JP2019028456A - 回折光学素子、光照射装置、光照射システム、投影パターンの補正方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 72
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 7
- 241000226585 Antennaria plantaginifolia Species 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
Description
また、DOEは、レーザの様な平行光源、LEDの様な拡散光源のいずれにも対応可能であり、また、紫外光から可視光、赤外線までの広い範囲の波長に対して適用可能である。
回折格子を用いて光マークを照射して利用する技術が特許文献1に開示されている。
図1は、本発明による回折光学素子の第1実施形態を示す平面図である。
図2は、図1の回折光学素子の例における部分周期構造の一例を示す斜視図である。
図3は、回折光学素子を模式的に示した断面図である。
図4は、回折光学素子を説明する図である。
なお、図1を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張して示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
なお、光源部20と、光源部20が発光する光が通過する位置に少なくとも1つ配置された、本実施形態の回折光学素子10とを組み合わせることにより、光を成形した状態で照射可能な光照射装置とすることができる。
また、本発明において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
本実施形態の回折光学素子10は、図1に示したA,B,C,Dのそれぞれの位置において深さが異なっている。すなわち、回折光学素子10は、4段階の高さの異なる多段階形状により構成されている。そして、回折光学素子10は、通常、異なる周期構造を持つ複数の領域(部分周期構造:例えば、図1のE,F領域)を有している。図3では、部分周期構造の一部を抽出して示している。
回折光学素子10は、図2に示すような複雑な形状をしているが、簡略化して模式的に示すと、図3に示すように、断面形状において複数の凸部11aが並んで配置されている高屈折率部11を備えている。
本実施形態の光照射システム2は、光照射装置1と、カメラ30と、補正処理部40とを備えている。
光照射装置1は、回折光学素子10と、光源部20とを備えている。
図6は、第1の投影パターン23及び位置基準パターン24のスクリーン500への投影例を拡大して示す図である。
図6に示す例では、第1の投影パターン23は、ハッチングで示した正方形の領域に、具体的な形状は図示しないが、微細なランダムドットを多数投影するパターンである。このランダムドットは、それぞれの位置が既知である。したがって、この第1の投影パターン23がどのように投影されたか、すなわち、どのように位置が変化しているかを、後述のカメラ30により撮影して解析することにより、立体検出や測距を行うことが可能である。
図6に示す例では、位置基準パターン24は、第1の投影パターン23の周囲に一定の間隔を空けて配置されている。より具体的には、位置基準パターン24は、第1の投影パターン23の4隅それぞれに対応する位置と、第1の投影パターン23の4辺のそれぞれの中央位置に対応する位置に配置されている。すなわち、合計8箇所に、位置基準パターン24が配置されている。
位置基準パターン24を第1の投影パターン23の周囲に配置することにより、本来必要な第1の投影パターン23には影響を与えず、かつ、正確な補正処理が可能となる。特に、位置基準パターン24を第1の投影パターン23の投影範囲の外形形状に沿って配置すると、より正確な補正処理が可能である。なお、位置基準パターン24は、多数設ける方が補正処理上は有利である。しかし、多数設けると、本来の目的では第1の投影パターン23のみがあればよい場合が想定される。したがって、位置基準パターン24が邪魔になる場合には、適宜位置基準パターン24の数を減らすこともできる。ただし、位置基準パターン24は、最低でも3箇所の位置を特定可能なように配置するとよい。
この例では、位置基準パターン24は、直交する2本の直線24aと、この直線24の両端に設けられた三角形24bとにより構成されている。このように2本の直線24aを配置すると、その交点で位置の特定が容易になる。また、三角形24bを設けたことにより、仮に、直線24の撮影像が不鮮明であった場合に、三角形の頂点を結ぶ部直線を演算処理で生成でき、位置の特定が可能となる。
カメラ30は、撮影用のレンズ(不図示)を用いて投影パターンを撮影するが、このレンズの歪曲収差によって撮影画像に歪みが生じる。この歪みは、レンズの光学系によって様々であって、例えば、中心部が膨らむようなゆがみにより矩形が樽型になったり、逆に中心部が収縮するようなゆがみにより矩形が糸巻き型になったりする。また、樽型と糸巻き型とが組み合わさったような収差も存在する。この歪曲収差は、基本的には、レンズの光学系が同じもので有れば、個体差は無視できる程度に小さい。しかし、レンズの光学系が異なる、すなわち、異なる設計のレンズであると、歪曲収差の発現具合が大きく異なる。よって、異なる種類のカメラ30を用いる場合には、歪曲収差による像の歪み方が変ってしまう。
図8に示した撮影画像の例では、糸巻き型に歪んだ画像となっている。補正処理部40は、この歪みを含んだ撮影画像を取得して、位置基準パターン24の位置が本来の位置とどれだけずれているか、すなわち、どれだけ撮影画像が歪んでいるかを演算する。そして、演算した歪み量に基づいて、撮影画像をスクリーン500上に投影された第1の投影パターン23及び位置基準パターン24の位置を正しく表した画像データに補正するための補正量、又は、補正式を生成して取得する。この補正量又は補正式にしたがって撮影画像を補正すれば、カメラ30によって生じる歪曲収差を正しく補正することができる。
また、本実施形態の光照射装置1を、カメラ30とは機種の異なる他のカメラを備えた光照射システムに転用するような場合には、新たなカメラで一度、補正量、又は、補正式を取得すれば、上記と同様にその後は、その補正量、又は、補正式を同一構成の光照射装置で共通可能である。
位置基準パターン24の配置は、上述した例に限らず、第1の投影パターン23の外形形状に合わせて適宜変更可能である。
図9は、第1の投影パターン23が矩形形状の場合の位置基準パターン24の配置例である。
図9(b)は、上述した例と同じ配置であるが、例えば、図9(a)のように、4隅のみに配置してもよい。
図11は、カメラ30によって撮影される前の第1の投影パターン23の形状が台形形状である場合の位置基準パターン24の配置例である。
図12は、カメラ30によって撮影される前の第1の投影パターン23の形状が円形形状である場合の位置基準パターン24の配置例である。
図10(a)、図11(a)、図12(a)に示すように、第1の投影パターン23の形状によらずに位置基準パターン24を繋げると矩形形状になるように配置してもよい。また、図10(b)図11(b)、図12(b)に示すように、第1の投影パターン23の外形形状に沿って位置基準パターン24を配置してもよい。
また、位置基準パターン24の形状については、上述した形状が最良の形態であると考えられるが、以下の各図に例示するような形態としてもよい。
図13は、三角形を基本とした位置基準パターン24の形状例を示す図である。
図14は、円を基本とした位置基準パターン24の形状例を示す図である。
図15は、角を丸めた四角形を基本とした位置基準パターン24の形状例を示す図である。
図16は、四角形を基本とした位置基準パターン24の形状例を示す図である。
図13(a)、図14(a)、図15(a)、図16(a)に示すように、位置基準パターン24の形状は、各形状の中抜きの形状としてもよい。
図13(b)、図14(b)、図15(b)、図16(b)に示すように、位置基準パターン24の形状は、各形状の中を塗り潰した形状としてもよい。
図13(c)、図14(c)、図15(c)、図16(c)に示すように、位置基準パターン24の形状は、各形状の中抜きの形状として、かつ、中央に点を備えた形状としてもよい。
十文字を基本とした位置基準パターン24の形状は、図17(a)のように斜め45°に直線が配置されていてもよいし、図17(b)のように水平と垂直に直線が配置されていてもよい。また、図17(c)に示すように、中央を白抜きした形状としてもよい。
また、位置基準パターン24によって歪み量を正確に把握可能であるので、補正の高い補正を行うことができる。
図18は、第2実施形態の回折光学素子による第1の投影パターン23及び位置基準パターン24のスクリーン500への投影例を拡大して示す図である。
第2実施形態は、第1の投影パターン23及び位置基準パターン24の輝度を変更した形態であり、その他の部分は、第1実施形態と同様である。よって、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
ここで、位置基準パターン24の輝度が第1の投影パターン23の輝度の1/10よりも低いと、位置基準パターン24の検出と認識が困難となる。また、位置基準パターン24の輝度が第1の投影パターン23の輝度の2/3を越えてしまうと、位置基準パターン24の輝度と第1の投影パターン23の輝度との差が小さくなり過ぎ、輝度差による区別が困難になる。よって、位置基準パターン24の輝度が第1の投影パターン23の輝度の1/10以上、2/3以下であることが望ましい。
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
2 光照射システム
10 回折光学素子
11 高屈折率部
11a 凸部
11a 凸部
11a−1 レベル1段部
11a−2 レベル2段部
11a−3 レベル3段部
11a−4 レベル4段部
11b 側壁部
12 凹部
13 空間
14 低屈折率部
15 回折層
20 光源部
21 光
22 照射領域
23 第1の投影パターン
24 位置基準パターン
24a 直線
24b 三角形
30 カメラ
40 補正処理部
115 回折層
500 スクリーン
Claims (15)
- 光を整形する回折光学素子であって、
入射した光を回折して出射することにより投影される投影パターンとして、
第1の投影パターンと、
前記第1の投影パターンとは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターンと、
を投影する回折格子を備える回折光学素子。 - 請求項1に記載の回折光学素子において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度よりも低くなるように回折格子が構成されていること、
を特徴とする回折光学素子。 - 請求項2に記載の回折光学素子において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度の1/10以上、2/3以下となるように回折格子が構成されていること、
を特徴とする回折光学素子。 - 光源部と、
前記光源部からの光が照射される位置に配置され、前記光源部からの光を整形して出射する回折光学素子と、
を備え、
前記回折光学素子が出射して投影される投影パターンは、
第1の投影パターンと、
前記第1の投影パターンとは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターンと、
を含む光照射装置。 - 請求項4に記載の光照射装置において、
前記位置基準パターンは、少なくとも3箇所の位置を特定すること、
を特徴とする光照射装置。 - 請求項4又は請求項5に記載の光照射装置において、
前記位置基準パターンは、前記第1の投影パターンの投影範囲の周囲に配置されていること、
を特徴とする光照射装置。 - 請求項6に記載の光照射装置において、
前記位置基準パターンは、前記第1の投影パターンの投影範囲の外形形状に沿って配置されていること、
を特徴とする光照射装置。 - 請求項4から請求項7までのいずれかに記載の光照射装置において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度よりも低いこと、
を特徴とする光照射装置。 - 請求項8に記載の光照射装置において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度の1/10以上、2/3以下であること、
を特徴とする光照射装置。 - 光源部と、
前記光源部からの光が照射される位置に配置され、前記光源部からの光を整形して出射する回折光学素子と、
前記回折光学素子が出射して投影される投影パターンの画像を取得するカメラと、
を備え、
前記回折光学素子が出射して投影される投影パターンは、
第1の投影パターンと、
前記第1の投影パターンとは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターンと、
を含み、
さらに、
前記カメラが取得した投影パターンの画像を解析し、前記位置基準パターンの位置に基づいて前記カメラによって生じる投影パターンの歪みを補正する補正処理部と、
を備える光照射システム。 - 請求項10に記載の光照射システムにおいて、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度よりも低いこと、
を特徴とする光照射システム。 - 請求項11に記載の光照射システムにおいて、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度の1/10以上、2/3以下であること、
を特徴とする光照射システム。 - 光源部からの光を整形して出射する回折光学素子が投影する投影パターンをさらにカメラで撮影したときの投影パターンの歪みを補正する、投影パターンの補正方法であって、
前記回折光学素子は、
第1の投影パターンと、
前記第1の投影パターンとは別の投影パターンであって、投影パターンにおける位置を特定する位置基準パターンと、
を含む投影パターンを投影し、
前記カメラは、前記投影パターンを撮影し、
補正処理部が、前記カメラが撮影した投影パターンの画像に含まれる前記位置基準パターンの位置に基づいて前記カメラによって生じる投影パターンの画像の歪みを補正する、
投影パターンの補正方法。 - 請求項13に記載の投影パターンの補正方法において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度よりも低いこと、
を特徴とする投影パターンの補正方法。 - 請求項14に記載の投影パターンの補正方法において、
前記位置基準パターンの輝度が前記第1の投影パターンの輝度の1/10以上、2/3以下であること、
を特徴とする投影パターンの補正方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017145304 | 2017-07-27 | ||
JP2017145304 | 2017-07-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019028456A true JP2019028456A (ja) | 2019-02-21 |
JP7230358B2 JP7230358B2 (ja) | 2023-03-01 |
Family
ID=65476301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018131403A Active JP7230358B2 (ja) | 2017-07-27 | 2018-07-11 | 回折光学素子、光照射装置、光照射システム、投影パターンの補正方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP7230358B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020024284A (ja) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子、多面付け体、多面付け体の検査方法、光照射装置、光照射装置の調整方法 |
KR20220021769A (ko) * | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 엘지전자 주식회사 | 릴레이티브 액티브 얼라인 장치 |
WO2024101465A1 (ko) * | 2022-11-08 | 2024-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 릴레이티브 액티브 얼라인 장치 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002056348A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-20 | Tohken Co Ltd | オートフォーカス機能を有する手持ち式読取装置及びオートフォーカス方法、並び距離計測方法 |
JP2007122229A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Casio Comput Co Ltd | コード読取装置及びプログラム |
CN101135776A (zh) * | 2007-02-15 | 2008-03-05 | 苏州苏大维格数码光学有限公司 | 一种衍射变色激光打标方法与装置 |
JP2008131250A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Aisin Seiki Co Ltd | 車載カメラの校正装置及び当該装置を用いた車両の生産方法 |
JP2008191999A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Denso Wave Inc | 光学情報読取装置 |
JP2008225553A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Lunascape Co Ltd | プロジェクタシステム |
US20090084852A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Igor Vinogradov | Aiming pattern indicative of optimum working distance in imaging reader and method |
JP2009109322A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | National Institute Of Information & Communication Technology | カメラ、カメラアレイ及びカメラアレイシステム |
JP2011048773A (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Ricoh Co Ltd | 投影画像領域検出装置 |
JP2014167550A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Asahi Glass Co Ltd | 拡散素子、照明光学系および計測装置 |
JP2016166815A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | アルプス電気株式会社 | 物体検出装置 |
-
2018
- 2018-07-11 JP JP2018131403A patent/JP7230358B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002056348A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-20 | Tohken Co Ltd | オートフォーカス機能を有する手持ち式読取装置及びオートフォーカス方法、並び距離計測方法 |
JP2007122229A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Casio Comput Co Ltd | コード読取装置及びプログラム |
JP2008131250A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Aisin Seiki Co Ltd | 車載カメラの校正装置及び当該装置を用いた車両の生産方法 |
JP2008191999A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Denso Wave Inc | 光学情報読取装置 |
CN101135776A (zh) * | 2007-02-15 | 2008-03-05 | 苏州苏大维格数码光学有限公司 | 一种衍射变色激光打标方法与装置 |
JP2008225553A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Lunascape Co Ltd | プロジェクタシステム |
US20090084852A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Igor Vinogradov | Aiming pattern indicative of optimum working distance in imaging reader and method |
JP2009109322A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | National Institute Of Information & Communication Technology | カメラ、カメラアレイ及びカメラアレイシステム |
JP2011048773A (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Ricoh Co Ltd | 投影画像領域検出装置 |
JP2014167550A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Asahi Glass Co Ltd | 拡散素子、照明光学系および計測装置 |
JP2016166815A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | アルプス電気株式会社 | 物体検出装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020024284A (ja) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子、多面付け体、多面付け体の検査方法、光照射装置、光照射装置の調整方法 |
JP7151256B2 (ja) | 2018-08-07 | 2022-10-12 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子、多面付け体、多面付け体の検査方法、光照射装置、光照射装置の調整方法 |
KR20220021769A (ko) * | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 엘지전자 주식회사 | 릴레이티브 액티브 얼라인 장치 |
KR102581986B1 (ko) * | 2020-08-14 | 2023-09-22 | 엘지전자 주식회사 | 릴레이티브 액티브 얼라인 장치 |
WO2024101465A1 (ko) * | 2022-11-08 | 2024-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 릴레이티브 액티브 얼라인 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7230358B2 (ja) | 2023-03-01 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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