JP2023522717A - コリメータ機能付き回折光学素子 - Google Patents
コリメータ機能付き回折光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023522717A JP2023522717A JP2022563945A JP2022563945A JP2023522717A JP 2023522717 A JP2023522717 A JP 2023522717A JP 2022563945 A JP2022563945 A JP 2022563945A JP 2022563945 A JP2022563945 A JP 2022563945A JP 2023522717 A JP2023522717 A JP 2023522717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pattern
- diffractive optical
- optical element
- distance sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 85
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 17
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2513—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object with several lines being projected in more than one direction, e.g. grids, patterns
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C3/00—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C3/00—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
- G01C3/02—Details
- G01C3/06—Use of electric means to obtain final indication
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4233—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
- G02B27/425—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application in illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
例示的な距離センサは、光点のパターンを物体上に投影するための投光システムを含む。投光システムは、コヒーレント光を投影するためのレーザ光源と、バイナリ階段状パターンを形成するようにエッチングされる複数の層を有する回折光学素子とを含み、ここで複数の層は、コヒーレント光を複数の光ビームに分割するように構成され、各光ビームは、パターンの1つの点を形成し、複数の層は、ビームの発散角を制御するように更に構成される。例示的な距離センサは、物体上に投影されたパターンの画像を取り込むための受光システムと、物体までの距離を、画像におけるパターンの外観、及び光点の軌跡の知識に基づいて計算するプロセッサとを更に含む。
Description
関連出願の相互参照
本出願は、2020年4月21日に出願された米国仮特許出願第63/013,002号の優先権を主張し、その全体を参照により本願に援用する。
本出願は、2020年4月21日に出願された米国仮特許出願第63/013,002号の優先権を主張し、その全体を参照により本願に援用する。
本発明は、一般に距離測定に関し、特に、コリメータ機能付き回折光学素子を含む距離センサに関する。
自律航法、ロボット工学、及びその他の用途を含む多くの技術は、周囲空間の3次元マップの測定に依存して、衝突回避、ルート確認、及びその他のタスクを支援する。例えば、3次元マップは、周囲空間において様々な物体までの距離を示し得る。
いくつかの例では、距離を測定するために使用されるセンサは、光(例えば、赤外光)のパターンを、その距離が測定されている物体の表面上に投影し得る。光のパターンは、複数の別個の光点を含み得て、各光点は、距離センサから出射された単一の光ビームが物体の表面上に入射するときに作成される。次いで、物体までの距離は、パターンの外観に基づいて計算され得る。いくつかの例では、パターンを作成するために使用される複数の光ビームは、回折光学素子を使用して、距離センサの投光システムによって出射された単一のコヒーレント光のビームを複数の光ビームに分割することによって作成される。
例示的な距離センサは、複数の光点を含むパターンを物体上に投影するための投光システムを含む。投光システムは、コヒーレント光を投影するためのレーザ光源と、バイナリ階段状パターンを形成するようにエッチングされた複数の層を有する回折光学素子を含み、ここで複数の層は、コヒーレント光を複数の光ビームに分割するように構成され、複数の光ビームの各光ビームは、複数の光点のうちの1つの点を形成し、複数の層は、複数の光ビームの発散角を制御するように更に構成される。例示的な距離センサは更に、物体上に投影されたパターンの画像を取り込む受光システムと、物体までの距離を画像におけるパターンの外観及び複数の光点の軌跡の知識に基づいて計算するプロセッサを更に含む。
一例では、少なくとも1つのプロセッサを含む距離センサの処理システムによって実行される方法は、距離センサの投光システムに、パターンを物体上へ投影させることであって、ここでパターンは複数の光点を含み、複数の光点は、コリメータ機能を含む投光システムの回折光学素子によって形成されることと、距離センサの受光システムに、物体上へ投影されたパターンの画像を取り込ませることと、複数の光点のうちの少なくともいくつかの点について3次元座標のセットを計算することであって、ここで計算は、画像において少なくともいくつかの点の外観及び少なくともいくつかの点の軌跡の知識に基づくことと、を含む。
別の例では、非一時的な機械可読記憶媒体は、少なくとも1つのプロセッサを含む距離センサの処理システムによって実行可能な命令を用いて符号化される。実行されると、命令は、処理システムに動作を実行させ、動作は、距離センサの投光システムに、パターンを物体上へ投影させることであって、ここでパターンは複数の光点を含み、複数の光点は、コリメータ機能を含む投光システムの回折光学素子によって形成されることと、距離センサの受光システムに、物体上へ投影されたパターンの画像を取り込ませることと、複数の光点のうちの少なくともいくつかの点について3次元座標のセットを計算することであって、ここで計算は、画像において少なくともいくつかの点の外観及び少なくともいくつかの点の軌跡の知識に基づくことと、を含む。
本開示は、距離測定及び他の光学用途で使用するためのコリメータ機能を含む回折光学素子を広く説明する。上述のように、距離を測定するために使用されるセンサは、光(例えば、赤外光)のパターンを、その距離が測定されている物体の表面上に投影し得る。光のパターンは、複数の別個の光点を含むことができ、各光点は、距離センサから出射された単一の光ビームが物体の表面上に入射するときに作成される。次いで、物体までの距離は、パターンの外観に基づいて計算され得る。いくつかの例では、パターンを作成するために使用される複数の光ビームは、回折光学素子を使用して、距離センサの投光システムによって出射された単一のコヒーレント光のビームを複数の光ビームに分割することによって作成される。例えば、米国特許出願第14/920,246号、第15/149,323号、及び第15/149,429号は、コヒーレント光のビームを分割するための回折光学素子を含む距離センサである。
半導体レーザのエミッタから投影されたコヒーレント光は、通常、ある程度のビーム発散、つまり光源からの距離に伴うビームの直径又は半径の増加を示す。ビームの直径又は半径の増加は、「発散角」と呼ばれる角度測定値を含み得る。発散角を調整するための従来の技術は、コリメータレンズを使用して、ビームが回折光学素子によって分割される前又は後に発散角を調整することを含む。
更に、多くの従来の距離センサはまた、光ビームを生成するために、垂直共振器面発光レーザ(VCSEL)光源を利用する。単一のVCSELエミッタを使用する設計もあれば、複数のVCSELエミッタが密に配置されたアレイを使用する別の設計もあり得る。VCSELエミッタのアレイが使用される場合、個々のエミッタの投影方向は互いに平行になり、各エミッタから出射されるビームは特定の拡がり角を有する(つまり、エミッタからの距離とともにビームの幅が増加する)。したがって、VCSELアレイによって出射された光をエミッタの配置に従って規定されたサイズで投影するために、光を一定の倍率(拡がり角)で投影する必要がある。
例えば、コリメータレンズがVCSELアレイと回折光学素子との間に配置される距離センサ構成(つまり、コヒーレント光のビームの発散角はビームが分割される前に調整される場合)では、コリメータレンズは、各ビームの発散角を制御するのみでなく、同時に複数のビームによって作成されたパターンを拡大して投影する。単一のVCSELエミッタ(又は単一の端面発光レーザ(EEL))を使用する距離センサ構成では、エミッタによって出射されたコヒーレント光のビームは、同様に、回折光学素子によって分割される前に、コリメータレンズによって所望の拡がり角(例えば、平行光)を示すように成形されて、所望のパターンを形成し得る。
回折光学素子が単一のVCSELエミッタとコリメータレンズとの間に配置される距離センサ構成では、回折光学素子は、VCSELエミッタによって出射されたコヒーレント光のビームを複数の光ビームに分割し、次にコリメータレンズが複数の光ビームを成形して、表面上に投影される任意の拡がり角(例えば、平行光)を示し得る。この場合、回折光学素子によって作成されたパターン(それぞれの発散角を示してもよい)は、コリメータレンズによって互いに平行にすることができる。VCSELエミッタのアレイが単一のVCSELエミッタの代わりに使用される場合、回折光学素子を出る各光ビームの拡がり角は、コリメータレンズの位置とコリメータレンズの光パワー(つまり、コリメータレンズが光を収束する程度)によって成形され得る。同時に、VCSELアレイの拡大投影仕様は、コリメータレンズの位置と光パワーによっても定義され得る。
本開示の例は、コリメータ機能を含む回折光学素子を使用し、回折光学素子の機能とコリメータレンズの機能を本質的に単一の構成要素に組み合わせている。これにより、距離感知用途のための光のパターンの投影を制御するために必要な構成要素の総数が減少し、機器のサイズと製造コストを削減することを可能にする。回折光学素子とコリメータレンズの機能性を組み合わせようとする以前の試みでは、傾斜面(例えば、フレネルスロープ)を使用する回折パターンが使用されており、これは製造が困難で、回折効率、ノイズ、及びパターンの均一性に関して最適化されていない位相分布をもたらす。対照的に、1つの例では、組み合わせられた機能性は、ビーム分割パターンと同じ平面において、回折光学素子の表面に階段状の回折パターンを作成することによって達成される。階段状パターンの例は、傾斜面のないバイナリ階段状回折パターンの複数の層を含む。開示された回折光学素子の提案されたパターニングは、傾斜回折格子よりも製造が容易であり、回折効率、ノイズ、及びパターン均一性についてより適切に最適化される。
図1は、本開示の例による例示的な距離センサの投光システム100を示す概略図である。言い換えると、図1は、距離を計算することができる光のパターンを投影する距離センサの部分を示すが、距離センサの他の構成要素、例えば、光のパターンの画像を取り込み、画像に基づいて距離を計算するための受光システム及びプロセッサを省略する。
図1に示すように、例示的な距離センサの投光システム100は、一般にエミッタ102及び回折光学素子104を含む。一例では、エミッタ102はVCSELエミッタを含む。VCSELエミッタは、特に、個々のVCSELエミッタ1061~106n(以下、個々に「VCSELエミッタ106」と称されるか、「VCSELエミッタ106」と総称される)のアレイを含み得る。各VCSELエミッタ106は、人間の目には見えないが、例示的な距離センサの受光システムには見える波長の光ビーム(例えば、赤外光)を出射することができるレーザ光源を含み得る。
図1は、VCSELエミッタ106の各々について、それぞれの中心発光軸1081~108n(以下、個々に「軸108」と称されるか、「軸108」と総称される)を示す。加えて、図1は、VCSELエミッタ1061から出射されるコヒーレント光のビーム110を示す。VCSELエミッタ1062及び106nは、同様の方法でコヒーレント光のビームを出射し得るが、そのようなビームは簡潔にするために図1には示されない。一例では、マイクロレンズ114が、エミッタ102の上に任意選択で配置され得る。
回折光学素子104は、エミッタ102と、出射された光が距離センサを出る投光システム100の出口アパーチャ(図示せず)との間に配置される。加えて、ポジショニング部材116は、エミッタ102と回折光学素子104との間の厳密に位置合わせされた位置関係を高精度で維持するために使用され得る。一例では、ポジショニング部材116は、プラスチック又はポリマ、例えば液晶ポリマから形成されて、精密成形を容易にし得る。
一例では、回折光学素子104は、コリメータ機能を含み、以下で更に詳細に説明する。すなわち、エミッタ102によって出射されたコヒーレント光の各ビーム(例えば、ビーム110と同様)を複数の光ビームに分割することに加えて、回折光学素子104はまた、複数の光ビームを成形して、表面上に投影される任意の拡がり角度θを示し得る。回折光学素子104はまた、図1の角度φによって示される拡大機能を実行してもよい。一例では、回折光学素子104の光パワーは、凸レンズの光パワーに類似する。すなわち、回折光学素子104は、エミッタ102によって投影される光ビームの発散角を制御することができ、またエミッタ102がVCSELエミッタのアレイを含む場合に投影されるパターンを拡大し得る。
例えば、図1に示されるように、コヒーレント光のビーム110は、VCSELエミッタ1061によって出射され得る。コヒーレント光のビーム110が回折光学素子104に入射すると、回折光学素子104は、コヒーレント光のビーム110を複数の光ビーム1121~112m(以下、個々に「ビーム112」と称するか、「ビーム112」と総称される)に分割する。更に、回折光学素子104はコリメータ機能も同様に実行するように構成されているため、回折光学素子104は複数のビーム112を成形して拡がり角θを示す。一例では、回折光学素子104による複数のビーム112の成形により、ビーム112の一部が互いに実質的に平行に(すなわち、所定の公差内で平行に)配向される結果になり得る。例えば、図1に示すように、ビーム1121と1122は互いに平行であり、ビーム1123と1124は互いに平行であり、ビーム1125と1126は互いに平行であり、ビーム1127と1128は互いに平行であり、ビーム1129と112mは互いに平行である。VCSELエミッタ1062及び106nによって出射されたコヒーレント光のビームは、同様の方法で分割され成形され得る。
その結果は、表面上に投影される光点のパターンであり、各点は、複数のビームのうちの1つが表面上に入射するときに形成される。図2は、例えば、図1の投光システム100によって形成され得る光のパターン200を示す。図示のように、パターン200は、複数の個々の光点202を含み、それは回折光学素子104のコリメータ機能によって拡大され得る。光の各点202は、回折光学素子104を出る複数のビームのうちの1つのビームによって形成され得る。更に、単一のコヒーレント光のビームから分割されるビームの各グループ(例えば、コヒーレント光のビーム110から分割された複数のビーム112)は、サブパターン204を形成することができ、それは繰り返されてパターン200を形成し得る。すなわち、エミッタ102によって出射される各コヒーレント光のビームは、分割されると、サブパターン204のインスタンスを作成し得て、これにより、エミッタ102によって出射されるコヒーレント光のビームのすべてがサブパターン204のそれぞれのインスタンスを作成する場合(その結果、サブパターン204が空間の複数のそれぞれのセクション2061~206oの全体で繰り返され)、パターン200を生じる。各セクション206で複製されるサブパターン204は、点202の規則的又は反復配置を示すように見えるが、繰り返されるサブパターン204は、他の例では、点202の不規則な、又は任意の配置を示し得ることが理解されるであろう。
上述のように、回折光学素子は、回折光学素子に入射する光ビームを分割するのみでなく、分割によって作成される光ビームをコリメートするようにも設計される。図3Aは、本開示による、コリメータ機能を含む例示的な回折光学素子の表面300の一部分の写真を示す。図3Bは、図3Aの表面300の断面図を示す。例示的な回折光学素子は、図1の回折光学素子104であってもよい。
図示のように、回折光学素子の表面300は、一例では、バイナリ階段状の不規則なパターンを含むように設計され得る。バイナリ階段状の不規則なパターンは、例えばガラス基板にエッチングされ得る。各階段状は、ラン(すなわち、平坦な***面)と、ランに対して実質的に90°の角度に向けられたライズ(すなわち、平坦な***面の高さ)とを含み得る。換言すれば、階段状は傾斜面を含まない。例えば、図3A及び図3Bは、表面300の複数の階段状のうちの1つのラン302及びライズ304を示す。
一例では、階段によって作成されたパターンは、不規則であり、それは、図3A及び図3Bに示すように、異なる階段状が異なるサイズ及び/又は成形されたラン、及び異なるライズを有し得るという意味である。しかし、図示のように、すべての階段状のランは互いに実質的に平行に、かつ表面300の基部に平行に配向され、一方、すべての階段状のライズも互いに実質的に平行に配向される。したがって、すべての階段状のランとライズは互いに平行に配向されるが、必ずしも互いに同平面上にあるとは限らない(例えば、同平面上にあるものは、他のすべての階段状よりも少ない)。別の言い方をすると、回折光学素子の表面は、複数の(すなわち、2つ以上の)位相レベル又はバイナリ階段状の層3061~306iを含み得る。上から見ると、回折光学素子のパターンは一連の同心円に似てもよい。
図3A及び図3Bに示されるパターンは、コヒーレント光のビームを複数のビームに分割することと、複数のビームをコリメートして拡がり角を制御することの両方が可能である。このようにして、その表面が図3A及び図3Bに示されるパターンを呈するように設計された回折光学素子は、回折光学素子及びコリメータレンズの両方の機能を実行し得るが、単一の構成要素である。一例では、図3A及び図3Bに示されるパターンは、エミッタ102に面している回折光学素子104の表面に形成される。
図4は、本開示の例による別の例示的な距離センサの投光システム400を示す概略図である。図1のように、図4は、距離が計算され得る光のパターンを投影する距離センサの部分を示すが、距離センサの別の構成要素、例えば、光のパターンの画像を取り込み、画像に基づいて距離を計算するための受光システム及びプロセッサを省略する。
図4に示すように、例示的な距離センサの投光システム400は、一般に、エミッタ402と回折光学素子404を含む。一例では、エミッタ402はVCSELエミッタを含む。しかしながら、図1のエミッタ101が個々のVCSELエミッタ106のアレイを含むのとは異なり、エミッタ402は、単一のVCSELエミッタ406を含む。VCSELエミッタ406は、人間の目には見えないが、例示的な距離センサの受光システムには見える波長の光ビーム(例えば、赤外光)を出射することができるレーザ光源を含み得る。図4はまた、VCSELエミッタ406に関して、中心発光軸408を示す。更に、図4は、VCSELエミッタ406から出射されるコヒーレント光のビーム410を示す。
回折光学素子404は、エミッタ402と、出射された光が距離センサを出る投光システム400の出口アパーチャ(図示せず)との間に配置される。加えて、ポジショニング部材416は、エミッタ402と回折光学素子404との間の厳密に位置合わせされた位置関係を維持するために使用され得る。
一例では、回折光学素子404は、上述のようにコリメータ機能を含む。すなわち、エミッタ402によって出射されたコヒーレント光のビーム410を複数の光ビームに分割することに加えて、回折光学素子404はまた、複数の光ビームを成形して、表面上に投影される任意の拡がり角度を呈し得る
例えば、図4に示されるように、コヒーレント光のビーム410は、VCSELエミッタ406によって出射され得る。コヒーレント光のビーム410が回折光学素子404に入射すると、回折光学素子404は、コヒーレント光のビーム410を複数の光ビーム4121~412m(以下、個々に「ビーム412」と称するか、「ビーム412」と総称される)に分割する。更に、回折光学素子404はコリメータ機能も同様に実行するように構成されているため、回折光学素子404は複数のビーム412を成形して任意の拡がり角を呈する。一例では、回折光学素子404による複数のビーム412の成形により、ビーム412の一部が互いに実質的に平行に(すなわち、所定の公差内で平行に)配向される結果になり得る。例えば、図4に示すように、ビーム4121と4122は互いに平行であり、ビーム4123と4124は互いに平行であり、ビーム4125と4126は互いに平行であり、ビーム4127と4128は互いに平行であり、ビーム4129と412mは互いに平行である。
コリメータ機能を含む回折光学素子を使用する本開示の距離センサは、様々な距離感知スキーム及び用途で使用され得る。例えば、開示された距離センサによって投影されるパターンは、多点投影を使用する三角測量方式(例えば、距離は、格子などの点の規則的なパターン、点が指定されたルールに従ってコードを形成するように配置されるコードパターン、又は点の配置の規則性が最小化される疑似ランダムパターンの投影から計算される)、多点投影を使用した飛行時間(例えば、光点がパルス化される)、多点投影を使用するステレオシステム(例えば、特徴検出のサポート手段として)、又は三角測距方式(例えば、光点ではなく複数の光のストライプを投影することによって)に従って距離を計算するために使用されてもよい。そのような距離センサは、携帯電話、パーソナルコンピュータ、及びより小さなフォームファクタとより低い製造コストが望まれる他のデバイスを含んでいるデバイスに組み込まれ得る。
このような距離センサはまた、顔認証、ジェスチャ認識、及び3次元認識を含む用途において使用され得る。用途に適したパターンは、エミッタの配置とサイズ(例えば、アレイ内の個々のエミッタの数と配置)を変更することによって実現され得る。
図5は、コリメータ機能を含む開示された回折光学素子の例が使用され得る、例示的な距離センサ500を示す簡略化された概略図である。距離センサ500は、一般に、プロセッサ502、投光システム504、及び受光システム506を含む。
プロセッサ502は、ハードウェアプロセッサ要素502、例えば、中央処理装置(CPU)、マイクロプロセッサ、又はマルチコアプロセッサを含み得る。プロセッサ502は、投光システム504及び受光システム506の両方の動作を制御するように構成され得て、以下で更に詳細に説明する。
投光システムは、図1及び図4に示し、上述した投光システムと同様に構成され得る。したがって、投光システムは、レーザ光源(例えば、単一のエミッタ又はエミッタのアレイのいずれか)と、コリメータ機能を含む回折光学素子とを含み得て、回折光学素子はパターニングされて、(1)レーザ源によって出射されたコヒーレント光のビームを複数の光ビームに分割し、(2)複数の光ビームをコリメートして、投光システム504によって出射される光の発散角を制御する。コリメータ機能を含む回折光学素子はまた、投光システム504によって表面510上に投影される投影パターン(すなわち、光点の配置)508の倍率を制御し得る。プロセッサ502は、投光システム504を制御して、パターン508を投影し得る(例えば、エミッタ(複数可)に、指定された時間及び/又は指定された期間にわたって光を出射するよう指示する信号を送ることによる)。図5に示される例示的なパターン508は、点の規則的又は反復配置を示すが、パターン508は、他の例では任意又は不均一な(例えば非反復)点の配置を示してもよいことを理解する。
受光システム506は、表面510上に投影されたパターン508の画像を取り込む画像センサ(例えば、カメラ)及び他の光学系(例えば、フィルタ)を含み得る。上述のように、パターン508は、投光システム504によって出射される光の波長のために人間の目には見えなくてもよいが、受光システム506の適切に構成された画像センサ(例えば、受光器)には見えてもよい。プロセッサ502は、受光システム506を制御して、パターンの画像を(例えば、受光システムに、指定の時間に画像を取り込むように指示する信号を送ることによって)取り込み得る。受光システム506によって取り込まれた画像は、距離計算のためにプロセッサ502に転送され得る。
プロセッサ502は、表面510までの距離を、受光システム506によって取り込まれた画像においてパターン508の外観に基づき計算し得る。例えば、プロセッサ502は、パターン508の画像又は既知の構成を保存し得て、取り込まれた画像を保存された画像及び/又は既知の構成と比較して、距離を例えば、三角測量方式、飛行時間、又は他の技術を使用して計算し得る。例えば、距離は、米国特許出願第14/920,246号、第15/149,323号、及び第15/149,429号に記載された方法のいずれかに従って計算され得る。
図6は、距離センサから物体までの距離を測定する例示的な方法600を示すフローチャートである。方法600は、例えば、図5の距離センサ500のプロセッサ502などの少なくとも1つのプロセッサを含む処理システムによって実行され得る。代替的に、方法600は、コンピューティングデバイス、例えば、図7に示され、以下で更に詳細に説明されるコンピューティングデバイス700の処理システムによって実行されてもよい。例として、方法600は、処理システムによって実行されるものとして説明される。
方法600は、ステップ602で開始され得る。ステップ604において、距離センサの処理システムは、距離センサの投光システムに、光のパターンを物体上へ投影させることができ、ここで投光システムは、コリメータ機能を含んでいる回折光学素子を含む。距離センサの投光システムは、例えば、レーザ光源を含み得て、それは人間の目には実質的に見えない波長の1つ以上の光ビーム(例えば、赤外光)を出射する。距離センサの投光システムは、回折光学素子を更に含み得て、その表面は上述のようにパターニングされ(例えば、バイナリ階段状パターンの複数の層を含む)、(1)レーザ光源によって出射された光ビーム(複数可)を複数の追加の光ビームに分割し、(2)複数の追加の光ビームをコリメートして、光のパターンの拡がり角度及び倍率を制御する。
したがって、投光システムは、複数の光ビームを投影し得る。複数の光ビームの各ビームが物体上に入射すると、ビームは物体上に光点(例えば、ドット又は他の形状)を作成する。複数のビームによって作成された複数の光点は、集合的に物体上に光のパターンを形成する。光のパターンは、複数の光点の所定の配置を含み得る。例えば、複数の光点は、複数の行及び複数の列を含む格子に配置されてもよく、垂直又は水平のストライプを形成するように配置されてもよい。
ステップ606において、処理システムは、距離センサの受光システムに、物体上へ投影された光のパターンの画像を取り込ませ得る。上述のように、距離センサの受光システムは、例えば、撮像センサ及び1つ以上のレンズを含み得て、それらはカメラを集合的に形成する。撮像センサは、受光器と任意選択のフィルタとのアレイを含み得て、それはパターンの光点を検出できる。例えば、受光器は赤外線受光器を含むことができ、フィルタは赤外線バンドパスフィルタを含み得る。
ステップ608において、処理システムは、複数の光点のうちの少なくともいくつかの光点について3次元座標のセットを、画像において少なくともいくつかの光点の外観及び少なくともいくつかの交点の軌跡の知識に基づいて計算し得る。光点についての3次元座標のセットは、(x、y、z)座標を含み得て、ここでz座標は、距離センサから点までの距離(又は深さ)を測定し得る。点の軌跡は、移動範囲を含み得て、その範囲内で、点の位置が物体までの距離とともに変化し得る。複数の光点の各点の軌跡は、方法600を実行する前に、距離センサの較正を通じて学習されてもよい。
方法600は、ステップ610で終了し得る。
明示的に指定されていないが、上述した方法600のブロック、機能、又は動作のいくつかは、特定の用途のために保存、表示、及び/又は出力することを含み得ることに留意する必要がある。言い換えると、方法600で論じられた任意のデータ、レコード、フィールド、及び/又は中間結果は、特定の用途に応じて、別のデバイスに保存、表示、及び/又は出力され得る。更に、決定操作を列挙する、又は決定を伴う図6のブロック、機能、又は動作は、決定操作の両方の分岐が実行されることを意味するものではない。言い換えると、決定操作の分岐のいずれかは、決定操作の結果によっては実行されない場合がある。
図7は、距離センサから物体までの距離を測定するための例示的な電子デバイス700の高レベルブロック図を示す。このように、電子デバイス700は、距離センサなどの電子デバイス又はシステムのプロセッサとして実装され得る。
図7に示されるように、電子デバイス700は、例えば中央処理装置(CPU)、マイクロプロセッサ、又はマルチコアプロセッサなどのハードウェアプロセッサ要素702と、例えばランダムアクセスメモリ(RAM)及び/又は読み取り専用メモリ(ROM)などのメモリ704と、距離センサから物体までの距離を測定するためのモジュール705と、例えば記憶装置などの様々な入力/出力デバイス706を含み、記憶装置には、限定するものではないがテープドライブ、フロッピドライブ、ハードディスクドライブ又はコンパクトディスクドライブ、受信機、送信機、ディスプレイ、出力ポート、入力ポート、及びユーザ入力デバイス、例えばキーボード、キーパッド、マウス、マイク、カメラ、レーザ光源、LED光源など、が挙げられる。
1つのプロセッサ要素が示されるが、電子デバイス700は複数のプロセッサ要素を使用し得ることに留意する必要がある。更に、図には1つの電子デバイス700が示されるが、上記の方法(複数可)が特定の例示的な例について分散型又は並列方式で実装される場合、すなわち、上記の方法(複数可)のブロック又は方法(複数可)全体が複数の又は並列の電子デバイスにわたって実装される場合、この図の電子デバイス700は、それらの複数の電子デバイスのそれぞれを表すことを意図する。
本開示は、機械可読命令によって、及び/又は機械可読命令とハードウェアとの組合せにおいて、例えば、特定用途集積回路(ASIC)、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)を含むプログラマブルロジックアレイ(PLA)、又はハードウェアデバイス上に配備されたステートマシンを使用して実装され得て、汎用コンピュータ又は任意の他のハードウェア等価物、例えば、上記で論じられた方法(複数可)に関するコンピュータ可読命令を使用して、上記で開示された方法(複数可)のブロック、機能、及び/又は動作を実行するようにハードウェアプロセッサを構成し得ることに留意する必要がある。
一例では、距離センサから物体までの距離を測定するための本モジュール又はプロセス705のための命令及びデータ、例えば機械可読命令は、メモリ704にロードされ、ハードウェアプロセッサ要素702によって実行されて、方法600に関連して上で議論されたようなブロック、機能又は動作を実施し得る。更に、ハードウェアプロセッサが「動作」を実行するための命令を実行する場合、これは、ハードウェアプロセッサが直接動作を実行すること、及び/又は動作を実行するために、別のハードウェアデバイス又は構成要素、例えばコプロセッサなどを促し、指示し、又は協働することを含み得る。
上述の方法(複数可)に関連する機械可読命令を実行するプロセッサは、プログラムされたプロセッサ又は特殊なプロセッサとして認識され得る。このように、本開示の距離センサから物体までの距離を測定するための本モジュール705は、有形又は物理的な(広くは非一時的な)コンピュータ可読記憶装置又は媒体、例えば、揮発性メモリ、不揮発性メモリ、ROMメモリ、RAMメモリ、磁気ドライブ又は光学ドライブ、デバイス又はディスケットなどに保存され得る。特に、コンピュータ可読記憶装置は、プロセッサ、又はコンピュータ若しくは安全センサシステムのコントローラなどの電子デバイスによってアクセスされるデータ及び/又は命令などの情報を保存する機能を提供する任意の物理デバイスを含み得る。
上記開示と他の特徴及び機能の変形、又はその代替は、他の多くの異なるシステム又は用途に組み込まれてもよいことが理解される。現在予想されていない、又は予期していないその中の様々な代替、修正、又は変形は、後に行われてもよく、これらも以下の特許請求の範囲によって包含されることが意図される。
Claims (20)
- 複数の光点を含むパターンを物体上に投影するための投光システムであって、
コヒーレント光を投影するためのレーザ光源、及び、バイナリ階段状パターンを形成するようにエッチングされた複数の層を有する回折光学素子を含む投光システムと、
前記物体上に投影された前記パターンの画像を取り込む受光システムと、
前記物体までの距離を前記画像における前記パターンの外観及び前記複数の光点の軌跡の知識に基づいて計算するプロセッサと、
を備え、
前記複数の層は、前記コヒーレント光を複数の光ビームに分割するように構成され、
前記複数の光ビームの各光ビームは、前記複数の光点のうちの1つの点を形成し、
前記複数の層は、前記複数の光ビームの発散角を制御するように更に構成される、
ことを特徴とする距離センサ。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって単一のコヒーレント光のビームを出射する単一の垂直共振器面発光レーザを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって単一のコヒーレント光のビームを出射する単一の端面発光レーザを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって複数のコヒーレント光のビームを集合的に出射する複数の垂直共振器面発光レーザのアレイを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記複数の層が更に前記パターンを拡大するように構成される、
ことを特徴とする請求項4に記載の距離センサ。 - 前記バイナリ階段状パターンの各バイナリ階段状パターンが、複数の階段状の不規則な配置を含み、
前記複数の階段状の各階段状は、ライズ及び勾配のないランを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記複数の階段状の各階段状の前記ランが、前記複数の階段状の他の階段状のランと平行であるが、前記他の階段状のすべての前記ランよりも少ない数で同平面上にある、
ことを特徴とする請求項6に記載の距離センサ。 - 前記レーザ光源と前記回折光学素子との間の位置合わせされた位置関係を維持するように配置されたポジショニング部材を更に備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記複数の層が、前記レーザ光源に面する前記回折光学素子の表面に規定される、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記コヒーレント光が、人間の目には見えないが、前記受光システムの受光器には見える光の波長を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記複数の光ビームが、前記物体の表面上で繰り返される点のパターンを、前記回折光学素子によって前記コヒーレント光から分割された別の複数の光ビームによって形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の距離センサ。 - 前記点のパターンが規則的なパターンを含む、
ことを特徴とする請求項11に記載の距離センサ。 - 前記点のパターンが不規則なパターンを含む、
ことを特徴とする請求項11に記載の距離センサ。 - 少なくとも1つのプロセッサを含む距離センサの処理システムによって、前記距離センサの投光システムに、コリメータ機能を含む前記投光システムの回折光学素子によって形成される複数の光点を含むパターンを物体上へ投影させることと、
前記処理システムによって、前記距離センサの受光システムに、前記物体上に投影された前記パターンの画像を取り込ませることと、
前記処理システムによって、前記画像における少なくともいくつかの点の外観及び前記少なくともいくつかの点の軌跡の知識に基づいて、前記複数の光点のうちの少なくともいくつかの点について3次元座標のセットを計算することと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記回折光学素子が、バイナリ階段状パターンを形成するようにエッチングされた複数の層を含み、
前記複数の層は、前記投光システムのレーザ光源によって出射されたコヒーレント光を複数の光ビームに分割するように構成され、
前記複数の光ビームの各光ビームは、前記複数の光点のうちの1つの点を形成し、
前記複数の層は、前記複数の光ビームの発散角を制御するように更に構成される、
ことを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって単一のコヒーレント光のビームを出射する単一の垂直共振器面発光レーザを含む、
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって単一のコヒーレント光のビームを出射する単一の端面発光レーザを含む、
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記レーザ光源が、前記回折光学素子に向かって複数のコヒーレント光のビームを集合的に出射する複数の垂直共振器面発光レーザのアレイを含む、
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記バイナリ階段状パターンの各バイナリ階段状パターンが、複数の階段状の不規則な配置を含み、
前記複数の階段状の各階段状は、ライズ及び勾配のないランを含む、
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 少なくとも1つのプロセッサを含む距離センサの処理システムによって実行可能な命令を用いて符号化される非一時的な機械可読記憶媒体であって、
前記処理システムによって実行されると、前記命令は、前記処理システムに動作を実行させ、
前記動作が、
前記距離センサの投光システムに、コリメータ機能を含む前記投光システムの回折光学素子によって形成される複数の交点を含むパターンを物体上へ投影させることと、
前記距離センサの受光システムに、前記物体上に投影された前記パターンの画像を取り込ませることと、
前記画像における前記少なくともいくつかの点の外観及び前記少なくともいくつかの点の軌跡の知識に基づいて、前記複数の光点の少なくともいくつかの点について3次元座標のセットを計算することと、
を含むことを特徴とする非一時的な機械可読記憶媒体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202063013002P | 2020-04-21 | 2020-04-21 | |
US63/013,002 | 2020-04-21 | ||
PCT/US2021/028124 WO2021216528A1 (en) | 2020-04-21 | 2021-04-20 | Diffractive optical element with collimator function |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023522717A true JP2023522717A (ja) | 2023-05-31 |
Family
ID=78082915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022563945A Pending JP2023522717A (ja) | 2020-04-21 | 2021-04-20 | コリメータ機能付き回折光学素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210325686A1 (ja) |
EP (1) | EP4162230A1 (ja) |
JP (1) | JP2023522717A (ja) |
CN (1) | CN115667990A (ja) |
TW (1) | TW202146936A (ja) |
WO (1) | WO2021216528A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114019597A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-02-08 | 深圳市安思疆科技有限公司 | 衍射光学元件的设计方法、衍射光学元件及结构光投射器 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007043036A1 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Prime Sense Ltd. | Method and system for object reconstruction |
JP5760391B2 (ja) * | 2010-11-02 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 回折光学素子及び計測装置 |
US9503708B2 (en) * | 2014-11-03 | 2016-11-22 | Aquifi, Inc. | Systems and methods for reducing z-thickness and zero-order effects in depth cameras |
WO2018033917A1 (en) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | Ramot At Tel-Aviv University Ltd. | Structured light projector |
US10509128B1 (en) * | 2019-04-12 | 2019-12-17 | K Laser Technology, Inc. | Programmable pattern optical projector for depth detection |
-
2021
- 2021-04-20 EP EP21792491.9A patent/EP4162230A1/en active Pending
- 2021-04-20 JP JP2022563945A patent/JP2023522717A/ja active Pending
- 2021-04-20 CN CN202180043903.6A patent/CN115667990A/zh active Pending
- 2021-04-20 US US17/235,233 patent/US20210325686A1/en active Pending
- 2021-04-20 WO PCT/US2021/028124 patent/WO2021216528A1/en unknown
- 2021-04-21 TW TW110114365A patent/TW202146936A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021216528A1 (en) | 2021-10-28 |
TW202146936A (zh) | 2021-12-16 |
EP4162230A1 (en) | 2023-04-12 |
CN115667990A (zh) | 2023-01-31 |
US20210325686A1 (en) | 2021-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11962748B2 (en) | Three dimensional depth mapping using dynamic structured light | |
CN107407553B (zh) | 距离传感器 | |
JP7133554B2 (ja) | 焦点調整可能な画像センサを含む距離センサ | |
CN110133853B (zh) | 可调散斑图案的调节方法及其投射方法 | |
US20160328854A1 (en) | Distance sensor | |
TWI665471B (zh) | 光學圖案投影 | |
KR20200123849A (ko) | 가변 밀도들의 투영 패턴을 사용하는 거리 측정 | |
CN106569330B (zh) | 一种光学图案的设计方法、面阵投影装置及一种深度相机 | |
WO2020117785A1 (en) | Vertical cavity surface emitting laser-based projector | |
CN108490725B (zh) | Vcsel阵列光源、图案投影仪及深度相机 | |
CN114073075B (zh) | 将三维深度图数据映射到二维图像上 | |
CN110275381A (zh) | 结构光发射模组及应用其的深度感测设备 | |
US11029408B2 (en) | Distance-imaging system and method of distance imaging | |
JP2020531851A (ja) | 構造化光投射 | |
JP2023522717A (ja) | コリメータ機能付き回折光学素子 | |
JP2023504157A (ja) | 飛行時間情報を用いた三角測量ベースの3次元距離測定の向上 | |
US20140111619A1 (en) | Device and method for acquiring image | |
TWI719383B (zh) | 多影像投影機以及具有多影像投影機之電子裝置 | |
CN111580281A (zh) | 光学装置 | |
TW202028810A (zh) | 光學裝置 | |
KR20230034204A (ko) | 구조광용 광원, 구조광 프로젝션 장치 및 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240329 |