JP2005117049A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平面モータの磁界分布は、永久磁石或いは1つ又は複数の通電導体によって生成される。平面モータをリソグラフィ装置に適用して、対象物テーブルを第1の方向及び第1の方向に垂直な第2の方向に移動させることができる。永久磁石或いは通電導体の特定の配列により、前記第1又は第2の方向の一方で平面モータの効率を改善することができる。
【選択図】図3
Description
放射線の投影ビームを提供するように構成された照明装置と、
投影ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン形成装置を保持するように構成された支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影装置と、
対象物テーブルを位置決めするように構成された位置決め装置とを含むリソグラフィ装置において、該位置決め装置が、
第1の方向及び第1の方向に垂直な第2の方向に周期的に交番する磁界分布を有し、磁界分布が、前記第1及び第2の方向に対して異方性を有する第1の部分と、
少なくとも第1の方向に力を発生させるように第1の部分に対して配置された第1の組のコイル、及び少なくとも第2の方向に力を発生させるように第1の部分に対して配置された第2の組のコイルを有する第2の部分とを有するリソグラフィ装置が提供される。
位置決め装置を用いて対象物テーブルを位置決めする段階であって、位置決め装置が、第1の方向及び第1の方向に垂直な第2の方向に周期的に交番する磁界分布を有し、磁界分布が第1及び第2の方向について異方性を有する第1の部分と、少なくとも第1の方向に力を発生させるように第1の部分に対して配置した第1の組のコイル及び少なくとも第2の方向に力を発生させるように第1の部分に対して配置した第2の組のコイルを有する第2の部分とを有する段階と、
パターンの形成された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影する段階とを含むデバイス製造方法が提供される。
放射線(例えばUV放射又はEUV放射)の投影ビームPBを提供するための照明装置(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するための第1の支持構造体(例えばマスク・テーブル)MTであって、部材PLに対してパターン形成装置を正確に位置決めするための第1の位置決め装置PMに接続された第1の支持構造体MTと、
基板(例えばレジスト塗布ウェハ)Wを保持するための基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTであって、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
パターン形成装置MAによって投影ビームPBに与えられたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)ターゲット部分Cに結像させるための投影装置(例えば反射投影レンズ)PLとを含んでいる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保ち、それと同時に投影ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査し、それと同時に投影ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影装置PLの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
3.他のモードでは、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながらマスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させるのと同時に、投影ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス式の放射線源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この作動モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用することができる。
BD ビーム発射装置
C ターゲット部分
IF 位置センサ
IL 照明器
MA パターン形成装置、マスク
MT 支持構造体、対象物テーブル、マスク・テーブル
M1、M2 マスク位置調整用マーク
PB 投影ビーム
PL 投影装置、レンズ
PM、PW 位置決め装置
P1、P2 基板位置調整用マーク
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル、対象物テーブル
10、20、40、41 コイル
60、61、70、71、72、73、74、75、76、77 磁石
90 強磁性板
95 通電導体
Claims (13)
- 放射線の投影ビームを提供するように構成された照明装置と、
投影ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン形成装置を保持するように構成された支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影装置と、
対象物テーブルを位置決めするように構成された位置決め装置とを含むリソグラフィ装置において、該位置決め装置が、
第1の方向及び該第1の方向に垂直な第2の方向に周期的に交番する磁界分布を有し、該磁界分布が前記第1及び第2の方向に対して異方性を有する第1の部分と、
少なくとも前記第1の方向に力を発生させるように前記第1の部分に対して配置された第1の組のコイル、及び少なくとも前記第2の方向に力を発生させるように前記第1の部分に対して配置された第2の組のコイルを有する第2の部分とを含むリソグラフィ装置。 - 永久磁石によって前記磁界分布が生成される請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記永久磁石が実質的に同一の形状を有する請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 八角形の磁石及び正方形の磁石が前記第1及び第2の方向に交互に配列されることによって前記磁界分布が生成され、前記第1の方向に沿った磁石が同じ極性を有し、前記第2の方向に沿った磁石が交番する極性を有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 長方形の磁石が前記第1及び第2の方向に配列されることによって前記磁界分布が生成され、前記第1及び第2の方向に沿った磁石が同じ極性を有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 第1の型の磁石及び第2の型の磁石が前記第1及び第2の方向に交互に配列されることによって前記磁界分布が生成され、前記第1の方向に沿った磁石が交番する極性を有し、前記第2の方向に沿った磁石が同じ極性を有し、前記第1の型の磁石が前記第2の型の磁石とは異なるサイズである請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 六角形の磁石が前記第1及び第2の方向に配列されることによって前記磁界分布が生成される請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 磁石の磁気ピッチが前記第1及び第2の両方向で等しい請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び第2の方向に延びる2次元のハルバッハ配列によって前記磁界分布が生成され、ハルバッハ配列の磁石間の間隙が正方形の磁石を含み、前記第1及び第2の方向に沿った該正方形の磁石が同じ極性を有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 少なくとも1つの通電導体によって前記磁界分布が生成される請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの通電導体が、少なくとも部分的に強磁性板に埋め込まれている請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの通電導体が超伝導体である請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 位置決め装置を用いて対象物テーブルを位置決めする段階であって、該位置決め装置が、第1の方向及び第1の方向に垂直な第2の方向に周期的に交番する磁界分布を有し、該磁界分布が前記第1及び第2の方向について異方性を有する第1の部分と、少なくとも前記第1の方向に力を発生させるように前記第1の部分に対して配置した第1の組のコイル及び少なくとも前記第2の方向に力を発生させるように前記第1の部分に対して配置した第2の組のコイルを有する第2の部分とを有する段階と、
パターンの形成された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影する段階とを含むデバイス製造方法。
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