合性液晶組成液（１）を取り出し、孔径０．２μｍのフィルター（ＰＴＦＥタイプ）を用いて４０℃で加圧濾過を行った。濾過後の重合性液晶組成液（１）を、前述した配向膜上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、重合性液晶組成液（１）の塗布面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、液晶硬化層を形成し、液晶硬化層／配向膜層／基材からなる積層体（以下、「位相差板」ともいう）を得た。得られた液晶硬化層を、偏光顕微鏡（ＢＸ５１、オリンパス株式会社製）を用いて４００倍の倍率で観察した。表面に配向欠陥が認められなかったものを「○」、表面に配向欠陥が認められたものを「×」とした。結果を表１に示す。

＜色相の評価＞
２３℃で１か月間保管した重合性液晶組成液（１）を用いて、「ＪＩＳ Ｋ００７１−２：１９９８ 化学製品の色試験方法−第２部：ガードナー色数」に準拠して、組成液の色を評価した。色相が２〜４のものを「〇」、５〜６のものを「△」、７〜のものを「×」とした。結果を表１に示す。

＜重合率の評価＞
得られた位相差板の表面に対して赤外全反射吸収スペクトル測定（入射角４５°）を行った。測定されたエチレン性不飽和結合の面内変角振動（１４０８ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（１）は０．００２５であり、芳香環の不飽和結合の伸縮振動（１５０４ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（２）は０．０５０であった。位相差板の厚さ方向に対して垂直な面のうち、紫外線を照射した面におけるＰ値（Ｐ＝ピーク強度Ｉ（１）／ピーク強度Ｉ（２））を算出した（Ｐ値＝０．０５０）。
同様に重合性液晶化合物（Ａ）をＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解して得た溶液を乾燥させて重合性液晶化合物（Ａ）の単独層を得た。得られた層に対しては光照射を行わなかった。得られた層の赤外全反射吸収スペクトル測定を実施して、重合性液晶化合物（Ａ）のＰ値であるＰ０値を算出したところ、０．３２２６であった。
算出したＰ値とＰ０値から、（１−Ｐ／Ｐ０）×１００の値を算出し、該値を位相差板の重合率（％）とした。この計算方法によれば、本位相差板の重合率は８４．６％であった。以下、重合率の評価として、上記式に従い算出される重合率（％）が８０以上のものを「〇」、８０未満のものを「×」とした。結果を表１に示す。

（実施例２および実施例３）
ＢＨＴの含有量を各々０．３質量部または１．０質量部とした以外は実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（２）および（３）を調製した。実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（２）および（３）をそれぞれ充填した重合性液晶組成液含有容器（２）または（３）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（２）および（３）の色相の評価ならびに液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例４）
容器内の気相部の酸素濃度が１．０容積％となるように調整したこと、重合性液晶組成液の調製の際の溶媒をシクロペンタノン（ＣＹＰ）に変えたこと以外は実施例２と同様にして、重合性液晶組成液（４）を調製した。実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（４）を充填した重合性液晶組成液含有容器を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（４）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例５）
容器内の気相部の酸素濃度が１０．０容積％となるように調整したこと以外は実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（１）を充填した重合性液晶組成液含有容器（５）を作製した。実施例１と同様に、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液含有容器（５）中の重合性液晶組成液の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例６）
容器内の気相部の酸素濃度が１０．０容積％となるように調整したこと以外は実施例３と同様にして、重合性液晶組成液（３）を充填した重合性液晶組成液含有容器（６）を作製した。実施例１と同様に、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液含有容器（６）中の重合性液晶組成液の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例７）
容器内の気相部の酸素濃度が５．０容積％となるように調整したこと以外は実施例５と同様にして、重合性液晶組成液（１）を充填した重合性液晶組成液含有容器（７）を作製した。実施例１と同様に、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液含有容器（７）中の重合性液晶組成液の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例８および実施例９）
重合性液晶組成液の調製の際の溶媒を、各々、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に変えたこと以外は実施例４と同様にして、重合性液晶組成液（８）および（９）を調製した。実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（８）または（９）をそれぞれ充填した重合性液晶組成液含有容器（８）および（９）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（８）および（９）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例１０）
重合性液晶化合物（Ａ）を、下記構造の重合性液晶化合物（Ｂ）に変えたこと以外は実施例４と同様にして、重合性液晶組成液（１０）を調製した。実施例１と同様にして、重合性液晶組成液（１０）を充填した重合性液晶組成液含有容器（１０）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（１０）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（実施例１１）
重合性液晶化合物（Ａ）を、下記構造の重合性液晶化合物（Ｃ）に変えたこと以外は実施例４と同様にして、重合性液晶組成液（１１）を調製した。実施例１と同様にして重合性液晶組成液（１１）を充填した重合性液晶組成液含有容器（１１）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（１１）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（比較例１）
容器内の気相部の酸素濃度の制御を行わず、該酸素濃度が２１．０容積％であること以外は実施例２と同様にして、重合性液晶組成液（２）を充填した重合性液晶組成液含有容器（１’）を作製した。実施例１と同様に、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液含有容器（１’）中の重合性液晶化合物の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（比較例２）
容器内の気相部の酸素濃度が０．０１容積％となるように窒素にて置換したこと以外は実施例２と同様にして、重合性液晶組成液（２）を充填した重合性液晶組成液含有容器（２’）を作製した。実施例１と同様に、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液含有容器（２’）中の重合性液晶化合物の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（比較例３）
ＢＨＴの含有量を０．６質量％とした以外は比較例２と同様にして、重合性液晶組成液（３’）を調製した。実施例１と同様にして重合性液晶組成液（３’）を充填した重合性液晶組成液含有容器（３’）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（３’）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

（比較例４）
ＢＨＴの含有量を３．０質量％とした以外は実施例４と同様にして、重合性液晶組成液（４’）を調製した。実施例１と同様にして重合性液晶組成液（４’）を充填した重合性液晶組成液含有容器（４’）を作製し、１か月間容器内で保管した後における、液晶硬化層の配向性の評価、重合性液晶組成液（４’）の色相の評価および液晶硬化層における重合性液晶化合物の重合率の評価を行った。結果を表１にまとめて示す。

上記表１から分かるように、本発明に従う実施例１〜実施例１１においては、保管中に重合性液晶化合物の重合体の生成が抑制され、該液晶組成液を用いて液晶硬化層を形成する際の配向欠陥の発生を防止し得ることが確認された。これに対して、比較例１〜比較例４においては、液晶硬化層に配向欠陥が生じたり、重合率が顕著に低下したりした。

Claims (9)

1. 気相部と重合性液晶組成液からなる液相部とを含む重合性液晶組成液含有容器であって、
   前記重合性液晶組成液が、重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含み、
   前記気相部の酸素濃度が、０．０５容積％以上２０．８容積％以下である、
   重合性液晶組成液含有容器。
2. 前記重合性液晶化合物は、（メタ）アクリロイル基を有する、請求項１に記載の重合性液晶組成液含有容器。
3. 前記重合性液晶化合物は、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲に極大吸収を示す、請求項１または２に記載の重合性液晶組成液含有容器。
4. 前記重合禁止剤として、フェノール系化合物およびアミン系化合物からなる群から選択される１種以上を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
5. 前記気相部の酸素濃度が、０．１容積％以上１０容積％以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
6. 容器の全光線透過率が２０％以下である、請求項１〜５のいずれかに記載の重合性液晶組成液含有容器。
7. 重合性液晶化合物と、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群から選択される１種以上の溶媒と、光重合開始剤と、該重合性液晶化合物に対して０．１質量％以上２質量％以下の重合禁止剤とを含む重合性液晶組成液を、酸素濃度が０．０５容積％以上２０．８容積％以下の雰囲気下で容器中に保管することを含む、重合性液晶組成液の保管方法。
8. 全光線透過率が２０％以下の容器中で保管する、請求項７に記載の重合性液晶組成液の保管方法。
9. １０℃以上５０℃以下で保管する、請求項７または８に記載の重合性液晶組成液の保管方法。