JP2019101418A - 反射防止積層膜、反射防止積層膜の形成方法、及び眼鏡型ディスプレイ - Google Patents
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Abstract
Description
本発明では、透明な反射防止積層膜であって、第一の屈折率を有する第一の材料から成る第一の膜上に、前記第一の材料から成る膜に前記第一の屈折率より低い第二の屈折率を有する第二の材料から成るパターンが形成された第一の膜より低い屈折率を有する第二の膜が積層し、該第二の膜上に、前記第二の膜より前記パターンの面積が大きい膜及び/又は前記第二の屈折率より低い屈折率を持つ材料からなるパターンが形成された膜が一層以上積層していることで、前記反射防止積層膜の前記第一の膜から上方向に膜の屈折率が順次小さくなるものである反射防止積層膜を提供する。
また、本発明では、前述した反射防止積層膜の形成方法であって、パターンの形成において、光リソグラフィー、エッチング、インプリント法を用いる反射防止積層膜の形成方法を提供する。
また、本発明では、眼鏡型ディスプレイであって、前記眼鏡型ディスプレイの眼球側の基板上に液晶、有機EL、及びマイクロLEDから選択される自己発光型ディスプレイが設置され、該自己発光型ディスプレイの眼球側に焦点を結ぶための凸レンズが設置され、該凸レンズの表面に前記本発明の反射防止積層膜が形成されている眼鏡型ディスプレイを提供する。
重量平均分子量(Mw)=7,500
分子量分布(Mw/Mn)=1.97
重量平均分子量(Mw)=8,600
分子量分布(Mw/Mn)=1.74
重量平均分子量(Mw)=6,300
分子量分布(Mw/Mn)=1.66
重量平均分子量(Mw)=8,100
分子量分布(Mw/Mn)=1.73
CyH(シクロヘキサノン)
101…反射防止積層膜、 11…第一の膜、 12…第二の膜、 13…第三の膜、
14…第四の膜、 15…第五の膜、 16…第六の膜、 17…第七の膜、
21…第一の材料、 22…第二の材料、
W…第一の材料から成るパターンのサイズ、
W’…第二の材料から成るパターンのサイズ、
31…第一の材料から成るパターン、 32…第二の材料から成るパターン、
102…合成石英基板、 103…遮光膜、 104…LED照明。
Claims (10)
- 透明な反射防止積層膜であって、第一の屈折率を有する第一の材料から成る第一の膜上に、前記第一の材料から成る膜に前記第一の屈折率より低い第二の屈折率を有する第二の材料から成るパターンが形成された第一の膜より低い屈折率を有する第二の膜が積層し、該第二の膜上に、前記第二の膜より前記パターンの面積が大きい膜及び/又は前記第二の屈折率より低い屈折率を持つ材料からなるパターンが形成された膜が一層以上積層していることで、前記反射防止積層膜の前記第一の膜から上方向に膜の屈折率が順次小さくなるものであることを特徴とする反射防止積層膜。
- 前記パターンのパターンサイズが200nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層膜。
- 前記膜の波長590〜610nmの可視光における屈折率が、最も低屈折率な膜は1.35以下、前記第一の膜は1.65以上のものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の反射防止積層膜。
- 波長400nm〜800nmの可視光における透過率が、80%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の反射防止積層膜。
- 前記第一の材料及び/又は前記第二の材料が、フォトレジスト材料であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の反射防止積層膜。
- 前記第一の材料及び/又は前記第二の材料が、非感光性のものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の反射防止積層膜。
- 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の反射防止積層膜の形成方法であって、前記パターンの形成において、光リソグラフィーを用いることを特徴とする反射防止積層膜の形成方法。
- 前記パターンの形成において、光リソグラフィー及びエッチングを用いることを特徴とする請求項7に記載の反射防止積層膜の形成方法。
- 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の反射防止積層膜の形成方法であって、前記パターンの形成において、インプリント法を用いることを特徴とする反射防止積層膜の形成方法。
- 眼鏡型ディスプレイであって、前記眼鏡型ディスプレイの眼球側の基板上に液晶、有機EL、及びマイクロLEDから選択される自己発光型ディスプレイが設置され、該自己発光型ディスプレイの眼球側に焦点を結ぶための凸レンズが設置され、該凸レンズの表面に請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の反射防止積層膜が形成されているものであることを特徴とする眼鏡型ディスプレイ。
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CN111338081A (zh) * | 2020-03-12 | 2020-06-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | Ar光学***和ar显示设备 |
JP7509068B2 (ja) * | 2020-04-28 | 2024-07-02 | 信越化学工業株式会社 | フルオロカルボン酸含有モノマー、フルオロカルボン酸含有ポリマー、レジスト材料及びパターン形成方法 |
KR20220043702A (ko) * | 2020-09-29 | 2022-04-05 | 삼성전자주식회사 | 마이크로 led를 이용한 광학 엔진 및 이를 포함하는 전자 장치 |
CN114994814A (zh) * | 2022-06-01 | 2022-09-02 | Tcl华星光电技术有限公司 | 偏光散射膜及其制作方法、显示面板 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0836143A (ja) * | 1994-05-16 | 1996-02-06 | Casio Comput Co Ltd | ヘッドマウントディスプレイ装置 |
JP2000258724A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 画像表示装置 |
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2003004916A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示装置の窓材、その製造方法、及び表示装置 |
JP2006235195A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止構造体を有する部材の製造方法 |
CN101067662A (zh) * | 2007-06-18 | 2007-11-07 | 友达光电股份有限公司 | 光学辨识元件及包含此元件的显示器 |
US20140133031A1 (en) * | 2008-10-10 | 2014-05-15 | Nano Terra Inc. | Anti-Reflective Coatings Comprising Ordered Layers of Nanowires and Methods of Making and Using the Same |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6054991A (en) | 1991-12-02 | 2000-04-25 | Texas Instruments Incorporated | Method of modeling player position and movement in a virtual reality system |
JPH06236432A (ja) | 1991-12-02 | 1994-08-23 | Texas Instr Inc <Ti> | 仮想現実システムおよび仮想現実像の仮想現実世界生成方法 |
JPH05264802A (ja) | 1992-01-21 | 1993-10-15 | Asahi Optical Co Ltd | 多層反射防止膜 |
JPH05204157A (ja) | 1992-01-29 | 1993-08-13 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性樹脂組成物 |
JPH05215908A (ja) | 1992-02-03 | 1993-08-27 | Hitachi Ltd | ルーバーフィルムフィルターおよびそれを装着した表示装置 |
US6294459B1 (en) | 1998-09-03 | 2001-09-25 | Micron Technology, Inc. | Anti-reflective coatings and methods for forming and using same |
JP3981803B2 (ja) | 1999-12-15 | 2007-09-26 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
KR100571453B1 (ko) | 1999-12-15 | 2006-04-17 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고분자 화합물, 화학 증폭 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
TWI294440B (ja) | 2000-02-16 | 2008-03-11 | Shinetsu Chemical Co | |
JP3861976B2 (ja) | 2000-02-16 | 2006-12-27 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP3829913B2 (ja) | 2000-09-27 | 2006-10-04 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料 |
JP2002119659A (ja) | 2000-10-16 | 2002-04-23 | Fuji Shoji:Kk | 遊技機 |
TW574607B (en) | 2001-06-25 | 2004-02-01 | Shinetsu Chemical Co | Polymers, resist compositions and patterning process |
JP3988038B2 (ja) | 2001-06-25 | 2007-10-10 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
TW557368B (en) | 2001-06-29 | 2003-10-11 | Jsr Corp | Anti-reflection film laminated body and method of manufacturing the laminated body |
JP2004077632A (ja) | 2002-08-13 | 2004-03-11 | Mitsubishi Chemicals Corp | プリズムシート |
JP4388429B2 (ja) | 2004-02-04 | 2009-12-24 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法 |
EP1741003A4 (en) | 2004-04-15 | 2009-11-11 | Api Nanofabrication And Res Co | OPTICAL FILMS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
JP4697443B2 (ja) | 2005-09-21 | 2011-06-08 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP4666166B2 (ja) | 2005-11-28 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 |
WO2008084604A1 (ja) * | 2007-01-12 | 2008-07-17 | Konica Minolta Opto, Inc. | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 |
JP4809378B2 (ja) | 2007-03-13 | 2011-11-09 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料およびこれを用いたパターン形成方法 |
US20090015142A1 (en) * | 2007-07-13 | 2009-01-15 | 3M Innovative Properties Company | Light extraction film for organic light emitting diode display devices |
JP2009160755A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜付基材 |
JP5407941B2 (ja) | 2009-03-09 | 2014-02-05 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP5463963B2 (ja) | 2009-03-09 | 2014-04-09 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP2011048081A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Sony Corp | 光学素子、反射低減加工装置及び反射低減加工方法 |
JP5573595B2 (ja) | 2009-12-02 | 2014-08-20 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP5402651B2 (ja) | 2010-01-08 | 2014-01-29 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
JP5407892B2 (ja) | 2010-01-21 | 2014-02-05 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 |
WO2012073819A1 (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-07 | シャープ株式会社 | 導光体および導光体を有する照明装置ならびに表示装置 |
US8988474B2 (en) | 2011-07-18 | 2015-03-24 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Wide field-of-view virtual image projector |
JP5913077B2 (ja) | 2012-12-18 | 2016-04-27 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
JP2015011164A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び撮像装置 |
KR20150059494A (ko) | 2013-11-22 | 2015-06-01 | 삼성전자주식회사 | 색변화 저감용 광학 필름의 제조방법, 색변화 저감용 광학필름이 적용된 유기발광 표시장치 및 이의 제조방법 |
JP6514657B2 (ja) * | 2015-03-11 | 2019-05-15 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止光学部材 |
JP6462602B2 (ja) * | 2016-01-12 | 2019-01-30 | 信越化学工業株式会社 | 多層膜形成方法及びパターン形成方法 |
-
2018
- 2018-11-09 JP JP2018211213A patent/JP7165029B2/ja active Active
- 2018-11-20 US US16/196,523 patent/US10901120B2/en active Active
- 2018-12-03 TW TW107143211A patent/TWI723303B/zh active
- 2018-12-04 KR KR1020180154430A patent/KR102248764B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0836143A (ja) * | 1994-05-16 | 1996-02-06 | Casio Comput Co Ltd | ヘッドマウントディスプレイ装置 |
JP2000258724A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 画像表示装置 |
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2003004916A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示装置の窓材、その製造方法、及び表示装置 |
JP2006235195A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止構造体を有する部材の製造方法 |
CN101067662A (zh) * | 2007-06-18 | 2007-11-07 | 友达光电股份有限公司 | 光学辨识元件及包含此元件的显示器 |
US20140133031A1 (en) * | 2008-10-10 | 2014-05-15 | Nano Terra Inc. | Anti-Reflective Coatings Comprising Ordered Layers of Nanowires and Methods of Making and Using the Same |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
横田英嗣ほか: "光学薄膜の理論・設計・製作 III:製作", 光学, vol. 3巻6号, JPN6021046506, 25 December 1974 (1974-12-25), JP, pages 383 - 392, ISSN: 0004773062 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI723303B (zh) | 2021-04-01 |
KR20190066592A (ko) | 2019-06-13 |
KR102248764B1 (ko) | 2021-05-04 |
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US10901120B2 (en) | 2021-01-26 |
JP7165029B2 (ja) | 2022-11-02 |
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