JP2019025913A - Transparent conductive film for dimming film and dimming film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムに関する。また、本発明は、上記透明導電フィルムを用いた調光フィルムに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film used for a light control film. Moreover, this invention relates to the light control film using the said transparent conductive film.
調光フィルム等に調光材料等が用いられている。調光材料は、特定の波長の光を遮断することにより透過率を調整したり、色調を調整したりすることを目的として利用されている。調光フィルムは、室内部材、建築部材及び電子部品等の様々な分野において利用されている。 A light control material or the like is used for the light control film. The light modulating material is used for the purpose of adjusting the transmittance or adjusting the color tone by blocking light of a specific wavelength. The light control film is utilized in various fields, such as an indoor member, a building member, and an electronic component.
上記調光フィルムは、例えば、２つの透明導電フィルム間に、調光層が配置された構造を有する。上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの表面上に導電層とを有する。上記調光フィルムにおいて、上記導電層は、上記調光層を介して対向した状態になる。上記調光フィルムでは、２つの透明導電フィルムの導電層間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、上記調光フィルムを通過する光量を変化させることができる。 For example, the light control film has a structure in which a light control layer is disposed between two transparent conductive films. The transparent conductive film used for the said light control film has a base film and a conductive layer on the surface of this base film. In the light control film, the conductive layer is opposed to the light control layer. In the light control film, an electric field is applied between the conductive layers of the two transparent conductive films. The amount of light passing through the light control film can be changed between a state where an electric field is applied and a state where no electric field is applied.
上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムの一例が、下記の特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の透明導電フィルムでは、導電層が、ＩＴＯ等により形成されていてもよい。 An example of the transparent conductive film used for the light control film is disclosed in Patent Document 1 below. In the transparent conductive film described in Patent Document 1, the conductive layer may be formed of ITO or the like.
また、上記調光フィルムの一例が、下記の特許文献２に開示されている。特許文献２に記載の調光フィルムは、導電層（ＩＴＯ層）と、調光層との間にシランカップリング剤層を有する。
An example of the light control film is disclosed in
特許文献１に記載のような従来の透明導電フィルムでは、導電層と調光層との密着性が低くなったり、得られる調光フィルムの透明度が低くなったりすることがある。結果として、調光フィルムの調光性能が低下することがある。 In the conventional transparent conductive film as described in Patent Document 1, the adhesion between the conductive layer and the light control layer may be low, or the transparency of the resulting light control film may be low. As a result, the light control performance of the light control film may deteriorate.
特許文献２に記載の調光フィルムでは、導電層と、調光層との間にシランカップリング剤層が存在するため、導電層と調光層との密着性をある程度高くすることができる。しかし、特許文献２に記載の調光フィルムでは、透明度が低くなることがあり、結果として、調光性能が低下することがある。
In the light control film of
本発明の目的は、導電層と調光層との密着性を高めることができ、かつ透明度が高い調光フィルムを得ることができる調光フィルム用透明導電フィルムを提供することである。また、本発明は、上記調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムを提供することも目的とする。 The objective of this invention is providing the transparent conductive film for light control films which can improve the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer, and can obtain the light control film with high transparency. Another object of the present invention is to provide a light control film using the transparent conductive film for light control film.
本発明の広い局面によれば、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、前記透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率をＴ３６５、前記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率をＴ５５０、及び前記導電層の厚みをＸとしたときに、（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘが８％／ｎｍ以上２０％／ｎｍ以下である、調光フィルム用透明導電フィルムが提供される。 According to a wide aspect of the present invention, there is provided a transparent conductive film used for a light control film, comprising: a base film; and a conductive layer disposed on one surface side of the base film, wherein the transparent film When the total light transmittance at a wavelength of 365 nm of the conductive film is T 365 , the total light transmittance at a wavelength of 550 nm of the transparent conductive film is T 550 , and the thickness of the conductive layer is X, (T 365 + T 550 ) / There is provided a transparent conductive film for a light control film, wherein X is 8% / nm or more and 20% / nm or less.
本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記Ｔ３６５が７０％以上である。 On the specific situation with the transparent conductive film for light control films which concerns on this invention, said T365 is 70% or more.
本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記基材フィルムが、基材フィルム本体と、ハードコート層とを有し、前記ハードコート層は、前記基材フィルム本体の第１の表面上、及び前記第１の表面とは反対の第２の表面上に積層されており、前記第１の表面上に積層されている前記ハードコート層の、前記基材フィルム本体側とは反対の表面側に前記導電層が配置されている。 On the specific situation with the transparent conductive film for light control films which concerns on this invention, the said base film has a base film main body and a hard-coat layer, and the said hard-coat layer is the said base film main body. The base film body side of the hard coat layer laminated on the first surface and the second surface opposite to the first surface, and laminated on the first surface The said conductive layer is arrange | positioned on the surface side opposite to.
本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記基材フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率が７５％以上である。 On the specific situation with the transparent conductive film for light control films which concerns on this invention, the total light transmittance in wavelength 365nm of the said base film is 75% or more.
本発明の広い局面によれば、第１の透明導電フィルムと、第２の透明導電フィルムと、前記第１の透明導電フィルムと前記第２の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、前記第１の透明導電フィルム及び前記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、上述した調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルムが提供される。 According to a wide aspect of the present invention, the first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the light control layer disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film. A light control film is provided, wherein at least one of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film is the above-described transparent conductive film for a light control film.
本発明に係る調光フィルムのある特定の局面では、前記調光層に対する前記調光フィルム用透明導電フィルムのピール強度が３Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。 On the specific situation with the light control film which concerns on this invention, the peel strength of the said transparent conductive film for light control films with respect to the said light control layer is 3 N / inch or more.
本発明によれば、導電層と調光層との密着性を高めることができ、かつ透明度が高い調光フィルムを得ることができる調光フィルム用透明導電フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer can be improved, and the transparent conductive film for light control films which can obtain a light control film with high transparency can be provided.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルム（以下、透明導電フィルムと記載することがある）は、調光フィルムに用いられる。透明導電フィルムは、透明である。透明には半透明も含まれる。透明導電フィルムは、透明であるので、光透過性を有する。透明導電フィルムは、導電性を有する。 The transparent conductive film for light control films according to the present invention (hereinafter sometimes referred to as a transparent conductive film) is used as a light control film. The transparent conductive film is transparent. Translucent includes translucent. Since the transparent conductive film is transparent, it has optical transparency. The transparent conductive film has conductivity.
本発明に係る透明導電フィルムは、基材フィルムと、導電層とを備える。上記導電層は、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている。 The transparent conductive film according to the present invention includes a base film and a conductive layer. The conductive layer is disposed on one surface side of the base film.
本発明に係る透明導電フィルムにおいて、上記透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける紫外線の全光線透過率（単位：％）をＴ３６５とし、上記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける可視光線の全光線透過率（単位：％）をＴ５５０とし、上記導電層の厚み（単位：ｎｍ）をＸとする。本発明に係る透明導電フィルムでは、（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘが８％／ｎｍ以上２０％／ｎｍ以下である。 In the transparent conductive film according to the present invention, the total light transmittance (unit:%) of ultraviolet light at a wavelength of 365 nm of the transparent conductive film is T 365, and the total light transmittance of visible light at a wavelength of 550 nm (unit:%). :%) Is T550, and the thickness (unit: nm) of the conductive layer is X. In the transparent conductive film according to the present invention, (T 365 + T 550 ) / X is 8% / nm or more and 20% / nm or less.
本発明に係る透明導電フィルムでは、導電層と調光層との密着性を高めることができ、かつ調光フィルムの透明度を高めることができる。結果として、良好な調光性能を得ることができる。 In the transparent conductive film which concerns on this invention, the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer can be improved, and the transparency of a light control film can be improved. As a result, good dimming performance can be obtained.
上記（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘは、好ましくは８．５％／ｎｍ以上、より好ましくは８．７％／ｎｍ以上、更に好ましくは８．９％／ｎｍ以上、特に好ましくは９％／ｎｍ以上、好ましくは１５％／ｎｍ以下、より好ましくは１２％／ｎｍ以下、更に好ましくは１０％／ｎｍ以下である。上記（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘが上記下限以上及び上記上限以下であると、導電層と調光層との密着性がより一層高くなり、かつ調光フィルムの透明度がより一層高くなる。 The above (T 365 + T 550 ) / X is preferably 8.5% / nm or more, more preferably 8.7% / nm or more, still more preferably 8.9% / nm or more, and particularly preferably 9% / nm. Above, preferably 15% / nm or less, more preferably 12% / nm or less, still more preferably 10% / nm or less. When (T 365 + T 550 ) / X is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the adhesion between the conductive layer and the light control layer is further enhanced, and the transparency of the light control film is further enhanced.
上記透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率Ｔ３６５は、好ましくは７０％以上、より好ましくは７０．５％以上、更に好ましくは７１％以上、特に好ましくは７１．５％以上、最も好ましくは７２％以上である。上記全光線透過率Ｔ３６５が上記下限以上であると、調光層が良好に硬化しやすくなり、調光フィルムの透明度がより一層高くなる。 The total light transmittance T 365 at a wavelength of 365 nm of the transparent conductive film is preferably 70% or more, more preferably 70.5% or more, still more preferably 71% or more, particularly preferably 71.5% or more, and most preferably. 72% or more. When the total light transmittance T 365 is at least the above lower limit, the light control layer is easily cured well, and the transparency of the light control film is further increased.
上記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率Ｔ５５０は、好ましくは８９％以上、より好ましくは８９．５％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９０．５％以上、最も好ましくは９１％以上である。上記全光線透過率Ｔ５５０が上記下限以上であると、調光フィルムの透明度がより一層高くなる。 The total light transmittance T 550 at a wavelength of 550 nm of the transparent conductive film is preferably 89% or more, more preferably 89.5% or more, still more preferably 90% or more, particularly preferably 90.5% or more, most preferably. 91% or more. When the total light transmittance T 550 is equal to or higher than the lower limit, the transparency of the light control film is further increased.
上記透明導電フィルムの上記全光線透過率Ｔ３６５及び上記全光線透過率Ｔ５５０はそれぞれ、通常１００％以下である。 The total light transmittance T 365 and the total light transmittance T 550 of the transparent conductive film are each usually 100% or less.
上記透明導電フィルムの上記全光線透過率Ｔ３６５及び上記全光線透過率Ｔ５５０はそれぞれ、導電層の厚み、基材フィルムの厚み、ハードコート層の材料、屈折率調整を目的とした光学調整層の配置の有無、光学調整層の屈折率、及び光学調整層の厚み等により制御することができる。 The total light transmittance T 365 and the total light transmittance T 550 of the transparent conductive film are the thickness of the conductive layer, the thickness of the base film, the material of the hard coat layer, and the optical adjustment layer for the purpose of adjusting the refractive index, respectively. And the like, the refractive index of the optical adjustment layer, the thickness of the optical adjustment layer, and the like.
耐久性をより一層高める観点からは、本発明に係る透明導電フィルムにおいて、上記基材フィルムは基材フィルム本体と、ハードコート層とを有することが好ましい。上記ハードコート層は、上記基材フィルム本体の第１の表面上、及び上記第１の表面とは反対の第２の表面上に積層されていることが好ましい。この場合に、上記導電層は、上記第１の表面上に積層されている上記ハードコート層の、上記基材フィルム本体側とは反対の表面側に配置されている。 From the viewpoint of further enhancing the durability, in the transparent conductive film according to the present invention, the base film preferably has a base film body and a hard coat layer. The hard coat layer is preferably laminated on the first surface of the base film body and on the second surface opposite to the first surface. In this case, the conductive layer is disposed on the surface side of the hard coat layer laminated on the first surface opposite to the base film body side.
なお、本明細書において、上記基材フィルム本体の上記第１の表面上に積層されているハードコート層を第１のハードコート層と記載し、上記基材フィルム本体の上記第２の表面上に積層されているハードコート層を第２のハードコート層と記載することがある。 In addition, in this specification, the hard coat layer laminated | stacked on the said 1st surface of the said base film main body is described as a 1st hard coat layer, and on the said 2nd surface of the said base film main body. The hard coat layer laminated on the substrate may be referred to as a second hard coat layer.
基材フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。上記全光線透過率が上記下限以上であると、調光層が良好に硬化しやすくなり、調光フィルムの透明度がより一層高くなる。 The total light transmittance at a wavelength of 365 nm of the substrate film is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and still more preferably 80% or more. When the total light transmittance is equal to or higher than the lower limit, the light control layer is easily cured well, and the transparency of the light control film is further increased.
上記透明導電フィルム及び基材フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率、及び波長５５０ｎｍにおける全光線透過率はそれぞれ、分光光度計（日本分光社製「Ｖ−６７０」、又はその同等品）や、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」、又はその同等品）を用いて、測定される。 The total light transmittance at a wavelength of 365 nm and the total light transmittance at a wavelength of 550 nm of the transparent conductive film and the substrate film are respectively a spectrophotometer (“V-670” manufactured by JASCO Corporation, or an equivalent thereof), and haze. It is measured using a meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or equivalent).
調光フィルムの透明度をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムのヘイズ値は、好ましくは２％以下、より好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以下である。なお、上記透明導電フィルムのヘイズ値は、通常０％以上である。 From the viewpoint of further increasing the transparency of the light control film, the haze value of the transparent conductive film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably 0.5% or less. In addition, the haze value of the said transparent conductive film is 0% or more normally.
上記ヘイズ値は、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」、又はその同等品）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて、測定される。 The haze value is measured based on JIS K7136 using a haze meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or equivalent).
導電性をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムのシート抵抗値は、好ましくは２００Ω／□以下、より好ましくは１６０Ω／□以下、更に好ましくは１３０Ω／□以下である。透明導電フィルムのシート抵抗値が上記上限以下であると、調光フィルムの駆動電圧をより下げることができる。また、透明導電フィルムのシート抵抗値が上記上限以下であると、調光フィルムが大型化した場合に、より均一かつ迅速に、調光フィルムの色調及び光透過率を変化させることができる。 From the viewpoint of further increasing the electrical conductivity, the sheet resistance value of the transparent conductive film is preferably 200Ω / □ or less, more preferably 160Ω / □ or less, and further preferably 130Ω / □ or less. The drive voltage of a light control film can be lowered | hung more as the sheet resistance value of a transparent conductive film is below the said upper limit. Moreover, when the sheet resistance value of a transparent conductive film is below the said upper limit, when the light control film enlarges, the color tone and light transmittance of a light control film can be changed more uniformly and rapidly.
上記透明導電フィルムは、アクリル樹脂を含む調光層に上記導電層が接するように用いられることが好ましい。本発明では、アクリル樹脂を含む調光層に上記透明導電フィルムが接しても、導電層と調光層との密着性を高めることができる。 The transparent conductive film is preferably used such that the conductive layer is in contact with a light control layer containing an acrylic resin. In this invention, even if the said transparent conductive film touches the light control layer containing an acrylic resin, the adhesiveness of a conductive layer and a light control layer can be improved.
上記透明導電フィルムは、アニール処理された透明導電フィルムであることが好ましい。 The transparent conductive film is preferably an annealed transparent conductive film.
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図１は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムを示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a transparent conductive film for a light control film according to an embodiment of the present invention.
図１に示す透明導電フィルム１は、調光フィルムに用いられる。 The transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 is used for a light control film.
透明導電フィルム１は、基材フィルム２と、導電層１２とを備える。
The transparent conductive film 1 includes a
基材フィルム２は、光透過性を有する。基材フィルム２は、光透過性を有する材料により構成されている。
The
基材フィルム２は、基材フィルム本体１１と、第１のハードコート層１３と、第２のハードコート層１４とを有する。
The
基材フィルム本体１１は、光透過性を有する。基材フィルム本体１１は、光透過性を有する材料により構成されている。
The
基材フィルム本体１１は、第１の表面１１ａ及び第２の表面１１ｂを有する。第１の表面１１ａと、第２の表面１１ｂとは、互いに対向している。
The
基材フィルム本体１１の第１の表面１１ａ上に第１のハードコート層１３が積層されている。基材フィルム本体１１の第２の表面１１ｂ上に第２のハードコート層１４が積層されている。第１のハードコート層１３及び第２のハードコート層１４は、光透過性を有する。
A first
基材フィルム２の表面上に、導電層１２が配置されている。第１のハードコート層１３の基材フィルム本体１１側とは反対の表面上に、導電層１２が配置されている。導電層１２は、光透過性を有する。導電層１２は、光透過性が高く、かつ導電性を有する材料により構成されている。
A
本発明に係る透明導電フィルムでは、透明導電フィルム１に示すように、第１のハードコート層１３及び第２のハードコート層１４が備えられてもよい。本発明に係る透明導電フィルムでは、第１のハードコート層及び第２のハードコート層の一方が備えられていなくてもよい。また、本発明に係る透明導電フィルムでは、第１のハードコート層及び第２のハードコート層の双方が備えられていなくてもよい。
In the transparent conductive film according to the present invention, as shown in the transparent conductive film 1, a first
また、図１に示す透明導電フィルム１は、ロール状に巻かれていてもよい。 Moreover, the transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 may be wound in roll shape.
以下、透明導電フィルムを構成する各層の詳細を説明する。 Hereinafter, the detail of each layer which comprises a transparent conductive film is demonstrated.
（基材フィルム）
本発明に係る透明導電フィルムでは、上記基材フィルムは、基材フィルム本体と、ハードコート層とを有することが好ましい。上記ハードコート層は、上記基材フィルム本体の第１の表面上、及び上記第１の表面とは反対の第２の表面上に積層されていることが好ましい。
(Base film)
In the transparent conductive film according to the present invention, the base film preferably has a base film body and a hard coat layer. The hard coat layer is preferably laminated on the first surface of the base film body and on the second surface opposite to the first surface.
基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、上記基材フィルムの材料及び上記基材フィルム本体の材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムの材料及び上記基材フィルム本体の材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The base film preferably has high light transmittance. Accordingly, the material for the base film and the material for the base film body are not particularly limited. For example, polyolefin, polyether sulfone, polyether ether ketone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, Examples include polyarylate, polyamide, polyimide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, and cellulose nanofiber. The material of the base film and the material of the base film body may be used alone or in combination.
基材フィルムの厚みは、好ましくは１２μｍ以上、より好ましくは２３μｍ以上、更に好ましくは５０μｍ以上、好ましくは１８８μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。基材フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、調光フィルムの窓などへの施工性が良好になり、また、ハンドリング性を高めながら、透明導電フィルム及び調光フィルムを薄くすることができる。 The thickness of the base film is preferably 12 μm or more, more preferably 23 μm or more, still more preferably 50 μm or more, preferably 188 μm or less, more preferably 125 μm or less, and even more preferably 100 μm or less. When the thickness of the base film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the workability of the light control film on the window and the like is improved, and the transparent conductive film and the light control film are thinned while improving the handling property. can do.
上記基材フィルムが上記基材フィルム本体と上記ハードコート層とを有する場合には、上記基材フィルム本体の厚みは、好ましくは１２μｍ以上、より好ましくは２３μｍ以上、更に好ましくは５０μｍ以上、好ましくは１８８μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。基材フィルム本体の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、調光フィルムの窓などへの施工性が良好になり、また、ハンドリング性を高めながら、透明導電フィルム及び調光フィルムを薄くすることができる。 When the base film has the base film main body and the hard coat layer, the thickness of the base film main body is preferably 12 μm or more, more preferably 23 μm or more, still more preferably 50 μm or more, preferably It is 188 μm or less, more preferably 125 μm or less, and still more preferably 100 μm or less. When the thickness of the base film body is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the workability to the window of the light control film is improved, and the transparent conductive film and the light control film are improved while improving the handling property. Can be thinned.
基材フィルムの波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域における平均透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。なお、波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域における平均透過率は、通常１００％以下である。 The average transmittance of the base film in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 85% or more, more preferably 88% or more. The average transmittance in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is usually 100% or less.
基材フィルム、及び上記基材フィルムが上記基材フィルム本体と上記ハードコート層とを有する場合の基材フィルム本体はそれぞれ、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤及び着色剤等の添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 When the base film and the base film have the base film main body and the hard coat layer, the base film main body is added with various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, etc. An agent may be included. The said additive may be used independently and may use multiple together.
上記第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、樹脂硬化物を含む層であることが好ましい。上記樹脂硬化物としては、熱硬化樹脂の硬化物、及び紫外線硬化樹脂等の活性エネルギー線硬化樹脂の硬化物等が挙げられる。生産性及び経済性を良好にする観点から、上記樹脂硬化物は、紫外線硬化樹脂の硬化物であることが好ましい。 Each of the first and second hard coat layers is preferably a layer containing a cured resin. Examples of the cured resin include cured products of thermosetting resins and cured products of active energy ray curable resins such as ultraviolet curable resins. From the viewpoint of improving productivity and economy, the cured resin is preferably a cured product of an ultraviolet curable resin.
上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマーが重合された樹脂であることが好ましい。上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマー以外のモノマーが重合された樹脂であってもよい。上記光硬化性モノマー及び上記光硬化性モノマー以外のモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The ultraviolet curable resin is preferably a resin obtained by polymerizing a photocurable monomer. The ultraviolet curable resin may be a resin in which a monomer other than the photocurable monomer is polymerized. Monomers other than the photocurable monomer and the photocurable monomer may be used alone or in combination.
上記光硬化性モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレート等のジアクリレート化合物；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート等のトリアクリレート化合物；ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート等のテトラアクリレート化合物；並びにジペンタエリトリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレート等のペンタアクリレート化合物等が挙げられる。上記紫外線硬化樹脂は、５官能以上の多官能アクリレート化合物であってもよい。上記多官能アクリレート化合物は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。また、上記多官能アクリレート化合物に、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、希釈剤、及びアンチブロッキング剤等を添加してもよい。 Examples of the photocurable monomer include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neo Pentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, poly (butanediol) diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, triisopropylene glycol diacrylate, Diacrylate compounds such as polyethylene glycol diacrylate and bisphenol A dimethacrylate; trimethylol prop Triacrylate compounds such as triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol monohydroxytriacrylate and trimethylolpropane triethoxytriacrylate; tetraacrylate compounds such as pentaerythritol tetraacrylate and di-trimethylolpropane tetraacrylate; and dipenta Examples include pentaacrylate compounds such as erythritol (monohydroxy) pentaacrylate. The ultraviolet curable resin may be a polyfunctional acrylate compound having five or more functions. The said polyfunctional acrylate compound may be used independently and may use multiple together. Moreover, you may add a photoinitiator, a photosensitizer, a leveling agent, a diluent, an antiblocking agent, etc. to the said polyfunctional acrylate compound.
透明導電フィルムの屈折率、波長３６５ｎｍにおける全光線透過率、及び波長５５０ｎｍにおける全光線透過率を良好にする観点から、上記第１のハードコート層は屈折率調整剤を含んでいてもよい。この場合、上記第１のハードコート層は、光学調整層としての機能も有する。上記屈折率調整剤としては、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の酸化物粒子が挙げられる。 From the viewpoint of improving the refractive index of the transparent conductive film, the total light transmittance at a wavelength of 365 nm, and the total light transmittance at a wavelength of 550 nm, the first hard coat layer may contain a refractive index adjusting agent. In this case, the first hard coat layer also has a function as an optical adjustment layer. Examples of the refractive index adjusting agent include oxide particles such as zirconium dioxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ), and silicon dioxide (SiO 2 ).
上記第１のハードコート層と上記第２ハードコート層とに、異なる材料が用いられてもよい。 Different materials may be used for the first hard coat layer and the second hard coat layer.
また、第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、及び各種フィラー等を含んでいてもよい。上記各種安定剤、上記紫外線吸収剤、上記可塑剤、上記滑剤、上記着色剤、及び上記各種フィラーはそれぞれ、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The first and second hard coat layers may each contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, various fillers, and the like. The various stabilizers, the ultraviolet absorber, the plasticizer, the lubricant, the colorant, and the various fillers may be used alone or in combination.
（導電層）
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）及びＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等のＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２及びＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）等のＳｎ系酸化物、ＡＺＯ（アルミニウム亜鉛酸化物）及びＧＺＯ（ガリウム亜鉛酸化物）等のＺｎ系酸化物、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３混合物、Ａｌ／ＬｉＦ混合物及び金等の金属、ＣｕＩ、Ａｇナノワイヤー（ＡｇＮＷ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、並びに導電性透明ポリマー等が挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
(Conductive layer)
The conductive layer is made of a light-transmitting conductive material. As the conductive material is not particularly limited, for example, IZO (indium zinc oxide) and ITO an In-based oxide (indium tin oxide) or the like, Sn-based, such as SnO 2 and FTO (fluorine-doped tin oxide) Oxides, Zn-based oxides such as AZO (aluminum zinc oxide) and GZO (gallium zinc oxide), sodium, sodium-potassium alloy, lithium, magnesium, aluminum, magnesium-silver mixture, magnesium-indium mixture, aluminum- Examples include lithium alloys, Al / Al 2 O 3 mixtures, Al / LiF mixtures and metals such as gold, CuI, Ag nanowires (AgNW), carbon nanotubes (CNT), and conductive transparent polymers. The said electroconductive material may be used independently and may use multiple together.
上記導電性材料は、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）及びＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等のＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２及びＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）等のＳｎ系酸化物、又はＡＺＯ（アルミニウム亜鉛酸化物）及びＧＺＯ（ガリウム亜鉛酸化物）等のＺｎ系酸化物であることが好ましい。上記導電性材料は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）であることがより好ましい。これらの導電性材料の使用によって、導電性をより一層高め、光透過性をより一層高めることができる。 The conductive material includes In-based oxides such as IZO (indium zinc oxide) and ITO (indium tin oxide), Sn-based oxides such as SnO 2 and FTO (fluorine-doped tin oxide), or AZO (aluminum zinc). Oxide) and Zn-based oxides such as GZO (gallium zinc oxide) are preferable. The conductive material is more preferably ITO (indium tin oxide). By using these conductive materials, the conductivity can be further increased and the light transmittance can be further increased.
上記導電性材料として、ＩＴＯを用いる場合は、加熱処理（アニール処理）によってＩＴＯを結晶化させることによりＩＴＯ層（導電層）を形成することが好ましい。上記加熱処理（アニール処理）には、熱風循環式オーブン、熱ロール、熱プレス、及びＩＲ加熱式オーブン等を用いることができる。より短時間でＩＴＯ層を形成する観点からは、ＩＲ加熱式オーブンを用いることが好ましい。この場合、ＩＴＯ層表面の酸化による酸素欠損の減少や基材フィルムの劣化などを効果的に抑制することができる。なお、上記加熱処理（アニール処理）は、例えば１６０〜２００℃において１〜１０分程度の熱処理を行うことによって実施することができる。 When ITO is used as the conductive material, it is preferable to form the ITO layer (conductive layer) by crystallizing ITO by heat treatment (annealing treatment). For the heat treatment (annealing treatment), a hot air circulation oven, a hot roll, a hot press, an IR heating oven, or the like can be used. From the viewpoint of forming the ITO layer in a shorter time, it is preferable to use an IR heating oven. In this case, reduction of oxygen deficiency due to oxidation of the ITO layer surface, deterioration of the base film, and the like can be effectively suppressed. In addition, the said heat processing (annealing process) can be implemented by performing the heat processing for about 1 to 10 minutes at 160-200 degreeC, for example.
導電層の厚みは、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１５ｎｍ以上、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下である。 The thickness of the conductive layer is preferably 5 nm or more, more preferably 15 nm or more, preferably 60 nm or less, more preferably 40 nm or less.
導電層の厚みが上記下限以上である場合、透明導電フィルムのシート抵抗値を効果的に低くすることができ、導電性をより一層高めることができる。導電層の厚みが上記上限以下である場合、より透明な透明導電フィルムを得ることができる。導電層の厚みが上記上限以下であると、調光層が良好に硬化しやすくなり、調光フィルムの透明度をより一層高めることができる。 When the thickness of a conductive layer is more than the said minimum, the sheet resistance value of a transparent conductive film can be made low effectively, and electroconductivity can be improved further. When the thickness of the conductive layer is not more than the above upper limit, a more transparent transparent conductive film can be obtained. When the thickness of the conductive layer is not more than the above upper limit, the light control layer is easily cured well, and the transparency of the light control film can be further increased.
導電層の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域における平均透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。なお、上記平均透過率は、通常１００％以下である。 The average transmittance in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm of the conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 88% or more. The average transmittance is usually 100% or less.
（保護フィルム）
上記基材フィルムの上記導電層側とは反対の表面上（他方の表面上）に保護フィルムが配置されていてもよい。
(Protective film)
The protective film may be arrange | positioned on the surface (on the other surface) opposite to the said conductive layer side of the said base film.
保護フィルムは、基材フィルムシート及び粘着剤層により構成されていることが好ましい。 The protective film is preferably composed of a base film sheet and an adhesive layer.
上記基材フィルムシートは、高い光透過性を有することが好ましい。上記基材フィルムシートの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。 The base film sheet preferably has high light transmittance. The material of the base film sheet is not particularly limited. For example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Examples include phthalate, triacetylcellulose, and cellulose nanofiber.
上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based adhesive, or an epoxy-based adhesive. From the viewpoint of suppressing an increase in adhesive force due to heat treatment, the adhesive layer is preferably composed of a (meth) acrylic adhesive.
上記（メタ）アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。 The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive in which a crosslinking agent, a tackifier resin, various stabilizers, and the like are added to a (meth) acrylic polymer as necessary.
上記（メタ）アクリル重合体は、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、他の共重合可能な重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた（メタ）アクリル共重合体であることが好ましい。 The (meth) acrylic polymer is not particularly limited, but (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing a mixed monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and another copolymerizable monomer. A polymer is preferred.
上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が１〜１２の１級又は２級のアルキルアルコールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化反応により得られる（メタ）アクリル酸エステルモノマーが好ましい。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic acid ester monomer, It is obtained by esterification reaction of the primary or secondary alkyl alcohol whose carbon number of an alkyl group is 1-12, and (meth) acrylic acid ( A meth) acrylic acid ester monomer is preferred. Specific examples of the (meth) acrylic acid ester monomer include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl. The said (meth) acrylic acid ester monomer may be used independently and may use multiple together.
上記他の共重合可能な重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル；（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、（メタ）アクリル酸グリシジル、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマーが挙げられる。上記他の共重合可能な重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Examples of other copolymerizable polymerizable monomers include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate; Isobornyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerin dimethacrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, crotonic acid, malein Examples thereof include functional monomers such as acid and fumaric acid. The other copolymerizable polymerizable monomers may be used alone or in combination.
上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、及び多官能アクリレート等が挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The crosslinking agent is not particularly limited, and for example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal alkoxide crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent. Agents, metal salt crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, amine crosslinking agents, and polyfunctional acrylates. The above crosslinking agents may be used alone or in combination.
上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂；クマロン−インデン系樹脂；テルペン系樹脂；テルペンフェノール系樹脂；重合ロジン等のロジン系樹脂；フェノール系樹脂；キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The tackifying resin is not particularly limited, and examples thereof include petroleum resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic / aromatic copolymers, and alicyclic copolymers. Coumarone-indene resin; terpene resin; terpene phenol resin; rosin resin such as polymerized rosin; phenol resin; xylene resin. The tackifying resin may be a hydrogenated resin. The tackifying resins may be used alone or in combination.
保護フィルムの厚みは、好ましくは２３μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは１８８μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。保護フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、調光フィルムの作製時のハンドリング性に優れ、不良発生を低減することができる。 The thickness of the protective film is preferably 23 μm or more, more preferably 50 μm or more, preferably 188 μm or less, more preferably 125 μm or less. When the thickness of a protective film is more than the said minimum and below the said upper limit, it is excellent in the handleability at the time of preparation of a light control film, and can reduce defect generation.
（調光フィルム）
本発明に係る調光フィルムは、第１の透明導電フィルムと、第２の透明導電フィルムと、調光層とを備える。上記調光層は、上記第１の透明導電フィルムと上記第２の透明導電フィルムとの間に配置されている。本発明に係る調光フィルムでは、上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、本発明に係る透明導電フィルムである。上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの一方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよく、上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの双方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよい。
(Light control film)
The light control film which concerns on this invention is equipped with a 1st transparent conductive film, a 2nd transparent conductive film, and a light control layer. The light control layer is disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film. In the light control film according to the present invention, at least one of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film is the transparent conductive film according to the present invention. One of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film may be the transparent conductive film according to the present invention, and both the first transparent conductive film and the second transparent conductive film are The transparent conductive film according to the present invention may be used.
図２は、図１に示す調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムの一例を示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a light control film using the transparent conductive film for light control film shown in FIG.
調光フィルム２１は、図１に示す２つの透明導電フィルムと、調光層３１とを備える。２つの透明導電フィルムの間に、調光層３１が配置されている。透明導電フィルムにおける導電層１２は、調光層３１に接している。
The
調光フィルム２１では、２つの透明導電フィルムの導電層１２間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、調光フィルム２１を通過する光量を変化させることができる。
In the
上記調光層の方式としては、液晶分散ポリマー方式、エレクトロクロミック方式、及びＳＰＤ方式等が挙げられる。 Examples of the light control layer method include a liquid crystal dispersion polymer method, an electrochromic method, and an SPD method.
上記調光層は、アクリル樹脂を含んでいてもよい。上記調光層は、アクリル樹脂中に液晶分子を含んでいてもよい。 The light control layer may contain an acrylic resin. The light control layer may contain liquid crystal molecules in the acrylic resin.
導電層と調光層との密着性を高める観点からは、上記調光層に対する上記透明導電フィルムのピール強度は好ましくは３Ｎ／ｉｎｃｈ以上、より好ましくは４Ｎ／ｉｎｃｈ以上、更に好ましくは４．５Ｎ／ｉｎｃｈ以上である。 From the viewpoint of enhancing the adhesion between the conductive layer and the light control layer, the peel strength of the transparent conductive film with respect to the light control layer is preferably 3 N / inch or more, more preferably 4 N / inch or more, and still more preferably 4.5 N. / Inch or more.
光透過性をより一層高める観点からは、上記調光フィルムの透明時の波長５５０ｎｍにおける全光線透過率は、好ましくは８７％以上、より好ましくは８８％以上、更に好ましくは８９％以上である。なお、上記調光フィルムの全光線透過率は、通常１００％以下である。なお、液晶分散ポリマー方式において、調光フィルムの透明又は不透明は、調光フィルムに配置した電極間への電圧印加と電圧未印加とで切り替えることができる。電極間へ電圧印加すると、上記調光フィルムは透明となり、電極間へ電圧を印加しないと、上記調光フィルムは不透明となる。 From the viewpoint of further increasing the light transmittance, the total light transmittance at a wavelength of 550 nm when the light control film is transparent is preferably 87% or more, more preferably 88% or more, and still more preferably 89% or more. In addition, the total light transmittance of the said light control film is 100% or less normally. In the liquid crystal dispersion polymer system, the transparency or opaqueness of the light control film can be switched between voltage application and voltage non-application between the electrodes arranged on the light control film. When a voltage is applied between the electrodes, the light control film becomes transparent, and when no voltage is applied between the electrodes, the light control film becomes opaque.
調光フィルムの透明度をより一層高める観点からは、上記調光フィルムのヘイズ値は、好ましくは４％以下、より好ましくは３．５％以下である。 From the viewpoint of further increasing the transparency of the light control film, the haze value of the light control film is preferably 4% or less, more preferably 3.5% or less.
上記ヘイズ値は、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」、又はその同等品）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて、測定される。 The haze value is measured based on JIS K7136 using a haze meter (“NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. or equivalent).
以下、本発明について、具体的な実施例及び比較例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.
（実施例１）
透明導電フィルムの作製：
基材フィルム本体として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルムを用意した。ＰＥＴフィルムの一方の面に、ジルコニア粒子が分散されたアクリル系ハードコート樹脂（東洋インキ社製「リオデュラスＴＹＺ」）を塗布した後、ＵＶを照射することで硬化させ、厚み０．８μｍの第１のハードコート層（表１中、種類Ａ）を形成した。ＰＥＴフィルムの他方の面に、アクリル系ハードコート樹脂（東洋インキ社製「リオデュラスＴＹＡＢ」）を塗布した後、ＵＶを照射することで硬化させ、厚み２．０μｍの第２のハードコート層（表１中、種類Ｂ）を形成した。このようにして、基材フィルムを得た。
Example 1
Production of transparent conductive film:
A PET film having a thickness of 50 μm was prepared as the base film body. An acrylic hard coat resin in which zirconia particles are dispersed (“Rioduras TYZ” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) is applied to one surface of the PET film, and then cured by irradiation with UV to obtain a first of 0.8 μm thickness. The hard coat layer (type A in Table 1) was formed. An acrylic hard coat resin (“Rioduras TYAB” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) was applied to the other surface of the PET film, and then cured by irradiating with UV, and a second hard coat layer having a thickness of 2.0 μm (surface In 1 type B) was formed. In this way, a base film was obtained.
この基材フィルムを真空装置内に設置し、真空排気を実施した。真空度が９．０×１０−４Ｐａまで到達した後、アルゴンガスを導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法によりアルゴンガス雰囲気下で、第１のハードコート層の表面上にＳｉＯｘ層、ＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層を第１のハードコート層側からこの順で成膜し、その上にインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層を積層した。具体的には、ＳｎＯ２が７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットを用いて、ターゲット表面の最大水平磁束密度が１０００ガウスとなるカソードを用いて、チャンバー圧力３．５×１０−１Ｐａ、ＡｒガスとＯ２ガスとの比を１００：１として真空装置に導入しながら、厚み１８ｎｍの導電層（インジウムスズ酸化物層）を形成した。その後、ＩＲ加熱式オーブン（ミノグループ社製）にて１６０℃で９分アニール処理を行うことで、透明導電フィルムを得た。なお、導電層の厚みは、後述の単位面積当たりのインジウム量を測定する方法で求めた。 This base film was placed in a vacuum apparatus and evacuated. After the degree of vacuum reaches 9.0 × 10 −4 Pa, argon gas is introduced, and an SiO x layer, SiO 2 layer is formed on the surface of the first hard coat layer in an argon gas atmosphere by a DC magnetron sputtering method. A layer and a SiO x layer were formed in this order from the first hard coat layer side, and an indium tin oxide (ITO) layer was laminated thereon. Specifically, using an ITO sintered body target with SnO 2 of 7 wt%, a cathode having a maximum horizontal magnetic flux density of 1000 gauss on the target surface, a chamber pressure of 3.5 × 10 −1 Pa, Ar A conductive layer (indium tin oxide layer) having a thickness of 18 nm was formed while being introduced into a vacuum apparatus at a gas / O 2 gas ratio of 100: 1. Then, the transparent conductive film was obtained by performing an annealing process at 160 degreeC for 9 minute (s) with IR heating type oven (Minogroup company make). The thickness of the conductive layer was determined by a method of measuring the amount of indium per unit area described later.
調光フィルムの作製：
以下の成分を混合し、調光層材料を得た。
Preparation of light control film:
The following components were mixed to obtain a light control layer material.
液晶成分として４−ブチルビフェニル−４’−カルボニトリル７５重量部及び４’−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボニトリル７５重量部
バインダー樹脂としてメタクリル酸−２−エチルヘキシル２０重量部及びアクリル酸−２−エチルヘキシル１３０重量部
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４」）３重量部
調光層の厚みを調整するギャップ材として粒径２０μｍのアクリル樹脂粒子（積水化学工業社製、ミクロパール）１重量部
75 parts by weight of 4-butylbiphenyl-4′-carbonitrile and 75 parts by weight of 4′-hydroxy-4-biphenylcarbonitrile as liquid crystal components 20 parts by weight of 2-ethylhexyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate 130 as binder resins 3 parts by weight of photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by BASF) 1 part by weight of acrylic resin particles having a particle size of 20 μm (Micropearl, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) as a gap material for adjusting the thickness of the light control layer
上記透明導電フィルムを導電層側が向かい合うように２枚重ねラミネーター（テスター産業社製、小型ラミネーター）にセットし、調光層材料を間に流し込んで貼り合わせを行った。得られた積層フィルムをＵＶランプにて、１５０Ｗ／ｍ２及び５分の条件で調光層材料を硬化させることで調光層を形成して、液晶分散ポリマー方式の調光フィルムを得た。 Two layers of the transparent conductive film were set on a laminator (a small laminator manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) so that the conductive layer sides face each other, and the light control layer material was poured between them to perform bonding. The obtained laminated film was cured with a UV lamp under conditions of 150 W / m 2 and 5 minutes to form a light control layer, thereby obtaining a liquid crystal dispersed polymer type light control film.
調光フィルムの電極の形成：
得られた調光フィルムを縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの大きさに切削した。調光フィルムの１辺の端部を５ｍｍ剥がして、酢酸エチルで調光層を拭き取り、除去して、両面の導電層を露出させた。露出した一方の導電層の表面上に、縦５ｍｍ×横２０ｍｍの導電テープ（積水化学工業社製）を貼り付けた。また、露出した他方の導電層の表面上に、一方の導電層と対向しないように、縦５ｍｍ×横２０ｍｍの導電テープを貼り付けた。このようにして、電極を有する調光フィルムを得た。
Formation of light control film electrode:
The obtained light control film was cut into a size of 50 mm long × 50 mm wide. The edge part of one side of the light control film was peeled off 5 mm, and the light control layer was wiped off and removed with ethyl acetate to expose the conductive layers on both sides. On the surface of the exposed one conductive layer, a conductive tape (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) having a length of 5 mm and a width of 20 mm was attached. Further, a conductive tape measuring 5 mm in length and 20 mm in width was stuck on the exposed surface of the other conductive layer so as not to face the one conductive layer. Thus, the light control film which has an electrode was obtained.
（実施例２〜６及び比較例１〜３）
基材フィルム本体の厚み、第１，第２のハードコート層の種類、導電層の厚み、アニール処理条件（加熱温度及び加熱時間）を下記の表１に示すように設定したこと以外は実施例１と同様にして、透明導電フィルム、調光フィルム、及び電極を有する調光フィルムを得た。
(Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3)
Example except that the thickness of the base film body, the types of the first and second hard coat layers, the thickness of the conductive layer, and the annealing conditions (heating temperature and heating time) were set as shown in Table 1 below. In the same manner as in Example 1, a light control film having a transparent conductive film, a light control film, and an electrode was obtained.
比較例１，２では、ハードコート層を形成しなかった。比較例３では、ＰＥＴフィルムの両面に、同じ種類のハードコート層を形成した。 In Comparative Examples 1 and 2, the hard coat layer was not formed. In Comparative Example 3, the same type of hard coat layer was formed on both sides of the PET film.
（評価）
（１）全光線透過率（波長３６５ｎｍ、又は波長５５０ｎｍ）
得られた基材フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率、並びに、得られた透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率（Ｔ３６５）及び波長５５０ｎｍにおける全光線透過率（Ｔ５５０）をそれぞれ、分光光度計（日本分光社製「Ｖ−６７０」）を用いて測定した。なお、ディテクターには積分球を用いた。
(Evaluation)
(1) Total light transmittance (wavelength 365 nm or wavelength 550 nm)
The total light transmittance at a wavelength of 365 nm of the obtained base film, and the total light transmittance at a wavelength of 365 nm (T 365 ) and the total light transmittance at a wavelength of 550 nm (T 550 ) of the obtained transparent conductive film, respectively. It measured using the spectrophotometer ("V-670" by JASCO Corporation). An integrating sphere was used as the detector.
また、得られた調光フィルムの電極間に３０Ｖの交流電圧を印加した状態で、調光フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率を上記と同様にして測定した。 Moreover, the total light transmittance in wavelength 550nm of the light control film was measured like the above in the state which applied the alternating voltage of 30V between the electrodes of the obtained light control film.
（２）導電層の厚み
導電層の厚み（Ｘ）を、蛍光Ｘ線分析装置（リガク社製「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩＩ＋」）を用いて測定した。導電層の厚み（Ｘ）を、アニール処理前の透明導電フィルムにおける単位面積当たりのインジウム量を測定することにより求めた。
(2) Thickness of Conductive Layer The thickness (X) of the conductive layer was measured using a fluorescent X-ray analyzer (“ZSX Primus III +” manufactured by Rigaku Corporation). The thickness (X) of the conductive layer was determined by measuring the amount of indium per unit area in the transparent conductive film before annealing.
（３）（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘ
得られた透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率（Ｔ３６５）、波長５５０ｎｍにおける全光線透過率（Ｔ５５０）、及び導電層の厚み（Ｘ）から、（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘを算出した。
(3) (T 365 + T 550 ) / X
From the total light transmittance (T 365 ) at a wavelength of 365 nm, the total light transmittance (T 550 ) at a wavelength of 550 nm, and the thickness (X) of the conductive layer of the obtained transparent conductive film, (T 365 + T 550 ) / X is calculated. Calculated.
（４）ヘイズ値
得られた透明導電フィルム、及び得られた調光フィルムのヘイズ値を、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて、測定した。なお、調光フィルムのヘイズ値は、電極間に３０Ｖの交流電圧を印加した状態（透明な状態）で測定した。
(4) Haze value The haze value of the obtained transparent conductive film and the obtained light control film was measured based on JIS K7136 using a haze meter ("NDH-2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). did. In addition, the haze value of the light control film was measured in the state (transparent state) which applied the alternating voltage of 30V between electrodes.
（５）シート抵抗値
得られた透明導電フィルムにおいて、導電層のシート抵抗値を抵抗率計（三菱アナリテック社製「Ｌｏｒｅｓｔａ−ＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０」）を用いて、４端子法にて、測定した。
(5) Sheet resistance value In the obtained transparent conductive film, the sheet resistance value of the conductive layer was measured by a four-terminal method using a resistivity meter ("Loresta-AX MCP-T370" manufactured by Mitsubishi Analytech). did.
（６）ピール強度
得られた調光フィルムを構成する透明導電フィルム２枚を１８０°方向に引き剥がしたときの剥離時の強度をピール強度とした。ピール強度は引っ張り試験機で測定することにより求めた。引っ張り試験機として、島津製作所社製「ＥＺ Ｔｅｓｔ」を用いた。調光フィルムを１ｉｎｃｈの幅にカットして測定を行った。剥離速度は１０ｍｍ／ｍｉｎとした。
(6) Peel strength The peel strength when two transparent conductive films constituting the obtained light control film were peeled in the 180 ° direction was defined as peel strength. The peel strength was determined by measuring with a tensile tester. As a tensile tester, “EZ Test” manufactured by Shimadzu Corporation was used. The light control film was cut to a width of 1 inch and measured. The peeling speed was 10 mm / min.
透明導電フィルムの構成、アニール処理条件及び結果を下記の表１に示す。 The composition of the transparent conductive film, the annealing conditions and the results are shown in Table 1 below.
１…透明導電フィルム
２…基材フィルム
１１…基材フィルム本体
１１ａ…第１の表面
１１ｂ…第２の表面
１２…導電層
１３…第１のハードコート層
１４…第２のハードコート層
２１…調光フィルム
３１…調光層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent
Claims (6)
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、
前記透明導電フィルムの波長３６５ｎｍにおける全光線透過率をＴ３６５、前記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率をＴ５５０、及び前記導電層の厚みをＸとしたときに、（Ｔ３６５＋Ｔ５５０）／Ｘが８％／ｎｍ以上２０％／ｎｍ以下である、調光フィルム用透明導電フィルム。 A transparent conductive film used for a light control film,
A base film, and a conductive layer disposed on one surface side of the base film,
When the total light transmittance at a wavelength of 365 nm of the transparent conductive film is T 365 , the total light transmittance at a wavelength of 550 nm of the transparent conductive film is T 550 , and the thickness of the conductive layer is X, (T 365 + T 550 ) / X is a transparent conductive film for a light control film, which is 8% / nm or more and 20% / nm or less.
前記ハードコート層は、前記基材フィルム本体の第１の表面上、及び前記第１の表面とは反対の第２の表面上に積層されており、
前記第１の表面上に積層されている前記ハードコート層の、前記基材フィルム本体側とは反対の表面側に前記導電層が配置されている、請求項１又は２に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。 The base film has a base film body and a hard coat layer,
The hard coat layer is laminated on the first surface of the base film body and the second surface opposite to the first surface;
The light control film of Claim 1 or 2 by which the said conductive layer is arrange | positioned at the surface side opposite to the said base-material film main body side of the said hard-coat layer laminated | stacked on the said 1st surface. Transparent conductive film.
第２の透明導電フィルムと、
前記第１の透明導電フィルムと前記第２の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、
前記第１の透明導電フィルム及び前記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、請求項１〜４のいずれか１項に記載の調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルム。 A first transparent conductive film;
A second transparent conductive film;
A light control layer disposed between the first transparent conductive film and the second transparent conductive film;
The light control film whose at least one of a said 1st transparent conductive film and a said 2nd transparent conductive film is the transparent conductive film for light control films of any one of Claims 1-4.
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