JP2020160164A - Optical device, exposure device and article producing method - Google Patents

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Abstract

To provide an advantageous technology for reducing the influence of stress acting on an optical part.SOLUTION: An optical device 100 comprises an optical part 111, support mechanisms 130a and 130b having support parts 120a and 120b for supporting the optical part, and a position regulating part for regulating the position of the optical part in a first direction, and operating mechanisms 140a and 140b that apply a force in a second direction different from the first direction onto the optical part and operate the optical part. The operating mechanisms include a contact part that comes into contact with the optical part, an operating part that moves the contact part in the second direction, and a connecting part that connects the contact part and the operating part. The connecting part is configured such that the operating part and the contact part are relatively movable in the first direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学装置、露光装置および物品製造方法に関する。 The present invention relates to an optical device, an exposure device, and a method for manufacturing an article.

レンズまたはミラーのような光学部品を支持機構によって支持した光学装置では、光学部品がその自重等によって発生する応力によって変形しうる。例えば、特許文献１には、レンズとレンズ設置部とが複数の点で接触するような構成において、レンズが変形し光学特性が悪化しうることが記載されている。 In an optical device in which an optical component such as a lens or a mirror is supported by a support mechanism, the optical component can be deformed by stress generated by its own weight or the like. For example, Patent Document 1 describes that the lens may be deformed and the optical characteristics may be deteriorated in a configuration in which the lens and the lens mounting portion are in contact with each other at a plurality of points.

特開２００１−２４２３６４号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-242364

応力による光学部品の変形は、特に、露光装置や大型望遠鏡のように大型の光学部品を有する光学装置において結像性能に大きな影響を与えうる。また、小型の光学部品を有する光学装置においても、要求される結像性能が高くなれば、応力による光学部品の変形が無視できなくなるかもしれない。 Deformation of optical components due to stress can have a significant effect on imaging performance, especially in optical devices having large optical components such as exposure devices and large telescopes. Further, even in an optical device having a small optical component, if the required imaging performance is high, the deformation of the optical component due to stress may not be negligible.

本発明は、光学部品に作用する応力による影響を低減するために有利な技術を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an advantageous technique for reducing the influence of stress acting on an optical component.

本発明の１つの側面は、光学装置に係り、前記光学装置は、光学部品と、前記光学部品を支持する支持部および第１方向における前記光学部品の位置を規制する位置規制部を有する支持機構と、前記光学部品に対して、前記第１方向とは異なる第２方向に力を加え、前記光学部品を操作するための操作機構と、を備え、前記操作機構は、前記光学部品と接触する接触部と、前記接触部を前記第２方向に移動させる操作部と、前記接触部と前記操作部とを連結する連結部と、を含み、前記連結部は、前記第１方向に関して、前記操作部と前記接触部とが相対的に移動可能に構成されている。 One aspect of the present invention relates to an optical device, which is a support mechanism having an optical component, a support portion that supports the optical component, and a position regulating portion that regulates the position of the optical component in a first direction. The optical component is provided with an operating mechanism for operating the optical component by applying a force to the optical component in a second direction different from the first direction, and the operating mechanism comes into contact with the optical component. The contact portion includes, an operation portion for moving the contact portion in the second direction, and a connecting portion for connecting the contact portion and the operation portion, and the connecting portion includes the operation in the first direction. The portion and the contact portion are configured to be relatively movable.

本発明によれば、光学部品に作用する応力による影響を低減するために有利な技術が提供される。 According to the present invention, an advantageous technique for reducing the influence of stress acting on an optical component is provided.

第１実施形態の光学装置の構成を模式的に示す正面図。The front view which shows typically the structure of the optical apparatus of 1st Embodiment. 図１のＡ−Ａ断面図。A cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 図１のＢ−Ｂ断面図。BB sectional view of FIG. 光学部品に作用する応力による影響を低減するための操作を例示する図。The figure which illustrates the operation for reducing the influence by the stress acting on an optical component. 図４（ｂ）のＣ−Ｃ断面図。FIG. 4 (b) is a sectional view taken along the line CC. 図４（ｂ）のＤ−Ｄ断面図FIG. 4 (b) is a sectional view taken along line DD. 連結部の第１構成例を示す図。The figure which shows the 1st structural example of the connecting part. 支持機構の他の構成例および動作例を示す図。The figure which shows the other configuration example and operation example of the support mechanism. 第１実施形態の第１実施例の光学装置の構成を模式的に示す正面図。The front view which shows typically the structure of the optical apparatus of 1st Example of 1st Embodiment. 図９のＦ−Ｆ断面図。FIG. 9 is a sectional view taken along line FF of FIG. 図９のＧ−Ｇ断面図。FIG. 9 is a sectional view taken along line GG of FIG. 図４（ｂ）の工程を実施している第１実施例の露光装置のＤ−Ｄ断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line DD of the exposure apparatus of the first embodiment in which the step of FIG. 4B is carried out. 第１実施形態の第２実施例の光学装置の構成を模式的に示す正面図。The front view which shows typically the structure of the optical apparatus of 2nd Embodiment of 1st Embodiment. 第２実施例の光学装置の操作機構の斜視図。The perspective view of the operation mechanism of the optical apparatus of 2nd Example. 図１３のＨ−Ｈ断面図。FIG. 13 is a sectional view taken along the line HH of FIG. 図４（ｂ）の工程を実施している第２実施例の露光装置のＤ−Ｄ断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line DD of the exposure apparatus of the second embodiment in which the step of FIG. 4B is carried out. 第１実施形態の第３実施例の光学装置の構成を模式的に示す正面図。The front view which shows typically the structure of the optical apparatus of 3rd Embodiment of 1st Embodiment. 図１６のＩ−Ｉ断面図。FIG. 16 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. 第３実施例の光学装置の動作例を示す図。The figure which shows the operation example of the optical apparatus of 3rd Example. 第２実施形態の露光装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the exposure apparatus of 2nd Embodiment. 第３実施形態の露光装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the exposure apparatus of 3rd Embodiment.

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments do not limit the invention according to the claims. Although a plurality of features are described in the embodiment, not all of the plurality of features are essential for the invention, and the plurality of features may be arbitrarily combined. Further, in the attached drawings, the same or similar configurations are designated by the same reference numbers, and duplicate description is omitted.

図１〜図６には、本発明の第１実施形態の光学装置１００の構成が模式的に示されている。図１は、本発明の第１実施形態の光学装置１００の正面図、図２は、図１のＡ−Ａ断面図、図３は、図１のＢ−Ｂ断面図である。光学装置１００は、１つの光学部品１１１と、光学部品１１１を支持する１又は複数の支持機構１３０と、光学部品１１１を操作するための１又は複数の操作機構１４０とを備えうる。一例において、光学装置１００は、１つの光学部品１１１と、２つの支持機構１３０と、２つの操作機構１４０とを備えうる。ここで、２つの支持機構１３０を相互に区別して説明する場合には、支持機構１３０ａ、１３０ｂと記載し、これらを相互に区別しない場合には、支持機構１３０と記載する。単に支持機構１３０として説明する場合には、支持機構１３０の個数は、１又は複数でありうる。同様に、２つの操作機構１４０を相互に区別する場合には、操作機構１４０ａ、１４０ｂと記載し、これらを相互に区別しない場合には、操作機構１４０と記載する。単に操作機構１４０として説明する場合には、操作機構１４０の個数は、１又は複数でありうる。 1 to 6 schematically show the configuration of the optical device 100 according to the first embodiment of the present invention. 1 is a front view of the optical device 100 according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line BB of FIG. The optical device 100 may include one optical component 111, one or more support mechanisms 130 for supporting the optical component 111, and one or more operating mechanisms 140 for operating the optical component 111. In one example, the optical device 100 may include one optical component 111, two support mechanisms 130, and two operating mechanisms 140. Here, when the two support mechanisms 130 are described separately from each other, they are described as the support mechanisms 130a and 130b, and when they are not distinguished from each other, they are described as the support mechanism 130. In the case of simply describing as the support mechanism 130, the number of the support mechanisms 130 may be one or more. Similarly, when the two operating mechanisms 140 are distinguished from each other, they are described as operating mechanisms 140a and 140b, and when they are not distinguished from each other, they are described as operating mechanisms 140. In the case of simply describing as the operation mechanism 140, the number of the operation mechanisms 140 may be one or a plurality.

支持機構１３０は、光学部品１１１を支持する支持部１２０と、第１方向２０２における光学部品１１１の位置を規制する位置規制部１３１、１３２とを有しうる。ここで、支持機構１３０ａの支持部１２０を支持部１２０ａと記載し、支持機構１３０ｂの支持部１２０を支持部１２０ｂとも記載する。２つの支持機構１３０は、対称軸１１０に関して互いに対称な構造を有しうる。２つの支持機構１３０によって、光学部品１１１は、第２方向２０３および第３方向２０１における位置が規制されうる。第３方向は、第１方向２０２および第２方向２０３の双方と異なる方向でありうる。一例において、第１方向２０２、第２方向２０３および第３方向２０１は、互いに９０度をなす角度でありうる。他の観点において、第１方向２０２、第２方向２０３および第３方向２０１は、ＸＹＺ直交座標系におけるＸ軸方向、Ｚ軸方向、Ｙ軸方向にそれぞれ対応しうる。 The support mechanism 130 may have a support portion 120 that supports the optical component 111, and position restricting portions 131 and 132 that regulate the position of the optical component 111 in the first direction 202. Here, the support portion 120 of the support mechanism 130a is described as the support portion 120a, and the support portion 120 of the support mechanism 130b is also described as the support portion 120b. The two support mechanisms 130 may have structures that are symmetrical with respect to the axis of symmetry 110. The two support mechanisms 130 may regulate the position of the optical component 111 in the second direction 203 and the third direction 201. The third direction can be different from both the first direction 202 and the second direction 203. In one example, the first direction 202, the second direction 203, and the third direction 201 can be angles that form 90 degrees with each other. From another point of view, the first direction 202, the second direction 203, and the third direction 201 can correspond to the X-axis direction, the Z-axis direction, and the Y-axis direction in the XYZ Cartesian coordinate system, respectively.

操作機構１４０は、光学部品１１１に対して第１方向２０２とは異なる第２方向２０３に力を加えて光学部品１１１を操作するために設けられうる。操作機構１４０は、例えば、光学部品１１１に対して第２方向２０３に力を加えて光学部品１１１を駆動する駆動機構でありうる。２つの操作機構１４０は、対称軸１１０に関して互いに対称な構造を有しうる。対称軸１１０は、光学部品１１１の中心を通るように配置されうる。そのような駆動機構は、不図示の制御部によって、後述の応力低減動作を実行するように制御されうる。 The operating mechanism 140 may be provided to operate the optical component 111 by applying a force to the optical component 111 in the second direction 203 different from the first direction 202. The operation mechanism 140 may be, for example, a drive mechanism that drives the optical component 111 by applying a force to the optical component 111 in the second direction 203. The two operating mechanisms 140 may have structures that are symmetrical with respect to the axis of symmetry 110. The axis of symmetry 110 may be arranged so as to pass through the center of the optical component 111. Such a drive mechanism can be controlled by a control unit (not shown) to perform a stress reduction operation described below.

操作機構１４０は、光学部品１１１と接触する接触部１４１と、接触部１４１を第２方向２０３に移動させる操作部１４２と、接触部１４１と操作部１４２とを連結する連結部１４５とを含みうる。操作部１４２が第２方向２０３に移動することによって連結部１４５および接触部１４１も第２方向２０３に移動し、光学部品１１１に対して第２方向２０３の力が加えられる。これにより、光学部品１１１が第２方向２０３に駆動されうる。連結部１４５は、操作部１４２に固定された第１部分１４６と、接触部１４１に固定された第２部分１４７とを含みうる。連結部１４５は、第１方向に関して、操作部１４２と接触部１４１とが相対的に移動可能に構成されうる。 The operating mechanism 140 may include a contact portion 141 that contacts the optical component 111, an operating portion 142 that moves the contact portion 141 in the second direction 203, and a connecting portion 145 that connects the contact portion 141 and the operating portion 142. .. When the operating portion 142 moves in the second direction 203, the connecting portion 145 and the contact portion 141 also move in the second direction 203, and a force in the second direction 203 is applied to the optical component 111. As a result, the optical component 111 can be driven in the second direction 203. The connecting portion 145 may include a first portion 146 fixed to the operating portion 142 and a second portion 147 fixed to the contact portion 141. The connecting portion 145 may be configured such that the operating portion 142 and the contact portion 141 are relatively movable in the first direction.

操作機構１４０は、光学部品１１１に作用する応力による影響（例えば、光学部品１１１の変形、あるいは、それによる光学部品１１１の光学性能の変化）を低減するために使用されうる。光学部品１１１は、使用状態において２つの支持機構１３０ａ、１３０ｂによって支持されうる。光学部品１１１が支持機構１３０ａ、１３０ｂによって支持される際に、光学部品１１１が最初に支持機構１３０ａの支持部１２０に接触し、次に支持機構１３０ｂの支持部１２０に接触する場合もありうるし、その逆の場合にありうる。あるいは、光学部品１１１が支持機構１３０の支持部１２０によって支持される際に、光学部品１１１と支持部１２０との接触個所を中心として光学部品１１１が回転する場合もありうるし、回転しない場合もありうる。このように、支持機構１３０の支持部１２０による光学部品１１１の支持の開始状態は様々であり、一定ではない。したがって、最終的に支持機構１３０によって支持された光学部品１１１に作用する応力、そして、その応力による影響も様々でありうる。そこで、操作機構１４０は、光学部品１１１に作用する応力による影響（例えば、光学部品１１１の変形、あるいは、それによる光学部品１１１の光学性能の変化）を低減するために使用されうる。 The operating mechanism 140 can be used to reduce the influence of stress acting on the optical component 111 (for example, deformation of the optical component 111 or a resulting change in the optical performance of the optical component 111). The optical component 111 may be supported by two support mechanisms 130a, 130b in use. When the optical component 111 is supported by the support mechanisms 130a and 130b, the optical component 111 may first contact the support portion 120 of the support mechanism 130a and then the support portion 120 of the support mechanism 130b. The opposite is possible. Alternatively, when the optical component 111 is supported by the support portion 120 of the support mechanism 130, the optical component 111 may or may not rotate around the contact point between the optical component 111 and the support portion 120. sell. As described above, the starting state of the support of the optical component 111 by the support portion 120 of the support mechanism 130 varies and is not constant. Therefore, the stress finally acting on the optical component 111 supported by the support mechanism 130, and the influence of the stress may vary. Therefore, the operating mechanism 140 can be used to reduce the influence of stress acting on the optical component 111 (for example, deformation of the optical component 111 or a change in the optical performance of the optical component 111 due to the deformation).

図４（ａ）〜図４（ｅ）には、光学部品１１１に作用する応力による影響を低減するための操作（以下、応力低減操作ともいう）が例示されている。操作機構１４０ａ、１４０ｂは、光学部品１１１の状態を変更可能に構成され、該状態は、以下で詳述されるように、光学部品１１１が支持機構１３０によって支持された第１状態と、光学部品１１１が操作機構１４０によって支持された第２状態とを含みうる。光学部品１１１の設置時に、第１状態から第２状態を経て第１状態に移行させるように設置ルールを決めておくことによって、光学部品１１１に作用する応力を一定にすることができる。例えば、出荷前の調整時に設置ルールに従って光学部品１１１を設置した後に光学部品１１１を調整し、その後、出荷後の調整時においても設置ルールに従って光学部品１１１を設置した後に光学部品１１１を調整することが有用である。このような方法によれば、出荷前の調整時に光学部品１１１に作用している応力と出荷後の調整時に光学部品１１１に作用している応力とを等しくすることができるので出荷後の調整作業を容易化することができる。 4 (a) to 4 (e) exemplify an operation for reducing the influence of stress acting on the optical component 111 (hereinafter, also referred to as a stress reduction operation). The operating mechanisms 140a and 140b are configured so that the state of the optical component 111 can be changed, and the states are the first state in which the optical component 111 is supported by the support mechanism 130 and the optical component, as described in detail below. 111 may include a second state supported by the operating mechanism 140. When the optical component 111 is installed, the stress acting on the optical component 111 can be made constant by determining the installation rule so as to shift from the first state to the first state via the second state. For example, the optical component 111 is adjusted after installing the optical component 111 according to the installation rule at the time of adjustment before shipment, and then the optical component 111 is adjusted after installing the optical component 111 according to the installation rule at the time of adjustment after shipment. Is useful. According to such a method, the stress acting on the optical component 111 at the time of pre-shipment adjustment can be equalized with the stress acting on the optical component 111 at the time of post-shipment adjustment, so that the post-shipment adjustment work can be performed. Can be facilitated.

以下、図４（ａ）〜図４（ｅ）を参照しながら操作機構１４０による操作例を説明する。図４（ａ）〜図４（ｅ）では、支持機構１３０の構成要素のうち支持部１２０（１２０ａ、１２０ｂ）のみが示されている。図４（ａ）には、初期状態が示されている。初期状態は、第１状態に相当する。初期状態では、支持機構１３０ａ、１３０ｂによる光学部品１１１の支持が開始された時の状態に依存する応力が光学部品１１１に存在しうる。あるいは、初期状態では、光学部品１１１が支持機構１３０ａ、１３０ｂによって支持されている状態で光学装置１００に加わった衝撃、振動（例えば、運搬時の衝撃、振動）による応力が光学部品１１１に存在しうる。 Hereinafter, an operation example by the operation mechanism 140 will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (e). In FIGS. 4A to 4E, only the support portions 120 (120a, 120b) among the components of the support mechanism 130 are shown. FIG. 4A shows the initial state. The initial state corresponds to the first state. In the initial state, the optical component 111 may have stress depending on the state when the support mechanisms 130a and 130b start supporting the optical component 111. Alternatively, in the initial state, stress due to impact and vibration (for example, impact and vibration during transportation) applied to the optical device 100 while the optical component 111 is supported by the support mechanisms 130a and 130b exists in the optical component 111. sell.

まず、図４（ｂ）に示されように、支持機構１３０ａの支持部１２０ａから光学部品１１１が離れるように操作機構１４０ａが操作されうる。この状態では、光学部品１１１は、支持機構１３０ｂの支持部１２０ｂおよび操作機構１４０ａによって支持されている。 First, as shown in FIG. 4B, the operation mechanism 140a can be operated so that the optical component 111 is separated from the support portion 120a of the support mechanism 130a. In this state, the optical component 111 is supported by the support portion 120b of the support mechanism 130b and the operation mechanism 140a.

次に、図４（ｃ）に示されるように、操作機構１４０ｂによって、支持機構１３０ｂの支持部１２０ｂから光学部品１１１が離れるように操作機構１４０ａが操作されうる。これにより、光学部品１１１が操作機構１４０ａ、１４０ｂによって支持された第２状態になる。 Next, as shown in FIG. 4 (c), the operation mechanism 140a can operate the operation mechanism 140a so that the optical component 111 is separated from the support portion 120b of the support mechanism 130b. As a result, the optical component 111 is in the second state supported by the operating mechanisms 140a and 140b.

次に、図４（ｄ）に示されるように、支持機構１３０ａの支持部１２０ａと光学部品１１１とが接触するように操作機構１４０ａが操作されうる。この状態では、光学部品１１１は、支持機構１３０ｂの支持部１２０ｂおよび操作機構１４０ｂによって支持されている。次に、図４（ｅ）に示されるように、支持機構１３０ｂの支持部１２０ｂと光学部品１１１とが接触するように操作機構１４０ｂが操作されうる。これにより、光学部品１１１が支持機構１３０ａ、１３０ｂの支持部１２０ａ、１２０ｂによって支持された第１状態になる。つまり、図４（ａ）〜図４（ｅ）の例では、光学部品１１１の状態は、第１状態から第２状態を経て第１状態となる。 Next, as shown in FIG. 4D, the operation mechanism 140a can be operated so that the support portion 120a of the support mechanism 130a and the optical component 111 come into contact with each other. In this state, the optical component 111 is supported by the support portion 120b of the support mechanism 130b and the operation mechanism 140b. Next, as shown in FIG. 4E, the operation mechanism 140b can be operated so that the support portion 120b of the support mechanism 130b and the optical component 111 come into contact with each other. As a result, the optical component 111 is in the first state of being supported by the support portions 120a and 120b of the support mechanisms 130a and 130b. That is, in the example of FIGS. 4A to 4E, the state of the optical component 111 changes from the first state to the first state through the second state.

図５は、図４（ｂ）のＣ−Ｃ断面図である。操作機構１４０は、第２方向２０３にのみ移動することが好ましいが、現実には、操作機構１４０の加工誤差、組立誤差、調整残差等により、図５に例示されるように、第２方向２０３における操作時に第１方向２０２にも移動しうる。操作部１４２が第１方向２０２に移動すると、操作部１４２と連結された連結部１４５、連結部１４５と連結された接触部１４１、および、光学部品１１１に対して、第１方向２０２における操作力１５１、１６１、１７１が作用する。図６は、図４（ｂ）のＤ−Ｄ断面図である。光学部品１１１は、支持機構１３０により第１方向２０２の位置が規制されているため、光学部品１１１には、操作力１７１に抵抗する反力１７２が作用し、移動しない。また、接触部１４１は、光学部品１１１から操作力１６１に抵抗する反力を受けるため、移動しない。 FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 4 (b). The operation mechanism 140 preferably moves only in the second direction 203, but in reality, due to processing errors, assembly errors, adjustment residuals, etc. of the operation mechanism 140, the operation mechanism 140 is moved in the second direction as illustrated in FIG. It can also move in the first direction 202 during the operation in 203. When the operating unit 142 moves in the first direction 202, an operating force in the first direction 202 is applied to the connecting unit 145 connected to the operating unit 142, the contact unit 141 connected to the connecting unit 145, and the optical component 111. 151, 161 and 171 act. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 4 (b). Since the position of the optical component 111 in the first direction 202 is regulated by the support mechanism 130, a reaction force 172 that resists the operating force 171 acts on the optical component 111 and does not move. Further, the contact portion 141 does not move because it receives a reaction force that resists the operating force 161 from the optical component 111.

連結部１４５は、第１部分１４６と、第２部分１４７とを含みうる。第１部分１４６と第２部分１４７とは、第１方向２０２の方向に相対的に移動可能でありうる。第１方向に関して、第１部分１４６を第２部分１４７に対して相対的に移動させるために要する力（これを可動抵抗ともいう）は、光学部品１１１と接触部１４１との間に作用する静止摩擦抵抗より小さい。可動抵抗は、第１方向に関して、操作部１４２を接触部１４１に対して相対的に移動させるために要する力である。換言すると、可動抵抗は、第１方向に関して、操作部１４２と接触部１４１とを相対的に移動させるために要する力である。 The connecting portion 145 may include a first portion 146 and a second portion 147. The first portion 146 and the second portion 147 may be relatively movable in the direction of the first direction 202. The force required to move the first portion 146 relative to the second portion 147 in the first direction (also referred to as movable resistance) is stationary acting between the optical component 111 and the contact portion 141. Less than frictional resistance. The movable resistance is a force required to move the operating portion 142 relative to the contact portion 141 in the first direction. In other words, the movable resistance is a force required to relatively move the operating portion 142 and the contact portion 141 in the first direction.

第１部分１４６は、操作部１４２から操作力１５１を受けて、第２部分１４７に対して、第１方向２０２に相対的に移動する。第２部分１４７は、第１部１４６が移動することに伴って、上記の可動抵抗の反作用により、第１方向２０２に操作力１５２を受けるが、接触部１４１から操作力１５２に抵抗する反力を受けるため、移動しない。 The first portion 146 receives an operating force 151 from the operating portion 142 and moves relative to the second portion 147 in the first direction 202. The second portion 147 receives an operating force 152 in the first direction 202 due to the reaction of the movable resistance described above as the first portion 146 moves, but the reaction force resisting the operating force 152 from the contact portion 141. Do not move to receive.

以上のように、操作部１４２が第１方向２０２に移動することに伴って第１部分１４６が第１方向２０２に移動する。第２部分１４７、接触部１４１および光学部品１１１は、可動抵抗の反作用による力と、支持機構１３０からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。この時、光学部品１１１に作用する操作力１７１および反力１７２の大きさは、可動抵抗の大きさに等しい。 As described above, as the operation unit 142 moves in the first direction 202, the first portion 146 moves in the first direction 202. The second portion 147, the contact portion 141, and the optical component 111 are internally balanced by the force caused by the reaction of the movable resistance and the reaction force from the support mechanism 130, and remain in their original positions without moving. At this time, the magnitudes of the operating force 171 and the reaction force 172 acting on the optical component 111 are equal to the magnitude of the movable resistance.

光学部品１１１に作用する操作力１７１および反力１７２により、光学部品１１１に応力が作用すると、光学部品１１１に歪みが発生し、光学部品１１１の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力１７１および反力１７２を小さく抑えることが好ましい。操作機構１４０は、連結部１４５を含み、これによって可動抵抗を小さくすることで、操作力１７１および反力１７２を小さく抑えることができる。結果として、光学部品１１１に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品１１１に発生する歪みが低減し、光学部品１１１の光学性能の低下が抑えられる。 When stress acts on the optical component 111 due to the operating force 171 and the reaction force 172 acting on the optical component 111, the optical component 111 may be distorted and the optical performance of the optical component 111 may be deteriorated. Therefore, it is preferable to keep the operating force 171 and the reaction force 172 small. The operating mechanism 140 includes a connecting portion 145, whereby the operating force 171 and the reaction force 172 can be suppressed to be small by reducing the movable resistance. As a result, the stress acting on the optical component 111 is suppressed to a small value, the distortion generated in the optical component 111 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the optical component 111 is suppressed.

図７には、連結部１４５の第１構成例が示されている。連結部１４５は、操作部１４２に固定された第１部分２４６と、接触部１４１に固定された第２部分２４７とを含みうる。第１部分２４６は、第２部分２４７に対して相対的に移動可能でありうる。連結部１４５は、第１方向２０２に関して操作部１４２と接触部１４１とが相対的に移動することを可能にする弾性部を含みうる。一例において、第１部分２４６がそのような弾性部で構成されうる。他の例において、第２部分２４７がそのような弾性部で構成されうる。更に他の例において、第１部分２４６および第２部分２４７がそのような弾性部で構成されうる。 FIG. 7 shows a first configuration example of the connecting portion 145. The connecting portion 145 may include a first portion 246 fixed to the operating portion 142 and a second portion 247 fixed to the contact portion 141. The first portion 246 may be movable relative to the second portion 247. The connecting portion 145 may include an elastic portion that allows the operating portion 142 and the contact portion 141 to move relative to each other with respect to the first direction 202. In one example, the first portion 246 may be composed of such elastic portions. In another example, the second portion 247 may be composed of such elastic parts. In yet another example, the first portion 246 and the second portion 247 may be composed of such elastic portions.

図７には、第１部分２４６が弾性部で構成された例が示されている。第１部分２４６が変形する際の抵抗（これを変形抵抗ともいう）の大きさは、第１部分２４６が操作部１４２から受ける操作力２５１の大きさ以下にされうる。第１部分２４６は、操作部１４２から操作力２５１を受け、第１方向２０２に関して変形する。第２部分２４７は、第１部分２４６が変形することに伴って、変形抵抗の反作用により、第１方向２０２に操作力２５２を受けるが、接触部１４１から操作力２５２に抵抗する反力を受けるため、移動しない。
接触部１４１および光学部品１１１は、変形抵抗の反作用による力と、支持機構１３０からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。 FIG. 7 shows an example in which the first portion 246 is composed of an elastic portion. The magnitude of the resistance when the first portion 246 is deformed (this is also referred to as the deformation resistance) can be made smaller than the magnitude of the operating force 251 received by the first portion 246 from the operating portion 142. The first portion 246 receives an operating force 251 from the operating portion 142 and deforms with respect to the first direction 202. The second portion 247 receives an operating force 252 in the first direction 202 due to the reaction of the deformation resistance as the first portion 246 is deformed, but receives a reaction force resisting the operating force 252 from the contact portion 141. Therefore, it does not move.
The contact portion 141 and the optical component 111 internally balance the force caused by the reaction force of the deformation resistance and the reaction force caused by the reaction force from the support mechanism 130, and remain in their original positions without moving.

この時、光学部品１１１に作用する操作力２７１の大きさと、支持機構１３０からの反力の大きさは、変形抵抗の大きさに等しい。よって、変形抵抗を小さくすることで、操作力２７１および支持機構１３０からの反力を小さく抑えることができる。結果として、光学部品１１１に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品１１１に発生する歪みが低減し、光学部品１１１の光学性能の低下が抑えられる。 At this time, the magnitude of the operating force 271 acting on the optical component 111 and the magnitude of the reaction force from the support mechanism 130 are equal to the magnitude of the deformation resistance. Therefore, by reducing the deformation resistance, the operating force 271 and the reaction force from the support mechanism 130 can be suppressed to be small. As a result, the stress acting on the optical component 111 is suppressed to a small value, the distortion generated in the optical component 111 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the optical component 111 is suppressed.

図８（ａ）〜図８（ｃ）には、支持機構１３０の他の構成例および動作例が示されている。支持機構１３０は、光学部品１１１を支持する支持部１２０と、第１方向２０２における光学部品１１１の位置を規制する位置規制部１３１、１３２と、位置規制部１３１、１３２の位置をそれぞれ変更させる変更機構１３３、１３５とを有しうる。図８（ａ）〜図８（ｃ）には、光学部品１１１のうち位置規制部１３１、１３２と当接する領域に作用する応力を所定の応力状態にし、光学部品１１１を押圧して第１方向２０２に関して位置決めする工程が示されている。 8 (a) to 8 (c) show other configuration examples and operation examples of the support mechanism 130. The support mechanism 130 is modified to change the positions of the support portion 120 that supports the optical component 111, the position regulating portions 131 and 132 that regulate the positions of the optical component 111 in the first direction 202, and the position regulating portions 131 and 132, respectively. It may have mechanisms 133, 135 and the like. 8 (a) to 8 (c) show that the stress acting on the region of the optical component 111 that abuts on the position regulating portions 131 and 132 is set to a predetermined stress state, and the optical component 111 is pressed in the first direction. The step of positioning with respect to 202 is shown.

図８（ａ）は、図４（ｃ）のＥ−Ｅ断面図である。図８（ｂ）には、図８（ａ）の状態から、変更機構１３３、１３５によって位置規制部１３１、１３２の位置を光学部品１１１から離間した位置に変更した状態が示されている。位置規制部１３１、１３２の位置を光学部品１１１から離間した位置に変更することによって、位置規制部１３１、１３２と光学部品１１１との接触によって光学部品１１１に作用していた応力が除去される。この時、光学部品１１１は、該応力を除去する前の応力状態によって第１方向２０２に移動することがある。図８（ｂ）には、光学部品１１１が位置規制部１３２の側に移動した状態が例示されている。 FIG. 8A is a cross-sectional view taken along the line EE of FIG. 4C. FIG. 8B shows a state in which the positions of the position regulating portions 131 and 132 are changed from the state of FIG. 8A to positions separated from the optical component 111 by the changing mechanisms 133 and 135. By changing the positions of the position regulating portions 131 and 132 to positions separated from the optical component 111, the stress acting on the optical component 111 due to the contact between the position regulating portions 131 and 132 and the optical component 111 is removed. At this time, the optical component 111 may move in the first direction 202 depending on the stress state before the stress is removed. FIG. 8B exemplifies a state in which the optical component 111 is moved toward the position regulating unit 132.

図８（ｃ）には、図８（ｂ）の状態から、変更機構１３３、１３５によって位置規制部１３１、１３２の位置を、位置規制部１３１、１３２が光学部品１１１と当接する位置に変更し、光学部品１１１が所定位置に配置された状態が示されている。この例では、位置規制部１３２の位置は、位置規制部１３２が光学部品１１１と当接した後、点線で示された位置（図８（ｂ）の位置）から実線で示された所定位置まで光学部品１１１を押圧しながら移動させるように変更される。 In FIG. 8 (c), from the state of FIG. 8 (b), the positions of the position regulating portions 131 and 132 are changed to the positions where the position regulating portions 131 and 132 come into contact with the optical component 111 by the changing mechanisms 133 and 135. , The state in which the optical component 111 is arranged at a predetermined position is shown. In this example, the position of the position regulating unit 132 is from the position shown by the dotted line (the position shown in FIG. 8B) to the predetermined position shown by the solid line after the position regulating unit 132 comes into contact with the optical component 111. The optical component 111 is changed to be moved while being pressed.

変更機構１３３、１３５によって位置規制部１３１、１３２の位置を変更すると、光学部品１１１と接触している接触部１４１、および、接触部１４１と連結された第２部分１４７が光学部品１１１とともに移動する。一方、第１部分１４６には第１部１４６と操作部１４２との摩擦抵抗が作用するため、第１部分１４６は移動しない。位置規制部１３２によって光学部品１１１を押圧する押圧力１８１は、第２部分１４７が第１部分１４６に対して相対的に移動する際の抵抗（これを押圧抵抗ともいう）の大きさに等しい。 When the positions of the position regulating portions 131 and 132 are changed by the changing mechanisms 133 and 135, the contact portion 141 in contact with the optical component 111 and the second portion 147 connected to the contact portion 141 move together with the optical component 111. .. On the other hand, since the frictional resistance between the first part 146 and the operation part 142 acts on the first part 146, the first part 146 does not move. The pressing force 181 that presses the optical component 111 by the position regulating portion 132 is equal to the magnitude of the resistance (this is also referred to as pressing resistance) when the second portion 147 moves relative to the first portion 146.

光学部品１１１に作用する押圧力１８１によって光学部品１１１に応力が作用すると、光学部品１１１に歪みが発生し、光学部品１１１の光学性能が低下する可能性があるので、押圧力１８１を小さく抑えることが好ましい。操作機構１４０は、操作部１４２と接触部１４１とが相対的に移動することを可能にする連結部１４５を含み、これによって押圧抵抗を小さくすることができ、押圧力１８１を小さく抑えることができる。結果として、光学部品１１１に作用する応力が小さく抑えられ、光学部品１１１に発生する歪みが低減し、光学部品１１１の光学性能の低下が抑えられる。 When stress acts on the optical component 111 due to the pressing force 181 acting on the optical component 111, the optical component 111 may be distorted and the optical performance of the optical component 111 may deteriorate. Therefore, the pressing force 181 should be kept small. Is preferable. The operating mechanism 140 includes a connecting portion 145 that allows the operating portion 142 and the contact portion 141 to move relatively, whereby the pressing resistance can be reduced and the pressing pressure 181 can be suppressed to be small. .. As a result, the stress acting on the optical component 111 is suppressed to a small value, the distortion generated in the optical component 111 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the optical component 111 is suppressed.

図９には、第１実施形態の第１実施例としての光学装置３００の正面図が示されている。光学装置３００は、光学部品としてのミラー３１１と、ミラー３１１を支持する支持機構３３０ａ、３３０ｂと、ミラー３１１を操作する操作機構３４０ａ、３４０ｂとを備えうる。光学装置３００は、更に、支持機構３３０ａ、３３０ｂおよび操作機構３４０ａ、３４０ｂが固定された鏡筒３０１を備えうる。 FIG. 9 shows a front view of the optical device 300 as the first embodiment of the first embodiment. The optical device 300 may include a mirror 311 as an optical component, support mechanisms 330a and 330b for supporting the mirror 311 and an operation mechanism 340a and 340b for operating the mirror 311. The optical device 300 may further include a lens barrel 301 to which the support mechanisms 330a and 330b and the operation mechanisms 340a and 340b are fixed.

図１０は、図９のＦ−Ｆ断面図である。支持機構３３０ａは、ミラー３１１の光軸と平行な第１方向４０２に関してミラー３１１の位置を規制するための突起を有する金属体３３１、３３２と、ミラー３１１の重量を支持するための弾性シートを表面に有する弾性体付き金属体３２０とを含みうる。支持機構３３０ｂは、支持機構３３０ａと同一の構成を有する。支持機構３３０ａ、３３０ｂは、光学装置３００の対称軸３１０に対して対称に配置されうる。対称軸３１０は、ミラー３１１の中心（光軸）を通るように配置されうる。 FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG. The support mechanism 330a has a metal body 331, 332 having protrusions for restricting the position of the mirror 311 with respect to the first direction 402 parallel to the optical axis of the mirror 311 and an elastic sheet for supporting the weight of the mirror 311. It may include a metal body 320 with an elastic body. The support mechanism 330b has the same configuration as the support mechanism 330a. The support mechanisms 330a and 330b may be arranged symmetrically with respect to the axis of symmetry 310 of the optical device 300. The axis of symmetry 310 may be arranged so as to pass through the center (optical axis) of the mirror 311.

図１１は、図９のＧ−Ｇ断面図である。操作機構３４０は、ミラー３１１と接触する弾性体付き金属体３４１と、重力方向と平行な第２方向２０３に移動可能なスクリューボルト（操作部）３４２と、弾性体付き金属体３４１とスクリューボルト３４２とを連結する連結部３４５とを含みうる。スクリューボルト３４２は、鏡筒３０１とねじ係合していて、スクリューボルト３４２を回転させると、連結部３４５を第２０３に移動させることができる。連結部３４５が第２方向２０３に移動すると、連結部３４５と連結された弾性体付き金属体３４１も第２方向２０３に移動する。 FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line GG of FIG. The operation mechanism 340 includes a metal body 341 with an elastic body that comes into contact with the mirror 311, a screw bolt (operation unit) 342 that can move in the second direction 203 parallel to the direction of gravity, a metal body 341 with an elastic body, and a screw bolt 342. Can include a connecting portion 345 that connects and. The screw bolt 342 is screw-engaged with the lens barrel 301, and when the screw bolt 342 is rotated, the connecting portion 345 can be moved to the 203rd position. When the connecting portion 345 moves in the second direction 203, the metal body 341 with an elastic body connected to the connecting portion 345 also moves in the second direction 203.

連結部３４５は、第１方向２０２に関して自由度を有するリニアガイドを有する構造体でありうる。連結部３４５は、例えば、金属プレート３４８とレール３４３との結合体で構成されるレール部３４６と、キャリッジ３４４と金属プレート３４９との結合体で構成されるキャリッジ部３４７とを含みうる。一例において、該リニアガイドの動摩擦係数は、荷重比率が０．１の時に０．００３であり、ミラー３１１、弾性体付き金属体３４１の重量が作用した状態で０．０２である。光学装置３００においても、図４（ａ）から図４（ｅ）までの一連の工程を経ることにより、ミラー３１１に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となりうる。 The connecting portion 345 may be a structure having a linear guide having a degree of freedom with respect to the first direction 202. The connecting portion 345 may include, for example, a rail portion 346 composed of a coupling of the metal plate 348 and the rail 343, and a carriage portion 347 composed of a coupling of the carriage 344 and the metal plate 349. In one example, the coefficient of kinetic friction of the linear guide is 0.003 when the load ratio is 0.1, and 0.02 when the weights of the mirror 311 and the metal body 341 with the elastic body act. In the optical device 300 as well, the stress acting on the mirror 311 can be brought into a predetermined stress state by the series of steps from FIG. 4A to FIG. 4E.

図１２は、図４（ｂ）の工程を実施している露光装置３００のＤ−Ｄ断面図である。ここで、スクリューボルト３４２、連結部３４５および弾性体付き金属体３４１は、第２方向２０３に移動する他、加工誤差、組立誤差、調整誤差等によって第１方向２０２にも僅かに移動しうる。そこで、図１２では、便宜的に、スクリューボルト３４２が第２方向２０３に移動しながら第１方向２０２にも移動した状態が示されている。 FIG. 12 is a DD cross-sectional view of the exposure apparatus 300 performing the step of FIG. 4 (b). Here, the screw bolt 342, the connecting portion 345, and the metal body 341 with an elastic body move in the second direction 203, and can also move slightly in the first direction 202 due to machining errors, assembly errors, adjustment errors, and the like. Therefore, FIG. 12 shows a state in which the screw bolt 342 moves in the first direction 202 while moving in the second direction 203 for convenience.

スクリューボルト３４２が第１方向２０２に移動すると、レール部３４６、キャリッジ部３４７、弾性体付き金属体３４１およびミラー３１１に対して、第１方向２０２に関して、操作力３５１、３５２、３６１、３７１が作用する。ミラー３１１は、支持機構３２０、３３０により第１方向２０２における位置が規制されているので、ミラー３１１には操作力３７１に抵抗する反力が作用し、移動しない。弾性体付き金属体３４１は、ミラー３１１から操作力３６１に抵抗する反力を受けるため、移動しない。レール部３４６は、スクリューボルト３４２から操作力３５１を受け、キャリッジ部３４７に対して、第１方向２０２に関して相対的に移動する。キャリッジ部３４７は、レール部３４６が移動することに伴って、前記リニアガイドの抵抗の反作用によって第１方向２０２に操作力３５２を受けるが、弾性体付き金属体３４１から操作力３５２に抵抗する反力を受けるため、移動しない。 When the screw bolt 342 moves in the first direction 202, operating forces 351, 352, 361, and 371 act on the rail portion 346, the carriage portion 347, the metal body with elastic body 341, and the mirror 311 with respect to the first direction 202. To do. Since the position of the mirror 311 in the first direction 202 is regulated by the support mechanisms 320 and 330, a reaction force resisting the operating force 371 acts on the mirror 311 and the mirror 311 does not move. The metal body 341 with an elastic body does not move because it receives a reaction force from the mirror 311 that resists the operating force 361. The rail portion 346 receives an operating force 351 from the screw bolt 342 and moves relative to the carriage portion 347 in the first direction 202. The carriage portion 347 receives an operating force 352 in the first direction 202 due to the reaction of the resistance of the linear guide as the rail portion 346 moves, but the reaction force 352 resists the operating force 352 from the metal body 341 with the elastic body. Do not move because it receives force.

以上のように、スクリューボルト３４２が第１方向２０２に移動することに伴って、レール部３４６が第１方向２０２に移動する。キャリッジ部３４７、弾性体付き金属体３４１およびミラー３１１は、前記リニアガイドの抵抗の反作用による力と、支持機構３２０、３３０からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。この時、ミラー３１１に作用する操作力３７１、および、支持機構３２０、３３０からの反力の大きさは、前記リニアガイドの抵抗の大きさに等しい。 As described above, as the screw bolt 342 moves in the first direction 202, the rail portion 346 moves in the first direction 202. In the carriage portion 347, the metal body 341 with an elastic body, and the mirror 311, the force caused by the reaction of the resistance of the linear guide and the reaction force from the support mechanisms 320 and 330 are internally balanced and do not move. Stay in its original position. At this time, the magnitude of the operating force 371 acting on the mirror 311 and the magnitude of the reaction force from the support mechanisms 320 and 330 are equal to the magnitude of the resistance of the linear guide.

一例において、前記リニアガイドの抵抗は、ミラー３１１と弾性体付き金属体３４１とによって前記リニアガイドに作用する重量の和をＭｇとすると、０．０２Ｍｇである。これは、連結部３４５を有しない構成、つまりスクリューボルト３４２と弾性体付き金属体３４１とが直接結合された構成の１０分の１の大きさである（スクリューボルト３４２と弾性体付き金属体３４１との動摩擦係数が０．２の場合）。 In one example, the resistance of the linear guide is 0.02 Mg, where Mg is the sum of the weights acting on the linear guide by the mirror 311 and the metal body 341 with an elastic body. This is one tenth the size of the configuration without the connecting portion 345, that is, the configuration in which the screw bolt 342 and the metal body with elastic body 341 are directly connected (screw bolt 342 and the metal body with elastic body 341). When the coefficient of dynamic friction with and is 0.2).

ミラー３１１に作用する操作力３７１および支持機構３２０、３３０からの反力により、ミラー３１１に応力が作用すると、ミラー３１１に歪みが発生し、ミラー３１１の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力３７１および支持機構３２０、３３０からの反力を小さく抑えることが好ましい。操作機構３４０は、操作部３４２と接触部３４１とが相対的に移動することを可能にする連結部３４５を含み、これによって前記リニアガイドの動摩擦係数を小さくすることができ、操作力３７１および支持機構３３０からの反力３７２を小さく抑えることができる。結果として、ミラー３１１に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー３１１に発生する歪みが低減し、ミラー３１１の光学性能の低下が抑えられる。 When stress acts on the mirror 311 due to the operating force 371 acting on the mirror 311 and the reaction force from the support mechanisms 320 and 330, the mirror 311 may be distorted and the optical performance of the mirror 311 may be deteriorated. Therefore, it is preferable to keep the operating force 371 and the reaction force from the support mechanisms 320 and 330 small. The operating mechanism 340 includes a connecting portion 345 that allows the operating portion 342 and the contact portion 341 to move relative to each other, whereby the coefficient of dynamic friction of the linear guide can be reduced, and the operating force 371 and the support The reaction force 372 from the mechanism 330 can be suppressed to a small value. As a result, the stress acting on the mirror 311 is suppressed to a small value, the distortion generated in the mirror 311 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the mirror 311 is suppressed.

図１３には、第１実施形態の第２実施例としての光学装置５００の正面図が示されている。光学装置５００は、光学部品としてのミラー５１１と、ミラー５１１を支持する支持機構５３０ａ、５３０ｂと、ミラー５１１を操作する操作機構５４０ａ、５４０ｂとを備えうる。光学装置５００は、更に、支持機構５３０ａ、５３０ｂおよび操作機構５４０ａ、５４０ｂが固定された鏡筒５０１を備えうる。支持機構５３０ａ、５３０ｂの構成は、光学装置３００の支持機構３３０ａ、３３０ｂと同様でありうる。 FIG. 13 shows a front view of the optical device 500 as a second embodiment of the first embodiment. The optical device 500 may include a mirror 511 as an optical component, support mechanisms 530a and 530b for supporting the mirror 511, and operation mechanisms 540a and 540b for operating the mirror 511. The optical device 500 may further include a lens barrel 501 to which the support mechanism 530a, 530b and the operation mechanism 540a, 540b are fixed. The configuration of the support mechanisms 530a and 530b may be similar to the support mechanisms 330a and 330b of the optical device 300.

図１４は、操作機構５４０の斜視図である。図１５は、図１３のＨ−Ｈ断面図である。操作機構５４０は、ミラー５１１の重量を支持するための弾性シートを表面に有する弾性体付き金属体（接触部）５４１と、重力方向に平行な第２方向に可動部を駆動するステッピングモーターを有するリニアアクチュエータ５４２とを含みうる。金属体（接触部）５４１とリニアアクチュエータ５４２は、板ばね５４３および金属体５４６、５４７、５４８を有する連結部によって互いに連結されている。リニアアクチュエータ５４２は、鏡筒５０１に固定されている。リニアアクチュエータ５４２を駆動すると、連結部５４５を第２方向２０３に移動させることができる。連結部５４５の移動に伴って、弾性体付き金属体５４１も、第２方向６０３に移動する。光学装置５００においても、図４（ａ）から図４（ｅ）までの一連の工程を経ることにより、ミラー５１１に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となる。 FIG. 14 is a perspective view of the operation mechanism 540. FIG. 15 is a sectional view taken along the line HH of FIG. The operation mechanism 540 includes a metal body (contact portion) 541 with an elastic body having an elastic sheet on the surface for supporting the weight of the mirror 511, and a stepping motor that drives the movable portion in a second direction parallel to the direction of gravity. It may include a linear actuator 542. The metal body (contact portion) 541 and the linear actuator 542 are connected to each other by a connecting portion having a leaf spring 543 and a metal body 546, 547, 548. The linear actuator 542 is fixed to the lens barrel 501. By driving the linear actuator 542, the connecting portion 545 can be moved in the second direction 203. Along with the movement of the connecting portion 545, the metal body 541 with an elastic body also moves in the second direction 603. Also in the optical device 500, the stress acting on the mirror 511 becomes a predetermined stress state by the series of steps from FIG. 4 (a) to FIG. 4 (e).

図１６は、図４（ｂ）の工程を実施している第２実施例の光学装置５００のＤ−Ｄ断面図である。ここで、リニアアクチュエータ５４２の可動部、連結部５４５、弾性体付き金属体５４１は、第２方向２０３に移動する他、加工誤差、組立誤差、調整誤差等によって第１方向２０２にも移動しうる。そこで、図１６では、便宜的に、リニアアクチュエータ５４２がその可動部を駆動する第２方向２０３に加えて、第１方向２０２にも駆動成分を持つ状態が示されている。 FIG. 16 is a DD cross-sectional view of the optical device 500 of the second embodiment in which the step of FIG. 4B is carried out. Here, the movable portion of the linear actuator 542, the connecting portion 545, and the metal body 541 with an elastic body can move in the second direction 203, and can also move in the first direction 202 due to machining errors, assembly errors, adjustment errors, and the like. .. Therefore, in FIG. 16, for convenience, a state in which the linear actuator 542 has a driving component in the first direction 202 in addition to the second direction 203 for driving the movable portion thereof is shown.

リニアアクチュエータ５４２がその可動部を第２方向２０２に駆動すると、板ばね５４３、金属体５４７、弾性体付き金属体５４１、ミラー５１１に対して、第２方向２０２の操作力５５１、５５２、５６１、５７１が作用する。ミラー５１１は、支持機構５２０、５３０により第１方向２０２における位置が規制されているので、ミラー５１１には操作力５７１に抵抗する反力が作用し、移動しない。弾性体付き金属体５４１は、ミラー５１１から操作力５６１に抵抗する反力を受けるため、移動しない。板ばね５４３は、リニアアクチュエータ５４２から操作力５５１を受けて、第１方向２０２に関して変形する。金属体５４７は、板ばね５４３が変形することに伴って、板ばね５４３の弾性力によって第２方向２０２に操作力５５２を受けるが、弾性体付き金属体５４１から操作力５５２に抵抗する反力を受けるため、移動しない。 When the linear actuator 542 drives the movable part in the second direction 202, the operating forces 551, 552, 561 in the second direction 202 with respect to the leaf spring 543, the metal body 547, the metal body 541 with the elastic body, and the mirror 511, 571 works. Since the position of the mirror 511 is regulated by the support mechanism 520 and 530 in the first direction 202, a reaction force resisting the operating force 571 acts on the mirror 511 and the mirror 511 does not move. The metal body 541 with an elastic body does not move because it receives a reaction force from the mirror 511 that resists the operating force 561. The leaf spring 543 receives an operating force 551 from the linear actuator 542 and deforms with respect to the first direction 202. The metal body 547 receives an operating force 552 in the second direction 202 due to the elastic force of the leaf spring 543 as the leaf spring 543 deforms, but a reaction force that resists the operating force 552 from the metal body 541 with the elastic body. Do not move to receive.

以上のように、リニアアクチュエータ５４２がその可動部を第１方向２０２に移動させることに伴って板ばね５４３が第１方向２０２に関して変形する。金属体５４７、弾性体付き金属体５４１、ミラー５１１は、板ばね５４３の弾性力と、支持機構５２０、５３０からの反力と、に起因する力が内部で釣り合い、移動することなく元の位置に留まる。
この時、ミラー５１１に作用する操作力５７１、反力の大きさは、板ばね５４３の弾性力の大きさに等しい。 As described above, as the linear actuator 542 moves its movable portion in the first direction 202, the leaf spring 543 is deformed with respect to the first direction 202. The metal body 547, the metal body 541 with an elastic body, and the mirror 511 are in their original positions without moving because the elastic force of the leaf spring 543 and the reaction force from the support mechanisms 520 and 530 are internally balanced. Stay in.
At this time, the magnitude of the operating force 571 and the reaction force acting on the mirror 511 is equal to the magnitude of the elastic force of the leaf spring 543.

一例において、板ばね５４３の第１方向２０２に関する最大変形量を０．１０ｍｍ、板ばね５４３の変形部の寸法を８０ｍｍ×６７ｍｍ、厚さを１．６ｍｍ、材質を、比重が７．９、ヤング率が１８６ＧＰａのばね用ステンレス鋼ＳＵＳ３０４とすることができる。この場合、板ばね５４３の弾性力は、約１０Ｎである。 In one example, the maximum amount of deformation of the leaf spring 543 with respect to the first direction 202 is 0.10 mm, the size of the deformed part of the leaf spring 543 is 80 mm × 67 mm, the thickness is 1.6 mm, the material is 7.9, and Young's modulus is Young's modulus. The spring stainless steel SUS304 having a modulus of 186 GPa can be used. In this case, the elastic force of the leaf spring 543 is about 10N.

連結部５４５を有しない構成、つまりリニアアクチュエータ５４２と弾性体付き金属体５４１とが直接結合された構成では、ミラー５１１に作用する操作力５７１は、次に述べる条件の下では１０００Ｎである。 In the configuration without the connecting portion 545, that is, in the configuration in which the linear actuator 542 and the metal body 541 with an elastic body are directly coupled, the operating force 571 acting on the mirror 511 is 1000 N under the following conditions.

＜条件＞ミラー５１１と弾性体付き金属体５４１とがリニアアクチュエータ５４２に作用する重量の和が５００ｋｇｆ、リニアアクチュエータ５４２と弾性体付き金属体５４１との動摩擦係数が０．２。 <Conditions> The sum of the weights of the mirror 511 and the metal body 541 with the elastic body acting on the linear actuator 542 is 500 kgf, and the coefficient of dynamic friction between the linear actuator 542 and the metal body 541 with the elastic body is 0.2.

ミラー５１１に作用する操作力５７１、支持機構５２０、５３０からの反力によってミラー５１１に応力が作用すると、ミラー５１１に歪みが発生し、ミラー５１１の光学性能が低下する可能性がある。そのため、操作力５７１および反力５７２を小さく抑えることが好ましい。操作機構５４０は、リニアアクチュエータ５４２と金属体５４１とが相対的に移動することを可能にする連結部５４５を含み、これによって操作力５７１、支持機構５２０、５３０からの反力を小さく抑えることができる。結果として、ミラー５１１に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー５１１に発生する歪みが低減し、ミラー５１１の光学性能の低下が抑えられる。 When stress acts on the mirror 511 due to the operating force 571 acting on the mirror 511 and the reaction force from the support mechanisms 520 and 530, the mirror 511 is distorted and the optical performance of the mirror 511 may deteriorate. Therefore, it is preferable to keep the operating force 571 and the reaction force 572 small. The operating mechanism 540 includes a connecting portion 545 that allows the linear actuator 542 and the metal body 541 to move relatively, thereby reducing the reaction force from the operating force 571 and the support mechanisms 520 and 530. it can. As a result, the stress acting on the mirror 511 is suppressed to a small value, the distortion generated in the mirror 511 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the mirror 511 is suppressed.

図１７には、第１実施形態の第３実施例としての光学装置７００の正面図が示されている。光学装置７００は、光学部品としてのミラー７１１と、ミラー７１１を支持する支持機構７３０ａ、７３０ｂと、ミラー７１１を操作する操作機構７４０ａ、７４０ｂとを備えうる。光学装置７００は、更に、支持機構７３０ａ、７３０ｂおよび操作機構７４０ａ、７４０ｂが固定された鏡筒７０１を備えうる。 FIG. 17 shows a front view of the optical device 700 as a third embodiment of the first embodiment. The optical device 700 may include a mirror 711 as an optical component, support mechanisms 730a and 730b for supporting the mirror 711, and operation mechanisms 740a and 740b for operating the mirror 711. The optical device 700 may further include a lens barrel 701 to which the support mechanisms 730a and 730b and the operation mechanisms 740a and 740b are fixed.

図１８は、図１６のＩ−Ｉ断面図である。支持機構７３０ａは、ミラー７１１の光軸と平行な第１方向２０２に位置規制部７３１、７３２を駆動する変更機構としてのエアシリンダ７３４、７３６を含みうる。支持機構７３０ａは、更に、エアシリンダ７３４、７３６を鏡筒７０１に固定するための金属製のハウジング７３３、７３５を含みうる。支持機構７３０ｂは、支持機構７３０ａと同様の構成を有しうる。支持機構７３０ａ、７３０ｂは、光学装置７００の対称軸７１０に対して対称に配置されうる。対称軸７１０は、ミラー７１１の中心（光軸）を通るように配置されうる。操作機構７４０ａ、７４０ｂは、第２実施例の操作機構５４０ａ、５４０ｂと同様の構成を有しうる。光学装置７００においても、図４（ａ）から図４（ｅ）までの一連の工程を経ることにより、ミラー７１１に作用する応力が、該工程による所定の応力状態となる。 FIG. 18 is a sectional view taken along line II of FIG. The support mechanism 730a may include air cylinders 734, 736 as a changing mechanism that drives the position regulating portions 731, 732 in the first direction 202 parallel to the optical axis of the mirror 711. The support mechanism 730a may further include metal housings 733, 735 for fixing the air cylinders 734, 736 to the lens barrel 701. The support mechanism 730b may have the same configuration as the support mechanism 730a. The support mechanisms 730a and 730b may be arranged symmetrically with respect to the axis of symmetry 710 of the optical device 700. The axis of symmetry 710 may be arranged so as to pass through the center (optical axis) of the mirror 711. The operating mechanisms 740a and 740b may have the same configuration as the operating mechanisms 540a and 540b of the second embodiment. Also in the optical device 700, the stress acting on the mirror 711 becomes a predetermined stress state by the series of steps from FIG. 4A to FIG. 4E.

図１９（ａ）〜図１９（ｃ）には、ミラー７１１のうち位置規制部７３１、７３２と当接する領域に作用する応力を所定の応力状態にし、ミラー７１１を押圧して第１方向２０２に関して位置決めする工程が示されている。図１９（ａ）は、光学装置７００の、図４（ｃ）の工程のＥ−Ｅ断面図である。図１９（ｂ）は、図１９（ａ）の状態から、エアシリンダ７３４、７３６によって位置規制部７３１、７３２の位置をミラー７１１から離間した位置に変更した状態が示されている。位置規制部１３１、１３２の位置をミラー７１１から離間した位置に変更することによって、位置規制部１３１、１３２とミラー７１１との接触によってミラー７１１に作用していた応力が除去される。 19 (a) to 19 (c) show that the stress acting on the region of the mirror 711 that comes into contact with the position regulating portions 731 and 732 is set to a predetermined stress state, and the mirror 711 is pressed with respect to the first direction 202. The positioning process is shown. FIG. 19A is a sectional view taken along line EE of the optical device 700 in the process of FIG. 4C. FIG. 19B shows a state in which the positions of the position regulating portions 731 and 732 are changed from the state shown in FIG. 19A to positions separated from the mirror 711 by the air cylinders 734 and 736. By changing the positions of the position regulating portions 131 and 132 to positions separated from the mirror 711, the stress acting on the mirror 711 due to the contact between the position regulating portions 131 and 132 and the mirror 711 is removed.

図１９（ｃ）には、図１９（ｂ）の状態から、エアシリンダ７３４、７３６によって位置規制部１３１、１３２の位置を、位置規制部１３１、１３２がミラー７１１と当接する位置に変更し、ミラー７１１が所定の位置に配置された状態が示されている。エアシリンダ７３４、７３６によって位置規制部１３１、１３２を駆動し、ミラー７１１を押圧すると、ミラー７１１を支持している弾性体付き金属体５４１、弾性体付き金属体５４１と連結された金属体５４７が、ミラー７１１とともに移動する。一方、板ばね５４３は、金属体５４７の移動に伴って変形する。エアシリンダ７３４、７３６がミラー７１１を押圧する押圧力７８１は、板ばね５４３の弾性力に等しい。 In FIG. 19 (c), from the state of FIG. 19 (b), the positions of the position regulating portions 131 and 132 are changed by the air cylinders 734 and 736 to the positions where the position regulating portions 131 and 132 come into contact with the mirror 711. The state in which the mirror 711 is arranged at a predetermined position is shown. When the position regulating portions 131 and 132 are driven by the air cylinders 734 and 736 and the mirror 711 is pressed, the metal body 541 with an elastic body supporting the mirror 711 and the metal body 547 connected to the metal body 541 with an elastic body are formed. , Move with the mirror 711. On the other hand, the leaf spring 543 is deformed as the metal body 547 moves. The pressing force 781 that the air cylinders 734 and 736 press against the mirror 711 is equal to the elastic force of the leaf spring 543.

一例において、板ばね５４３の弾性力は、第２実施例において説明した寸法、材質、最大変形量の板ばね５４３を用いると、約１０Ｎである。連結部５４５を有しない構成、つまりリニアアクチュエータ５４２と弾性体付き金属体５４１とが直接結合された構成では、ミラー７１１を押圧して駆動するのに必要な押圧力７８１は、次に述べる条件の下では１０００Ｎである。 In one example, the elastic force of the leaf spring 543 is about 10 N when the leaf spring 543 having the dimensions, material, and maximum deformation amount described in the second embodiment is used. In a configuration without a connecting portion 545, that is, in a configuration in which the linear actuator 542 and the metal body 541 with an elastic body are directly coupled, the pressing force 781 required to press and drive the mirror 711 is subject to the following conditions. Below it is 1000N.

＜条件＞ミラー７１１と弾性体付き金属体５４１とがリニアアクチュエータ５４２に作用する重量の和が５００ｋｇｆ、リニアアクチュエータ５４２と弾性体付き金属体５４１との動摩擦係数が０．２。 <Conditions> The sum of the weights of the mirror 711 and the metal body 541 with the elastic body acting on the linear actuator 542 is 500 kgf, and the coefficient of dynamic friction between the linear actuator 542 and the metal body 541 with the elastic body is 0.2.

ミラー７１１に作用する押圧力７８１によってミラー７１１に応力が作用すると、ミラー７１１に歪みが発生し、ミラー７１１の光学性能が低下する可能性がある。そのため、押圧力７８１を小さく抑えることが好ましい。操作機構７４０は、リニアアクチュエータ５４２と金属体５４１とが相対的に移動することを可能にする連結部５４５を含み、これによって押圧力７８１を小さく抑えることができる。結果として、ミラー７１１に作用する応力が小さく抑えられ、ミラー７１１に発生する歪みが低減し、ミラー７１１の光学性能の劣化が抑えられる。 When stress acts on the mirror 711 due to the pressing force 781 acting on the mirror 711, the mirror 711 may be distorted and the optical performance of the mirror 711 may be deteriorated. Therefore, it is preferable to keep the pressing force 781 small. The operating mechanism 740 includes a connecting portion 545 that allows the linear actuator 542 and the metal body 541 to move relative to each other, whereby the pressing force 781 can be kept small. As a result, the stress acting on the mirror 711 is suppressed to a small value, the distortion generated in the mirror 711 is reduced, and the deterioration of the optical performance of the mirror 711 is suppressed.

図２０は、本発明の第２実施形態の露光装置１０００の側面図である。露光装置１０００は、照明装置１１００、露光パターン形成装置１２００、投影光学装置（投影光学系）１３００、ステージ装置１４００、および、電気制御装置１５００を備えうる。照明装置１１００、露光パターン形成装置１２００、投影光学装置１３００、ステージ装置１４００および電気制御装置１５００は、チャンバー１６００に収容されうる。第１実施形態の光学装置１００等に代表される光学装置は、例えば、投影光学装置１３００の一部を構成しうる。 FIG. 20 is a side view of the exposure apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention. The exposure device 1000 may include a lighting device 1100, an exposure pattern forming device 1200, a projection optical device (projection optical system) 1300, a stage device 1400, and an electric control device 1500. The lighting device 1100, the exposure pattern forming device 1200, the projection optical device 1300, the stage device 1400 and the electrical control device 1500 may be housed in the chamber 1600. The optical device represented by the optical device 100 or the like of the first embodiment may form, for example, a part of the projection optical device 1300.

電気制御装置１５００は、照明装置１１００、露光パターン形成装置１２００、投影光学装置１３００、ステージ装置１４００、チャンバー１６００の内部空間の温度を所定の温度範囲に保つための電気制御を行う。また、露光時において、照明装置１１００、露光パターン形成装置１２００、投影光学装置１３００、ステージ装置１４００、の操作部を連動させるための電気制御を行う。 The electric control device 1500 performs electrical control for keeping the temperature of the internal space of the lighting device 1100, the exposure pattern forming device 1200, the projection optical device 1300, the stage device 1400, and the chamber 1600 within a predetermined temperature range. Further, at the time of exposure, electrical control is performed to link the operation units of the lighting device 1100, the exposure pattern forming device 1200, the projection optical device 1300, and the stage device 1400.

照明装置１１００で生成された露光光は、露光パターン形成装置１２００に照射され、露光パターンが形成される。露光パターンは、投影光学装置１３００によって、ステージ装置１４００のステージ上に搭載された基板（ウェハーまたはガラスプレート）に投影される。 The exposure light generated by the lighting device 1100 is applied to the exposure pattern forming device 1200 to form an exposure pattern. The exposure pattern is projected by the projection optical device 1300 onto a substrate (wafer or glass plate) mounted on the stage of the stage device 1400.

光学装置１００を構成する光学部品１１１は、投影光学装置１３００を構成する光学系の一部として、露光パターン形成装置で形成された露光パターンをウェハーやガラスプレートに結像する際の結像性能に大きく影響する。そのため、光学部品１１１に応力が作用すると、光学部品１１１に歪みが発生し、前記結像性能が低下する可能性がある。光学装置１００では、光学部品１１１に作用する応力が小さく抑えられるため、光学部品１１１に発生する歪みが低減する。結果として、光学部品１１１の結像性能の劣化を小さく抑制することができ、良好な結像性能を有する露光装置１０００を提供することができる。 The optical component 111 constituting the optical device 100 has an imaging performance when forming an exposure pattern formed by the exposure pattern forming apparatus on a wafer or a glass plate as a part of the optical system constituting the projection optical apparatus 1300. It has a big influence. Therefore, when stress acts on the optical component 111, the optical component 111 may be distorted and the imaging performance may be deteriorated. In the optical device 100, since the stress acting on the optical component 111 is suppressed to a small value, the distortion generated in the optical component 111 is reduced. As a result, deterioration of the imaging performance of the optical component 111 can be suppressed to a small extent, and the exposure apparatus 1000 having good imaging performance can be provided.

図２１は、本発明の第３実施形態の露光装置２０００の側面図である。露光装置２０００は、照明ユニット２１００、露光マスクユニット２２００、投影ユニット（投影光学系）２３００、ステージユニット２４００および電気制御ユニット２５００を備えうる。照明ユニット２１００、露光マスクユニット２２００、投影ユニット２３００、ステージユニット２４００および電気制御ユニット２５００は、チャンバー２６００に収容されうる。第１実施形態の光学装置３００等に代表される光学装置は、投影ユニット２３００の一部を構成しうる。 FIG. 21 is a side view of the exposure apparatus 2000 according to the third embodiment of the present invention. The exposure apparatus 2000 may include an illumination unit 2100, an exposure mask unit 2200, a projection unit (projection optical system) 2300, a stage unit 2400, and an electric control unit 2500. The lighting unit 2100, the exposure mask unit 2200, the projection unit 2300, the stage unit 2400 and the electrical control unit 2500 may be housed in the chamber 2600. The optical device represented by the optical device 300 or the like of the first embodiment may form a part of the projection unit 2300.

電気制御ユニット２５００は、照明ユニット２１００、露光マスクユニット２２００、投影ユニット２３００、ステージユニット２４００、チャンバー２６００の内部空間の温度を所定の温度範囲に保つための電気制御を行う。具体的には、電気制御ユニット２５００は、各ユニットの内部空間に配置された温度センサの値を基に、各ユニットに送気するクリーンな乾燥空気の温度をフィードバック制御しうる。 The electric control unit 2500 performs electrical control for keeping the temperature of the internal space of the lighting unit 2100, the exposure mask unit 2200, the projection unit 2300, the stage unit 2400, and the chamber 2600 within a predetermined temperature range. Specifically, the electric control unit 2500 can feedback-control the temperature of the clean dry air supplied to each unit based on the value of the temperature sensor arranged in the internal space of each unit.

露光を行う際には、以下で述べる各ユニットの動作を同期させる必要がある。照明ユニットの動作は、照明光を照射するタイミングと照射時間である。露光マスクユニット２２００の動作は、露光マスクユニット２２００を構成する露光マスクをスキャンするタイミングとスキャンする速度である。投影ユニット２３００の動作は、投影ユニット２３００を構成する投影光学系において、駆動を伴う光学系を駆動するタイミングと駆動する速度である。ステージユニット２４００の動作は、ステージユニット２４００を構成するステージを駆動するタイミングと駆動する速度である。電気制御ユニット２５００は、上述した各ユニットの動作を同期するための電気制御を行う。 When performing exposure, it is necessary to synchronize the operation of each unit described below. The operation of the lighting unit is the timing and irradiation time of irradiating the illumination light. The operation of the exposure mask unit 2200 is the timing and speed of scanning the exposure masks constituting the exposure mask unit 2200. The operation of the projection unit 2300 is the timing and speed at which the optical system accompanied by driving is driven in the projection optical system constituting the projection unit 2300. The operation of the stage unit 2400 is the timing and speed at which the stages constituting the stage unit 2400 are driven. The electric control unit 2500 performs electric control for synchronizing the operations of the above-mentioned units.

照明ユニット２１００で生成された露光光は、露光マスクユニット２２００を構成する露光マスク２２０１に照射され、前記露光マスクを透過することにより、露光マスクを物体面とする露光パターンが形成される。露光パターンは、投影ユニット２３００によって、ステージユニット２４００のステージ上に搭載されたガラスプレート２４０１に投影される。 The exposure light generated by the illumination unit 2100 is applied to the exposure mask 2201 constituting the exposure mask unit 2200, and is transmitted through the exposure mask to form an exposure pattern having the exposure mask as an object surface. The exposure pattern is projected by the projection unit 2300 onto the glass plate 2401 mounted on the stage of the stage unit 2400.

光学装置３００を構成するミラー３１１は、投影ユニット２３００を構成する投影光学系２３０１の一部として、露光マスク２２０１を透過した露光光をガラスプレート２４０１に塗布されたレジストに結像する際の結像性能に大きく影響する。そのため、ミラー３１１に応力が作用していると、ミラー３１１に歪みが発生し、前記結像性能が劣化する可能性がある。光学装置３００では、ミラー３１１に作用する応力が小さく抑えられるため、ミラー３１１に発生する歪みが低減する。結果として、ミラー３１１の結像性能の劣化を小さく抑制することができ、良好な結像性能を有する露光装置２０００を提供することができる。 The mirror 311 constituting the optical device 300 forms an image when the exposure light transmitted through the exposure mask 2201 is formed on the resist coated on the glass plate 2401 as a part of the projection optical system 2301 constituting the projection unit 2300. It greatly affects the performance. Therefore, when stress is applied to the mirror 311, the mirror 311 may be distorted and the imaging performance may be deteriorated. In the optical device 300, since the stress acting on the mirror 311 is suppressed to be small, the distortion generated in the mirror 311 is reduced. As a result, deterioration of the imaging performance of the mirror 311 can be suppressed to a small extent, and the exposure apparatus 2000 having good imaging performance can be provided.

以下、上記の露光装置を使って物品（半導体ＩＣ素子、液晶表示素子、ＭＥＭＳ等）を製造する物品製造方法を説明する。物品は、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板（ウェハ、ガラス基板等）を露光する工程と、その基板の感光剤を現像してパターンを形成する工程と、そのパターンを使って基板を処理する工程を経て、該処理された基板から製造されうる。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本物品製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。 Hereinafter, a method for manufacturing an article (semiconductor IC element, liquid crystal display element, MEMS, etc.) using the above-mentioned exposure apparatus will be described. The article has a step of exposing a substrate (wafer, glass substrate, etc.) coated with a photosensitizer using the above-mentioned exposure apparatus, a step of developing the photosensitizer of the substrate to form a pattern, and the pattern. It can be manufactured from the processed substrate through the process of processing the substrate using. Other well-known steps include etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging and the like. According to this article manufacturing method, it is possible to manufacture an article of higher quality than before.

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。 The invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, a claim is attached to make the scope of the invention public.

１００：光学装置、１１１：光学部品、１３１、１３２：位置規制部、１４０：操作機構、１４５：連結部 100: Optical device, 111: Optical parts, 131, 132: Position regulation part, 140: Operation mechanism, 145: Connection part

Claims (11)

光学部品と、
前記光学部品を支持する支持部および第１方向における前記光学部品の位置を規制する位置規制部を有する支持機構と、
前記光学部品に対して、前記第１方向とは異なる第２方向に力を加え、前記光学部品を操作するための操作機構と、を備え、
前記操作機構は、前記光学部品と接触する接触部と、前記接触部を前記第２方向に移動させる操作部と、前記接触部と前記操作部とを連結する連結部と、を含み、前記連結部は、前記第１方向に関して、前記操作部と前記接触部とが相対的に移動可能に構成されている、
ことを特徴とする光学装置。 Optical parts and
A support mechanism having a support portion for supporting the optical component and a position regulating portion for regulating the position of the optical component in the first direction,
The optical component is provided with an operation mechanism for operating the optical component by applying a force to the optical component in a second direction different from the first direction.
The operating mechanism includes a contact portion that comes into contact with the optical component, an operating portion that moves the contact portion in the second direction, and a connecting portion that connects the contact portion and the operating portion. The unit is configured such that the operation unit and the contact unit can be relatively movable with respect to the first direction.
An optical device characterized by that. 前記第１方向に関して、前記操作部を前記接触部に対して相対的に移動させるために要する力は、前記光学部品と前記接触部との間に作用する静止摩擦抵抗より小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。 With respect to the first direction, the force required to move the operating portion relative to the contact portion is smaller than the static frictional resistance acting between the optical component and the contact portion.
The optical device according to claim 1. 前記第１方向における前記位置規制部の位置を変更する変更機構を更に備える、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。 Further provided with a changing mechanism for changing the position of the position regulating unit in the first direction.
The optical device according to claim 1 or 2. 前記連結部は、前記第１方向に関して前記操作部と前記接触部とが相対的に移動することを可能にする弾性部を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学装置。 The connecting portion includes an elastic portion that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above. 前記連結部は、前記第１方向に関して、前記操作部と前記接触部とが相対的に移動することを可能にするリニアガイドを含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学装置。 The connecting portion includes a linear guide that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above. 前記連結部は前記第１方向に関して前記操作部と前記接触部とが相対的に移動することを可能にする板ばねを含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学装置。 The connecting portion includes a leaf spring that allows the operating portion and the contact portion to move relative to each other in the first direction.
The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical device is characterized by the above. 前記操作機構は、前記光学部品の状態を変更可能に構成され、前記状態は、前記光学部品が前記支持機構によって支持された第１状態と、前記光学部品が前記操作機構によって支持された第２状態とを含む、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学装置。 The operation mechanism is configured so that the state of the optical component can be changed, and the state is a first state in which the optical component is supported by the support mechanism and a second state in which the optical component is supported by the operation mechanism. Including state,
The optical device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that. 前記状態は、前記第１状態から前記第２状態を経て前記第１状態にされる、
ことを特徴とする請求項７に記載の光学装置。 The state is changed from the first state to the first state through the second state.
The optical device according to claim 7. 前記操作機構は、駆動機構を含み、前記駆動機構は、前記状態が前記第１状態から前記第２状態を経て前記第１状態にされるように動作する、
ことを特徴とする請求項７に記載の光学装置。 The operation mechanism includes a drive mechanism, and the drive mechanism operates so that the state is changed from the first state to the first state through the second state.
The optical device according to claim 7. 露光パターンを基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記投影光学系は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学装置を含む、
ことを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus provided with a projection optical system that projects an exposure pattern onto a substrate.
The projection optical system includes the optical device according to any one of claims 1 to 9.
An exposure apparatus characterized in that. 請求項１０に記載の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、
前記感光剤を現像してパターンを形成する工程と、
前記パターンを使って前記基板を処理する工程と、
を含み、前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。 A step of exposing a substrate coated with a photosensitive agent by using the exposure apparatus according to claim 10.
The process of developing the photosensitizer to form a pattern and
The process of processing the substrate using the pattern and
A method for producing an article, which comprises the present invention and comprises producing an article from the substrate.
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