JP7176950B2 - Analysis method for visualization of light-transmitting conductive film, and light-transmitting conductive film - Google Patents

Analysis method for visualization of light-transmitting conductive film, and light-transmitting conductive film Download PDF

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Description

本発明は、光透過性及び導電性を有する光透過性導電フィルムの可視化の分析方法に関する。また、本発明は、光透過性及び導電性を有する光透過性導電フィルムに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an analysis method for visualization of a light-transmissive conductive film having light-transmitting properties and electrical conductivity. The present invention also relates to a light-transmissive conductive film having light-transmitting properties and electrical conductivity.

近年、スマートフォン、携帯電話、ノートパソコン、タブレットＰＣ、複写機又はカーナビゲーションなどの電子機器において、タッチパネル式の液晶表示装置が、広く用いられている。このような液晶表示装置では、基材上に透明導電層が積層された透明導電フィルム（光透過性導電フィルム）が用いられている。 In recent years, touch panel liquid crystal display devices have been widely used in electronic devices such as smart phones, mobile phones, notebook computers, tablet PCs, copiers, and car navigation systems. In such a liquid crystal display device, a transparent conductive film (light-transmitting conductive film) in which a transparent conductive layer is laminated on a substrate is used.

下記の特許文献１には、透明なフィルム基材と、透明なＳｉＯｘ（ｘ＝１．０～２．０）薄膜と、透明な導電性薄膜とがこの順で積層されている透明導電フィルムが開示されている。上記透明なＳｉＯｘ薄膜は、１０～１００ｎｍの厚さを有し、１．４０～１．８０の光の屈折率を有し、０．８～３．０ｎｍの平均表面粗さ〔Ｒａ〕を有する。上記透明な導電性薄膜は、２０～３５ｎｍの厚さを有し、３～１５重量％のＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）重量比を有し、インジウム・スズ複合酸化物により形成されている。Patent Document 1 below discloses a transparent conductive film in which a transparent film substrate, a transparent SiO x (x=1.0 to 2.0) thin film, and a transparent conductive thin film are laminated in this order. is disclosed. The transparent SiO x thin film has a thickness of 10-100 nm, a refractive index of light of 1.40-1.80, and an average surface roughness [Ra] of 0.8-3.0 nm. have. The transparent conductive thin film has a thickness of 20-35 nm, a SnO 2 /(In 2 O 3 +SnO 2 ) weight ratio of 3-15% by weight, and is formed of an indium-tin composite oxide. ing.

下記の特許文献２には、基材フィルムと、高屈折率層と、ＳｉＯ２膜と、透明導電膜とがこの順で積層された透明導電フィルムが開示されている。下記の特許文献２には、上記高屈折率層が、１．６１～１．８０の屈折率を有し、３０ｎｍ以上の厚みを有することが記載されている。下記の特許文献２には、上記ＳｉＯ２膜が、１．４０～１．５０の屈折率を有することが好ましく、３～３０ｎｍの厚みを有することが好ましいことが記載されている。Patent Document 2 below discloses a transparent conductive film in which a substrate film, a high refractive index layer, a SiO 2 film, and a transparent conductive film are laminated in this order. Patent Document 2 below describes that the high refractive index layer has a refractive index of 1.61 to 1.80 and a thickness of 30 nm or more. Patent Document 2 below describes that the SiO 2 film preferably has a refractive index of 1.40 to 1.50 and a thickness of 3 to 30 nm.

特開２００６－１９２３９号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-19239 ＷＯ２０１３／０３８７１８Ａ１WO2013/038718A1

例えば、タッチパネルのセンサーの役割を果たす透明導電フィルムは、インデックスマッチングの調整を行うことで、可視化されないように形成される必要がある。タッチパネルに組み込む前に、透明導電フィルムの可視化の可能性を評価するために、従来、分光光度計を用いて、導電層を備える透明導電フィルムの透過光及び反射光、並びに透明導電フィルムの導電層を除くフィルムの透過光及び反射光を測定することで得られるそれぞれのΔＥ＊の値が用いられる場合がある。例えば、図６に示すように、測定対象物１２１に対して、光源１２２から光を照射し、受光部１２３において透過光を受光して、透過スペクトルを得ることができる。また、図７に示すように、測定対象物１２１に対して、光源１２２から光を照射し、受光部１２３において反射光を受光して、反射スペクトルを得ることができる。導電層を備える透明導電フィルム及び透明導電フィルムの導電層を除くフィルムの各測定結果から、反射光及び透過光のΔＥ＊が求められている。 For example, a transparent conductive film that serves as a sensor for a touch panel needs to be formed so that it cannot be visualized by adjusting index matching. In order to evaluate the visualization potential of a transparent conductive film prior to incorporation into a touch panel, a spectrophotometer is conventionally used to measure the transmitted and reflected light of a transparent conductive film comprising a conductive layer and the conductive layer of the transparent conductive film. Each ΔE* value obtained by measuring the transmitted light and reflected light of the film, excluding , may be used. For example, as shown in FIG. 6, it is possible to obtain a transmission spectrum by irradiating light from a light source 122 onto an object 121 to be measured, and receiving transmitted light in a light receiving section 123 . Further, as shown in FIG. 7, a reflection spectrum can be obtained by irradiating a measurement object 121 with light from a light source 122 and receiving reflected light at a light receiving section 123 . ΔE* of reflected light and transmitted light is obtained from each measurement result of a transparent conductive film provided with a conductive layer and a film excluding the conductive layer of the transparent conductive film.

この評価方法は、ディスプレイの背景が黒いときの反射の評価方法としては適切であるが、この評価方法では、バックライトが発光している際の評価としては、実際の使用状況と異なるため、正確な評価ができないという問題がある。 This evaluation method is suitable for evaluation of reflection when the background of the display is black. There is a problem that it is not possible to make an accurate evaluation.

本発明の目的は、光透過性導電フィルムの可視化をより正確に判別することができる光透過性導電フィルムの可視化の分析方法を提供することである。また、本発明の目的は、光透過性導電フィルムの可視化を効果的に抑えることができる光透過性導電フィルムを提供することである。 An object of the present invention is to provide a method for analyzing the visualization of a light-transmitting conductive film, which can more accurately determine the visualization of the light-transmitting conductive film. Another object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive film that can effectively suppress visualization of the light-transmitting conductive film.

本発明の広い局面によれば、基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、前記光透過性導電フィルムの前記導電層を除くフィルム部分を第２の測定対象物として、前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物を透過した透過光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得て、前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板が配置された状態で、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得て、ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、光透過性導電フィルムの可視化を判別する、光透過性導電フィルムの可視化の分析方法が提供される。 According to a broad aspect of the present invention, a light-transmitting conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film is used as a first measurement object, and the light-transmitting Using the film portion of the conductive film excluding the conductive layer as a second measurement object, each of the first measurement object and the second measurement object is irradiated with light using a spectrophotometer. and measuring the transmitted light transmitted through the measurement object, obtaining ΔE * represented by the following formula as ΔE * t, the first measurement object and the second measurement object For each of the above, a white plate is placed on the side opposite to the light source side of the measurement object, and a spectrophotometer is used to irradiate the measurement object with light, and the light is reflected by the measurement object and the white plate. By measuring the reflected light, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*rw, and the visualization of the light-transmitting conductive film is determined from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw. , a method of visualization and analysis of a light-transmitting conductive film is provided.

ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
Ｌａｂ表色系
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬ値－第２の測定対象物のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のａ値－第２の測定対象物のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のｂ値－第２の測定対象物のｂ値ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
Lab color system ΔL* = L value of the first measurement object - L value of the second measurement object Δa* = a value of the first measurement object - a value of the second measurement object Δb* = b value of the first measurement object - b value of the second measurement object

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法のある特定の局面では、前記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである。 In a specific aspect of the analysis method for visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention, the substrate film is a polycarbonate substrate film or a cycloolefin polymer substrate film.

本発明の広い局面によれば、基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルムであり、前記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムであり、前記基材フィルムが、前記ポリカーボネート基材フィルムである場合に、下記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上であり、前記基材フィルムが、前記シクロオレフィンポリマー基材フィルムである場合に、下記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上である、光透過性導電フィルムが提供される。 According to a broad aspect of the present invention, there is provided a light-transmissive conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film, wherein the base film is a polycarbonate base film. Or, when the base film is a cycloolefin polymer base film and the base film is the polycarbonate base film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the following measurement is 0.5 or more, and When the base film is the cycloolefin polymer base film, a light-transmitting conductive film is provided in which ΔE*rw/ΔE*t obtained by the following measurement is 1.0 or more.

ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの測定方法：前記光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、前記光透過性導電フィルムの前記導電層を除くフィルム部分を第２の測定対象物とする。前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物を透過した透過光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得る。前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板が配置された状態で、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得る。ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔを求める。 Method for measuring ΔE*rw/ΔE*t: The light-transmitting conductive film is the first measurement object, and the film portion of the light-transmitting conductive film excluding the conductive layer is the second measurement object. For each of the first measurement object and the second measurement object, a spectrophotometer is used to irradiate the measurement object with light and measure the transmitted light transmitted through the measurement object, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*t. With respect to each of the first measurement object and the second measurement object, a white plate is placed on the side opposite to the light source side of the measurement object, and a spectrophotometer is used to measure the measurement object. By irradiating light and measuring reflected light reflected by the measurement object and the white plate, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*rw. ΔE*rw/ΔE*t is obtained from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw.

ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
Ｌａｂ表色系
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬ値－第２の測定対象物のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のａ値－第２の測定対象物のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のｂ値－第２の測定対象物のｂ値ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
Lab color system ΔL* = L value of the first measurement object - L value of the second measurement object Δa* = a value of the first measurement object - a value of the second measurement object Δb* = b value of the first measurement object - b value of the second measurement object

本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記基材フィルムが、前記ポリカーボネート基材フィルムであり、前記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上である。 In a specific aspect of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the substrate film is the polycarbonate substrate film, and ΔE*rw/ΔE*t is 0.5 or more.

本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記基材フィルムが、前記シクロオレフィンポリマー基材フィルムであり、前記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上である。 In a specific aspect of the light-transmissive conductive film according to the present invention, the base film is the cycloolefin polymer base film, and ΔE*rw/ΔE*t is 1.0 or more.

本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記導電層の材料が、インジウムスズ酸化物であり、前記導電層の厚みが、１５ｎｍ以上、３０ｎｍ未満である。 In a specific aspect of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the material of the conductive layer is indium tin oxide, and the thickness of the conductive layer is 15 nm or more and less than 30 nm.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、基材フィルムと、上記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、上記光透過性導電フィルムの上記導電層を除くフィルム部分を第２の測定対象物とする。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物を透過した透過光を測定することで、上記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得る。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板が配置された状態で、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射する。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、上記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得る。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、光透過性導電フィルムの可視化を判別する。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記の構成が備えられているので、光透過性導電フィルムの可視化をより正確に判別することができる。 In the analysis method for visualization of a light-transmitting conductive film according to the present invention, a light-transmitting conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film is used as a first measurement object. A film portion of the light-transmissive conductive film excluding the conductive layer is defined as a second object to be measured. In the analysis method for visualizing the light-transmissive conductive film according to the present invention, the measurement object is irradiated with light using a spectrophotometer for each of the first measurement object and the second measurement object. , ΔE* represented by the above formula is obtained as ΔE*t by measuring the transmitted light that has passed through the measurement object. In the analysis method for visualization of a light-transmissive conductive film according to the present invention, a white plate is arranged on the side opposite to the light source side of the measurement object for each of the first measurement object and the second measurement object. In this state, the object to be measured is irradiated with light using a spectrophotometer. In the analysis method for visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention, the reflected light reflected by the measurement object and the white plate is measured, and ΔE * represented by the above formula is obtained as ΔE * rw. . In the analysis method for visualization of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the visualization of the light-transmitting conductive film is determined from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw. In the method for analyzing the visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention, since the above configuration is provided, the visualization of the light-transmissive conductive film can be determined more accurately.

本発明に係る光透過性導電フィルムは、基材フィルムと、上記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルムであり、上記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである。本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルムである場合に、上記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上であり、上記基材フィルムが、上記シクロオレフィンポリマー基材フィルムである場合に、上記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上である。本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記の構成が備えられているので、光透過性導電フィルムの可視化を効果的に抑えることができる。 A light-transmitting conductive film according to the present invention is a light-transmitting conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film, wherein the base film is a polycarbonate group. material film or cycloolefin polymer substrate film. In the light-transmitting conductive film according to the present invention, when the substrate film is the polycarbonate substrate film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the above measurement is 0.5 or more, and the substrate When the material film is the cycloolefin polymer base film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the above measurement is 1.0 or more. Since the light-transmissive conductive film according to the present invention has the above configuration, it is possible to effectively suppress visualization of the light-transmissive conductive film.

図１は、本発明の第１の実施形態に係る光透過性導電フィルムを示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a light-transmitting conductive film according to a first embodiment of the invention. 図２は、本発明の第２の実施形態に係る光透過性導電フィルムを示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a light-transmitting conductive film according to a second embodiment of the invention. 図３は、本発明の第１の実施形態に係る光透過性導電フィルムの導電層をパターン状にする前の状態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state before patterning the conductive layer of the light-transmitting conductive film according to the first embodiment of the present invention. 図４は、本発明における透過スペクトルの測定方法を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the method of measuring the transmission spectrum in the present invention. 図５は、本発明における反射スペクトルの測定方法を説明するための模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the method of measuring the reflection spectrum in the present invention. 図６は、従来の透過スペクトルの測定方法を説明するための模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a conventional transmission spectrum measuring method. 図７は、従来の反射スペクトルの測定方法を説明するための模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a conventional reflection spectrum measuring method.

以下、本発明の詳細を説明する。 The details of the present invention will be described below.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法に用いられる第１の測定対象物は、光透過性導電フィルムである。該光透過性導電フィルムは、基材フィルムと、導電層とを備える。上記導電層は、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている。 The first measurement object used in the analysis method for visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention is the light-transmissive conductive film. The light-transmissive conductive film includes a base film and a conductive layer. The conductive layer is arranged on one surface side of the base film.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法に用いられる第２の測定対象物は、上記光透過性導電フィルムの上記導電層を除くフィルム部分である。上記第２の測定対象物として、上記導電層を形成する前のフィルムを用いてもよく、光透過性導電フィルムから導電層を取り除いたフィルムを用いてもよい。 The second measurement object used in the analysis method for visualizing the light-transmissive conductive film according to the present invention is the film portion of the light-transmissive conductive film excluding the conductive layer. As the second object to be measured, a film before forming the conductive layer may be used, or a film obtained by removing the conductive layer from the light-transmissive conductive film may be used.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、図４に示すように、上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、分光光度計を用いて、測定対象物２１に光を照射し、測定対象物２１を透過した透過光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得る。図４では、光源２２から光が照射され、受光部２３において測定が行われる。 In the analysis method for visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention, as shown in FIG. 4, each of the first measurement object and the second measurement object is measured using a spectrophotometer. By irradiating the object 21 with light and measuring the light transmitted through the measurement object 21, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*t. In FIG. 4 , light is emitted from the light source 22 and measurement is performed at the light receiving section 23 .

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、図５に示すように、上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物２１の光源２２側とは反対側に白色板２４が配置された状態で、分光光度計を用いて、測定対象物２１に光を照射する。本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、測定対象物２１及び白色板２４により反射された反射光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得る。図５では、光源２２から光が照射され、受光部２３において測定が行われる。 In the analysis method for visualization of the light-transmissive conductive film according to the present invention, as shown in FIG. 5, for each of the first measurement object and the second measurement object, With the white plate 24 arranged on the opposite side, the measurement object 21 is irradiated with light using a spectrophotometer. In the analysis method for visualizing the light-transmitting conductive film according to the present invention, ΔE * represented by the following formula is obtained as ΔE * rw by measuring the reflected light reflected by the measurement object 21 and the white plate 24 . In FIG. 5 , light is emitted from the light source 22 and measurement is performed at the light receiving section 23 .

ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
Ｌａｂ表色系
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬ値－第２の測定対象物のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のａ値－第２の測定対象物のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のｂ値－第２の測定対象物のｂ値ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
Lab color system ΔL* = L value of the first measurement object - L value of the second measurement object Δa* = a value of the first measurement object - a value of the second measurement object Δb* = b value of the first measurement object - b value of the second measurement object

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、光透過性導電フィルムの可視化を判別する。 In the analysis method for visualization of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the visualization of the light-transmitting conductive film is determined from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記の構成が備えられているので、光透過性導電フィルムの可視化（骨見え）をより正確に判別することができる。 Since the method for analyzing visualization of a light-transmitting conductive film according to the present invention has the above configuration, it is possible to more accurately determine the visualization (bone appearance) of the light-transmitting conductive film.

本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、例えば、上記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルムである場合に、上記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上であると、可視化が抑えられると判別できる。例えば、上記基材フィルムが、上記シクロオレフィンポリマー基材フィルムである場合に、上記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上であると、可視化が抑えられると判別できる。基材フィルムの種類によるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの最適値は、ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの値と、可視化の状態との関係を予め評価することで、見出すことができる。見出されたΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの最適値に基づいて、ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、光透過性導電フィルムの可視化を判別することができる。上記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム及びシクロオレフィンポリマー基材フィルム以外の基材フィルムである場合にも、同様に光透過性導電フィルムの可視化を判別することができる。例えば、上記基材フィルムが、ポリエチレンテレフタレート基材フィルムである場合にも、同様に光透過性導電フィルムの可視化を判別することができる。 In the analysis method for visualization of the light-transmitting conductive film according to the present invention, for example, when the base film is a polycarbonate base film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the above measurement is 0.5. It can be determined that visualization is suppressed when it is above. For example, when the base film is the cycloolefin polymer base film, if ΔE*rw/ΔE*t obtained by the above measurement is 1.0 or more, it can be determined that visualization is suppressed. The optimum value of ΔE*rw/ΔE*t depending on the type of base film can be found by previously evaluating the relationship between the value of ΔE*rw/ΔE*t and the state of visualization. Based on the optimum value of ΔE*rw/ΔE*t found, the visualization of the light-transmitting conductive film can be determined from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw. Even when the base film is a base film other than the polycarbonate base film and the cycloolefin polymer base film, the visualization of the light-transmitting conductive film can be determined in the same manner. For example, even when the base film is a polyethylene terephthalate base film, visualization of the light-transmitting conductive film can be determined in the same manner.

光透過性導電フィルムの可視化をより一層正確に判別する観点からは、本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムであることが好ましい。上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルムである場合には、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、３．０以上であることがより一層好ましく、４．０以上であることが更に好ましく、５．０以上であることが特に好ましい。上記基材フィルムが、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである場合には、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上であることが好ましく、３．０以上であることがより好ましく、５．０以上であることが更に好ましい。 From the viewpoint of more accurately determining the visualization of the light-transmitting conductive film, in the analysis method for visualization of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the base film is the polycarbonate base film or cycloolefin It is preferably a polymer substrate film. When the substrate film is the polycarbonate substrate film, the ΔE*rw/ΔE*t is preferably 0.5 or more, more preferably 1.0 or more, and 3.0. It is more preferably 4.0 or more, more preferably 4.0 or more, and particularly preferably 5.0 or more. When the base film is a cycloolefin polymer base film, the ΔE*rw/ΔE*t is preferably 1.0 or more, more preferably 3.0 or more. It is more preferably 0 or more.

本発明に係る光透過性導電フィルムは、基材フィルムと、導電層とを備える。上記導電層は、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている。本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである。本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルムである場合に、下記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上である。本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、上記シクロオレフィンポリマー基材フィルムである場合に、下記の測定により求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上である。 A light-transmissive conductive film according to the present invention includes a base film and a conductive layer. The conductive layer is arranged on one surface side of the base film. In the light-transmissive conductive film according to the present invention, the base film is a polycarbonate base film or a cycloolefin polymer base film. In the light-transmitting conductive film according to the present invention, when the substrate film is the polycarbonate substrate film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the following measurement is 0.5 or more. In the light-transmitting conductive film according to the present invention, when the base film is the cycloolefin polymer base film, ΔE*rw/ΔE*t obtained by the following measurement is 1.0 or more.

ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの測定方法：上記光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、上記光透過性導電フィルムの上記導電層を除くフィルム部分を第２の測定対象物とする。上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、測定対象物を透過した透過光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得る。上記第１の測定対象物及び上記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板が配置された状態で、分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得る。ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔを求める。 Method for measuring ΔE*rw/ΔE*t: The light-transmitting conductive film is used as the first measurement object, and the film portion of the light-transmitting conductive film excluding the conductive layer is used as the second measurement object. For each of the first measurement object and the second measurement object, the measurement object is irradiated with light using a spectrophotometer, and the transmitted light transmitted through the measurement object is measured. ΔE* represented by the formula is obtained as ΔE*t. For each of the first measurement object and the second measurement object, a white plate is placed on the side opposite to the light source side of the measurement object, and a spectrophotometer is used to measure the measurement object. By irradiating light and measuring reflected light reflected by the measurement object and the white plate, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*rw. ΔE*rw/ΔE*t is obtained from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw.

ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
Ｌａｂ表色系
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬ値－第２の測定対象物のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のａ値－第２の測定対象物のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のｂ値－第２の測定対象物のｂ値ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
Lab color system ΔL* = L value of the first measurement object - L value of the second measurement object Δa* = a value of the first measurement object - a value of the second measurement object Δb* = b value of the first measurement object - b value of the second measurement object

本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記の構成が備えられているので、光透過性導電フィルムの可視化（骨見え）を効果的に抑えることができる。 Since the light-transmissive conductive film according to the present invention has the above configuration, it is possible to effectively suppress visualization (bone appearance) of the light-transmissive conductive film.

本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルムであり、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが０．５以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましく、３．０以上であることがより一層好ましく、４．０以上であることが更に好ましく、５．０以上であることが特に好ましい。上記基材フィルムが、上記ポリカーボネート基材フィルムであり、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが上記下限以上であると、光透過性導電フィルムの可視化をより一層効果的に抑えることができる。 In the light-transmissive conductive film according to the present invention, the base film is the polycarbonate base film, and the ΔE*rw/ΔE*t is preferably 0.5 or more, and 1.0 or more. is more preferably 3.0 or more, still more preferably 4.0 or more, and particularly preferably 5.0 or more. When the base film is the polycarbonate base film and the ΔE*rw/ΔE*t is equal to or higher than the lower limit, visualization of the light-transmitting conductive film can be suppressed more effectively.

本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムが、上記シクロオレフィンポリマー基材フィルムであり、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが１．０以上であることが好ましく、３．０以上であることがより好ましく、５．０以上であることが更に好ましい。上記基材フィルムが、上記シクロオレフィンポリマー基材フィルムであり、上記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが上記下限以上であると、光透過性導電フィルムの可視化をより一層効果的に抑えることができる。 In the light-transmissive conductive film according to the present invention, the base film is the cycloolefin polymer base film, and the ΔE*rw/ΔE*t is preferably 1.0 or more, preferably 3.0 or more. is more preferable, and 5.0 or more is even more preferable. When the base film is the cycloolefin polymer base film and the ΔE*rw/ΔE*t is equal to or higher than the lower limit, visualization of the light-transmitting conductive film can be suppressed more effectively.

上記光透過性導電フィルムは、アニール処理された光透過性導電フィルムであることが好ましい。 The light-transmitting conductive film is preferably an annealed light-transmitting conductive film.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図１は、本発明の第１の実施形態に係る光透過性導電フィルムを示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a light-transmitting conductive film according to a first embodiment of the invention.

図１に示す光透過性導電フィルム１は、基材２、導電層３及び保護フィルム４を備える。 A light-transmissive conductive film 1 shown in FIG. 1 includes a substrate 2 , a conductive layer 3 and a protective film 4 .

基材２は、第１の表面２ａ及び第２の表面２ｂを有する。第１の表面２ａと、第２の表面２ｂとは、互いに対向している。基材２の第１の表面２ａ上に、導電層３が積層されている。第１の表面２ａは、導電層３が積層される側の表面である。基材２は、導電層３と保護フィルム４との間に配置される部材であり、導電層３の支持部材である。 The substrate 2 has a first surface 2a and a second surface 2b. The first surface 2a and the second surface 2b face each other. A conductive layer 3 is laminated on the first surface 2 a of the base material 2 . The first surface 2a is the surface on which the conductive layer 3 is laminated. The base material 2 is a member arranged between the conductive layer 3 and the protective film 4 and a support member for the conductive layer 3 .

基材２の第２の表面２ｂ上に、保護フィルム４が積層されている。第２の表面２ｂは、保護フィルム４が積層される側の表面である。保護フィルム４を設けることで、基材２の第２の表面２ｂを保護することができる。 A protective film 4 is laminated on the second surface 2 b of the substrate 2 . The second surface 2b is the surface on which the protective film 4 is laminated. By providing the protective film 4, the second surface 2b of the substrate 2 can be protected.

基材２は、基材フィルム１１、第１及び第２のハードコート層１２，１３及びアンダーコート層１４を有する。基材フィルム１１は、光透過性を有する材料により構成されている。基材フィルム１１の導電層３側の表面上には、第２のハードコート層１３及びアンダーコート層１４がこの順に積層されている。アンダーコート層１４は、導電層３に接している。 The substrate 2 has a substrate film 11 , first and second hard coat layers 12 and 13 and an undercoat layer 14 . The base film 11 is made of a material having optical transparency. A second hard coat layer 13 and an undercoat layer 14 are laminated in this order on the surface of the base film 11 on the conductive layer 3 side. The undercoat layer 14 is in contact with the conductive layer 3 .

基材フィルム１１の保護フィルム４側の表面上には、第１のハードコート層１２が積層されている。第１のハードコート層１２は、保護フィルム４に接している。 A first hard coat layer 12 is laminated on the surface of the base film 11 on the protective film 4 side. The first hard coat layer 12 is in contact with the protective film 4 .

導電層３は、光透過性及び導電性を有する材料により構成されている。導電層３は、パターン状の導電層である。パターン状の導電層３は、基材２の第１の表面２ａ上に部分的に積層されている。光透過性導電フィルム１は、基材２の第１の表面２ａ上において、パターン状の導電層３がある部分と、パターン状の導電層３がない部分とを有する。 The conductive layer 3 is made of a material having optical transparency and electrical conductivity. The conductive layer 3 is a patterned conductive layer. A patterned conductive layer 3 is partially laminated on the first surface 2 a of the substrate 2 . The light-transmissive conductive film 1 has a portion with the patterned conductive layer 3 and a portion without the patterned conductive layer 3 on the first surface 2 a of the substrate 2 .

保護フィルムは、粘着剤層により、基材の第２の表面上に積層されてもよい。基材の第２の表面は、保護フィルムの上記粘着剤層と接していることが好ましい。 The protective film may be laminated onto the second surface of the substrate with an adhesive layer. The second surface of the substrate is preferably in contact with the adhesive layer of the protective film.

図２は、本発明の第２の実施形態に係る光透過性導電フィルムを示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing a light-transmitting conductive film according to a second embodiment of the invention.

図２に示す光透過性導電フィルム１Ａでは、第１のハードコート層が設けられていない。光透過性導電フィルム１Ａは、アンダーコート層１４と、第２のハードコート層１３と、基材フィルム１１とがこの順で積層された基材２Ａを有する。光透過性導電フィルム１Ａでは、基材フィルム１１の導電層３とは反対側の表面上に直接、保護フィルム４が積層されている。 The first hard coat layer is not provided in the light-transmitting conductive film 1A shown in FIG. The light-transmitting conductive film 1A has a substrate 2A in which an undercoat layer 14, a second hard coat layer 13, and a substrate film 11 are laminated in this order. In the light-transmissive conductive film 1A, the protective film 4 is laminated directly on the surface of the base film 11 opposite to the conductive layer 3 .

本発明に係る光透過性導電フィルムでは、光透過性導電フィルム１Ａのように、第１のハードコート層が設けられていなくてもよい。基材フィルムの表面上に、保護フィルムが直接積層されていてもよい。また、第２のハードコート層及びアンダーコート層のうち少なくとも一方が設けられていなくてもよい。基材フィルムの導電層側の表面上には、アンダーコート層及び導電層がこの順に積層されていてもよく、基材フィルムの表面上に導電層が直接積層されていてもよい。 In the light-transmitting conductive film according to the present invention, the first hard coat layer may not be provided like the light-transmitting conductive film 1A. A protective film may be directly laminated on the surface of the base film. At least one of the second hard coat layer and the undercoat layer may not be provided. An undercoat layer and a conductive layer may be laminated in this order on the surface of the base film on the conductive layer side, or the conductive layer may be directly laminated on the surface of the base film.

アンダーコート層は、単層であってもよく、多層であってもよい。アンダーコート層が多層である場合、導電層側に低屈折層が設けられ、基材フィルム側に高屈折率層が設けられていることが好ましい。 The undercoat layer may be a single layer or multiple layers. When the undercoat layer is multi-layered, it is preferable that a low refractive index layer is provided on the conductive layer side and a high refractive index layer is provided on the base film side.

次に、図１に示す光透過性導電フィルム１の製造方法を説明する。 Next, a method for manufacturing the light-transmitting conductive film 1 shown in FIG. 1 will be described.

光透過性導電フィルム１は、例えば、以下の方法により作製することができる。 The light-transmissive conductive film 1 can be produced, for example, by the following method.

基材フィルム１１の一方の表面上に、第１のハードコート層１２を形成する。第１のハードコート層１２の材料として紫外線硬化樹脂を用いる場合は、光硬化性モノマー及び光開始剤を希釈剤中で撹拌して塗工液を作製する。得られた塗工液を基材フィルム１１上に塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させて、第１のハードコート層１２を形成する。 A first hard coat layer 12 is formed on one surface of the base film 11 . When an ultraviolet curable resin is used as the material for the first hard coat layer 12, a photocurable monomer and a photoinitiator are stirred in a diluent to prepare a coating liquid. The obtained coating liquid is applied onto the substrate film 11 and irradiated with ultraviolet rays to cure the resin, thereby forming the first hard coat layer 12 .

次に、基材フィルム１１の第１のハードコート層１２とは反対側の表面上に、第２のハードコート層１３を形成する。第２のハードコート層１３の材料として紫外線硬化樹脂を用いる場合は、光硬化性モノマー及び光開始剤を、希釈剤中で撹拌して塗工液を作製する。得られた塗工液を基材フィルム１１の第１のハードコート層１２側とは反対側の表面上に塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させ、第２のハードコート層１３を形成する。 Next, the second hard coat layer 13 is formed on the surface of the substrate film 11 opposite to the first hard coat layer 12 . When an ultraviolet curable resin is used as the material for the second hard coat layer 13, a photocurable monomer and a photoinitiator are stirred in a diluent to prepare a coating liquid. The obtained coating liquid is applied to the surface of the substrate film 11 opposite to the first hard coat layer 12 side, and the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to form the second hard coat layer 13. do.

続いて、第１のハードコート層１２上に保護フィルム４を形成する。保護フィルム４として、基材シート上に粘着剤層が設けられた保護フィルムを用いる場合は、粘着剤層側を第１のハードコート層１２の表面に貼り合わせて、第１のハードコート層１２上に保護フィルム４を形成することができる。 Subsequently, a protective film 4 is formed on the first hard coat layer 12 . When a protective film having an adhesive layer provided on a base sheet is used as the protective film 4, the adhesive layer side is attached to the surface of the first hard coat layer 12 to form the first hard coat layer 12. A protective film 4 can be formed thereon.

次に、第２のハードコート層１３上にアンダーコート層１４を形成する。アンダーコート層の材料１４の材料としてＳｉＯ２を用いる場合は、蒸着又はスパッタリングにより第２のハードコート層１３上にアンダーコート層１４を形成することができる。Next, an undercoat layer 14 is formed on the second hard coat layer 13 . When SiO 2 is used as the material for the material 14 of the undercoat layer, the undercoat layer 14 can be formed on the second hard coat layer 13 by vapor deposition or sputtering.

上記のようにして、基材フィルム１１上に、第１及び第２のハードコート層１２，１３及びアンダーコート層１４を形成する。なお、本発明において、第１及び第２のハードコート層１２，１３及びアンダーコート層１４は設けなくてもよい。この場合には、基材フィルム１１の導電層３側の表面が、基材２の第１の表面２ａであり、基材フィルム１１の保護フィルム４側の表面が、基材２の第２の表面２ｂである。 The first and second hard coat layers 12 and 13 and the undercoat layer 14 are formed on the base film 11 as described above. In addition, in the present invention, the first and second hard coat layers 12 and 13 and the undercoat layer 14 may not be provided. In this case, the surface of the base film 11 on the side of the conductive layer 3 is the first surface 2a of the base 2, and the surface of the base film 11 on the side of the protective film 4 is the second surface of the base 2. surface 2b.

次に、アンダーコート層１４上に、導電層３Ｘを形成することにより、図３に示す光透過性導電フィルム１Ｘを作製することができる。図３は、本発明の第１の実施形態に係る光透過性導電フィルム１の導電層をパターン状にする前の状態を示す断面図である。図３に示す導電フィルム１Ｘにおける導電層３Ｘをパターン状の導電層３にすることにより、光透過性導電フィルム１を得ることができる。 Next, by forming a conductive layer 3X on the undercoat layer 14, the light-transmissive conductive film 1X shown in FIG. 3 can be produced. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state before patterning the conductive layer of the light-transmitting conductive film 1 according to the first embodiment of the present invention. By replacing the conductive layer 3X in the conductive film 1X shown in FIG. 3 with the patterned conductive layer 3, the light-transmissive conductive film 1 can be obtained.

導電層３Ｘの基材フィルム１１側とは反対側の表面上に、レジスト層を部分的に形成して、エッチング処理することで、パターン状の導電層３を形成することができる。エッチング処理後には、通常水洗が行われる。 A patterned conductive layer 3 can be formed by partially forming a resist layer on the surface of the conductive layer 3X opposite to the base film 11 side and etching the resist layer. Washing with water is usually performed after the etching process.

パターン状の導電層の形成方法は、特に限定されない。パターン状の導電層の形成方法として、例えば、蒸着又はスパッタリングにより形成した金属膜をエッチングする方法、スクリーン印刷又はインクジェット印刷などの各種印刷方法、並びにレジストを用いたフォトリソグラフィー法等の公知のパターニング方法等を用いることができる。パターン状に形成した導電層は、アニール処理により結晶性を高めることができる。 A method for forming the patterned conductive layer is not particularly limited. As a method for forming a patterned conductive layer, for example, a method of etching a metal film formed by vapor deposition or sputtering, various printing methods such as screen printing or inkjet printing, and known patterning methods such as photolithography using a resist. etc. can be used. Crystallinity of the patterned conductive layer can be improved by annealing.

アニール処理の温度は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１３０℃以上、好ましくは１７０℃以下、より好ましくは１６０℃以下である。上記の範囲内で、より高温でアニール処理することで導電層の傷つきを抑制できる。これは基材の熱収縮によって、導電層の内部応力が適度に上昇するためと推測される。 The temperature of the annealing treatment is preferably 120° C. or higher, more preferably 130° C. or higher, preferably 170° C. or lower, and more preferably 160° C. or lower. Annealing at a higher temperature within the above range can suppress damage to the conductive layer. It is presumed that this is because the thermal contraction of the base material moderately increases the internal stress of the conductive layer.

上記アニール処理の処理時間は、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上、好ましくは９０分以下、より好ましくは６０分以下である。上記の範囲内で、より長時間でアニール処理することで導電層の傷つきを抑制できる。 The annealing treatment time is preferably 5 minutes or longer, more preferably 10 minutes or longer, preferably 90 minutes or shorter, and more preferably 60 minutes or shorter. Annealing for a longer time within the above range can suppress damage to the conductive layer.

光透過性導電フィルム１は、保護フィルム４を積層したまま使用してもよく、保護フィルム４を剥がして使用してもよい。なお、ΔＥ＊ｒｗ及びΔＥ＊ｔの測定方法においては、保護フィルムを剥離させ、保護フィルムの無い状態で測定する。 The light-transmissive conductive film 1 may be used with the protective film 4 laminated thereon, or may be used with the protective film 4 removed. In addition, in the method of measuring ΔE*rw and ΔE*t, the protective film is peeled off and the values are measured without the protective film.

以下、光透過性導電フィルムを構成する各層の詳細を説明する。 Details of each layer constituting the light-transmitting conductive film will be described below.

（基材）
基材の全体の厚みは、好ましくは２３μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。(Base material)
The overall thickness of the substrate is preferably 23 μm or more, more preferably 50 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less.

基材フィルム；
基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。但し、本発明に係る光透過性導電フィルムでは、上記基材フィルムは、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである。光透過性導電フィルムの可視化をより一層正確に判別する観点からは、本発明に係る光透過性導電フィルムの可視化の分析方法では、上記基材フィルムは、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムであることが好ましい。base film;
The base film preferably has high light transmittance. Therefore, the material for the base film is not particularly limited, but examples include polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene Examples include phthalate, triacetyl cellulose, and cellulose nanofiber. However, in the light-transmissive conductive film according to the present invention, the base film is a polycarbonate base film or a cycloolefin polymer base film. From the viewpoint of more accurately determining the visualization of the light-transmitting conductive film, in the analysis method for visualization of the light-transmitting conductive film according to the present invention, the base film is a polycarbonate base film or a cycloolefin polymer It is preferably a base film.

基材フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、好ましくは１９０μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。 The thickness of the base film is preferably 5 µm or more, more preferably 20 µm or more, preferably 190 µm or less, and more preferably 125 µm or less.

基材フィルムの波長３８０～７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。上記基材フィルムの波長３８０～７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、通常１００％以下である。 The average transmittance of the substrate film in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 85% or more, more preferably 88% or more. The average transmittance of the base film in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is usually 100% or less.

また、基材フィルムは、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。 Further, the base film may contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants or colorants.

第１及び第２のハードコート層；
第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、バインダー樹脂により構成されていることが好ましい。上記バインダー樹脂は、硬化樹脂であることが好ましい。上記硬化樹脂としては、熱硬化樹脂、及び紫外線硬化樹脂等の活性エネルギー線硬化樹脂等が挙げられる。生産性及び経済性を良好にする観点から、上記硬化樹脂は、紫外線硬化樹脂であることが好ましい。first and second hard coat layers;
Each of the first and second hard coat layers is preferably composed of a binder resin. The binder resin is preferably a curable resin. Examples of the curable resin include thermosetting resins and active energy ray curable resins such as ultraviolet curable resins. From the viewpoint of improving productivity and economy, the curable resin is preferably an ultraviolet curable resin.

上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマーが重合された樹脂であることが好ましい。上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマー以外のモノマーが重合された樹脂であってもよい。上記光硬化性モノマー及び上記光硬化性モノマー以外のモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The ultraviolet curable resin is preferably a resin obtained by polymerizing a photocurable monomer. The ultraviolet curable resin may be a resin obtained by polymerizing a monomer other than a photocurable monomer. The photocurable monomers and monomers other than the photocurable monomers may be used alone or in combination.

上記光硬化性モノマーとしては、例えば、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３－ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレート等のジアクリレート化合物；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート等のトリアクリレート化合物；ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びジ－トリメチロールプロパンテトラアクリレート等のテトラアクリレート化合物；並びにジペンタエリトリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレート等のペンタアクリレート化合物等が挙げられる。上記紫外線硬化樹脂としては、多官能アクリレート化合物であってもよい。上記多官能アクリレート化合物は、５官能以上の多官能アクリレート化合物であってもよい。上記多官能アクリレート化合物は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。また、上記多官能アクリレート化合物に、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、及び希釈剤等を添加してもよい。 Examples of the photocurable monomer include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neo pentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, poly(butanediol) diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, triisopropylene glycol diacrylate, diacrylate compounds such as polyethylene glycol diacrylate and bisphenol A dimethacrylate; triacrylate compounds such as trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol monohydroxy triacrylate and trimethylolpropane triethoxy triacrylate; pentaerythritol tetra acrylates and tetraacrylate compounds such as di-trimethylolpropane tetraacrylate; and pentaacrylate compounds such as dipentaerythritol (monohydroxy)pentaacrylate. The ultraviolet curable resin may be a polyfunctional acrylate compound. The polyfunctional acrylate compound may be a pentafunctional or higher polyfunctional acrylate compound. The polyfunctional acrylate compound may be used alone or in combination. Moreover, a photoinitiator, a photosensitizer, a leveling agent, a diluent, and the like may be added to the polyfunctional acrylate compound.

第１のハードコート層は、フィラーを含んでいてもよい。上記第１のハードコート層は、上記バインダー樹脂等の樹脂及びフィラーにより構成されていてもよい。第１のハードコート層がフィラーを含む場合、導電層のパターンをより一層視認され難くすることができる。なお、第１のハードコート層がフィラーを含む場合、表面粗さによる曇りが生じることがあり、液晶表示装置に用いると表示光が見えにくくなることがある。従って、曇りを生じ難くする観点からは、第１のハードコート層がフィラーを含まず、上記バインダー樹脂等の樹脂のみによって構成されていることが好ましい。また、第１のハードコート層がフィラーを含む場合には、上記フィラーの平均粒子径は、第１のハードコート層の厚みより小さいことが好ましく、上記フィラーが、第１のハードコート層の表面において突出していないことが好ましい。 The first hard coat layer may contain a filler. The first hard coat layer may be composed of a resin such as the binder resin and a filler. When the first hard coat layer contains a filler, the pattern of the conductive layer can be made even less visible. When the first hard coat layer contains a filler, cloudiness may occur due to surface roughness, and display light may become difficult to see when used in a liquid crystal display device. Therefore, from the viewpoint of preventing fogging, it is preferable that the first hard coat layer does not contain a filler and is composed only of a resin such as the above binder resin. In addition, when the first hard coat layer contains a filler, the average particle size of the filler is preferably smaller than the thickness of the first hard coat layer, and the filler is present on the surface of the first hard coat layer. It is preferable not to protrude in.

上記フィラーとしては、特に限定されないが、例えば、シリカ、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化セリウム、インジウム－錫酸化物などの金属酸化物粒子；シリコーン、（メタ）アクリル、スチレン、メラミンなどの樹脂粒子等が挙げられる。上記フィラーとして、より具体的には、架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどの樹脂粒子を用いることができる。上記フィラーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The filler is not particularly limited, but examples include metal oxides such as silica, iron oxide, aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, silicon dioxide, antimony oxide, zirconium oxide, tin oxide, cerium oxide, and indium-tin oxide. material particles; resin particles such as silicone, (meth)acrylic, styrene, and melamine; As the filler, more specifically, resin particles such as crosslinked polymethyl(meth)acrylate can be used. The above fillers may be used alone or in combination.

また、第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。 Moreover, each of the first and second hard coat layers may contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or colorants.

アンダーコート層；
アンダーコート層は、例えば、屈折率調整層である。アンダーコート層を設けることで、導電層と、第２のハードコート層又は基材フィルムとの間の屈折率の差を小さくすることができるので、光透過性導電フィルムの光透過性をより一層高めることができる。undercoat layer;
The undercoat layer is, for example, a refractive index adjusting layer. By providing the undercoat layer, the difference in refractive index between the conductive layer and the second hard coat layer or base film can be reduced, so that the light transmittance of the light-transmitting conductive film can be further improved. can be enhanced.

アンダーコート層の材料は、屈折率調整機能を有する限り特に限定されない。アンダーコート層の材料としては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３などの無機材料、並びにアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂及びシロキサンポリマーなどの有機材料が挙げられる。The material of the undercoat layer is not particularly limited as long as it has a function of adjusting the refractive index. Materials for the undercoat layer include inorganic materials such as SiO 2 , MgF 2 and Al 2 O 3 and organic materials such as acrylic resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins and siloxane polymers.

アンダーコート層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は塗工法により形成することができる。 The undercoat layer can be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a coating method.

（導電層）
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）及びＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などのＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２及びＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）などのＳｎ系酸化物、ＡＺＯ（アルミニウム亜鉛酸化物）及びＧＺＯ（ガリウム亜鉛酸化物）などのＺｎ系酸化物、ナトリウム、ナトリウム－カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム－銀混合物、マグネシウム－インジウム混合物、アルミニウム－リチウム合金、Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３混合物、Ａｌ／ＬｉＦ混合物、金等の金属、ＣｕＩ、Ａｇナノワイヤー（ＡｇＮＷ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）並びに導電性透明ポリマーなどが挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。(Conductive layer)
The conductive layer is made of a conductive material having optical transparency. Examples of the conductive material include, but are not limited to, In-based oxides such as IZO ( indium zinc oxide) and ITO (indium tin oxide); oxides, Zn-based oxides such as AZO (aluminum zinc oxide) and GZO (gallium zinc oxide), sodium, sodium-potassium alloys, lithium, magnesium, aluminum, magnesium-silver mixtures, magnesium-indium mixtures, aluminum- Lithium alloys, Al/Al 2 O 3 mixtures, Al/LiF mixtures, metals such as gold, CuI, Ag nanowires (AgNW), carbon nanotubes (CNT) and conductive transparent polymers. The above conductive materials may be used alone or in combination.

導電性をより一層高め、光透過性をより一層高める観点から、上記導電性材料は、ＩＺＯ及びＩＴＯなどのＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２及びＦＴＯなどのＳｎ系酸化物、ＡＺＯ及びＧＺＯなどのＺｎ系酸化物であることが好ましく、ＩＴＯであることがより好ましい。From the viewpoint of further increasing conductivity and further increasing light transmittance, the above-described conductive materials include In-based oxides such as IZO and ITO, Sn-based oxides such as SnO 2 and FTO, Zn-based oxides such as AZO and GZO, and the like. It is preferably a system oxide, and more preferably ITO.

導電層の厚みは、好ましくは１２ｎｍ以上、より好ましくは１６ｎｍ以上、更に好ましくは１７ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは１９．９ｎｍ以下である。 The thickness of the conductive layer is preferably 12 nm or more, more preferably 16 nm or more, still more preferably 17 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and still more preferably 19.9 nm or less.

導電層の厚みが上記下限以上である場合、光透過性導電フィルムの導電層の表面抵抗値を効果的に低くすることができ、導電性をより一層高めることができる。導電層の厚みが上記上限以下である場合、導電層のパターンをより一層視認され難くすることができ、光透過性導電フィルムをより一層薄くすることができる。 When the thickness of the conductive layer is at least the above lower limit, the surface resistance value of the conductive layer of the light-transmitting conductive film can be effectively reduced, and the conductivity can be further increased. When the thickness of the conductive layer is equal to or less than the above upper limit, the pattern of the conductive layer can be made more difficult to see, and the light-transmitting conductive film can be made even thinner.

上記導電層の材料（導電性材料）がＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）である場合、導電層の厚みは、好ましくは１５ｎｍ以上、より好ましくは１７ｎｍ以上、更に好ましくは１９ｎｍ以上であり、好ましくは３０ｎｍ未満、より好ましくは２９ｎｍ以下、更に好ましくは２８ｎｍ以下である。上記導電層の材料がＩＴＯである場合において、上記導電層の厚みが上記下限以上であると、光透過性導電フィルムの導電層の表面抵抗値（シート抵抗値）を効果的に低くすることができる。そのため、光透過性導電フィルムをタッチセンサーパネルに用いた際に、センシング感度を高めたり、配線を細くすることができるため配線の視認性を低減したりできる。上記導電層の材料がＩＴＯである場合において、上記導電層の厚みが上記上限以下（又は上記上限未満）であると、光透過性導電フィルムの透過率を高めることができる。そのため、光透過性導電フィルムをタッチセンサーパネルに用いた際に、配線の視認性を低減することができる。 When the material (conductive material) of the conductive layer is ITO (indium tin oxide), the thickness of the conductive layer is preferably 15 nm or more, more preferably 17 nm or more, still more preferably 19 nm or more, and preferably 30 nm. less than, more preferably 29 nm or less, and still more preferably 28 nm or less. When the material of the conductive layer is ITO, if the thickness of the conductive layer is at least the lower limit, the surface resistance value (sheet resistance value) of the conductive layer of the light-transmitting conductive film can be effectively lowered. can. Therefore, when the light-transmitting conductive film is used for a touch sensor panel, the sensing sensitivity can be increased, and the wiring can be thinned, thereby reducing the visibility of the wiring. When the material of the conductive layer is ITO, the transmittance of the light-transmissive conductive film can be increased when the thickness of the conductive layer is equal to or less than the upper limit (or less than the upper limit). Therefore, when the light-transmitting conductive film is used for a touch sensor panel, the visibility of wiring can be reduced.

導電層の表面抵抗値（シート抵抗値）は、好ましくは５００Ω/□以下、より好ましくは３００Ω/□以下、より一層好ましくは２００Ω/□以下、更に好ましくは１５０Ω/□以下、更に一層好ましくは１３０Ω/□以下、特に好ましくは１００Ω/□以下である。上記導電層の表面抵抗値が上記上限以下であると、調光フィルムの駆動速度を向上させることができ、また、色調の変化のむらを抑えることができる。 The surface resistance value (sheet resistance value) of the conductive layer is preferably 500 Ω/□ or less, more preferably 300 Ω/□ or less, even more preferably 200 Ω/□ or less, still more preferably 150 Ω/□ or less, and even more preferably 130 Ω/□. /□ or less, particularly preferably 100Ω/□ or less. When the surface resistance value of the conductive layer is equal to or less than the upper limit, the driving speed of the light control film can be improved, and unevenness in color tone change can be suppressed.

上記導電層の表面抵抗値は、上記導電層の基材フィルム側とは反対の表面側で、ＪＩＳ Ｋ７１９４に基づいて、測定される。 The surface resistance value of the conductive layer is measured on the surface side of the conductive layer opposite to the substrate film side based on JIS K7194.

導電層の波長３８０～７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。上記導電層の波長３８０～７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、通常１００％以下である。 The conductive layer preferably has an average transmittance of 85% or more, more preferably 88% or more, in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm. The average transmittance of the conductive layer in the visible light region with a wavelength of 380 to 780 nm is usually 100% or less.

（保護フィルム）
保護フィルムは、基材シート及び粘着剤層により構成されていることが好ましい。(Protective film)
The protective film is preferably composed of a base sheet and an adhesive layer.

上記基材シートは、状態を視認できることから、高い光透過性を有することが好ましい。上記基材シートの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。 The base sheet preferably has high light transmittance so that the state can be visually recognized. Materials for the base sheet are not particularly limited, but examples include polyolefin, polyether sulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. , triacetylcellulose, and cellulose nanofibers.

上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a (meth)acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a urethane-based adhesive, or an epoxy-based adhesive. From the viewpoint of suppressing an increase in adhesive strength due to heat treatment, the adhesive layer is preferably composed of a (meth)acrylic adhesive.

上記（メタ）アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。 The (meth)acrylic pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive obtained by adding a cross-linking agent, a tackifying resin, various stabilizers, and the like to a (meth)acrylic polymer, if necessary.

上記（メタ）アクリル重合体は、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、共重合可能な他の重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた（メタ）アクリル共重合体であることが好ましい。 The (meth)acrylic polymer is not particularly limited, and a (meth)acrylic copolymer obtained by copolymerizing a mixed monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer and another copolymerizable monomer. Polymers are preferred.

上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が１～１２の１級又は２級のアルキルアルコールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化反応により得られる（メタ）アクリル酸エステルモノマーが好ましい。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、及び（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The (meth)acrylic acid ester monomer is not particularly limited, but is obtained by an esterification reaction between a primary or secondary alkyl alcohol having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and (meth)acrylic acid ( Meta)acrylate monomers are preferred. Specific examples of the (meth)acrylate monomers include ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. The above (meth)acrylic acid ester monomers may be used alone or in combination.

上記共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル；（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、（メタ）アクリル酸グリシジル、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマー等が挙げられる。上記共重合可能な他の重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Other polymerizable monomers that can be copolymerized include, for example, hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and hydroxybutyl (meth)acrylate; Isobornyl (meth)acrylate, hydroxyalkyl (meth)acrylate, glycerin dimethacrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, (meth)acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, crotonic acid, maleic acid Examples include functional monomers such as acids and fumaric acid. The other copolymerizable monomers may be used singly or in combination.

上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、多官能アクリレートなどが挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The cross-linking agent is not particularly limited, and examples thereof include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, urea-based cross-linking agents, metal alkoxide-based cross-linking agents, and metal chelate-based cross-linking agents. cross-linking agents, metal salt-based cross-linking agents, carbodiimide-based cross-linking agents, oxazoline-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, amine-based cross-linking agents, polyfunctional acrylates, and the like. The above-mentioned cross-linking agents may be used alone or in combination.

上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂；クマロン－インデン系樹脂；テルペン系樹脂；テルペンフェノール系樹脂；重合ロジン等のロジン系樹脂；フェノール系樹脂；キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The tackifying resin is not particularly limited, but for example, petroleum-based resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic/aromatic copolymers, and alicyclic copolymers cumarone-indene resins; terpene resins; terpene phenol resins; rosin resins such as polymerized rosin; phenol resins; The tackifying resin may be a hydrogenated resin. The tackifier resins may be used alone or in combination.

保護フィルムの厚みは、好ましくは２５μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。 The thickness of the protective film is preferably 25 µm or more, more preferably 50 µm or more, preferably 300 µm or less, and more preferably 200 µm or less.

以下、本発明について、具体的な実施例及び比較例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples and comparative examples. In addition, the present invention is not limited to the following examples.

以下の基材フィルムを用意した。 The following base film was prepared.

シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）基材フィルムＡ（厚み１００μｍ、日本ゼオン社製「ＺＦ１６」）
シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）基材フィルムＢ（厚み５０μｍ、日本ゼオン社製「ＺＦ１６」）
ポリカーボネート（ＰＣ）基材フィルムＡ（厚み１００μｍ、帝人社製「Ｃ１１０」）Cycloolefin polymer (COP) base film A (thickness 100 μm, “ZF16” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
Cycloolefin polymer (COP) base film B (thickness 50 μm, “ZF16” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
Polycarbonate (PC) base film A (thickness 100 μm, “C110” manufactured by Teijin Limited)

（実施例１）
基材フィルムとして、上記ＣＯＰ基材フィルムＡを用意した。(Example 1)
As a base film, the COP base film A was prepared.

ハードコート層の形成；
光硬化性モノマーとしてのウレタンアクリレートオリゴマー１００重量部と、希釈溶剤としてのトルエン及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の混合溶剤１４０重量部と、光開始剤としてのイルガキュア１９４（チバスペシャルティケミカル社製）７重量部とを混合撹拌して、塗工液を調製した。Formation of hard coat layer;
100 parts by weight of a urethane acrylate oligomer as a photocurable monomer, 140 parts by weight of a mixed solvent of toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) as a diluent, and 7 parts by weight of Irgacure 194 (manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) as a photoinitiator. The parts were mixed and stirred to prepare a coating liquid.

ＣＯＰ基材フィルムＡの両面に上記塗工液を塗布し、乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプにより２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより樹脂を硬化させ、厚み２μｍの第１のハードコート層及び厚み２μｍの第２のハードコート層を形成した。Both surfaces of the COP base film A were coated with the above coating solution and dried. After drying, the resin was cured by irradiating ultraviolet rays of 200 mJ/cm 2 from a high-pressure mercury lamp to form a first hard coat layer with a thickness of 2 μm and a second hard coat layer with a thickness of 2 μm.

保護フィルムの貼り合わせ；
第１のハードコート層上に、保護フィルム（厚み５０μｍ）を、粘着剤層側から貼り合わせた。Lamination of protective film;
A protective film (thickness: 50 μm) was laminated on the first hard coat layer from the pressure-sensitive adhesive layer side.

アンダーコート層の形成；
第２のハードコート層上に、Ｓｉ純度９９．９％の多結晶をＳｉターゲット材として用いて、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯ２膜を形成した。具体的には、チャンバー内を５×１０－４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、チャンバー内にＡｒガス：９５％及び酸素ガス：５％の混合ガスを導入し、厚さ１０ｎｍのＳｉＯ２膜を堆積させて、アンダーコート層を形成した。forming an undercoat layer;
A SiO 2 film was formed on the second hard coat layer by an AC magnetron sputtering method using a polycrystal with a Si purity of 99.9% as a Si target material. Specifically, after evacuating the chamber to 5×10 −4 Pa or less, a mixed gas of Ar gas: 95% and oxygen gas: 5% was introduced into the chamber, and SiO 2 with a thickness of 10 nm was introduced. A film was deposited to form an undercoat layer.

導電層の形成；
上記アンダーコート層上に、酸化インジウム：９３重量％及び酸化スズ：７重量％の焼結体材料をターゲット材として用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、アンダーコート層の全面を覆う導電層を形成した。具体的には、チャンバー内を５×１０－４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、チャンバー内にＡｒガス：９５％及び酸素ガス：５％の混合ガスを導入し、厚さ２０ｎｍのＩＴＯ層（導電層）を形成した。ＩＴＯ層を堆積したフィルムをオーブンにて１４０℃で、６０分加熱し、光透過性導電フィルム（第１の測定対象物）を得た。得られた光透過性導電フィルムを、全面エッチング、洗浄、乾燥の各工程をこの順に行い、光透過性導電フィルムからＩＴＯ層を除去した。それによって、光透過性導電フィルムから導電層を取り除いたフィルム（第２の測定対象物）を得た。forming a conductive layer;
A conductive layer covering the entire surface of the undercoat layer was formed on the undercoat layer by DC magnetron sputtering using a sintered material containing 93% by weight of indium oxide and 7% by weight of tin oxide as a target material. . Specifically, after evacuating the chamber to 5×10 −4 Pa or less, a mixed gas of Ar gas: 95% and oxygen gas: 5% was introduced into the chamber, and an ITO layer with a thickness of 20 nm was introduced. (conductive layer) was formed. The film on which the ITO layer was deposited was heated in an oven at 140° C. for 60 minutes to obtain a light-transmitting conductive film (first object to be measured). The resulting light-transmitting conductive film was subjected to the steps of etching, washing, and drying in this order to remove the ITO layer from the light-transmitting conductive film. As a result, a film (second measurement object) was obtained by removing the conductive layer from the light-transmissive conductive film.

（実施例８，９、比較例１～４及び参考例２～７，１０）
基材フィルムの種類、保護フィルムの厚み、ＩＴＯ層の厚み、及びＳｉＯ２膜の厚みを下記の表１，２に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にして、光透過性導電フィルム、及びパターン状の導電層を有する光透過性導電フィルムを得た。 ( Examples 8 and 9, Comparative Examples 1 to 4 and Reference Examples 2 to 7 and 10)
In the same manner as in Example 1, except that the type of base film, the thickness of the protective film, the thickness of the ITO layer, and the thickness of the SiO film were changed as shown in Tables 1 and 2 below, a light-transmitting conductive film was obtained. A film and a light-transmitting conductive film having a patterned conductive layer were obtained.

（評価）
（１）ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔ
得られた光透過性導電フィルム（第１の測定対象物）、及び、光透過性導電フィルムから導電層を取り除いたフィルム（第２の測定対象物）について、保護フィルムを剥離した後、上述した方法で、ΔＥ＊ｔの値と、ΔＥ＊ｒｗの値とを求めた。(evaluation)
(1) ΔE*rw/ΔE*t
For the obtained light-transmitting conductive film (first measurement object) and the film (second measurement object) obtained by removing the conductive layer from the light-transmitting conductive film, after peeling the protective film, the above-mentioned A value of ΔE*t and a value of ΔE*rw were obtained by the method.

分光光度計として、積分球付分光光度計（日立製作所社製「Ｕ－４１００」）を用いた。 As a spectrophotometer, a spectrophotometer with an integrating sphere (“U-4100” manufactured by Hitachi, Ltd.) was used.

ΔＥ＊ｒｗを評価する際に、測定対象物の光源側とは反対側には、標準白色板（ＢａＳＯ４）を積層した。When evaluating ΔE*rw, a standard white plate (BaSO 4 ) was laminated on the opposite side of the object to be measured from the light source side.

（２）骨見えの評価
得られた光透過性導電フィルムについて、以下の基準で骨見えの評価を行った。(2) Evaluation of Visible Bones The resulting transparent conductive film was evaluated for visible bones according to the following criteria.

［骨見えの評価サンプルの作成方法］
光透過性導電フィルムを５ｃｍ角に切り出し、導電層の上に２００μｍ幅のラインアンドスペースのレジストパターンを露光現像し、ＩＴＯエッチング液（関東化学社製「ＩＴＯ－０６Ｎ」）に１分間浸漬し、リンス及び乾燥後にレジストパターンを除去して、パターニングされた導電層（パターン状の導電層）を有する光透過性導電フィルムを得た。[Method of creating a bone-visible evaluation sample]
Cut the light-transmitting conductive film into 5 cm squares, expose and develop a line-and-space resist pattern with a width of 200 μm on the conductive layer, immerse in an ITO etching solution ("ITO-06N" manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) for 1 minute, After rinsing and drying, the resist pattern was removed to obtain a light-transmissive conductive film having a patterned conductive layer (patterned conductive layer).

光源として、ＬＥＤ、蛍光灯、白色灯を用い、パターニングされた導電層側が各電灯の直下となるように電灯とパターン状の導電層を有する光透過性導電フィルムとの配置を調整した。光透過性導電フィルムの表面に対して４５度の角度から光透過性導電フィルムを観察し、電灯の正面から受けた光が光透過性導電フィルムで反射した時の電灯の反射像を観察した。観察した反射像（電灯の正面から反射してくる反射光による電灯の像）を、次の評価基準で判断した。 LEDs, fluorescent lamps, and white lamps were used as light sources, and the arrangement of the lamps and the light-transmitting conductive film having the patterned conductive layer was adjusted so that the patterned conductive layer side was directly below each lamp. The light-transmitting conductive film was observed at an angle of 45 degrees with respect to the surface of the light-transmitting conductive film, and the reflected image of the light when the light received from the front of the light was reflected by the light-transmitting conductive film was observed. The observed reflected image (the image of the electric lamp by the reflected light reflected from the front of the electric lamp) was judged according to the following evaluation criteria.

［骨見えの評価の判定基準］
○○…ＬＥＤ光、蛍光灯及び白色灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層のパターンが視認されない
○…ＬＥＤ光を照射した場合には、目視で導電層パターンがわずかに視認されるが、蛍光灯を照射した場合には、目視で導電層のパターンが視認されない
△…ＬＥＤ光を照射した場合には、目視で導電層パターンが視認されるが、蛍光灯を照射した場合には、目視で導電層のパターンが視認されない
×…ＬＥＤ光、蛍光灯のいずれを照射した場合においても、目視で導電層パターンが視認される[Criteria for evaluating bone visibility]
○○: The pattern of the conductive layer is not visually visible when irradiated with LED light, fluorescent lamp, or white light. ○…When LED light is irradiated, the conductive layer pattern is slightly visible. However, when illuminated with a fluorescent lamp, the pattern of the conductive layer cannot be visually recognized. , the pattern of the conductive layer is not visually recognized × ... the pattern of the conductive layer is visually recognized regardless of whether the LED light or the fluorescent lamp is irradiated

（３）導電層の表面抵抗値（シート抵抗値）
得られた透明導電フィルムの導電層の表面抵抗値（シート抵抗値）を、抵抗率計（三菱化学アナリテック社製「ロレスタＡＸ ＭＣＰ－Ｔ３７０」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づいて、測定した。(3) Surface resistance value (sheet resistance value) of conductive layer
The surface resistance value (sheet resistance value) of the conductive layer of the obtained transparent conductive film was measured using a resistivity meter ("Loresta AX MCP-T370" manufactured by Mitsubishi Chemical Analytic Tech) based on JIS K7105. .

詳細及び結果を下記の表１，２に示す。 Details and results are shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 0007176950000001
Figure 0007176950000001

Figure 0007176950000002
Figure 0007176950000002

１，１Ａ，１Ｘ…光透過性導電フィルム
２，２Ａ…基材
２ａ…第１の表面
２ｂ…第２の表面
３…パターン状の導電層
３Ｘ…導電層
４…保護フィルム
１１…基材フィルム
１２…第１のハードコート層
１３…第２のハードコート層
１４…アンダーコート層
２１…測定対象物
２２…光源
２３…受光部
２４…白色板DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1X... Light transmissive conductive film 2, 2A... Base material 2a... First surface 2b... Second surface 3... Patterned conductive layer 3X... Conductive layer 4... Protective film 11... Base film 12 1st hard coat layer 13 2nd hard coat layer 14 undercoat layer 21 object to be measured 22 light source 23 light receiving part 24 white plate

Claims (7)

基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、前記光透過性導電フィルムに、全面エッチング、洗浄、乾燥の各工程をこの順に行い、前記光透過性導電フィルムから前記導電層を取り除いた部分を第２の測定対象物として、
前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、積分球付分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物を透過した透過光を測定することで、下記の通り定義されるΔＬ＊、Δａ＊及びΔｂ＊を用いて下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得て、
前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板（ＢａＳＯ４）が配置された状態で、積分球付分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、下記の通り定義されるΔＬ＊、Δａ＊及びΔｂ＊を用いて下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得て、
ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、光透過性導電フィルムの可視化を判別する、光透過性導電フィルムの可視化の分析方法。
ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のＬ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のａ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のｂ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のｂ値 A light-transmitting conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface of the base film is used as a first measurement object, and the light-transmitting conductive film is subjected to full etching, washing, Each step of drying is performed in this order, and the portion from which the conductive layer is removed from the light-transmitting conductive film is used as a second measurement object,
For each of the first measurement object and the second measurement object, using a spectrophotometer with an integrating sphere, the measurement object is irradiated with light, and the transmitted light transmitted through the measurement object is measured. By using ΔL *, Δa * and Δb * defined as follows, ΔE * represented by the following formula is obtained as ΔE * t,
For each of the first measurement object and the second measurement object, a spectrophotometer with an integrating sphere is used in a state where a white plate (BaSO 4 ) is arranged on the side opposite to the light source side of the measurement object. By irradiating the measurement object with light and measuring the reflected light reflected by the measurement object and the white plate, the following using ΔL *, Δa * and Δb * defined as follows Obtaining ΔE* represented by the formula as ΔE*rw,
A method for analyzing the visualization of a light-transmitting conductive film, wherein the visualization of the light-transmitting conductive film is determined from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw.
ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
ΔL*=L value in Lab color system of first measurement object−L value in Lab color system of second measurement object Δa*=a value in Lab color system of first measurement object− a value of the Lab color system of the second measurement object Δb* = b value of the Lab color system of the first measurement object - b value of the Lab color system of the second measurement object 前記基材フィルムが、ポリカーボネート基材フィルム、又は、シクロオレフィンポリマー基材フィルムである、請求項１に記載の光透過性導電フィルムの可視化の分析方法。 The method for analyzing visualization of a light-transmissive conductive film according to claim 1, wherein the base film is a polycarbonate base film or a cycloolefin polymer base film. 基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置された導電層とを備える光透過性導電フィルム（但し、フィラーを含むハードコート層を備える光透過性導電フィルムを除く）であり、
前記基材フィルムと前記導電層との間にアンダーコート層を備え、
前記基材フィルムの前記一方の表面上及び前記基材フィルムの前記一方の表面とは反対側の表面上の少なくとも一方に、ハードコート層を備え、
前記アンダーコート層の材料が無機材料のみであり、
前記基材フィルムが、シクロオレフィンポリマー基材フィルムであり、
下記の測定をした場合に求められるΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが４．５０以上である、光透過性導電フィルム。
ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔの測定方法：前記光透過性導電フィルムを第１の測定対象物とし、前記光透過性導電フィルムに、全面エッチング、洗浄、乾燥の各工程をこの順に行い、前記光透過性導電フィルムから前記導電層を取り除いた部分を第２の測定対象物とする。前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、積分球付分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、測定対象物を透過した透過光を測定することで、下記の通り定義されるΔＬ＊、Δａ＊及びΔｂ＊を用いて下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｔとして得る。前記第１の測定対象物及び前記第２の測定対象物のそれぞれについて、測定対象物の光源側とは反対側に白色板（ＢａＳＯ４）が配置された状態で、積分球付分光光度計を用いて、測定対象物に光を照射し、該測定対象物及び該白色板により反射された反射光を測定することで、下記の通り定義されるΔＬ＊、Δａ＊及びΔｂ＊を用いて下記式で表されるΔＥ＊をΔＥ＊ｒｗとして得る。ΔＥ＊ｔの値とΔＥ＊ｒｗの値とから、ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔを求める。
ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
ΔＬ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のＬ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のＬ値
Δａ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のａ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のａ値
Δｂ＊＝第１の測定対象物のＬａｂ表色系のｂ値－第２の測定対象物のＬａｂ表色系のｂ値 A light-transmitting conductive film comprising a base film and a conductive layer disposed on one surface side of the base film (excluding a light-transmitting conductive film having a hard coat layer containing a filler),
An undercoat layer is provided between the base film and the conductive layer,
A hard coat layer is provided on at least one of the one surface of the base film and the surface opposite to the one surface of the base film,
The material of the undercoat layer is only an inorganic material,
The base film is a cycloolefin polymer base film ,
A light-transmitting conductive film having a ΔE*rw/ΔE*t of 4.50 or more as determined by the following measurement.
Method for measuring ΔE*rw/ΔE*t: The light-transmitting conductive film is used as a first measurement object, and the light-transmitting conductive film is subjected to the steps of etching, washing, and drying in this order. A portion of the transparent conductive film from which the conductive layer has been removed is used as a second object to be measured. For each of the first measurement object and the second measurement object, a spectrophotometer with an integrating sphere is used to irradiate the measurement object with light and measure the transmitted light transmitted through the measurement object. Then, ΔE* represented by the following formula is obtained as ΔE*t using ΔL*, Δa* and Δb* defined as follows. For each of the first measurement object and the second measurement object, a spectrophotometer with an integrating sphere is used in a state where a white plate (BaSO 4 ) is arranged on the side opposite to the light source side of the measurement object. By irradiating the measurement object with light and measuring the reflected light reflected by the measurement object and the white plate, the following using ΔL *, Δa * and Δb * defined as follows ΔE* represented by the formula is obtained as ΔE*rw. ΔE*rw/ΔE*t is obtained from the value of ΔE*t and the value of ΔE*rw.
ΔE*=(ΔL* 2 +Δa* 2 +Δb* 2 ) 1/2
ΔL*=L value in Lab color system of first measurement object−L value in Lab color system of second measurement object Δa*=a value in Lab color system of first measurement object− a value of the Lab color system of the second measurement object Δb* = b value of the Lab color system of the first measurement object - b value of the Lab color system of the second measurement object 前記ΔＥ＊ｒｗ／ΔＥ＊ｔが５．０以上である、請求項３に記載の光透過性導電フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 3, wherein the ΔE*rw/ΔE*t is 5.0 or more. 前記アンダーコート層の厚みが１０ｎｍ以下である、請求項３又は４に記載の光透過性導電フィルム。 5. The light-transmitting conductive film according to claim 3, wherein the undercoat layer has a thickness of 10 nm or less. 前記導電層の厚みが１２ｎｍ以下である、請求項３～５のいずれか１項に記載の光透過性導電フィルム。 6. The light-transmitting conductive film according to any one of claims 3 to 5, wherein the conductive layer has a thickness of 12 nm or less. 前記導電層の材料が、インジウムスズ酸化物である、請求項６に記載の光透過性導電フィルム。 7. The light-transmissive conductive film as claimed in claim 6, wherein the material of said conductive layer is indium tin oxide.
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