JP2019502341A - 磁石アレイ、電気コイルデバイス、変位システム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2015年11月5日に出願された欧州特許出願第15193112.8号及び2015年12月17日に出願された欧州特許出願第15200713.4号の優先権を請求するものであり、これらの出願は参照により全体として本明細書に組み込まれる。
第1及び第2の方向は互いに垂直ではなく、
第3の方向においてどちらも第1のタイプであるか又はどちらも第2のタイプである2つの隣接した磁石間の距離は第4の方向においてどちらも第1のタイプであるか又はどちらも第2のタイプである2つの隣接した磁石間の距離と等しくない。
第3の方向に対して実質的に垂直な電流導体(current conductor)を有する少なくとも1つの第1の電気コイルと、
磁石アレイの第4の方向に対して実質的に垂直な電流導体を有する少なくとも1つの第2の電気コイルと、
を含む電気コイルデバイスが設けられる。
Claims (16)
- 変位システム用の磁石アレイであって、前記磁石アレイが第1のタイプの磁石と第2のタイプの磁石の2次元パターンを含み、それにより前記第1のタイプの磁石及び前記第2のタイプの磁石は、前記アレイの平面に対して実質的に垂直で、対向する磁化方向を有し、第1の方向及び第2の方向の両方に等間隔で交互に配置され、
前記第1の方向及び前記第2の方向が互いに垂直ではなく、
第3の方向及び第4の方向のいずれにおいても前記第1のタイプであるか又はいずれにおいても前記第2のタイプである磁石の、前記第3の方向における2つの隣接した磁石間の距離が、前記第4の方向における2つの隣接した磁石間の距離と等しくない、磁石アレイ。 - 前記第1のタイプ及び前記第2のタイプの磁石が、前記第1の方向に平行な複数の第1の線及び前記第2の方向に平行な複数の第2の線に沿って等間隔で交互に配置され、2本の近接する第1の線間の距離が2本の近接する第2の線間の距離と等しく、2本の近接する第2の線と交差する2本の近接する第1の線が菱形形状を形成する、請求項1に記載の変位システム用の磁石アレイ。
- 前記第1の方向及び前記第2の方向が互いに垂直ではなく、好ましくは89〜1度の角度、より好ましくは70〜20度の角度、さらにより好ましくは55〜35度の角度、最も好ましくは45度あたりに構成される、請求項1又は2に記載の磁石アレイ。
- 前記磁石アレイが、前記第1のタイプ及び前記第2のタイプの並置された磁石の各対の間に前記第1の方向及び前記第2の方向に配置されている第3のタイプの磁石を含み、前記第3のタイプの磁石は、前記平面に対して平行に延びる磁化方向を有する、請求項1、2、又は3に記載の磁石アレイ。
- 前記第1のタイプ及び前記第2のタイプの磁石が同じサイズを有する側面を備えた同一の菱形形状を有する、請求項1から4のいずれかに記載の磁石アレイ。
- 前記第3のタイプの磁石は、長い側面と短い側面を備えた平行四辺形の形状を有し、前記第3のタイプの磁石の長い側面が、前記第1のタイプ又は前記第2のタイプの磁石の側面と接しており、前記第1のタイプ及び前記第2のタイプの磁石の前記側面とちょうど同じ長さである、請求項4及び5に記載の磁石アレイ。
- 前記第3のタイプの磁石の前記短い側面が、前記第3のタイプの磁石の前記長い側面のサイズの0.25〜0.75倍である、請求項6に記載の磁石アレイ。
- 前記第3のタイプの前記磁石同士の間には、その短い側面に接して、前記平面内で菱形形状を備えた領域が作成される、請求項1から7のいずれかに記載の磁石アレイ。
- 前記領域には磁石を設けない、請求項8に記載の磁石アレイ。
- 前記第1のタイプ、前記第2のタイプ、及び前記第3のタイプの前記磁石が前記平面内で平行四辺形の形状を有する、請求項4に記載の磁石アレイ。
- 前記第3の方向及び前記第4の方向が互いに垂直である、請求項1から10のいずれかに記載の磁石アレイ。
- 前記磁石アレイ内の前記磁石が電磁石である、請求項1から11のいずれかに記載の磁石アレイ。
- 平面内で互いに対して変位可能な第1の部分と第2の部分とを含む変位システムであって、前記第1の部分が請求項1から12のいずれかに記載の前記磁石アレイを含み、前記第2の部分には、
前記第3の方向に対して実質的に垂直な電流導体を有する少なくとも1つの第1の電気コイルと、
前記磁石アレイの前記第4の方向に対して実質的に垂直な電流導体を有する少なくとも1つの第2の電気コイルと、
を含む電気コイルデバイスが設けられる、変位システム。 - 前記第1の電気コイルが、前記第3の方向に対して実質的に垂直な電流を誘導するための少なくとも2つの電流導体であって、前記第3の方向において前記同じタイプの2つの隣接した磁石間の前記距離の半分だけ間隔を開けて配置された少なくとも2つの電流導体を反対方向に含み、
前記第2の電気コイルが、前記第4の方向に対して実質的に垂直な少なくとも2つの電流導体であって、前記第4の方向において前記同じタイプの2つの隣接した磁石間の前記距離の半分だけ間隔を開けて配置された少なくとも2つの電流導体を反対方向に含む、請求項13に記載の変位システム。 - パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するように配置されたリソグラフィ装置であって、前記装置が、請求項1から12のいずれかに記載の磁石アレイ、請求項13に記載の変位デバイス、及び/又は請求項13及び/又は14に記載の変位システムを含む、リソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを転写することを含むデバイス製造方法であって、前記方法が、第1のタイプの磁石と第2のタイプの磁石の2次元パターンを含み、それにより前記第1のタイプの磁石及び前記第2のタイプの磁石は、対向する磁化方向を有し、第1の方向及び第2の方向の両方に等間隔で交互に配置され、前記第1の方向及び第2の方向が互いに垂直ではなく、第3の方向及び第4の方向において同じタイプの磁石の、前記第3の方向における2つの隣接した磁石間の距離が、前記第4の方向における2つの隣接した磁石間の距離とは異なる、磁石アレイの平面上で前記パターニングデバイスに対してオブジェクトテーブルを変位させることを含み、前記オブジェクトテーブルが、前記オブジェクトテーブルに提供され、前記第3の方向又は前記第4の方向に対して実質的に垂直な電流導体を有する少なくとも1つの電気コイルに電流を提供することにより変位される、デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP15193112.8 | 2015-11-05 | ||
EP15193112 | 2015-11-05 | ||
EP15200713 | 2015-12-17 | ||
EP15200713.4 | 2015-12-17 | ||
PCT/EP2016/073634 WO2017076561A1 (en) | 2015-11-05 | 2016-10-04 | Magnet array, electric coil device, displacement system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019502341A true JP2019502341A (ja) | 2019-01-24 |
Family
ID=57068110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018519045A Pending JP2019502341A (ja) | 2015-11-05 | 2016-10-04 | 磁石アレイ、電気コイルデバイス、変位システム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190074756A1 (ja) |
JP (1) | JP2019502341A (ja) |
CN (1) | CN108350976A (ja) |
NL (1) | NL2017573A (ja) |
WO (1) | WO2017076561A1 (ja) |
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2016
- 2016-10-04 WO PCT/EP2016/073634 patent/WO2017076561A1/en active Application Filing
- 2016-10-04 CN CN201680064631.7A patent/CN108350976A/zh active Pending
- 2016-10-04 NL NL2017573A patent/NL2017573A/nl unknown
- 2016-10-04 US US15/767,199 patent/US20190074756A1/en not_active Abandoned
- 2016-10-04 JP JP2018519045A patent/JP2019502341A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL2017573A (en) | 2017-05-24 |
US20190074756A1 (en) | 2019-03-07 |
CN108350976A (zh) | 2018-07-31 |
WO2017076561A1 (en) | 2017-05-11 |
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