JP2019523986A - 深い接合の電子装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)平面を有する単結晶半導体材料の基板を設ける工程と、
b)外面を有する非単結晶半導体材料の層を平面に堆積する工程と、
c)単結晶半導体材料の不活性化ドープ層及び/又は非単結晶半導体材料の不活性化ドープ層を形成するために、工程b)の前に基板に、及び/又は、工程b)の間又は工程b)の後に非単結晶半導体材料の層に不活性なドーパント元素を加える工程と、
d)工程c)の後に、予め決定されたしきい値より高いエネルギー密度を有するレーザ熱アニールビームを、工程b)で形成した外面の領域に露光し、基板の界面に至るまでのレーザ熱アニールビームによって規定される容積の非単結晶半導体材料の層を溶融するとともに工程c)で加えられたドーパント元素を活性化させる工程と、
e)基板との界面から外面までの非単結晶半導体材料の層のエピ状の結晶化を引き起こすとともに界面と外面の間の容積に延在するエピ状単結晶半導体材料を形成するために、レーザ熱アニールビームの領域への露光を停止する工程であって、基板及び/又は前記エピ状単結晶半導体材料は、活性化したドープされた単結晶半導体材料の層を備える工程と、
を備える、深い接合の電子装置の製造方法を設けることにより本発明によって実現される。
図1〜3は、結晶基板1、例えば、単結晶シリコンウェハに深いドープされたバッファ層を形成する従来技術による工程を線形的に示す。
図5〜7は、第1実施例による深いドープされたバッファ層を形成する工程を示し、図8は、結果的に得られる構造を示す。
図9〜11は、第2実施例によるドープされた埋め込み層を形成する工程を示し、図12は、結果的に得られる構造を示す。
第3実施例は、第1実施例と第2実施例の組合せにある。第3実施例の第1の工程において、図9に関連した説明と同様に、標準的なエネルギーの注入が、ドーパント元素を基板に注入するために単結晶基板1の平面9に対して行われ、したがって、第1のドーピングタイプの不活性なドープされた元素を有する単結晶半導体材料の層27を形成する。その後、非単結晶半導体材料の層5は、基板1の平面9に堆積される。この第3実施例において、層5は、真性である、ドープされていない又は同一のドーピングタイプ又は第2のドーピングタイプの不活性なドーパント元素がドープされる。層5のこのようなドーピングを、層5の堆積の間に又は(図6に示すように)層5の堆積の後に標準的エネルギーの注入工程を用いて行ってもよい。
本発明は、IGBT、パワーMOS、ダイオード及び他のマイクロエレクトロニクス装置のような深い接合の装置に適用される。
Claims (14)
- a)平面(9)を有する単結晶半導体材料の基板(1)を設ける工程と、
b)外面(19)を有する非単結晶半導体材料の層(5)を前記平面(9)に堆積する工程と、
c)単結晶半導体材料の不活性化ドープ層(27)及び/又は非単結晶半導体材料の不活性化ドープ層(7)を形成するために、工程b)の前に前記基板(1)に、及び/又は、工程b)の間又は工程b)の後に非単結晶半導体材料の前記層(5)に不活性なドーパント元素を加える工程と、
d)工程c)の後に、予め決定されたしきい値より高いエネルギー密度を有するレーザ熱アニールビーム(30)を、工程b)で形成した前記外面(19)の領域に露光し、前記基板(1)の界面に至るまでの前記レーザ熱アニールビーム(30)によって規定される容積の前記非単結晶半導体材料の層(5)を溶融するとともに工程c)で加えられた前記ドーパント元素を活性化させる工程と、
e)前記基板(1)との界面(6,8)からの前記非単結晶半導体材料の層(5)のエピ状の結晶化を引き起こすとともに前記界面と前記外面(19)の間の容積に延在するエピ状単結晶半導体材料(15)を形成するために、前記レーザ熱アニールビームの前記領域への露光を停止する工程であって、前記基板(1)及び/又は前記エピ状単結晶半導体材料(15)は、活性化したドープされた単結晶半導体材料の層(17,27)を備える工程と、
を備える、深い接合の電子装置の製造方法。 - 工程d)の間に、前記レーザ熱アニールビーム(30)は、前記非単結晶半導体材料の吸収の範囲のレーザ波長を有するエキシマレーザビームである、請求項1に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程c)は、工程a)の後及び工程b)の前に行われる工程c1)を備え、前記工程c1)は、前記不活性なドーパント元素を前記単結晶半導体材料の基板(1)に注入し、前記不活性なドーパント元素がドープされるとともに前記平面(9)から前記単結晶半導体材料の基板(1)まで延在する単結晶半導体材料の層(27)を形成するために、前記基板(1)の前記平面(9)にイオン注入ビーム(40)を露光することを備える請求項1又は2に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程c)は、工程a)の間に行われる工程c2)を備え、前記工程c2)は、ドーパント元素を前記非単結晶半導体材料の層(5)に注入することを備える請求項1〜3のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程c)は、工程a)及び工程b)の後に行われる工程c3)を備え、前記工程c3)は、前記不活性なドーパント元素を前記非単結晶半導体材料の層(5)に注入し、前記不活性なドーパント元素がドープされた非単結晶半導体材料の層(7)を形成するために、前記非単結晶半導体材料の層(5)にイオン注入ビーム(40)を露光することを備える請求項1〜4のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 活性化したドープされた単結晶半導体材料の層(37)に第1のタイプのドーパントをドープし、活性化したドープされたエピ状単結晶半導体材料の層(17)に第2のタイプのドーパントをドープする請求項3及び請求項4又は5に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 前記平面(9)から酸化層を除去するために、工程b)の前に前記基板(1)の前記平面(9)をクリーニングする他の工程を更に備える請求項1〜6のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 前記半導体材料をケイ素とゲルマニウムの間で選択する請求項1〜7のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 不活性化ドーパント元素の注入を行う工程c)を、前記基板(1)の前記平面(9)に垂直な方向に沿った勾配分布でドーパント元素を注入するように行う請求項1〜8のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 前記エピ状単結晶半導体材料の層(15)は、500nmと3μmの間の厚さを有する請求項1〜9のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程d)において、前記レーザ熱アニールビームは、0.1〜10J/cm2の範囲のエネルギー密度及び600nmより小さいレーザ波長を有するエキシマレーザビームである請求項1〜10のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程d)及び工程e)を、不活性ガス、空気又は真空の間で選択したガス雰囲気において制御された圧力及び温度の下で行う請求項1〜11のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 工程d)の間の前記非単結晶半導体材料の層(5)の完全な溶融の制御及び工程e)の間の前記エピ状単結晶半導体材料の層(15)の制御を行うために、前記非単結晶半導体材料の層(5)の外面で反射した光ビームを測定する工程を更に備える請求項1〜11のいずれか一項に記載の深い接合の電子装置の製造方法。
- 単結晶半導体基板(1)を備える深い接合の電子装置において、外面(19)及び前記単結晶半導体基板(1)との界面(6,8)を有するエピ状単結晶半導体材料(15)の層(15)を備え、前記単結晶半導体基板(1)及び/又は前記エピ状単結晶半導体材料(15)の層(15)は、活性化したドープされた単結晶半導体材料の層(17,27)を備え、前記界面(6,8)は、前記外面から1〜5μmの深さで配置され、前記活性化したドープされた単結晶半導体材料の層(17,27)のドーピング分布は、非ガウス分布である深い接合の電子装置。
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