JP2019147573A - Cushioning material for wafer protection - Google Patents

Abstract

To provide a cushioning material for wafer protection which not only prevents intrusion of dust and dirt but is further excellent in flexibility.SOLUTION: A cushioning material for wafer protection consists of a foam sheet with resin films laminated on both sides. The compressive hardness of the cushioning material measured according to JIS-K6767 is equal to or less than 20N, and the open cell rate of the foam sheet is equal to or more than 75%.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ウエハ保護用クッション材に関する。   The present invention relates to a cushion material for protecting a wafer.

ウエハが搬送される場合、ウエハはコインスタック式（横置き）搬送容器に収納した状態で搬送される。ウエハとしては、半導体などの集積回路形成用等の用途で使用するための基板材や、集積回路を搭載した半導体ウエハ等が挙げられる。   When the wafer is transferred, the wafer is transferred in a state of being stored in a coin stack type (horizontal) transfer container. Examples of the wafer include a substrate material for use in forming an integrated circuit such as a semiconductor, and a semiconductor wafer on which an integrated circuit is mounted.

コインスタック式搬送容器としては、例えば特許文献１に示すように、容器本体内の空間にウエハ保護用クッション材に挟まれるように一枚以上のウエハを配した状態となるようにウエハ保護用クッション材とウエハを収納して、蓋体を被覆したものが知られている。コインスタック式搬送容器において複数枚のウエハが収納される場合には、ウエハは積層体（ウエハ積層体）の状態で収納され、ウエハ積層体の最下面と最上面にウエハ保護用クッション材が配置され、隣り合うウエハの間には、スペーサが配置される。そしてウエハ保護用クッション材には、樹脂製の発泡材を用いたものが用いられる。このような構成により、搬送時の振動や衝撃によってウエハの損傷が生じる虞の低減が図られる。   As a coin stack type transport container, for example, as shown in Patent Document 1, a wafer protection cushion is provided such that one or more wafers are arranged in a space in the container body so as to be sandwiched between cushion protection materials for wafer protection. A material and a wafer are housed and covered with a lid. When multiple wafers are stored in a coin-stacked transfer container, the wafers are stored in a stack (wafer stack), and wafer protection cushions are placed on the bottom and top surfaces of the wafer stack. A spacer is disposed between adjacent wafers. The wafer protection cushion material is a resin foam material. With such a configuration, it is possible to reduce the possibility of damage to the wafer due to vibration or impact during transfer.

コインスタック式搬送容器に収納されるウエハには集積回路が形成されるため、ウエハとともに利用されるウエハ保護用クッション材については、清浄度の高いものが要請される。   Since an integrated circuit is formed on the wafer stored in the coin stack type transfer container, a highly clean wafer protection cushion material used together with the wafer is required.

しかしながら、ウエハ保護用クッション材は、発泡材を用いたものであることから、製造工程上、塵や埃が発泡材のセル内に侵入してしまう虞があった。   However, since the cushioning material for protecting the wafer uses a foam material, there is a possibility that dust and dust may enter the cell of the foam material in the manufacturing process.

そこで、特許文献１には、ウエハ保護用クッション材として発泡材の両表面に所定範囲の表面抵抗を有する樹脂フィルムを設けたものが提案されている。   Therefore, Patent Document 1 proposes a wafer protection cushion material in which a resin film having a predetermined range of surface resistance is provided on both surfaces of a foamed material.

特開２０１３−１２０７９６号公報JP 2013-120996 A

特許文献１のクッション材は、塵や埃が発泡材のセル内に侵入することを防ぐ点で極めて優れている。   The cushion material of Patent Document 1 is extremely excellent in that dust and dust are prevented from entering the foam cell.

しかしながら、コインスタック式搬送容器に収納されるウエハに形成される集積回路がより高集積化しており極めて精密化してきている。このため、塵や埃が発泡材のセル内に侵入することを防止するだけでなく、柔軟性により一層富むものが要請されてきている。   However, the integrated circuits formed on the wafers stored in the coin stack type transport container are highly integrated and have become extremely precise. For this reason, there has been a demand not only for preventing dust and dust from entering the cells of the foam material, but also for being richer in flexibility.

本発明は、塵や埃が発泡材のセル内に侵入することを防止するだけでなく、柔軟性により一層富むウエハ保護用クッション材を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a cushion material for protecting a wafer, which not only prevents dust and dust from entering a cell of a foam material, but also has more flexibility.

本発明は、（１）発泡シートの両面に樹脂フィルムを積層されているウエハ保護用クッション材であって、
ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定された該クッション材の圧縮硬さが、２０Ｎ以下であり、
前記発泡シートの連続気泡率が７５％以上である、ことを特徴とするウエハ保護用クッション材、
（２）ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定された前記クッション材の圧縮永久歪みが、５％以下である、上記（１）に記載のウエハ保護用クッション材、
を要旨とする。 The present invention is (1) a cushion material for protecting a wafer in which resin films are laminated on both sides of a foam sheet,
The compression hardness of the cushion material measured according to JIS K 6767 is 20 N or less,
A cushioning material for protecting a wafer, wherein the open cell ratio of the foamed sheet is 75% or more,
(2) The cushioning material for wafer protection according to (1) above, wherein the compression set of the cushioning material measured in accordance with JIS K 6767 is 5% or less.
Is the gist.

本発明によれば、塵や埃が発泡材のセル内に侵入することを防止するだけでなく、柔軟性により一層富むウエハ保護用クッション材を得ることができる。   According to the present invention, it is possible not only to prevent dust and dust from entering the cells of the foam material, but also to obtain a cushion material for protecting the wafer that is further rich in flexibility.

図１は、本発明のウエハ保護用クッション材の実施例の１つを模式的に示すための概略断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional schematic view for schematically showing one embodiment of a cushioning material for protecting a wafer according to the present invention. 図２は、本発明のウエハ保護用クッション材の他の実施例の１つを模式的に示すための概略断面模式図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional schematic view for schematically showing one example of another embodiment of the wafer protecting cushion material of the present invention. 図３は、本発明のウエハ保護用クッション材を用いて搬送容器にウエハを収容した状態を模式的に示すための概略分解斜視図である。FIG. 3 is a schematic exploded perspective view for schematically showing a state in which a wafer is accommodated in a transfer container using the wafer protection cushion material of the present invention.

［ウエハ保護用クッション材］
本発明は、ウエハ保護用クッション材（以下、単にクッション材と呼ぶことがある。）である。クッション材は、使用時には、容器本体と蓋を備えた搬送容器に収容される。このとき、クッション材は、容器本体の上下端にウエハを覆うように配置される。 [Cushion material for wafer protection]
The present invention is a cushion material for protecting a wafer (hereinafter sometimes simply referred to as a cushion material). In use, the cushion material is accommodated in a transport container having a container body and a lid. At this time, the cushion material is disposed so as to cover the wafer at the upper and lower ends of the container body.

（クッション材１の上下面）
図１に例示されるように、本発明のクッション材１は、発泡シート２の上下両面に樹脂フィルム３，３を積層されている。したがって、クッション材１の上下面（表裏面）は、樹脂フィルム３，３の面となっている。このように、クッション材１が、発泡シート２の両面に樹脂フィルム３，３を積層していることで、クッション材１がその表面から発泡シート２の発泡セル内部にまで塵や埃が浸入してしまう虞を効率的に防止することができる。 (Upper and lower surfaces of cushion material 1)
As illustrated in FIG. 1, in the cushion material 1 of the present invention, resin films 3 and 3 are laminated on both upper and lower surfaces of a foam sheet 2. Therefore, the upper and lower surfaces (front and back surfaces) of the cushion material 1 are the surfaces of the resin films 3 and 3. Thus, the cushion material 1 has the resin films 3 and 3 laminated on both surfaces of the foam sheet 2, so that the dust and dirt enter the cushion material 1 from the surface to the inside of the foam cell of the foam sheet 2. It is possible to efficiently prevent such a risk.

（クッション材１の周端面１ａ）
クッション材１の周端面（側周面）１ａでは、発泡シート２が樹脂シート３で覆われずに外部に露出した構成となっている。これにより、容器本体７と蓋９を備えた搬送容器１０にウエハ５、スペーサ６及びクッション材１を収容した状態において、搬送容器１０の外部の塵や埃が容器本体７とクッション材１との隙間を通ってウエハ５に到達しようとしても、クッション材の周端面１ａから発泡シート２の発泡セル内に塵や埃が取り込まれるとともに連続気泡の奥方へと入り込みやすく、また、取り込まれた後においては、発泡シート２の帯電性により、その塵や埃をとじこめた状態が維持されやすくなる。 (Circumferential end surface 1a of cushion material 1)
On the peripheral end surface (side peripheral surface) 1 a of the cushion material 1, the foamed sheet 2 is exposed to the outside without being covered with the resin sheet 3. Thereby, in a state where the wafer 5, the spacer 6, and the cushion material 1 are accommodated in the transport container 10 having the container body 7 and the lid 9, dust or dust outside the transport container 10 is caused by Even if it tries to reach the wafer 5 through the gap, dust and dust are taken into the foam cell of the foam sheet 2 from the peripheral end surface 1a of the cushion material and easily enter the back of the open cell. Since the foam sheet 2 is charged, the state in which the dust or dust is trapped is easily maintained.

（圧縮硬さ）
クッション材１は、ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定されたクッション材１の圧縮硬さが２０Ｎ以下となっている。クッション材１の圧縮硬さの測定は、圧縮試験機等を用いて具体的に実施することができる。圧縮試験機としては、例えば、株式会社エー・アンド・ディ製、型式ＲＴＣ−１３５０Ａなどを採用することができる。 (Compression hardness)
As for the cushion material 1, the compression hardness of the cushion material 1 measured based on JISK6767 is 20N or less. The measurement of the compression hardness of the cushion material 1 can be specifically carried out using a compression tester or the like. As the compression tester, for example, model RTC-1350A manufactured by A & D Co., Ltd. can be adopted.

クッション材１の圧縮硬さが２０Ｎ以下であることで、柔軟性に優れたクッション材１を得るという効果が得られる。この効果を得る観点からは、圧縮硬さは、１５Ｎ以下であることが好ましく、７Ｎ以下であることがより好ましい。   The effect that the cushion material 1 excellent in the softness | flexibility is obtained because the compression hardness of the cushion material 1 is 20 N or less is acquired. From the viewpoint of obtaining this effect, the compression hardness is preferably 15 N or less, and more preferably 7 N or less.

（圧縮永久歪み）
クッション材１は、ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定されたクッション材１の圧縮永久歪みが５％以下であることが好ましい。クッション材１の圧縮永久歪みの測定は、圧縮試験機等を用いて具体的に実施することができる。圧縮試験機としては、例えば、株式会社エー・アンド・ディ製、型式ＲＴＣ−１３５０Ａなどを採用することができる。 (Compression set)
As for the cushioning material 1, it is preferable that the compression set of the cushioning material 1 measured based on JISK6767 is 5% or less. The measurement of the compression set of the cushion material 1 can be specifically carried out using a compression tester or the like. As the compression tester, for example, model RTC-1350A manufactured by A & D Co., Ltd. can be adopted.

クッション材１の圧縮永久歪みが５％以下であることで、形状回復性に優れるという効果が得られる。この効果を得る観点からは、圧縮永久歪みは、４％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。   When the compression set of the cushion material 1 is 5% or less, an effect that the shape recoverability is excellent is obtained. From the viewpoint of obtaining this effect, the compression set is preferably 4% or less, and more preferably 2% or less.

（吸水率）
クッション材１は、その吸水率が低いことが好ましく、具体的には、０．０１ｇ／ｃｍ²以下であることが好ましい。容器本体７と蓋９を備えた搬送容器１０にウエハ５、スペーサ６及びクッション材１を収容した状態において、クッション材１が外部の水分を吸ってしまっていると、クッション材１に含まれた水分によってウエハ５が汚染されてしまう虞がある。 (Water absorption rate)
The cushion material 1 preferably has a low water absorption rate, specifically, 0.01 g / cm ² or less. In the state where the wafer 5, the spacer 6 and the cushion material 1 are accommodated in the transfer container 10 having the container body 7 and the lid 9, the cushion material 1 is included in the cushion material 1 if it has sucked external moisture. There is a possibility that the wafer 5 is contaminated by moisture.

（吸水率の測定）
クッション材１の吸水率（％）は、ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠した測定方法を用いて具体的に測定することができる。 (Measurement of water absorption)
The water absorption rate (%) of the cushion material 1 can be specifically measured using a measuring method based on JIS K 6767.

（発泡シート２）
クッション材１を構成する発泡シート２は、その連続気泡率が７５％以上である。発泡シート２の連続気泡率が７５％以上であることで、発泡シート２の柔軟性を向上させることができることから、クッション材１の柔軟性を向上させることができる。 (Foam sheet 2)
The foamed sheet 2 constituting the cushion material 1 has an open cell ratio of 75% or more. Since the open cell rate of the foamed sheet 2 is 75% or more, the flexibility of the foamed sheet 2 can be improved, and thus the flexibility of the cushion material 1 can be improved.

（連続気泡率（％）の特定方法）
発泡シート２の連続気泡率（％）は、次のようにＡＳＴＭ Ｄ２８５６に準拠した方法により特定することができる。所定寸法の試験片をきり出し、試験片の体積を算出し、試験片の重さを測定する。試験片と空気比較式比重計を用いてベックマン測定値を求める。セル膜比重は１．０とする。これらの値に基づき、独立気泡率（％）を特定する。連続気泡率（％）は、１００から独立気泡率（％）を差し引いた値として特定することができる。 (Specific method of open cell ratio (%))
The open cell ratio (%) of the foamed sheet 2 can be specified by a method based on ASTM D2856 as follows. A test piece having a predetermined size is cut out, the volume of the test piece is calculated, and the weight of the test piece is measured. The Beckman measurement value is obtained using a test piece and an air comparison type hydrometer. The cell membrane specific gravity is 1.0. Based on these values, the closed cell ratio (%) is specified. The open cell ratio (%) can be specified as a value obtained by subtracting the closed cell ratio (%) from 100.

（基材樹脂）
発泡シート２の基材樹脂は、特に限定されないが、ポリエチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などを適宜選択することができる。クッション材の吸水率を０．０１ｇ／ｃｍ²以下とすることをより確実に実現する観点からは、発泡シート２の基材樹脂は、ポリエチレン系樹脂であることが好ましい。 (Base resin)
Although the base resin of the foam sheet 2 is not particularly limited, a polyethylene resin, a urethane resin, a polypropylene resin, a polystyrene resin, or the like can be appropriately selected. From the viewpoint of more reliably realizing the water absorption of the cushion material to 0.01 g / cm ² or less, the base resin of the foamed sheet 2 is preferably a polyethylene resin.

（発泡シート２の厚み）
発泡シート２の厚みは、特に限定されないが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましい。発泡シート２の厚みが１ｍｍ未満であると、クッション材３の緩衝性が不十分になってしまう虞を生じ、発泡シート２の厚みが２０ｍｍを超えると、搬送容器１０にウエハ５を収容するための空間が小さくなってしまう虞を生じる。このような虞をより効果的に抑制する観点からは、発泡シート２の厚みは、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることがより好ましい。 (Thickness of foam sheet 2)
The thickness of the foam sheet 2 is not particularly limited, but is preferably 1 mm or more and 20 mm or less. If the thickness of the foamed sheet 2 is less than 1 mm, the cushioning material 3 may have insufficient buffering properties. If the thickness of the foamed sheet 2 exceeds 20 mm, the wafer 5 is accommodated in the transport container 10. This may cause the space to become smaller. From the viewpoint of effectively suppressing such fear, the thickness of the foam sheet 2 is more preferably 3 mm or more and 10 mm or less.

発泡シート２は、押出し法などで具体的に得ることができる。押出し法により発泡シート２を得る方法としては、例えば、押出機に投入された基材樹脂を溶融させるとともに発泡剤等を圧入して混練した溶融混練物をダイの吐出口から大気圧下に押出発泡させることで具体的に得ることができる。   The foam sheet 2 can be specifically obtained by an extrusion method or the like. As a method for obtaining the foamed sheet 2 by the extrusion method, for example, a melted and kneaded product obtained by melting a base resin charged in an extruder and press-fitting a foaming agent or the like and extruding it from a discharge port of a die at atmospheric pressure is used. It can be specifically obtained by foaming.

（樹脂フィルム３）
樹脂フィルム３の材質は、発泡シート２に対して接着可能であれば、特に限定されるものではなく、ポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系フィルム、およびポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム等を用いることができる。また、これらフィルムは、インフレーション法や押出し法により連続的に成形することができる。 (Resin film 3)
The material of the resin film 3 is not particularly limited as long as it can be adhered to the foam sheet 2, and a polyolefin film such as a polyethylene film or a polypropylene film, a polyethylene terephthalate film, a polyvinyl alcohol film, or the like is used. Can do. These films can be continuously formed by an inflation method or an extrusion method.

樹脂フィルム３の厚みは特に限定されるものではないが、１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂フィルム３の厚みが１０μｍ未満であると、搬送容器１０との接触時など、クッション材１を取り扱う際に破れを生じやすくなってしまう虞がある。樹脂フィルム３の厚みが２００μｍを超えると、クッション材１全体の緩衝性を低下させてしまう虞がある。   Although the thickness of the resin film 3 is not specifically limited, It is preferable that they are 10 micrometers or more and 200 micrometers or less, and it is more preferable that they are 20 micrometers or more and 50 micrometers or less. When the thickness of the resin film 3 is less than 10 μm, there is a risk that the resin film 3 is easily broken when the cushion material 1 is handled, for example, when in contact with the transport container 10. If the thickness of the resin film 3 exceeds 200 μm, the cushioning property of the cushion material 1 as a whole may be reduced.

樹脂フィルム３については、樹脂フィルム３の帯電によって塵や埃が樹脂フィルム３に引き寄せられてしまう虞を防止するために、樹脂フィルム３の表面抵抗が１０³Ω以上１０¹²Ω以下であることが好ましく、１０⁵Ω以上１０¹⁰Ω以下であることがより好ましい。樹脂フィルム３の表面抵抗を１０³以上１０¹²Ω以下にするための構成は特に限定されず、樹脂フィルム３中に導電性フィラーや帯電防止剤を含有させる構成や、樹脂フィルム３の表面に導電性ポリマーの薄膜を設けることが挙げられる。導電性ポリマーの薄膜としては、ポリピロールやポリアニリン、ポリチオフェンの薄膜を挙げることができる。 For the resin film 3, the surface resistance of the resin film 3 may be 10 ³ Ω or more and 10 ¹² Ω or less in order to prevent the possibility of dust or dust being attracted to the resin film 3 due to charging of the resin film 3. Preferably, it is 10 ⁵ Ω or more and 10 ¹⁰ Ω or less. The structure for setting the surface resistance of the resin film 3 to 10 ³ or more and 10 ¹² Ω or less is not particularly limited, and a structure in which a conductive filler or an antistatic agent is contained in the resin film 3 or the surface of the resin film 3 is conductive. Providing a thin film of a conductive polymer. Examples of the conductive polymer thin film include thin films of polypyrrole, polyaniline, and polythiophene.

（樹脂フィルム３の凹凸加工）
樹脂フィルム３は、格子状又はドット状にエンボス加工を施されてもよい。このようにエンボス加工された樹脂フィルム３は、図２に示すような凹凸が形成されたものとなる。クッション材１において、凹凸の形成された樹脂フィルム３が発泡シート２の両面に積層されていると、クッション材１は、その表裏両面に凹凸面４、４を形成した構成を備えることとなる。 (Concavity and convexity processing of resin film 3)
The resin film 3 may be embossed in a lattice shape or a dot shape. The resin film 3 embossed in this way is formed with irregularities as shown in FIG. In the cushion material 1, when the resin film 3 having irregularities is laminated on both surfaces of the foamed sheet 2, the cushion material 1 has a configuration in which irregular surfaces 4 and 4 are formed on both front and back surfaces.

このようにクッション材１の表裏両面に凹凸面４，４が形成されていることで、クッション材１の形状回復をより速やかにすることができる。すなわち、クッション材１は、例えば搬送容器１０に収納される際、或いは搬送容器１０から取り出される際、折れ曲がる場合がある。このとき、クッション材１に大きく深いシワが発生し、クッション材１が折れ曲がった状態から速やかには元の形状に復元しにくくなる場合がある。この点、樹脂フィルム３にエンボス加工することで、表面に微細な凹凸を設けることができ、その結果、大きく深いシワが発生し難くなり、クッション材１が折れ曲がっても速やかに元の形状に復元し易くなる。   Thus, the uneven | corrugated surface 4 and 4 are formed in the front and back both surfaces of the cushioning material 1, and the shape recovery of the cushioning material 1 can be made quicker. That is, the cushion material 1 may be bent, for example, when stored in the transport container 10 or taken out from the transport container 10. At this time, large and deep wrinkles are generated in the cushion material 1, and it may be difficult to quickly restore the original shape from the bent state of the cushion material 1. In this respect, by embossing the resin film 3, it is possible to provide fine irregularities on the surface. As a result, it becomes difficult to generate large and deep wrinkles, and even if the cushion material 1 is bent, the original shape is quickly restored. It becomes easy to do.

［クッション材１の製造］
次に、クッション材１の製造方法について説明する。発泡シート２の両面に樹脂フィルム３を配置させながら一対のロールに通じる。ロールは加熱ロールとなっており、ロール通過時に発泡シート２と樹脂フィルム３が加熱されることで、発泡シート２の表面に樹脂フィルム３がラミネート加工される。こうして、発泡シート２の両面に樹脂フィルム３が積層された積層シートが得られる。なお、得られた積層シートは、円状プレス裁断機で所定寸法に裁断され、クッション材１が得られる。 [Manufacture of cushion material 1]
Next, a method for manufacturing the cushion material 1 will be described. The resin film 3 is disposed on both surfaces of the foam sheet 2 and communicates with a pair of rolls. The roll is a heating roll, and the resin film 3 is laminated on the surface of the foamed sheet 2 by heating the foamed sheet 2 and the resin film 3 when passing through the roll. Thus, a laminated sheet in which the resin film 3 is laminated on both surfaces of the foamed sheet 2 is obtained. In addition, the obtained lamination sheet is cut | judged by the predetermined dimension with a circular press cutting machine, and the cushioning material 1 is obtained.

一対のロールには多数の突起を有するエンボスロールが使用されていてもよい。この場合、積層シートは、発泡シート２の両面にラミネートされた樹脂フィルム３に格子状或いはドット状の凹凸を多数形成したものとなる。このような積層シートを円状プレス裁断機で所定寸法に裁断すれば、クッション材１として表面に凹凸面４を形成したものが得られる。   An embossing roll having a large number of protrusions may be used for the pair of rolls. In this case, the laminated sheet is a resin film 3 laminated on both surfaces of the foamed sheet 2 in which a large number of grid-like or dot-like irregularities are formed. If such a laminated sheet is cut into a predetermined size by a circular press cutting machine, a cushion material 1 having an uneven surface 4 formed on the surface can be obtained.

［クッション材１の使用］
ウエハ保護用クッション材１は、例えば図３に示すような容器本体７と蓋体９とからなる搬送容器１０にウエハ５とスペーサ６とともに収納される。ウエハ５は、電子回路を搭載したシリコン基板などを例示することができる。スペーサ６は、隣り合うウエハ５、５の間に介装されてウエハ５、５どうしの直接接触を防ぐためのものである。図３の例では、ウエハ５とスペーサ６は、上下方向に沿って交互に複数枚重ねられてウエハ積層体１１をなすとともに容器本体７の収容部８に形成される空間内に収納され、ウエハ積層体１１の上下端部それぞれにウエハ保護クッション材１，１が設けられる。したがって、運搬時の振動等により外部から搬送容器１０に与えられる衝撃がクッション材１によって緩衝され、外部からの衝撃によってウエハ５が破損してしまう虞を低減させることができる。なお、上下方向については、図３の例では矢印Ｇで示す。 [Use of cushion material 1]
The wafer protecting cushion material 1 is accommodated together with the wafer 5 and the spacer 6 in a transfer container 10 including a container body 7 and a lid body 9 as shown in FIG. The wafer 5 can be exemplified by a silicon substrate on which an electronic circuit is mounted. The spacer 6 is interposed between adjacent wafers 5 and 5 to prevent direct contact between the wafers 5 and 5. In the example of FIG. 3, a plurality of wafers 5 and spacers 6 are alternately stacked in the vertical direction to form a wafer stack 11 and are stored in a space formed in the storage portion 8 of the container body 7. Wafer protection cushion materials 1 and 1 are provided on the upper and lower ends of the laminate 11. Therefore, the shock applied to the transfer container 10 from the outside due to vibration or the like during transportation is buffered by the cushion material 1, and the possibility that the wafer 5 is damaged by the external impact can be reduced. Note that the vertical direction is indicated by an arrow G in the example of FIG.

以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

実施例１．
発泡シートとして、基材樹脂としてポリエチレンを用い発泡剤としてブタン系化学発泡剤を用いて押出発泡させたシート（厚さ６ｍｍ）を準備した。 Example 1.
As the foamed sheet, a sheet (thickness 6 mm) obtained by extrusion foaming using polyethylene as a base resin and a butane-based chemical foaming agent as a foaming agent was prepared.

発泡シートの連続気泡率は、ＡＳＴＭ Ｄ２８５６に準じて測定された。具体的には、発泡シートから長さ３０ｍｍ×幅３０ｍｍ×厚み６ｍｍの試験片をきり出し、試験片の体積を算出した。また試験片の重さを測定した。さらに、試験片を用いて空気比較式比重計（東京サイエンス社製、型式：１０００型）により、ベックマン測定値を求めた。これらの値に基づき、独立気泡率（％）を算出した。連続気泡率（％）は、１００から独立気泡率（％）の値を減じることで算出された。結果を表１に示す。   The open cell ratio of the foam sheet was measured according to ASTM D2856. Specifically, a test piece having a length of 30 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 6 mm was cut out from the foamed sheet, and the volume of the test piece was calculated. Moreover, the weight of the test piece was measured. Furthermore, the Beckman measurement value was calculated | required with the air comparison type hydrometer (the Tokyo Science company make, model: 1000 type | mold) using the test piece. Based on these values, the closed cell ratio (%) was calculated. The open cell ratio (%) was calculated by subtracting the value of the closed cell ratio (%) from 100. The results are shown in Table 1.

樹脂フィルムとして、低密度ポリエチレン（プライムポリマー社製、ミラソン（商標）１６Ｐ）を基材樹脂とし、高分子型帯電防止剤（三井・デュポンポリケミカル社製、エンティラ（商標）ＳＤ１００）を添加して押出し法にて成形されたフィルム（厚さ２０μｍ）を準備した。このフィルムの表面抵抗値の測定を１０回行い、表面抵抗値の範囲を特定した。表面抵抗値の測定は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準じて実施された。結果を表１に示す。   As a resin film, low-density polyethylene (Mirason (trademark) 16P, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd.) is used as a base resin, and a polymer type antistatic agent (Mitsui / DuPont Polychemical Co., Ltd., ENTILA (trademark) SD100) is added. A film (thickness 20 μm) formed by an extrusion method was prepared. The surface resistance value of this film was measured 10 times, and the range of the surface resistance value was specified. The surface resistance value was measured according to JIS K 6911. The results are shown in Table 1.

発泡シートの両面に樹脂フィルムを配置した状態で、発泡シートと樹脂フィルムを一対の加熱ロールに通して発泡シートの両表面に樹脂フィルムをラミネート加工し、積層シートが形成された。   With the resin film disposed on both sides of the foamed sheet, the foamed sheet and the resin film were passed through a pair of heating rolls, and the resin film was laminated on both surfaces of the foamed sheet to form a laminated sheet.

加熱ロールには、多数のドット状の突起を設けたエンボスロールが用いられた。このため、積層シートには、その表面にドット状の突起を多数形成する凹凸加工が施され、積層シートの表面が凹凸面を形成した。   An embossing roll provided with a large number of dot-like projections was used as the heating roll. For this reason, the concavo-convex process which forms many dot-shaped protrusions on the surface was performed on the laminated sheet, and the surface of the laminated sheet formed an concavo-convex surface.

積層シートを、直径３００ｍｍの円形状にプレス裁断機で裁断した。これにより、ウエハ保護用クッション材が得られた。   The laminated sheet was cut into a circular shape having a diameter of 300 mm with a press cutter. Thereby, the cushioning material for wafer protection was obtained.

ウエハ保護用クッション材を用いて、次のように圧縮硬さ、圧縮永久歪みの測定、発塵性試験、ウエハ破損確認試験を行った。結果を表１に示す。   Using the cushioning material for wafer protection, measurement of compression hardness and compression set, dust generation test, and wafer breakage confirmation test were performed as follows. The results are shown in Table 1.

（圧縮硬さ）
クッション材の圧縮硬さは、ＪＩＳ Ｋ ６７６７（付属書１の３）に準拠して次のように測定された。 (Compression hardness)
The compression hardness of the cushion material was measured as follows in accordance with JIS K 6767 (Appendix 1-3).

先ず、クッション材から試験片素片（長さ５０ｍｍ×幅５０ｍｍ）を複数枚切り出し、全厚みが２５ｍｍを超えるまで試験片素片を重ね合わせ、これを試験片とした。試験片としては３つ準備された。なお、それぞれの試験片には、目視上、汚れが認められなかった。また、それぞれの試験片は、その側周端面で、発泡シートを露出した構造となっている。   First, a plurality of test piece pieces (length 50 mm × width 50 mm) were cut out from the cushion material, and the test piece pieces were overlapped until the total thickness exceeded 25 mm, which was used as a test piece. Three test pieces were prepared. In addition, stains were not visually recognized in each test piece. Each test piece has a structure in which the foam sheet is exposed at the side peripheral end face.

試験片を用いて圧縮試験を行った。圧縮試験は次のように圧縮試験機を用いて実施された。まず、圧縮試験機における互いに平行した状態にて配置される一組の平面板の間に１つの試験片を配置した。このとき、試験片素片の重なり方向と平面板の向き合い方向とが一致する。さらに、２３±３℃環境下で一組の平面板の間隔を１０ｍｍ／分の速度で狭めていき、試験片の厚みが２５％圧縮された時点で一組の平面板の間隔を狭めることを停止した。   A compression test was performed using the test piece. The compression test was performed using a compression tester as follows. First, one test piece was arrange | positioned between a set of plane plates arrange | positioned in the mutually parallel state in a compression tester. At this time, the overlapping direction of the test piece pieces coincides with the facing direction of the flat plate. Furthermore, in a 23 ± 3 ° C. environment, the interval between a pair of plane plates is reduced at a speed of 10 mm / min, and the interval between the pair of plane plates is reduced when the thickness of the test piece is reduced by 25%. Stopped.

上述の圧縮試験の後、平面板の間隔を狭めることを停止した状態で２０秒間静置し、その状態において試験片に負荷された荷重を圧縮試験機で測定した。残り２つの試験片についても同様の方法を実施して試験片に負荷された荷重を圧縮試験機で測定した。得られた荷重の値を算術平均して、クッション材の圧縮硬さの値（Ｎ）とした。なお、圧縮試験機として、株式会社エー・アンド・ディ製、型式ＲＴＣ−１３５０Ａを用いた。   After the above-described compression test, the plate was allowed to stand for 20 seconds in a state in which the interval between the flat plates was stopped, and the load applied to the test piece in that state was measured with a compression tester. The same method was applied to the remaining two test pieces, and the load applied to the test piece was measured with a compression tester. The obtained load value was arithmetically averaged to obtain a compression hardness value (N) of the cushion material. As a compression tester, model RTC-1350A manufactured by A & D Co., Ltd. was used.

（圧縮永久歪み）
クッション材の圧縮永久歪みは、ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して次のように測定された。 (Compression set)
The compression set of the cushion material was measured as follows in accordance with JIS K 6767.

先ず、上記した圧縮硬さの測定時と同様にして、試験片を３つ準備するとともにまず１つの試験片を用いて圧縮試験を行った。   First, in the same manner as the measurement of the compression hardness described above, three test pieces were prepared and a compression test was first performed using one test piece.

上述の圧縮試験の後、平面板の間隔を狭めることを停止した状態で２２時間静置した。そして、さらに２３±３℃環境下で２４時間経過した後に試験片の厚みを測定した。このとき測定された厚み（Ｔ１）と圧縮試験前の試験片の厚み（Ｔ０）に基づき圧縮永久歪みを算出した。圧縮永久歪みは、Ｔ１／Ｔ０の値として算出される。残り２つの試験片についても同様の方法を実施して３つの試験片について圧縮永久歪みが算出された。算出された値を算術平均して、クッション材の圧縮永久歪みの値とした。なお、圧縮試験機として、株式会社エー・アンド・ディ製、型式ＲＴＣ−１３５０Ａを用いた。   After the compression test described above, the plate was allowed to stand for 22 hours in a state where the narrowing of the interval between the flat plates was stopped. Further, the thickness of the test piece was measured after 24 hours had passed in an environment of 23 ± 3 ° C. The compression set was calculated based on the thickness (T1) measured at this time and the thickness (T0) of the test piece before the compression test. The compression set is calculated as a value of T1 / T0. The same method was applied to the remaining two test pieces, and compression set was calculated for the three test pieces. The calculated value was arithmetically averaged to obtain a compression set value of the cushion material. As a compression tester, model RTC-1350A manufactured by A & D Co., Ltd. was used.

（発塵性試験）
１枚のクッション材をクリーンルーム内（アメリカ連邦規格（Ｆｅｄｅｒａｌ Ｓｔａｎｄａｒｄ） ２０９Ｄの基準でクラス１０の清浄度）に１分間静置した後、クッション材の表面に付着する塵や埃の微粒子を１分間吸引するとともに吸引された微粒子の数をカウントした。クッション材の裏面についても表面と同様にして微粒子の数をカウントした。クッション材の表面裏面の両面について、カウントされた微粒子の数の合計を算出し、クッション材１枚あたりの発塵数（個／枚）とした。なお、微粒子は、大きさが直径０．５μｍ以上のものについてカウントされた。また、微粒子のカウントには、側方散乱方式の気中パーティクルカウンタ（リオン株式会社製、 ＫＭ−２７型）が用いられた。 (Dust generation test)
After leaving one cushion material in a clean room (Class 10 cleanliness according to the Federal Standard 209D standard) for 1 minute, suck dust and dust particles adhering to the surface of the cushion material for 1 minute. And the number of fine particles sucked was counted. The number of fine particles was counted on the back surface of the cushion material in the same manner as the front surface. The total number of counted fine particles was calculated for both the front and back surfaces of the cushion material, and the number of dust generation per piece of cushion material (pieces / sheet) was calculated. The fine particles were counted for particles having a diameter of 0.5 μm or more. For counting fine particles, a side scattering type airborne particle counter (manufactured by Rion Co., Ltd., model KM-27) was used.

（ウエハ破損確認試験）
まず、シリコン製ウエハの搬送容器（アキレス社製、ＮＡ−８Ｍ）を準備した。搬送容器は、容器本体と蓋を備えるものである。まず、容器本体の底面上に確認試験用クッション材を３枚上下方向に重なり合うように設置した。最上位にある確認試験用クッション材の表面上に、得られたクッション材を１枚重ね置き、その表面上にシリコン製ウエハ（厚み：７２５μｍ）を１枚重ね置いた。シリコン製ウエハの表面上に、更に、得られたクッション材を６枚上下方向に重なり合うように設置し、さらに、容器本体に蓋を被せることで、６枚のクッション材のうち最上位にあるクッション材の表面側を覆った。その状態で３０分間静置後、ウエハの破損有無を目視にて確認した。 (Wafer damage confirmation test)
First, a silicon wafer transfer container (manufactured by Achilles, NA-8M) was prepared. The transport container includes a container body and a lid. First, three cushion materials for confirmation test were installed on the bottom surface of the container body so as to overlap in the vertical direction. One sheet of the obtained cushioning material was placed on the surface of the cushioning material for confirmation test at the uppermost layer, and one silicon wafer (thickness: 725 μm) was placed on the surface. On the surface of the silicon wafer, six cushion materials obtained are placed so as to overlap in the vertical direction, and the container body is covered with a lid, so that the cushion at the top of the six cushion materials is placed. The surface side of the material was covered. After standing for 30 minutes in this state, the presence or absence of breakage of the wafer was visually confirmed.

なお、上述の確認試験用クッション材は、次のように得られたシートである。すなわち、発泡シートとして、ポリエチレンを基材樹脂に用い、ブタン系化学発泡剤を発泡剤に用いて押出発泡させたものを準備した（厚さ１０ｍｍ）。発泡シートの連続気泡率が９２．７％であった。そして、この発泡シートの両面に実施例１と同様の樹脂フィルムを配置した状態で、発泡シートと樹脂フィルムを一対の加熱ロールに通して発泡シートの両表面に樹脂フィルムをラミネート加工し、積層シートを得た。この積層シートを実施例１と同様に裁断し、確認試験用クッション材が得られた。   In addition, the above-mentioned cushion material for confirmation tests is a sheet obtained as follows. That is, a foamed sheet prepared by extrusion foaming using polyethylene as a base resin and a butane-based chemical foaming agent as a foaming agent was prepared (thickness 10 mm). The open cell ratio of the foamed sheet was 92.7%. And in the state which has arrange | positioned the resin film similar to Example 1 on both surfaces of this foam sheet, a foam film and a resin film are passed through a pair of heating rolls, and a resin film is laminated on both surfaces of a foam sheet, A laminated sheet Got. This laminated sheet was cut in the same manner as in Example 1 to obtain a confirmation test cushion material.

ウエハの破損有無を目視にて確認した結果は、次のように評価された。   The result of visually confirming whether the wafer was damaged was evaluated as follows.

（ウエハ破損確認試験の評価）
○（良好）：ウエハに破損が認められなかった。
×（不良）：ウエハに破損が認められた。 (Evaluation of wafer damage confirmation test)
○ (Good): No damage was observed on the wafer.
X (defect): The wafer was damaged.

実施例２
加熱ロールとして、突起を設けていないロールを用いて、凹凸加工無しとしたほかは、実施例１と同様にしてウエハ保護用クッション材を得て、圧縮硬さ、圧縮永久歪みの測定、発塵性試験、ウエハ破損確認試験を行った。結果を表１に示す。 Example 2
As a heating roll, a wafer with no protrusions was used, and a cushioning material for wafer protection was obtained in the same manner as in Example 1 except that there was no uneven processing, measurement of compression hardness, compression set, dust generation Test and wafer damage confirmation test were conducted. The results are shown in Table 1.

参考例１から３
発泡シートとして、基材樹脂としてポリウレタンを用い発泡剤として水を用いて押出発泡させたシート（厚さ６ｍｍ）を準備し、凹凸加工無しとして、さらに発泡シートの両表面に樹脂フィルムをラミネート加工しなかったほかは、実施例１と同様にしてウエハ保護用クッション材を得て、圧縮硬さ、圧縮永久歪みの測定、発塵性試験、ウエハ破損確認試験を行った。結果を表１に示す。なお、参考例１から３のウエハ保護用クッション材の表面抵抗値については、発泡シートの表面についての表面抵抗値を測定した他は実施例１と同様にＪＩＳ Ｋ ６９１１に準じて表面抵抗値が測定された。また、参考例１から３で使用されたポリウレタンは、ポリウレタンの原料組成物や発泡剤の使用量を参考例１から３で互いに異ならせて準備されたものである。 Reference examples 1 to 3
As the foam sheet, a sheet (thickness 6 mm) obtained by extrusion foaming using polyurethane as a base resin and water as a foaming agent is prepared, and a resin film is laminated on both surfaces of the foam sheet without any uneven processing. Except for the above, a cushion material for wafer protection was obtained in the same manner as in Example 1, and compression hardness, compression set measurement, dust generation test, and wafer breakage confirmation test were performed. The results are shown in Table 1. The surface resistance values of the cushioning materials for wafer protection in Reference Examples 1 to 3 are the same as in Example 1 except that the surface resistance value on the surface of the foamed sheet was measured, and the surface resistance value was in accordance with JIS K 6911. Measured. The polyurethanes used in Reference Examples 1 to 3 were prepared by changing the amounts of the polyurethane raw material composition and the foaming agent used in Reference Examples 1 to 3.

比較例１
発泡シートとして、基材樹脂としてポリエチレンを用い発泡剤としてブタン系化学発泡剤を用いて押出発泡させたシート（厚さ６ｍｍ）において連続気泡率が７５％未満であるものを用いた他は、実施例１と同様にしてウエハ保護用クッション材を得て、圧縮硬さ、圧縮永久歪みの測定、発塵性試験、ウエハ破損確認試験を行った。結果を表１に示す。 Comparative Example 1
Other than using a foamed sheet that was extruded and foamed using polyethylene as the base resin and a butane-based chemical foaming agent as the foaming agent (thickness 6 mm), the open cell ratio was less than 75%. A cushion material for wafer protection was obtained in the same manner as in Example 1, and compression hardness, compression set measurement, dust generation test, and wafer breakage confirmation test were performed. The results are shown in Table 1.

比較例２
発泡シートとして、基材樹脂としてポリエチレンを用い発泡剤としてブタン系化学発泡剤を用いて押出発泡させたシート（厚さ６ｍｍ）において連続気泡率が７５％未満であるものを用いた他は、実施例２と同様にしてウエハ保護用クッション材を得て、圧縮硬さ、圧縮永久歪みの測定、発塵性試験、ウエハ破損確認試験を行った。結果を表１に示す。 Comparative Example 2
Other than using a foamed sheet that was extruded and foamed using polyethylene as the base resin and a butane-based chemical foaming agent as the foaming agent (thickness 6 mm), the open cell ratio was less than 75%. A cushion material for wafer protection was obtained in the same manner as in Example 2, and compression hardness, compression set measurement, dust generation test, and wafer breakage confirmation test were performed. The results are shown in Table 1.

実施例１，２の結果から、比較例１，２に対して柔軟性により一層富むとともに圧縮永久歪みも抑制されており、ウエハ破損をより効果的に抑制することのできるウエハ保護用クッション材が得られていることが確認された。また、実施例１，２の結果は、参考例１から３に対して柔軟性により富むとともに、圧縮永久歪みについても遜色ないウエハ保護用クッション材が得られていることが確認された。しかも実施例１，２では、参考例１から３に対して発塵を抑制できる点で優れており、塵や埃が発泡材のセル内に侵入することを効果的に防止できるウエハ保護用クッション材が得られていることが確認された。   From the results of Examples 1 and 2, a cushioning material for wafer protection that is more rich in flexibility than Comparative Examples 1 and 2 and also has reduced compression set, and can more effectively suppress wafer breakage. It was confirmed that it was obtained. In addition, the results of Examples 1 and 2 were confirmed to provide a cushioning material for wafer protection that is richer in flexibility than Reference Examples 1 to 3 and that is comparable to compression set. In addition, the first and second embodiments are superior to the first to third embodiments in that dust generation can be suppressed, and the wafer protection cushion can effectively prevent dust and dust from entering the foam cell. It was confirmed that the material was obtained.

１ ウエハ保護用クッション材
２ 発泡シート
３ 樹脂フィルム
４ 凹凸面
５ ウエハ
６ スペーサ
７ 容器本体
８ 収容部
９ 蓋
１０ 搬送容器
１１ ウエハ積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cushion material for wafer protection 2 Foam sheet 3 Resin film 4 Uneven surface 5 Wafer 6 Spacer 7 Container body 8 Container 9 Lid 10 Transport container 11 Wafer laminate

Claims (2)

発泡シートの両面に樹脂フィルムを積層されているウエハ保護用クッション材であって、
ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定された該クッション材の圧縮硬さが、２０Ｎ以下であり、
前記発泡シートの連続気泡率が７５％以上である、ことを特徴とするウエハ保護用クッション材。 A cushion material for protecting a wafer in which resin films are laminated on both sides of a foam sheet,
The compression hardness of the cushion material measured according to JIS K 6767 is 20 N or less,
A cushioning material for protecting a wafer, wherein the foamed sheet has an open cell ratio of 75% or more. ＪＩＳ Ｋ ６７６７に準拠して測定された前記クッション材の圧縮永久歪みが、５％以下である、請求項１に記載のウエハ保護用クッション材。
The cushioning material for wafer protection according to claim 1, wherein the compression set of the cushioning material measured in accordance with JIS K 6767 is 5% or less.

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